JP4731543B2 - 光回路およびその調整方法 - Google Patents
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Description
λc=n×ΔL/m
Δλc=Δn×Δl/m
(第1の実施形態)
本発明では、1チップ中に複数のAWGが含まれる光集積回路において、AWGの中心波長を調整する例を示す。多数のAWGを含む集積回路においては、中心波長は作製上の誤差によって、通常少なからずターゲットとするITU−Grid波長からのズレを有している。
Δλ=Δλi×α
したがって、紫外線の照射強度および時間は、この中心波長変化Δλが得られる条件に設定する必要がある。
第2の実施形態では、第1の実施形態のトリミングを効率的にする手法を示す。すなわち、1)複数ある調整箇所にそれぞれの調整量に応じて紫外光を照射してトリミングを行ない(粗調整)、2)熱処理をして安定化させる。3)中心波長の設定値からの誤差を測定する。5)中心波長誤差が許容値を超える箇所のみ選択して紫外光を照射してトリミングを行なう(微調整)。6)前回の熱処理条件よりも20℃以上、のぞましくは50℃の温度差を付けて熱処理を行なう。7)中心波長誤差を測定し、誤差が許容値を越える箇所があれば、5)以下を繰り返す。
第3の実施形態では、図1の(d)に示す同期型MZI集積AWG光回路130のトリミング例を示す。この例では、低損失かつ、高い透過スペクトル平坦性を有する、同期型MZI集積AWGが2回路含まれている場合を示す。
a)AWG132−1,132−2の中心波長を調整。(モニタポート136−1,136−2により確認可能)
b)MZI134−1,134−2の中心波長を調整し、スペクトル形状を調整
という2段階の手順で調整することが望ましい。これは、AWGの中心波長はモニタ入力ポートを用いる事で容易に評価できるのに対して、MZIの波長特性はモニタがなく評価が困難な為である。a)につづいてb)という手順とする事によって、スペクトル形状から、MZIの必要調整量が容易に推定できる為である。
a)AWGの調整において、
a−1)水素含浸処理を行ない、
a−2)それぞれのAWGに紫外光を照射して、中心波長を調整し、
a−3)それぞれのMZI部に微量の紫外光を照射して、増感効果の安定化をはかり、
a−4)第1の熱処理を行ない、
b)MZIの調整において、
b−1)それぞれのAWGのフラットポートのスペクトル形状から、調整量を推定し(損失・波形等から可能)、
b−2)MZI部に紫外光を照射して、スペクトル形状もしくは損失が最適となるように調整を行ない、
b−3)第2の熱処理を行なう
という手順によって実現することができる。このとき第2の熱処理によって、AWGの特性が変化しない為、容易に特性の調整を行なう事ができる。具体的にトリミング前後の波形例を図6に示す。この図に示すように二つの回路ともに良好な特性が得られている。
図7は、本発明の第4の実施形態に係るマッハツェンダ干渉計の一例を示す。このマッハツェンダ干渉計(MZI)700は、入力導波路702と、等分の光カプラ704と、2つのアーム導波路706と、方向性結合器708と、2つの出力導波路710とから構成されている。
λc=Δσ/k (k:整数)
Δσ=(nl×Ll−ns×Ls)
β=(ΔλTE−ΔλTM)/Δλave
102−1〜8 アレイ導波路回折格子(AWG)
104 可変光減衰器(VOA)
110 光回路
112 ラティス型光回路
114−1,2 アレイ導波路回折格子(AWG)
120 ラティス型光回路
130 光回路
132−1,2 AWG回路
134−1,2 MZI回路
136−1,2 モニタポート
700 マッハツェンダ干渉計(MZI)
702 入力導波路
704 光カプラ
706 アーム導波路
708 方向性結合器
710 出力導波路
Claims (8)
- 光回路において複数の箇所で導波路の屈折率を調整する方法であって、
第1の箇所で導波路に紫外線を照射した後、屈折率変化の安定化のために、第1の温度で光回路全体を熱処理するステップと、
第2の箇所で導波路に紫外線を照射した後、屈折率変化の安定化のために、前記第1の温度よりも低い第2の温度で光回路全体を熱処理するステップと
を備え、
前記第2の温度は、前記第1の温度よりも20度以上低いことを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
前記第1の温度で熱処理することは、30分以上熱処理することを特徴とする方法。 - 請求項1または2に記載の方法であって、
光回路の特性を測定して、その結果に応じて個々の紫外線の照射条件および個々の熱処理の条件を決定することを特徴とする方法。 - 請求項1または2に記載の方法であって、
光回路の偏波依存性を測定して、その結果に応じて個々の熱処理の条件を決定することを特徴とする方法。 - 光回路において複数の箇所で導波路の屈折率を調整する方法であって、
前記複数の箇所でそれぞれの調整量に応じて導波路に紫外線を照射した後、屈折率変化の安定化のために、第1の温度で光回路全体を熱処理するステップと、
前記光回路の特性を測定し、各箇所での調整量を特定するステップと、
前記特定した各箇所での調整量に応じて導波路に紫外線を照射した後、屈折率変化の安定化のために、前記第1の温度よりも低い第2の温度で光回路全体を熱処理するステップと
を備え、
前記第2の温度は、前記第1の温度よりも20℃以上低いことを特徴とする方法。 - 請求項5に記載の方法であって、
前記第1の温度で熱処理することは、30分以上熱処理することを特徴とする方法。 - 請求項5または6に記載の方法であって、
光回路の特性を測定して、その結果に応じて個々の紫外線の照射条件および個々の熱処理の条件を決定することを特徴とする方法。 - 導波路を含む光回路を作製する方法であって、請求項1から7のいずれかの方法で導波路の屈折率を調整するステップを含むことを特徴とする方法。
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JP2004021123A (ja) * | 2002-06-19 | 2004-01-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 導波路型光回路の調整方法 |
JP2006243011A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | アレイ導波路格子の波長特性を調整するための方法およびマスク |
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