JP4696663B2 - 除草用組成物 - Google Patents

Description

本発明は、除草用組成物等に関する。

現在、数多くの除草剤が市販され、使用されている（例えば、非特許文献１参照）が、防除の対象となる雑草は種類も多く、発生も長期間にわたるため、より除草効果が高く、幅広い殺草スペクトラムを有し、効果が長続きし、作物に対し薬害の問題を生じない除草剤が求められている。

クロッププロテクションハンドブック２００３（Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、Ｖｏｌ．８９（２００３）、Ｍｅｉｓｔｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ、ＩＳＢＮ：１−８９２８２９−０６−１）

本発明では、より除草効果が高く、作物に対し薬害の問題を生じることなく、広範囲の雑草を防除する技術等を提供することを課題とする。

本発明者らは、このような状況下において鋭意検討した結果、本発明に至った。
即ち、本発明は、
１．樹園地又は非農耕地における雑草を防除するための除草用組成物であり、有効成分として（ａ）Ｎ−（７−フルオロ−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−４−プロプ−２−イニル−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−６−イル）シクロヘク−１−エン−１，２−ジカルボキサミドと、（ｂ）１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（２−エチルスルホニルイミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−イルスルホニル）ウレアとを含有し、かつ、その混合割合（有効成分（ａ）と有効成分（ｂ）との重量比）が１：０．１〜１０であることを特徴とする除草用組成物（以下、本発明組成物と記すこともある。）；
２．樹園地又は非農耕地において雑草を防除する方法であり、請求項１記載の除草用組成物、或いは、同時に若しくは併用して（ａ）Ｎ−（７−フルオロ−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−４−プロプ−２−イニル−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−６−イル）シクロヘク−１−エン−１，２−ジカルボキサミドと、（ｂ）１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（２−エチルスルホニルイミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−イルスルホニル）ウレアとの混合割合（有効成分（ａ）と有効成分（ｂ）との重量比）が１：０．１〜１０である組み合わせを、雑草が生育している若しくは生育する場所の土壌又は雑草に施用することを特徴とする方法（以下、本発明方法と記すこともある。）；
３．樹園地又は非農耕地において雑草を防除するための除草用組成物の有効成分としての、（ａ）Ｎ−（７−フルオロ−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−４−プロプ−２−イニル−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−６−イル）シクロヘク−１−エン−１，２−ジカルボキサミドと、（ｂ）１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（２−エチルスルホニルイミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−イルスルホニル）ウレアとの混合割合（有効成分（ａ）と有効成分（ｂ）との重量比）が１：０．１〜１０である組み合わせの使用（以下、本発明使用と記すこともある。）；
等を提供するものである。

本発明により、樹園地又は非農耕地において低薬量で施用でき、広範囲の雑草を防除することが可能になる。

本発明組成物において有効成分として用いられるＮ−（７−フルオロ−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−４−プロプ−２−イニル−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−６−イル）シクロヘク−１−エン−１，２−ジカルボキサミド（一般名フルミオキサジン。以下、フルミオキサジンと記すこともある）は、クロッププロテクションハンドブック２００３（Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、Ｖｏｌ．８９（２００３）、Ｍｅｉｓｔｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ、ＩＳＢＮ：１−８９２８２９−０６−１）Ｃ２３６ページに記載される除草活性化合物である。
本発明組成物において有効成分として用いられる１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（２−エチルスルホニルイミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−イルスルホニル）ウレア（一般名スルホスルフロン。以下、スルホスルフロンと記すこともある）は、クロッププロテクションハンドブック２００３（Ｃｒｏｐ Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、Ｖｏｌ．８９（２００３）、Ｍｅｉｓｔｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ Ｃｏｍｐａｎｙ、ＩＳＢＮ：１−８９２８２９−０６−１）Ｃ４３４ページに記載される除草活性化合物である。

本発明組成物は、広範囲の雑草に対し除草活性を有し、樹園地、非農耕地において、効果的に広範囲の雑草を防除することができ、有用植物に対し問題となるような薬害を生じない。

本発明における樹園地としては、リンゴ、ニホンナシ、セイヨウナシ、モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、クリ、カキ、イチジク、ブドウ、ビワ、カンキツ類等を生産するための果樹園、茶園、桑園、コーヒー園、バナナ園、ヤシ園、花木園、花木畑、苗木畑、養樹場、林地、庭園等を挙げることができる。本発明における非農耕地としては、運動場、空き地、線路端、公園、駐車場、道路端、河川敷、送電線下、宅地、工場敷地等を挙げることができる。

