JP4690053B2 - Resin molded body, manufacturing method thereof, and use thereof - Google Patents

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Description

本発明は、光重合性組成物を光硬化してなる樹脂成形体に関し、特に、シート状もしくはフィルム状の樹脂成形体であって、光学特性、熱特性、機械特性に優れた樹脂成形体であり、とりわけ、ディスプレイ用のフレキシブルなプラスチック基板として有用である樹脂成形体に関するものである。更に、連続光成形により得られる幅広長尺なロールフィルムに関するものである。   The present invention relates to a resin molded product obtained by photocuring a photopolymerizable composition, and in particular, a sheet-shaped or film-shaped resin molded product having excellent optical characteristics, thermal characteristics, and mechanical characteristics. In particular, the present invention relates to a resin molding useful as a flexible plastic substrate for a display. Furthermore, the present invention relates to a wide and long roll film obtained by continuous photoforming.

従来、ディスプレイ用の基板としてはガラスを基板とするものが多く使われてきた。例えば、液晶ディスプレイや有機エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイでは厚さ0.3〜0.7mm程度のガラス基板が汎用されている。近年、軽量薄型化の観点から、また、フレキシブルディスプレイの製造を目的に、プラスチック製の基板も使用され始めている。実際、電卓の液晶画面にポリカーボネートの基板が使われたり、携帯電話用の液晶画面にポリエーテルスルホンが基板として使用された経緯もある。この様なプラスチック基板には、光線透過率や複屈折などの光学性能はもとより、耐熱性や線膨張係数などの熱特性、曲げ弾性率や耐衝撃性などの機械特性、吸水率や比重、及び耐薬品、耐溶剤性などの高度な加工適性が要求される。   Conventionally, as a substrate for a display, a glass substrate is often used. For example, a glass substrate having a thickness of about 0.3 to 0.7 mm is widely used in liquid crystal displays and organic electroluminescence (EL) displays. In recent years, plastic substrates have begun to be used from the viewpoint of weight reduction and thickness reduction and for the purpose of manufacturing flexible displays. In fact, polycarbonate substrates are used for the LCD screen of calculators, and polyethersulfone is used as the substrate for LCD screens for mobile phones. Such plastic substrates have not only optical performance such as light transmittance and birefringence, but also thermal properties such as heat resistance and linear expansion coefficient, mechanical properties such as flexural modulus and impact resistance, water absorption and specific gravity, and High processability such as chemical resistance and solvent resistance is required.

これらの諸特性を満足するために、熱可塑性あるいは熱硬化性を問わず数多くの樹脂が提案されている。ナノフィラーを配合して耐熱性を向上する手法や、コーティングにより表面硬度を向上する手法なども提案されているが、光学特性が低下したり、ガラスの数倍にコストアップしているのが現状である。   In order to satisfy these various properties, many resins have been proposed regardless of thermoplasticity or thermosetting. Proposals have been made to improve heat resistance by adding nanofillers, and to improve surface hardness by coating. However, the current situation is that the optical properties have decreased and the cost has been increased several times that of glass. It is.

