JP4695426B2 - 三弗化窒素ガス製造用電解槽及び三弗化窒素ガスの製造方法 - Google Patents
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- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(dinaphthalen-2-ylamino)phenyl]phenyl]-n-naphthalen-2-ylnaphthalen-2-amine Chemical compound C1=CC=CC2=CC(N(C=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC(=CC=3)N(C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)C3=CC4=CC=CC=C4C=C3)=CC=C21 QKCGXXHCELUCKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 11
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 42
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical group [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 11
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 20
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 9
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 8
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 5
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 4
- 229910017855 NH 4 F Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001780 ECTFE Polymers 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920006361 Polyflon Polymers 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N ammonium fluoride Chemical compound [NH4+].[F-] LDDQLRUQCUTJBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- NPURPEXKKDAKIH-UHFFFAOYSA-N iodoimino(oxo)methane Chemical compound IN=C=O NPURPEXKKDAKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 1
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Description
これに伴い、該ULSI製造過程に使用されるドライエッチング用のガスとして、また、化学的気相成長法(CVD)装置のクリーニングガスとして高純度のNF3が要求されるようになった。
特許文献1にはこの隔板の材質を弗素樹脂として複極化による陽極室内でのH2発生を防止する方法が記述されている。特許文献2には、陽極と陰極を隔離する隔板の下端が電解液面より30〜200mm下に位置することを特徴とする電解槽が記述されている。
(実施例1)
予めアンモニアと無水弗化水素を混合し、モル比(HF/NH4F)が2.0のNH4F−HF系溶融塩20kgを調製し、容量30Lの電解槽に投入した。
(実施例2〜6)
隔膜の目開きを変えた以外は、実施例1と同様の条件で電解を行った。いずれの目開きにおいても、陽極ガス中へのH2の混入ならびに陰極ガス中へのNF3の混入は全く認められず、また、電圧の上昇も認められなかったため、360時間電解を継続することが可能であった。結果を表1にまとめた。
電解温度を130℃に変えた以外は、実施例1〜6と同様の条件で電解を行った。いずれの目開きにおいても、陽極ガス中へのH2の混入ならびに陰極ガス中へのNF3の混入は全く認められず、また電圧の上昇も認められなかったため、360時間電解を継続することが可能であった。また、電解後の膜も、電解温度110℃の時と同様に変形することなく、再利用することが可能であった。
(実施例13〜18)
電解電流を30Aに変えた以外は、実施例1〜6と同様の条件で電解を行った。いずれの目開きにおいても、陽極ガス中へのH2の混入ならびに陰極ガス中へのNF3の混入は全く認められず、また電圧の上昇も認められなかったため、360時間電解を継続することが可能であった。
(比較例1)
該隔膜の目開きを45μmとした以外は、実施例1と同様の条件で電解を行った。電解開始1時間後に、電圧が9.1Vに達し、実施例で使用した膜で電解した時と比較して、明らかな電圧の上昇が認められたため、電解を継続することができなかった。
(比較例2)
該隔膜の目開きを5.5mmとした以外は、実施例1と同様の条件で電解を行った。電解開始2時間後に陰極、陽極から発生するガスをガスクロマトグラフィーにより分析した結果、陰極側のガス中に含まれるNF3濃度は9vol.%であった。また、陽極室側のガス中に含まれるH2濃度は4vol.%であったため、直ちに電解を停止した。ガスの滞留などによる濃度の偏りがあることを考慮すると極めて危険な状態であった。
(比較例3)
隔板の浸液部の隔膜に、厚さ8mmの板状の性状を有する弗素系樹脂の不織布(テフロンフェルト)を用いた以外は、実施例1と同様の条件で電解を行った。電解開始2時間後に、電圧が9.5Vに達し、実施例で使用した膜で電解した時と比較して、明らかな電圧の上昇が認められたため、電解を継続することができなかった。
(比較例4)
隔板の浸液部の隔膜に、厚さ0.50mmのPTFE製シート状フィルター(東洋濾紙株式会社製ポリフロンフィルター)用いた以外は、実施例1と同様の条件で電解を行った。また、浴に対する濡れ性向上のための隔膜表面処理は、処理時間と操作性を考慮すると、工業規模での操業に適用するのは難しいため、省略した。電解開始2時間後に、電圧が9.6Vに達し、実施例で使用した膜で電解した時と比較して、明らかな電圧の上昇が認められたため、電解を継続することができなかった。
2 隔板(弗素樹脂板)
3 陽極電極
4 陰極電極
5 陽極ガス出口
6 陰極ガス出口
7 スチーム・工水入口
8 スチーム・工水出口
Claims (5)
- 隣り合った陽極と陰極の間に、設置された隔膜を有し、
前記隔膜の浸液部は、目開きが150μm以上5mm以下の網状であることを特徴とする、三弗化窒素ガス製造用の電解槽。 - 隔膜が、弗素樹脂製であることを特徴とする請求項1記載の三弗化窒素ガス製造用の電解槽。
- 陽極が、金属であることを特徴とする請求項1または2に記載の三弗化窒素ガス製造用の電解槽。
- 陽極が、ニッケルであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の三弗化窒素ガス製造用の電解槽。
- 請求項1記載の電解槽を用い、無水弗化水素とアンモニアを原料とし、電解温度が80℃以上150℃以下の条件で電解することを特徴とする三弗化窒素ガスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005106813A JP4695426B2 (ja) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | 三弗化窒素ガス製造用電解槽及び三弗化窒素ガスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005106813A JP4695426B2 (ja) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | 三弗化窒素ガス製造用電解槽及び三弗化窒素ガスの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006283158A JP2006283158A (ja) | 2006-10-19 |
JP4695426B2 true JP4695426B2 (ja) | 2011-06-08 |
Family
ID=37405365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005106813A Active JP4695426B2 (ja) | 2005-04-01 | 2005-04-01 | 三弗化窒素ガス製造用電解槽及び三弗化窒素ガスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4695426B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103635609A (zh) * | 2011-06-29 | 2014-03-12 | 东洋炭素株式会社 | 电解装置 |
CN104962946B (zh) * | 2015-06-09 | 2017-09-12 | 中国船舶重工集团公司第七一八研究所 | 一种制备三氟化氮气体的电解槽及其应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998051842A1 (fr) * | 1997-05-12 | 1998-11-19 | Satoru Miyata | Generateur d'hydrogene et d'oxygene du type separe |
JP2000104187A (ja) * | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Mitsui Chemicals Inc | 電解槽(1) |
-
2005
- 2005-04-01 JP JP2005106813A patent/JP4695426B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998051842A1 (fr) * | 1997-05-12 | 1998-11-19 | Satoru Miyata | Generateur d'hydrogene et d'oxygene du type separe |
JP2000104187A (ja) * | 1998-09-29 | 2000-04-11 | Mitsui Chemicals Inc | 電解槽(1) |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006283158A (ja) | 2006-10-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070709 |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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