本発明組成物で防除できる雑草としては以下のものを挙げることができる。
タデ科雑草：ソバカズラ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、サナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｌａｐａｔｈｉｆｏｌｉｕｍ）、アメリカサナエタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、ハルタデ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｐｅｒｓｉｃａｒｉａ）、ナガバギシギシ（Ｒｕｍｅｘ ｃｒｉｓｐｕｓ）、エゾノギシギシ（Ｒｕｍｅｘ ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉｕｓ）、イタドリ（Ｐｏｌｙｇｏｎｕｍ ｃｕｓｐｉｄａｔｕｍ）
スベリヒユ科雑草：スベリヒユ（Ｐｏｒｔｕｌａｃａ ｏｌｅｒａｃｅａ）
ナデシコ科雑草：ハコベ（Ｓｔｅｌｌａｒｉａ ｍｅｄｉａ）
アカザ科雑草：シロザ（Ｃｈｅｎｏｐｏｄｉｕｍ ａｌｂｕｍ）、ホウキギ（Ｋｏｃｈｉａ ｓｃｏｐａｒｉａ）
ヒユ科雑草：アオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｒｅｔｒｏｆｌｅｘｕｓ）、ホナガアオゲイトウ（Ａｍａｒａｎｔｈｕｓ ｈｙｂｒｉｄｕｓ）
アブラナ科雑草：ワイルドラディッシュ（Ｒａｐｈａｎｕｓ ｒａｐｈａｎｉｓｔｒｕｍ）、ノハラガラシ（Ｓｉｎａｐｉｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ナズナ（Ｃａｐｓｅｌｌａ ｂｕｒｓａ−ｐａｓｔｏｒｉｓ）
マメ科雑草：アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ ｅｘａｌｔａｔａ）、エビスグサ（Ｃａｓｓｉａ ｏｂｔｕｓｉｆｏｌｉａ）、フロリダベガ−ウィ−ド（Ｄｅｓｍｏｄｉｕｍ ｔｏｒｔｕｏｓｕｍ）、シロツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍ ｒｅｐｅｎｓ）
アオイ科雑草：イチビ（Ａｂｕｔｉｌｏｎ ｔｈｅｏｐｈｒａｓｔｉ）、アメリカキンゴジカ（Ｓｉｄａ ｓｐｉｎｏｓａ）
スミレ科雑草：フィ−ルドパンジ−（Ｖｉｏｌａ ａｒｖｅｎｓｉｓ）、ワイルドパンジ−（Ｖｉｏｌａ ｔｒｉｃｏｌｏｒ）
アカネ科雑草：ヤエムグラ（Ｇａｌｉｕｍ ａｐａｒｉｎｅ）
ヒルガオ科雑草：アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｐｕｒｐｕｒｅａ）、マルバアメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｈｅｄｅｒａｃｅａ ｖａｒ ｉｎｔｅｇｒｉｕｓｃｕｌａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ ｌａｃｕｎｏｓａ）、セイヨウヒルガオ（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）
シソ科雑草：ヒメオドリコソウ（Ｌａｍｉｕｍ ｐｕｒｐｕｒｅｕｍ）、ホトケノザ（Ｌａｍｉｕｍ ａｍｐｌｅｘｉｃａｕｌｅ）
ナス科雑草：シロバナチョウセンアサガオ（Ｄａｔｕｒａ ｓｔｒａｍｏｎｉｕｍ）、イヌホオズキ（Ｓｏｌａｎｕｍ ｎｉｇｒｕｍ）
ゴマノハグサ科雑草：オオイヌノフグリ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ｐｅｒｓｉｃａ）、フラサバソウ（Ｖｅｒｏｎｉｃａ ｈｅｄｅｒａｅｆｏｌｉａ）
キク科雑草：オナモミ（Ｘａｎｔｈｉｕｍ ｐｅｎｓｙｌｖａｎｉｃｕｍ）、野生ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓ ａｎｎｕｕｓ）、イヌカミツレ（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｉｎｏｄｏｒａ）、コ−ンマリ−ゴ−ルド（Ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｕｍ ｓｅｇｅｔｕｍ）、オロシャギク（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ ｍａｔｒｉｃａｒｉｏｉｄｅｓ）、ブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ ａｒｔｅｍｉｓｉｉｆｏｌｉａ）、オオブタクサ（Ａｍｂｒｏｓｉａ ｔｒｉｆｉｄａ）、ヒメムカシヨモギ（Ｅｒｉｇｅｒｏｎ ｃａｎａｄｅｎｓｉｓ）、ヨモギ（Ａｒｔｅｍｉｓｉａ ｐｒｉｎｃｅｐｓ）、セイタカアワダチソウ（Ｓｏｌｉｄａｇｏ ａｌｔｉｓｓｉｍａ）
ムラサキ科雑草：ワスレナグサ（Ｍｙｏｓｏｔｉｓ ａｒｖｅｎｓｉｓ）
ガガイモ科雑草：オオトウワタ（Ａｓｃｌｅｐｉａｓ ｓｙｒｉａｃａ）
トウダイグサ科雑草：トウダイグサ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ ｈｅｌｉｏｓｃｏｐｉａ）、オオニシキソウ（Ｅｕｐｈｏｒｂｉａ ｍａｃｕｌａｔａ）
イネ科雑草：イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、エノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｖｉｒｉｄｉｓ）、アキノエノコログサ（Ｓｅｔａｒｉａ ｆａｂｅｒｉ）、メヒシバ（Ｄｉｇｉｔａｒｉａ ｓａｎｇｕｉｎａｌｉｓ）、オヒシバ（Ｅｌｅｕｓｉｎｅ ｉｎｄｉｃａ）、スズメノカタビラ（Ｐｏａ ａｎｎｕａ）、ブラックグラス（Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ ｍｙｏｓｕｒｏｉｄｅｓ）、カラスムギ（Ａｖｅｎａ ｆａｔｕａ）、セイバンモロコシ（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｈａｌｅｐｅｎｓｅ）、シバムギ（Ａｇｒｏｐｙｒｏｎ ｒｅｐｅｎｓ）、ウマノチャヒキ（Ｂｒｏｍｕｓ ｔｅｃｔｏｒｕｍ）、ギョウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎｅ ｄａｃｔｙｌｏｎ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍ ｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、テキサスパニカム（Ｐａｎｉｃｕｍ ｔｅｘａｎｕｍ）、シャタ−ケ−ン（Ｓｏｒｇｈｕｍ ｖｕｌｇａｒｅ）、ネズミムギ（Ｌｏｌｉｕｍ ｍｕｌｔｉｆｌｏｒｕｍ）
ツユクサ科雑草：ツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ ｃｏｍｍｕｎｉｓ）、マルバツユクサ（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａ ｂｅｎｇｈａｒｅｎｓｉｓ）
トクサ科雑草：スギナ（Ｅｑｕｉｓｅｔｕｍ ａｒｖｅｎｓｅ）
カヤツリグサ科雑草：コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｉｒｉａ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ ｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）