また、近年の提案の中には、特定の光重合性組成物を光硬化して得られる成形体も見受けられる。例えば、2官能の(メタ)アクリレートと分子内に2個以上のチオール基を有するメルカプト化合物とを含有する重合性組成物が、複屈折が小さい樹脂成形体を与えることが開示されている(例えば、特許文献1参照。)。また、3官能以上の脂肪族(メタ)アクリレート化合物を75wt%以上含有する重合性組成物は、耐熱性が高く、複屈折が小さい樹脂成形体を与えることが開示されている(例えば、特許文献2参照。)。また、2官能の脂肪族(メタ)アクリレート化合物と3官能以上の(メタ)アクリレート化合物とを含有する重合性組成物が、耐熱性が高く、線膨張係数が小さい成形体を与えることが開示されている(例えば、特許文献3参照。)。
更にまた、連続方式で光硬化する手法が提案されている(例えば、特許文献4参照。)。
特開平9−152510号公報 特開2002−302517号公報 特開2003−292545号公報 特開2002−011742号公報
Further, in recent proposals, a molded product obtained by photocuring a specific photopolymerizable composition can be seen. For example, it is disclosed that a polymerizable composition containing a bifunctional (meth) acrylate and a mercapto compound having two or more thiol groups in the molecule gives a resin molded article having a small birefringence (for example, , See Patent Document 1). Further, it is disclosed that a polymerizable composition containing 75 wt% or more of a trifunctional or higher functional aliphatic (meth) acrylate compound gives a resin molded body having high heat resistance and low birefringence (for example, Patent Documents). 2). Further, it is disclosed that a polymerizable composition containing a bifunctional aliphatic (meth) acrylate compound and a trifunctional or higher (meth) acrylate compound gives a molded article having high heat resistance and a small linear expansion coefficient. (For example, refer to Patent Document 3).
Furthermore, a method of photocuring in a continuous manner has been proposed (see, for example, Patent Document 4).
JP-A-9-152510 JP 2002-302517 A JP 2003-292545 A JP 2002-011742 A

しかしながら、これらの開示技術をもってしても諸特性のバランスが取れているとは言いがたい。例えば、特許文献1に開示される技術では、メルカプト化合物の連鎖移動効果により成形体が低複屈折化されるが、逆に硬化速度が低下し、必要な物性を発現するための重合度が得難く、また、単量体の化学構造がリジッドであるため、曲げ弾性率が高くなりすぎ、プラスチック本来のフレキシブル性が失われる。
特許文献2及び3に開示される技術では、多官能の脂肪族(メタ)アクリレートを使用することにより耐熱性は向上されるが、脂肪族単量体を使用しているため吸水率が高くなり、成形体の吸脱湿に伴う寸法変化が大きくなる。更に、分子鎖に衝撃を吸収する化学構造を有しないためもろくなる。軽量薄型以外に、割れにくさもプラスチック化の重要な因子であるが、これらの開示技術では、ガラスと同等の耐衝撃性しか得られないため、成形体の薄型化が困難であった。
However, it is hard to say that the characteristics are balanced even with these disclosed technologies. For example, in the technology disclosed in Patent Document 1, the molded product has a low birefringence due to the chain transfer effect of the mercapto compound, but conversely, the curing rate is lowered, and a degree of polymerization for expressing necessary physical properties is obtained. In addition, since the chemical structure of the monomer is rigid, the flexural modulus is too high and the inherent flexibility of the plastic is lost.
In the techniques disclosed in Patent Documents 2 and 3, the heat resistance is improved by using a polyfunctional aliphatic (meth) acrylate, but the water absorption is increased because of the use of an aliphatic monomer. The dimensional change accompanying the moisture absorption / desorption of the molded body increases. Furthermore, the molecular chain is fragile because it does not have a chemical structure that absorbs impact. In addition to light weight and thinness, crack resistance is also an important factor for plasticization. However, with these disclosed technologies, it is difficult to make the molded product thin because only the impact resistance equivalent to that of glass can be obtained.

