JP4702359B2 - 半導体記憶装置の読み出し回路 - Google Patents
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このように読み出しを2回行なうことによって、MRAMにおけるセルの記憶状態が、参照セルを用いずに、自己リファレンス方式に基づいて行われる。
以上の自己リファレンス方式では、メモリセルの記憶状態の判定に、メモリセル自身の「0」記憶状態と「1」記憶状態との差分が利用されるので、メモリセル間の抵抗値ばらつきによる影響を軽減することが可能である。
前記選択セルの選択後に、第1の読み出しと、前記第1の読み出しの後に前記選択セルに前記第1の記憶状態または第2の記憶状態のいずれかを書き込む書き込みと、前記書き込みの後に実行される第2の読み出しと、が実行され、前記ラッチ回路により前記選択セルの記憶状態の判定が行なわれることを特徴とする半導体記憶装置の読み出し回路、が提供される。
そして、好ましくは、前記メモリセルがトンネル磁気抵抗素子を有している。
〔第1の参考例〕
図1は、本発明の第1の参考例に用いたMRAMの回路ブロック図である。図1に示すように、本参考例に用いたMRAMは、メモリセルアレイ2と読み出し回路1とを有している。メモリセルアレイ2は、互いに直交しあうワード線11とビット線12との各交点に存在する1個のTMR10のみで構成されるメモリセルがマトリクス状に配置されて形成されているクロスポイントセルアレイである。作図の簡単のために、それぞれ、3本ずつのワード線とビット線しか示されていないが、一般的には、数100〜数1000本のワード線とビット線が存在する。読み出し時には、Xセレクタ14に行アドレスを、Yセレクタ15に列アドレスを与えることによって、メモリセルが選択される。選択されたメモリセル13のTMR10aに接続されている選択ワード線11aは、第1の電源V1に接続され、その選択ビット線12aは、読み出し回路の入力端子と接続される。その他の選択されていない非選択ワード線および非選択ビット線は、第2の電源V2と接続されている。読み出し回路の入力端子電圧は、常に、第2の電源V2と等電圧にされている。この時、選択セル13のTMR10aの両端間には第1の電源V1と第2の電源V2との差の電圧が印加され、TMR10aに流れる電流のみが読み出し回路1に入力される。読み出し回路1は、選択セルのTMRを流れる電流を電圧に増幅しながら変換するプリアンプ3と、プリアンプ3の出力電圧に比例した周波数で発振するVCO(Voltage Controlled Oscillator)4と、任意の一定期間にVCO4の発振パルス数を数えるカウンタ5と、カウンタ5の出力値を格納する読み出し値レジスタ6と、予め判定基準値を格納している基準値レジスタ7と、2つのレジスタ6、7およびカウンタ5の出力値から選択セルに記憶されていた記憶状態を判定する判定手段8と、この読み出し回路1の動作を制御する制御回路9と、を有している。基準値レジスタ7に格納される判定基準値Dは、0<D<|C(0)−C(1)|なる値を有する。ここで、C(0)、C(1)は、それぞれ、メモリセルのTMRが「0」記憶状態、「1」記憶状態にあるときに、カウンタ5から出力されるカウント値である。C(0)、C(1)は、例えば、メモリセルアレイ中の任意のメモリセルを、それぞれ、「0」記憶状態、「1」記憶状態にして、そのメモリセルを読み出したときに得られるカウンタ5のカウント値として求められる。なお、全ての実施の形態、参考例を通じて、「0」記憶状態、「1」記憶状態とは、それぞれ、ピン層とフリー層との磁化の方向が、互いに平行、反平行になっている状態をいう。
なお、VCOの発振周波数が、メモリセルのTMRの抵抗値に正の傾きを持って比例するように回路を形成することも可能である。さらに、VCOの発振周波数とメモリセルのTMRの抵抗値との間には、必ずしも完全な比例関係の成り立つ必要はなく、単調に変化する関係が成り立っていればよい。
C2nd−C1st−D<0 ならば 「0」記憶状態
C2nd−C1st−D≧0 ならば 「1」記憶状態
判定手段8によって第1の読み出し時の選択メモリセルの記憶状態が「1」記憶状態であると判定された場合には、必要に応じて第2の読み出し動作の終了後に、選択セルが「1」記憶状態を取るように書き込みを行って読み出し動作を終了する。
C2nd−C1st+D≧0 ならば 「1」記憶状態
C2nd−C1st+D<0 ならば 「0」記憶状態
判定手段8によって第1の読み出し時の選択メモリセルの記憶状態が「0」記憶状態であると判定された場合には、必要に応じて第2の読み出し動作の終了後に、選択セルが「0」記憶状態を取るように書き込みを行って読み出し動作を終了する。
Is=(V1−V2)/R (1)