本発明組成物において、有効成分として用いられるフルミオキサジンとスルホスルフロンとの混合割合は、約１：０．１〜１０、さらに好ましくは約１：０．２〜５の範囲である。

本発明組成物は、通常、固体担体、液体担体等と混合し、必要により界面活性剤、その他の製剤用補助剤等を添加して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粒剤等に製剤化して用いるとよい。これらの製剤中には、フルミオキサジンとスルホスルフロンとの合計量が一般に約０．１〜９０重量％、好ましくは約１〜８０重量％含有させるとよい。

本発明組成物を製剤化するに際し、用いられる固体担体としては、例えば粘土類（カオリナイト、珪藻土、合成含水酸化珪素、フバサミクレー、ベントナイト、酸性白土等）、タルク、その他の無機鉱物（セリサイト、石英粉末、硫黄粉末、活性炭、炭酸カルシウム等）化学肥料（硫安、燐安、硝安、塩安、尿素等）等の微粉末や粒状物が挙げられ、液体担体としては、例えば水、アルコール類（メタノール、エタノール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メチルナフタレン等）、非芳香族炭化水素類（ヘキサン、シクロヘキサン、ケロシン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、エーテル類（ジオキサン、ジイソプロピルエーテル等）、酸アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロエタン、トリクロロエチレン等）等が挙げられる。

本発明組成物は、夫々の有効成分を上述の製剤手法により製剤した後、これらを混合することにより調製することもできる。
このようにして製剤化された本発明組成物は、そのまま散布してもよいし、水等で希釈して希釈液とした後に、土壌若しくは植物体に散布してもよい。本発明組成物は、さらに、他の除草剤と混合して用いることにより除草効力の増強を期待でき、さらに殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、薬害軽減剤（セーフナー）、土壌改良剤等と併用することもできる。

本発明組成物の施用量は、有効成分であるフルミオキサジンとスルホスルフロンとの混合比、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対象雑草、対象作物により変わり得るが、１ヘクタール当り有効成分化合物の合計量として、通常、約１から１０００ｇである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は、その所定量を１ヘクタール当たり通常約１００〜２０００リットルの水で希釈して施用する。また、本発明組成物を雑草に茎葉処理する場合には、本発明組成物の希釈液にアジュバントを加え、雑草に対する効力の増強を期待することができる。