上述したフレキシブル性(曲げ弾性率、耐衝撃性)、吸水率、硬化速度などの課題以外にも、表面が傷つきやすいという問題がある。これはプラスチック基板の一般的な課題であるが、基板の表面硬度が不足していると、輸送中や表示デバイスの製造工程においてこすれ傷や微細なへこみが発生する。例えば、枚葉のプラスチック基板は、通常、積み重ねられて輸送されるが、表面硬度が低いと、基板同士がこすれあって、また合紙とこすれあって、多数の傷を生じることになる。現在、割れやすいガラス基板の輸送には、発泡スチロール中に隙間をおいて基板を並べる通い箱が使用されているが、曲げ弾性率の低いプラスチック基板は、自重によるたわみが大きいため、この輸送方式は困難である。液晶テレビに代表されるような近年の大面積化や高精細化を考慮すると、傷やへこみに由来する欠陥は商品の品位を著しく損ねる。そればかりか、信頼性を確保するためにプラスチック基板上に形成されるガスバリア膜や、液晶や有機EL素子を駆動するために形成される導電膜にピンホールなどの欠陥を生じやすい。表面硬度の向上のため、一般的には基板表面をハードコートする手法が用いられるが、帯電しやすいプラスチックは異物を付着しやすく、コート表面の異物欠陥を無くすことは至難の技である。またハードコートや保護フィルムによる多層化はコストアップにつながる。
特に、有機ELディスプレイにおいて、基板の表面平滑性は発光特性やデバイスの寿命に大きく影響する。傷や異物などによる微小な突起やくぼみは、素子の劣化を早め、黒点などの表示欠陥となる。従って、基板の表面硬度は特に重要である。また、表面硬度が不足していると、基板上に電極や有機EL層を成膜する時に、微小な表面荒れが発生し、十分な発光特性が得られない。高輝度化や低消費電力を達成するためには、プラスチック基板の表面硬度の向上が必要である。
In addition to the above-described problems such as flexibility (flexural modulus, impact resistance), water absorption rate, and curing rate, there is a problem that the surface is easily damaged. This is a general problem with plastic substrates. However, if the surface hardness of the substrate is insufficient, scratches and fine dents are generated during transportation and in the manufacturing process of the display device. For example, sheet plastic substrates are usually stacked and transported. However, if the surface hardness is low, the substrates are rubbed with each other and rubbed with interleaving paper, resulting in numerous scratches. At present, glass containers that are easy to break are transported by using a go-through box that arranges the substrates with a gap in polystyrene foam, but plastic substrates with low flexural modulus have a large deflection due to their own weight. Have difficulty. Considering the recent increase in area and resolution as represented by liquid crystal televisions, defects resulting from scratches and dents significantly impair the quality of the product. In addition, defects such as pinholes are likely to occur in a gas barrier film formed on a plastic substrate for ensuring reliability and a conductive film formed for driving a liquid crystal or an organic EL element. In order to improve the surface hardness, generally, a technique of hard-coating the substrate surface is used. However, a plastic that is easily charged tends to adhere foreign matter, and it is very difficult to eliminate foreign matter defects on the coated surface. Multi-layering with a hard coat or protective film leads to an increase in cost.
In particular, in the organic EL display, the surface smoothness of the substrate greatly affects the light emission characteristics and the lifetime of the device. Small protrusions or indentations due to scratches or foreign matter accelerate the deterioration of the element and become display defects such as black spots. Therefore, the surface hardness of the substrate is particularly important. In addition, when the surface hardness is insufficient, a minute surface roughness occurs when an electrode or an organic EL layer is formed on the substrate, and sufficient light emission characteristics cannot be obtained. In order to achieve high brightness and low power consumption, it is necessary to improve the surface hardness of the plastic substrate.

