JP4720558B2 - 吸収冷凍機用発生器 - Google Patents
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Description
2は発生器部
3は熱交換器部
4は溶液分散手段(スプレー装置)
5は濃溶液出口
6は濃溶液流路
7は加熱媒体流路
8は希溶液流路
9は濃溶液流路
Gは発生器
D1〜D4は間隔
Lcは濃溶液
Ldは希溶液
Whは加熱媒体(排温水)
Xはエレメント
Claims (6)
- 一対のプレート(1),(1)を組み合わせてなり、上部に加熱媒体(Wh)が流れる加熱媒体流路(7)を、下部に希溶液(Ld)が流れる希溶液流路(8)を有する複数のエレメント(X),(X)・・を設け、該エレメント(X),(X)・・の外部に希溶液(Ld)を供給するように構成するとともに、前記加熱媒体流路(7)を流れる加熱媒体(Wh)によってエレメント(X),(X)・・の外部に供給される希溶液(Ld)を濃縮再生して濃溶液(Lc)とする発生器部(2)と、該発生器部(2)において濃縮再生されて前記希溶液流路(8)の外部を流下する濃溶液(Lc)と前記希溶液通路(8)を流れる希溶液(Ld)とを熱交換させる熱交換器部(3)とを一体に構成したことを特徴とする吸収冷凍機用発生器。
- 前記発生器部(2)における熱交換量と前記熱交換器部(3)における熱交換量とに対応させて前記発生器部(2)および前記熱交換器部(3)の大きさを設定したことを特徴とする請求項1記載の吸収冷凍機用発生器。
- 前記発生器部(2)の上方には、供給される希溶液(Ld)を均等に分散するための溶液分散手段(4)を付設したことを特徴とする請求項1および2のいずれか一項記載の吸収冷凍機用発生器。
- 前記熱交換器部(3)の最上位には、濃溶液出口(5)を形成したことを特徴とする請求項1、2および3のいずれか一項記載の吸収冷凍機用発生器。
- 前記発生器部(2)から前記熱交換器部(3)に至る濃溶液流路(6)を構成する前記プレート(1),(1)の間隔(D1)を等しくする一方、前記発生器部(2)における加熱媒体流路(7)を構成する前記プレート(1),(1)の間隔(D2)と前記熱交換器部(3)における希溶液流路(8)を構成する前記プレート(1),(1)の間隔(D3)とを異ならしめたことを特徴とする請求項1、2、3および4のいずれか一項記載の吸収冷凍機用発生器。
- 前記熱交換器部(3)における濃溶液流路(9)を構成する前記プレート(1),(1)の間隔(D4)と前記熱交換器部(3)における希溶液流路(8)を構成する前記プレート(1),(1)の間隔(D3)とを等しくしたことを特徴とする請求項1、2、3、4および5のいずれか一項記載の吸収冷凍機用発生器。
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