以下、本発明をより詳細に説明するため、実施例を挙げて説明するが本発明はこれらの例に限定されるものではない。

製剤例を以下に示す。以下の例において、部は重量部を表す。
製剤例１
フルミオキサジン２５部、スルホスルフロン２５部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
製剤例２
フルミオキサジン７０部、スルホスルフロン１４部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部及び合成含水酸化珪素１１部をよく粉砕混合して水和剤を得る。

製剤例３
フルミオキサジン１４部、スルホスルフロン７０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部及び合成含水酸化珪素１１部をよく粉砕混合して水和剤を得る。
製剤例４
フルミオキサジン１０部、スルホスルフロン５部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸ナトリウム２部及び合成含水酸化珪素８０部をよく粉砕混合して水和剤を得る。

製剤例５
フルミオキサジン２０部、スルホスルフロン２０部、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）３部及び水５４部を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。
製剤例６
フルミオキサジン５０部、スルホスルフロン１０部、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）３部及び水３４部を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。

製剤例７
フルミオキサジン５部、スルホスルフロン２５部、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）３部及び水６４部を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。
製剤例８
フルミオキサジン４部、スルホスルフロン２部、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート３部、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロース）３部及び水８８部を混合し、粒度が５ミクロン以下になるまで湿式粉砕して懸濁剤を得る。

以下に生物試験例を示す。
評価基準
除草効力の評価は、調査時の供試雑草の生育状態が無処理のそれと比較して全くないし殆ど違いが無いものを「０」とし、供試植物が完全枯死又は生育が完全に抑制されているものを「５」として、０〜５の６段階に区分し、「０」、「１」、「２」、「３」、「４」、「５」で示す。除草効力の評価値「４」、「５」は優れた除草効力であることを意味する。

試験例１ （土壌処理試験）
直径２２ｃｍ、高さ１９ｃｍのプラスチックポットに畑地土壌を詰め、ネズミムギ及びブラックグラスを播種した。フルミオキサジン製剤品（商品名ＶａｌｏｒＳＸ、ベーラントＵＳＡ社製）、スルホスルフロン製剤品（商品名Ｍｏｎｉｔｏｒ、モンサント社製）及びフルミオキサジン製剤品とスルホスルフロン製剤品との混合剤の各々所定量を水で希釈し、小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。処理後温室内で育成し、３４日目に雑草に対する除草効力を調査した。結果を表１に示す。

試験例２ （茎葉処理試験）
直径１２ｃｍ、高さ８ｃｍのプラスチックポットに畑地土壌を詰め、野外から採取したセイタカアワダチソウを移植し、温室内で３１日間育成させた。フルミオキサジン製剤品（商品名ＶａｌｏｒＳＸ：ベーラントＵＳＡ社製）、スルホスルフロン製剤品（商品名Ｍｏｎｉｔｏｒ：モンサント社製）及びフルミオキサジン製剤品とスルホスルフロン製剤品との混合剤の各々所定量を水で希釈し、小型噴霧器で植物体上方より均一に散布した。処理後２９日間温室内で育成し、除草効力を調査した。結果を表２に示す。

以上の試験例に示すように、土壌処理試験及び茎葉処理試験のいずれにおいても、本発明組成物の処理区では、フルミオキサジン単用区若しくはスルホスルフロン単用区と比較して優れた除草効力が得られた。

さらに、リンゴ、ニホンナシ、モモ、カキ、ブドウ、カンキツ類等を栽培している樹園地において本発明組成物を使用し、薬害の発生有無を調べたが、いずれの樹種にも薬害は全く認められなかった。

本発明により、樹園地又は非農耕地において低薬量で施用でき、広範囲の雑草を防除することが可能になる。

Claims (2)

1. 樹園地又は非農耕地における雑草を防除するための除草用組成物であり、有効成分として（ａ）Ｎ−（７−フルオロ−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−４−プロプ−２−イニル−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−６−イル）シクロヘク−１−エン−１，２−ジカルボキサミドと、（ｂ）１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（２−エチルスルホニルイミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−イルスルホニル）ウレアとを含有し、かつ、その混合割合（有効成分（ａ）と有効成分（ｂ）との重量比）が１：０．１〜１０であることを特徴とする除草用組成物。
2. 樹園地又は非農耕地において雑草を防除する方法であり、請求項１記載の除草用組成物、或いは、同時に若しくは併用して（ａ）Ｎ−（７−フルオロ−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−４−プロプ−２−イニル−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−６−イル）シクロヘク−１−エン−１，２−ジカルボキサミドと、（ｂ）１−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）−３−（２−エチルスルホニルイミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−イルスルホニル）ウレアとの混合割合（有効成分（ａ）と有効成分（ｂ）との重量比）が１：０．１〜１０である組み合わせを、雑草が生育している若しくは生育する場所の土壌又は雑草に施用することを特徴とする方法。