ここで、RはTMRの抵抗値である。トランジスタM3とトランジスタM4とはカレントミラー回路を形成しており、したがって、(1)式に等しい電流Isが、トランジスタM4のドレイン−ソース間に流れる。一方、トランジスタM5とトランジスタM6及びトランジスタM7とトランジスタM8とで形成される2つのカレントミラー回路によって、抵抗Rref1に流れる電流IrがトランジスタM8のドレイン−ソース間に流れる。抵抗Rref1の抵抗値は、トランジスタM8のドレイン−ソース間に流れる電流が、(1)式で与えられる電流値とほぼ等しくなるように設定される。即ち、抵抗Rref1の抵抗値は、TMRの抵抗値に応じてプリアンプの動作点を調整するように設定される。ここで、プリアンプの出力電圧VPA1は、以下の式で表される。
VPA1=Is×RM8
ここで、RM8は、トランジスタM8のドレイン−ソース間抵抗である。このように、選択セルに流れる電流Isは電圧に変換され、トランジスタM8のドレイン−ソース間抵抗RM8を大きくすることで、その電圧が増幅される。
図7は、本発明の第2の参考例の読み出し回路の回路ブロック図である。図7に示すように、本参考例の読み出し回路101は、選択セルを流れる電流を電圧に増幅変換し、且つ、変換ゲインを制御できるゲインコントロールプリアンプ103Aと、ゲインコントロールプリアンプ103Aの出力電圧に比例した周波数で発振するVCO104と、任意の一定期間にVCO104の発振パルスのパルス数を数えるカウンタ105と、カウンタ105の出力値を格納する読み出し値レジスタ106と、読み出し値レジスタ106とカウンタ105との出力値から選択セルに記憶されていた記憶状態を判定する判定手段108と、この読み出し回路101の動作を制御する制御回路109と、を有している。図7において、図1と同様または同一の機能を有する構成要素には下1桁が等しい参照符号が付されており、その詳しい説明を省略する。
f1st(1)<f2nd(0)<f1st(0)
S101:セルが選択される。
S102:カウンタ105のカウント値が0に設定される。
S103:第1の読み出しが実行される。カウンタ105の出力値C1stが、読み出し値レジスタ106に格納された後、カウンタ105のカウント値が0に設定される。
S104:選択セルに「0」記憶状態を書き込む。
S105:第2の読み出しが実行される。カウンタ105のカウント値はC2ndである。
S106:判定手段108で、H=C2nd−C1stの値が計算される。
S107:判定手段108で、Hが正の値または0であるかどうか判定される。
S108:Hが正の値であれば、選択セルの第1の読み出し時における記憶状態が「1」と判定される。
S109:必要に応じて、選択セルに「1」記憶状態が再書き込みされて、読み出し動作が終了する。
S110:Hが正の値でなければ、選択セルの第1の読み出し時における記憶状態が「0」と判定されて、読み出し動作が終了する。
第1の読み出し時間と第2の読み出し時間とが等しいことは、第1の参考例と同様である。
f1st(1)<f2nd(1)<f1st(0)
選択セルの第1の読み出しの後に「0」記憶状態が書き込まれる場合と同様に、判定手段108にて、H=C2nd−C1stが正であるかどうかが判定され、Dが正であれば、選択セルの第1の読み出し時における記憶状態は「1」、Dが正でなければ、選択セルの第1の読み出し時における記憶状態は「0」と判定される。
VPA2=Is×RM108
したがって、M108のドレイン−ソース間抵抗RM108を調整することによって、ゲインコントロールプリアンプ103Aのゲイン及び動作点が変化する。図10においては、M108に接続される基準抵抗を2段に設け、それらを切り替えることによって、RM108の値を調整している。即ち、第1の読み出し時ではM109を導通状態、M110を非導通状態にして、M108に接続される抵抗を(Rref2+ΔRref2)とする。第2の読み出し時にはM109を非導通状態、M110を導通状態にしてM108に接続される抵抗をRref2とする。
以上は、第1の読み出しの後に、選択セルが「0」記憶状態に書き込まれる場合であるが、第1の読み出しの後に、選択セルが「1」記憶状態に書き込まれる場合には、第1の読み出し時ではM109を非導通状態、M110を導通状態にし、第2の読み出し時にはM109を導通状態、M110を非導通状態にして、上述と同様の手順により、Rref2およびΔRref2の値を決定すればよい。このとき、V1st(1)<V2nd(1)<V1st(0)とする。
図12は、本発明の第3の参考例の読み出し回路の回路図である。図12に示すように、本参考例の読み出し回路201は、選択セルを流れる電流を電圧に増幅変換するプリアンプ203と、プリアンプ203の出力電圧に比例した周波数で発振するVCO204と、VCO204の発振パルスのパルス数を数えるカウンタ205と、カウンタ205の出力値を格納する読み出し値レジスタ206と、読み出し値レジスタ206とカウンタ205との出力値から選択セルに記憶されていた記憶状態を判定する判定手段208と、この読み出し回路201の動作を制御する制御回路209と、を有している。図12において、図1と同様または同一の機能を有する構成要素には下1桁が等しい参照符号が付されており、その詳しい説明を省略する。