一方、プラスチック基板に求められる課題として、枚葉の樹脂成形体では、連続して表示デバイスを作製できず、生産性に劣ることとなるため、樹脂成形体のフィルムロール化が挙げられる。
上記特許文献4に開示される技術では、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上に高粘度の光重合性組成物を一定量ずつ押し出し、その上にもう1枚のPETフィルムをラミネートした後、活性エネルギー線を照射して樹脂成形体を得るのであるが、PETフィルムがたわむため、樹脂平坦性を確保できない。
一般的な光学フィルムが数百m以上であることを考えると、少なくとも100m以上の長尺成形体が望まれる。また、成形体の幅は、近年のディスプレイの大面積化や、多面取りによる生産効率の向上を考えると、より幅広であることが必要である。例えば、液晶テレビへの適用を考えると、幅50cm以上の幅広フィルムが望まれる。
成形体をフィルムロールとする時には、特に表面硬度が問題となる。すなわち、表面硬度が低いと、搬送ロールとのこすれ傷や、巻き取り工程におけるフィルム同士のこすれ傷が増加する。表面硬度を向上するために、ハードコート処理したり、保護膜を添付したり、合紙を挿入することはコストアップを招くこととなるため、これらの処理や工程なしに、芯材ロールに成形体を巻き付けられることが好ましい。
On the other hand, as a problem required for a plastic substrate, since a single-wafer resin molded body cannot continuously produce a display device and is inferior in productivity, the resin molded body can be made into a film roll.
In the technique disclosed in Patent Document 4, a high-viscosity photopolymerizable composition is extruded on a polyethylene terephthalate (PET) film by a certain amount, and another PET film is laminated thereon, and then an active energy ray. However, since the PET film is bent, the resin flatness cannot be ensured.
Considering that a general optical film is several hundred meters or longer, a long molded body of at least 100 meters or more is desired. Further, the width of the molded body needs to be wider in consideration of the recent increase in display area and the improvement of production efficiency by multi-cavity. For example, considering application to a liquid crystal television, a wide film having a width of 50 cm or more is desired.
When the molded body is used as a film roll, the surface hardness is particularly a problem. That is, when the surface hardness is low, scratches with the transport roll and scratches between the films in the winding process increase. In order to improve surface hardness, hard coat treatment, attaching a protective film, or inserting slip sheets will increase costs, so it is formed into a core roll without these treatments and processes. Preferably the body is wrapped around.

上述した課題は、ガラスに代えてプラスチック基板が使用される機会を大きく減ずる理由であった。
そこで、本発明ではこのような背景下において、フレキシブルディスプレイに好適な樹脂成形体、更には、フィルムロールとなることが容易な樹脂成形体を提供することを目的とするものである。
The above-mentioned problem was the reason for greatly reducing the opportunity to use a plastic substrate instead of glass.
Therefore, the present invention aims to provide a resin molded body suitable for a flexible display, and further a resin molded body that can easily be a film roll.

本発明者らが上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]を光硬化して得られる樹脂成形体であって、厚さ50〜400μmで、かつ表面の鉛筆硬度が4H以上であり、かつ、(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]が、下記成分(A)、(B)、及び(C)を含有してなる樹脂成形体が、上記目的に合致することを見出し本発明を完成した。
(A)脂環構造を有するポリイソシアネート化合物と水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてなる脂環構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレート
(B)脂環構造を有する2官能(メタ)アクリレート(但し、(A)を除く。)
(C)光重合開始剤
As a result of intensive studies by the present inventors to solve the above-mentioned problems, it is a resin molded body obtained by photocuring the (meth) acrylate photopolymerizable composition [I], and has a thickness of 50 to 400 μm. And the surface pencil hardness is 4H or more, and the (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] contains the following components (A), (B), and (C): The present invention was completed by finding that the molded body meets the above-mentioned purpose.
(A) Polyfunctional urethane (meth) acrylate having an alicyclic structure obtained by reacting a polyisocyanate compound having an alicyclic structure and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (B) Bifunctional (meth) acrylate having an alicyclic structure ( (Excluding (A))
(C) Photopolymerization initiator

本発明の樹脂成形体においては、曲げ弾性率が2.5〜3.5GPa(25℃)であることが好ましく、少なくとも片面の表面粗さRaが20nm以下であることがより好ましい。
更に、成分(A)と成分(B)の配合割合が、重量比で30:70〜70:30であることが表面硬度や曲げ弾性率や耐熱性などの物性バランスの点で好ましい
なお、ここでいう多官能とは、分子内に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有することを意味する。
In the resin molding of the present invention, the flexural modulus is preferably 2.5 to 3.5 GPa (25 ° C.), and at least the surface roughness Ra on one side is more preferably 20 nm or less.
Furthermore, the mixing ratio of Ingredients (A) and component (B), 30 by weight ratio: 70 to 70: it is preferred from the viewpoint of balance among physical properties such as surface hardness and flexural modulus and heat resistance at 30.
In addition, polyfunctional here means having two or more (meth) acryloyl groups in a molecule | numerator.

