JP4720536B2 - 電子線源装置 - Google Patents
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Description
2 イオン化室
3 電子加速電源
4 電子コレクタ
5 コレクタ電源
6 エミッション電流計
7 エミッション制御器
8 試料導入口
9 イオン引き出し口
11 フィラメント電流測定回路
12 演算回路
12N 演算回路
13 ディスプレイ
F フィラメント
Claims (4)
- 熱電子によるエミッション電流を発生するフィラメントと前記エミッション電流を収集する集電子電極を備え、所定のエミッション電流が得られるようにフィラメント電流を常時制御する電子線源装置において、フィラメント電流を常時測定すると共に、
所定のエミッション電流を与えるフィラメント電流の、
使用当初の所定のエミッション電流を与えるフィラメント電流に対する比が予め定めた上限値以上に上昇したことを
検知且つ表示する手段を備えたことを特徴とする電子線源装置。 - 熱電子によるエミッション電流を発生するフィラメントと前記エミッション電流を収集する集電子電極を備え、所定のエミッション電流が得られるようにフィラメント電流を常時制御する電子線源装置において、フィラメント電流を常時測定すると共に、
所定のエミッション電流を与えるフィラメント電流の値が予め定めた上限値を上回ったことを
検知且つ表示する手段を備えたことを特徴とする電子線源装置。 - 請求項1に記載の電子線源装置であってさらに、
所定のエミッション電流を与えるフィラメント電流の、
使用当初の所定のエミッション電流を与えるフィラメント電流に対する比が予め定めた下限値以下に低下したことを検知且つ表示する手段を備え、
前記上限値を超えた場合は異常発生メッセージ、さらに、前記下限値を下回った場合は寿命到達メッセージを発生させることを特徴とする電子線源装置。 - 請求項1に記載の電子線源装置であってさらに、
所定のエミッション電流を与えるフィラメント電流の、
使用当初の所定のエミッション電流を与えるフィラメント電流の減少速度が予め定めた限界減少速度を上回ったことを検知且つ表示する手段を備え、
前記上限値を超えた場合は異常発生メッセージ、さらに、前記限界減少速度を上回った場合は寿命到達メッセージを発生させることを特徴とする電子線源装置。
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Citations (2)
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JPH0212746A (ja) * | 1988-06-29 | 1990-01-17 | Nec Corp | イオン注入用ガス |
JPH04125473A (ja) * | 1990-09-17 | 1992-04-24 | Shimadzu Corp | フィラメント寿命予測装置 |
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