プリアンプ203には、図4のプリアンプ3と同じ構成のプリアンプが用いられ、VCO204には、図5のVCO4と同じ構成のVCOが用いられており、イネーブル信号vcoena(図示せず)によって、その発振の開始/停止が制御される。
本参考例においては、第1の読み出し時間T1が、第2の読み出し時間T2よりも長く設定される。ここで、T1=T2+ΔTとしたとき、ΔT/T2比は、MR比の1/2程度にするのが望ましい。
C2nd−C1st<0 ならば 「0」記憶状態
C2nd−C1st≧0 ならば 「1」記憶状態
第1の読み出し時の選択メモリセルの記憶状態が「1」であると判定されたときは、選択セルに「1」の再書込みを行って読み出し動作を終了する。
図14は、本発明の第4の参考例の読み出し回路の回路図である。図14に示すように、本参考例の読み出し回路301は、選択セルを流れる電流を電圧に増幅変換し、且つ、変換ゲインを制御できるゲインコントロールプリアンプ303Aと、ゲインコントロールプリアンプ303Aの出力電圧を記憶する電圧記憶手段306Aと、電圧記憶手段306Aとゲインコントロールプリアンプ303Aとの出力電圧の大小を比較する電圧比較手段308Aと、読み出し回路301を制御する制御回路309と、を有している。図14において、図7と同様または同一の機能を有する構成要素には下1桁が等しい参照符号が付されており、その詳しい説明を省略する。
ゲインコントロールプリアンプ303Aの入力には、第1〜第3の参考例のメモリセルアレイと同じ構成のメモリセルアレイ302が接続される。
V1st(1)<V2nd(0)<V1st(0)
V2nd−V1st<0 ならば 「0」記憶状態
V2nd−V1st≧0 ならば 「1」記憶状態
なお、第2の参考例、第3の参考例と同様に、第1の読み出しの後に、「0」記憶状態ではなく、「1」記憶状態を書き込むことも可能である。その場合には、ゲインコントロールプリアンプ303Aの第1の読み出し時、第2の読み出し時におけるゲインは、V1st(1)<V2nd(1)<V1st(0)の条件が満足されるように選択される。選択セルの第1の読み出し時における記憶状態は、上述の判定式に基づいて行われる。
図17(a)は、本発明の第1の実施の形態の読み出し回路の要部を示す回路図である。図17(a)に示す回路は、図14の読み出し回路の電圧記憶手段306A及び電圧比較手段308Aの機能を果たす回路であり、図示されてはいな いが、本実施の形態の読み出し回路においても、図14に示されるゲインコントロールプリアンプ303A、制御回路309が設けられている。ゲインコントロールプリアンプの出力端から読み出し回路の出力端に向かって、スイッチS1、キャパシタC、インバータINV、ラッチ回路LTが直列に接続されており、インバータINVにはスイッチS2が並列に接続されている。そして、スイッチS1、S2の開閉とラッチ回路LTのラッチ動作は図示省略された制御回路によって行われる。図17(b)は、図17(a)の動作を説明するための動作説明図であり、第1の読み出し時の選択セルの記憶状態が「1」であり、第1の読み出しの後に、選択セルの記憶状態が「0」に書き込まれる場合を想定して書かれている。第1の読み出し時には、スィッチS1、S2がともにONとされ、インバータINVの両端の電位Va、Vbの値はたがいに等しくなる。キャパシタCのインバータINVと逆側の端子の電位は、その前段のゲインコントロールプリアンプの出力電圧V1st(1)に等しい。次に、選択セルが、「0」記憶状態に書き込まれた後、第2の読み出しが実行される。第2の読み出し時では、スィッチS1がON、S2がOFFとされる。このとき、キャパシタCのゲインコントロールプリアンプ側の端子電位は、ゲインコントロールプリアンプの出力電圧V2nd(0)に上昇する。そうすると、インバータINVの入力電位も、[V2nd(0)−V1st(1)]だけ上昇して正側に振れ、インバータの出力は、“Low”となり、この出力はラッチ回路にラッチされる。第1の読み出し時の選択セルの記憶状態が「0」である場合には、選択セルが、「0」記憶状態に書き込まれた後、第2の読み出しが行なわれると、インバータINVの入力電位は、[V2nd(0)−V1st(0)]だけ負側に振れ、インバータの出力は、“High”となる。これにより、選択セルの第1の読み出し時における記憶状態が判別される。
本実施の形態および第4の参考例においては、第1の読み出し、第2の読み出しともに、その読み出し時間に特別の制限はない。