また、本発明の樹脂成形体は、光線透過率が90%以上、かつ屈折率が1.48〜1.54であること、リタデーションが10nm以下であること、ガラス転移点が120℃以上、かつ線膨張係数が20〜70ppm/℃であることが特に好ましい。
そして、本発明の樹脂成形体は、特に有機ELディスプレイ用の基板として好適に使用することができる。
The resin molded body of the present invention has a light transmittance of 90% or more, a refractive index of 1.48 to 1.54, a retardation of 10 nm or less, a glass transition point of 120 ° C. or more, and The linear expansion coefficient is particularly preferably 20 to 70 ppm / ° C.
And the resin molding of this invention can be used conveniently especially as a board | substrate for organic EL displays.

本発明における樹脂成形体の製造方法としては、(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]を、波長200〜400nmの活性エネルギー線を用いて、照射光量5J/cm以下で光硬化することが好ましく、(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]を30重量%以上含む溶液を、連続したキャスト基材に流延し、乾燥後、光硬化して得ることがより好ましく、さらに、光硬化後に100℃以上の温度で熱処理することが特に好ましい。 As a manufacturing method of the resin molding in this invention, (meth) acrylate type photopolymerizable composition [I] is photocured by the irradiation light quantity of 5 J / cm < 2 > or less using an active energy ray with a wavelength of 200-400 nm. It is more preferable that a solution containing 30% by weight or more of the (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] is cast on a continuous cast substrate, dried and then photocured, and more preferably It is particularly preferable to perform heat treatment at a temperature of 100 ° C. or higher after photocuring.

また、本発明は、該樹脂成形体の少なくとも片面にガスバリア膜が成膜されたガスバリア性フィルムに関する。該ガスバリア膜は、酸化珪素膜及び/又はビニルアルコール系樹脂膜が好ましい。より好ましくは、該酸化珪素膜上に、ビニルアルコール系樹脂膜が積層されたガスバリア性フィルムであり、特には樹脂成形体/酸化珪素膜/ビニルアルコール系樹脂膜の層構成で成膜されてなるガスバリア性フィルムであることが好ましい。
更に、本発明は、該ガスバリア性フィルムの少なくとも片面に透明導電膜が成膜されてなる透明導電性フィルム、及び該透明導電性フィルムを用いた有機EL素子に関するものである。
The present invention also relates to a gas barrier film in which a gas barrier film is formed on at least one surface of the resin molded body. The gas barrier film is preferably a silicon oxide film and / or a vinyl alcohol resin film. More preferably, it is a gas barrier film in which a vinyl alcohol-based resin film is laminated on the silicon oxide film, and is particularly formed by a layer structure of resin molded body / silicon oxide film / vinyl alcohol-based resin film. A gas barrier film is preferred.
Furthermore, the present invention relates to a transparent conductive film in which a transparent conductive film is formed on at least one surface of the gas barrier film, and an organic EL device using the transparent conductive film.

本発明によれば、光学特性と熱特性、機械特性に優れ、特に高い表面硬度を有し、ディスプレイ用のフレキシブル基板に適した樹脂成形体を容易に製造することができる。また、特に、長さ100m以上、幅50cm以上である幅広長尺な樹脂成形体を得ることができる。これらの樹脂成形体は、高い表面硬度、高い表面平滑性、及び適度な曲げ弾性率を有するため、ガスバリア性に優れたガスバリア膜や導電性に優れた導電膜の積層が容易であり、発光特性に優れる有機ELディスプレイ用の基板として好適である。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the resin molding which is excellent in an optical characteristic, a thermal characteristic, and a mechanical characteristic, has especially high surface hardness, and is suitable for the flexible substrate for a display can be manufactured easily. In particular, a wide and long resin molded body having a length of 100 m or more and a width of 50 cm or more can be obtained. Since these resin moldings have high surface hardness, high surface smoothness, and appropriate bending elastic modulus, it is easy to stack gas barrier films with excellent gas barrier properties and conductive films with excellent conductivity, and light emitting characteristics. It is suitable as a substrate for an organic EL display having excellent resistance.