図18は、本発明の第5の参考例の読み出し回路の回路図である。図18に示すように、本参考例の読み出し回路401は、選択セルを流れる電流を時間積分する積分手段430と、積分手段430の出力電圧を記憶する電圧記憶手段406Aと、電圧記憶手段406Aと前記積分手段430との出力電圧の大小を比較する電圧比較手段408Aと、読み出し回路401を制御する制御回路409と、を有している。図18において、図14と同様または同一の機能を有する構成要素には下1桁が等しい参照符号が付されており、その詳しい説明を省略する。
積分手段430の入力には、第1〜第4の参考例のメモリセルアレイと同じ構成のメモリセルアレイ402が接続される。
本参考例においては、第1の読み出しと第2の読み出しとにおいて、積分手段430の時定数が異なるものとなされる。積分手段430の時定数は、種々の方法で変化させることができる。まず、積分キャパシタ432の容量値を変えることによって、積分手段430の時定数が変化する。定電流源回路431に流れる電流Irを変えることによっても、等価的に積分手段430の時定数を変化させることができる。以下に、第1の読み出しと第2の読み出しとにおいて定電流源回路431に流れる電流Irを変える場合を例として、積分手段430の時定数を変化させて読み出しを行なう方法を説明する。
Vint1st(1)<Vint2nd(0)<Vint1st(0) (2)
Vint2nd−Vint1st<0ならば 「0」記憶状態
Vint2nd−Vint1st≧0ならば 「1」記憶状態
最後に,必要に応じて、前記電圧比較手段408Aが出力した読み出しデータを選択セルに再書き込みして、一連の読み出し動作を終了する。
なお、積分手段430は、メモリセルアレイ402から読み出し回路へ入力される電流のうちのオフセット成分やノイズ成分を除去する効果も有している。
2、102、202、302、402、802 メモリセルアレイ
3、203 プリアンプ
4、104、204 VCO
5、105、205、805 カウンタ
6、106、206 読み出し値レジスタ
7 基準値レジスタ
8、108、208、808 判定手段
9、109、209、309、409、809 制御回路
10、610、710、810 TMR
11、711、811 ワード線
12、712、812 ビット線
13 選択セル
20 ディレイセル
21 差動アンプ
430、830 積分手段
431 定電流源
432、832 積分キャパシタ
652、752 絶縁膜
653、753 ピン層
654、754 フリー層
755 反強磁性体層
756 キャップ層
833 チャージアンプ
834 基準パルス生成手段
10a 選択セルのTMR
11a 選択ワード線
12a 選択ビット線
103A、303A ゲインコントロールプリアンプ
306A、406A 電圧記憶手段
308A、408A、808A 電圧比較手段
807A プリセットレジスタ
C、Chold キャパシタ
S1、S2、S3、S4、S5 スイッチ
Claims (4)
- 相対的に抵抗値の小さい第1の記憶状態と、相対的に抵抗値の大きい第2の記憶状態との2つの記憶状態を有するメモリセルよりメモリセルアレイが構成される半導体記憶装置の読み出し回路であって、前記メモリセルのうち選択された選択セルから入力される電流を検出して電圧に増幅変換するプリアンプと、前記プリアンプの出力をオン・オフする第1のスイッチ手段と、第1のスイッチ手段の後段にキャパシタを介して接続されたインバータと、前記インバータの後段に接続されたラッチ回路と、前記インバータに並列に接続された第2のスイッチ手段と、を有する半導体記憶装置の読み出し回路であって、
前記選択セルの選択後に、第1の読み出しと、前記第1の読み出しの後に前記選択セルに前記第1の記憶状態または第2の記憶状態のいずれかを書き込む書き込みと、前記書き込みの後に実行される第2の読み出しと、が実行され、前記ラッチ回路により前記選択セルの記憶状態の判定が行なわれることを特徴とする半導体記憶装置の読み出し回路。 - 第1の読み出し時には前記第1および第2のスイッチ手段が閉成され、第2の読み出し時には前記第1のスイッチ手段が閉成、前記第2のスイッチ手段が開成され、第2の読み出し時の前記インバータの出力電圧が前記ラッチ回路にラッチされることを特徴とする請求項1に記載の半導体記憶装置の読み出し回路。
- 前記判定された前記選択セルの第1の読み出し時における記憶状態が、前記書き込み時に書き込まれる記憶状態と異なる場合には、前記判定の後、前記選択セルの第1の読み出し時における記憶状態が、前記選択セルに書き込まれることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の半導体記憶装置の読み出し回路。
- 前記メモリセルがトンネル磁気抵抗素子を有していることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の半導体記憶装置の読み出し回路。
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