以下、本発明につき詳細に説明する。なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの総称である。
本発明の樹脂成形体は、(メタ)アクリレート系の光重合性組成物[I]を光硬化して得られる厚さ50〜400μmで、かつ表面の鉛筆硬度が4H以上である樹脂成形体である。樹脂成形体の厚さは、プラスチック基板のフレキシブル性に直接影響するため、厚さが400μmを超えると、フレキシブル性が失われ、フィルムをロール化することも困難になり、逆に、50μm未満では、ディスプレイの支持体としての機能に乏しくなる。厚さのより好ましい範囲は70〜300μm、更に好ましくは80〜200μm、特に好ましくは90〜150μmである。また、鉛筆硬度4H未満では、表示デバイスの製造工程において樹脂成形体の表面に傷がつきやすい。これは、異物とのこすれ傷だけではなく、プラスチック基板が搬送される際に用いられる高強度の樹脂製ジグやSUS製ジグ、あるいはこれらのジグを覆う一般的なハードコート層が4H程度の表面硬度を有するためである。樹脂成形体の表面に傷が存在すると、表面にガスバリア膜を成膜した時に十分なガスバリア性を発揮できない。また表面に導電膜を成膜した時に十分な導電性を発揮できない。特に、有機ELディスプレイ用の基板に用いた場合には発光特性が低下することにもなる。成形体表面の鉛筆硬度は、好ましくは5H〜8H、さらに好ましくは6H〜7Hである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present invention, “(meth) acrylate” is a general term for acrylate and methacrylate.
The resin molded body of the present invention is a resin molded body having a thickness of 50 to 400 μm obtained by photocuring the (meth) acrylate-based photopolymerizable composition [I] and having a surface pencil hardness of 4H or more. is there. Since the thickness of the resin molding directly affects the flexibility of the plastic substrate, if the thickness exceeds 400 μm, the flexibility is lost and it becomes difficult to roll the film. Conversely, if the thickness is less than 50 μm The function as a display support is poor. A more preferable range of the thickness is 70 to 300 μm, more preferably 80 to 200 μm, and particularly preferably 90 to 150 μm. Moreover, if the pencil hardness is less than 4H, the surface of the resin molded body is easily damaged in the manufacturing process of the display device. This is not only due to scratches caused by foreign objects, but also high-strength resin jigs and SUS jigs used when plastic substrates are transported, or a general hard coat layer covering these jigs has a surface hardness of about 4H. It is for having. If scratches are present on the surface of the resin molded body, sufficient gas barrier properties cannot be exhibited when a gas barrier film is formed on the surface. Also, sufficient conductivity cannot be exhibited when a conductive film is formed on the surface. In particular, when used for a substrate for an organic EL display, the light emission characteristics are also deteriorated. The pencil hardness on the surface of the molded body is preferably 5H to 8H, more preferably 6H to 7H.

本発明の樹脂成形体は、曲げ弾性率が2.5〜3.5GPa(25℃)であることが好ましい。曲げ弾性率が2.5GPa未満では、樹脂成形体の靱性不足のため、成膜工程や表示デバイス製造工程でたわみやうねりが生じ、均一なガスバリア性や導電性を確保できない傾向にある。曲げ弾性率が3.5GPaを超えると、樹脂成形体や表示デバイスのフレキシブル性が失われ、フィルムロール化も困難になる。   The resin molded body of the present invention preferably has a flexural modulus of 2.5 to 3.5 GPa (25 ° C.). When the flexural modulus is less than 2.5 GPa, the toughness of the resin molding is insufficient, so that the film forming process and the display device manufacturing process cause deflection and undulation, and uniform gas barrier properties and electrical conductivity tend not to be ensured. When the flexural modulus exceeds 3.5 GPa, the flexibility of the resin molded body and the display device is lost, and film rolls become difficult.

本発明の樹脂成形体は、表面粗さRaが20nm以下であることがより好ましい。表面粗さが20nmを超えると、ガスバリア性や導電性が低下するばかりではなく、表示デバイスにおいて黒点などの表示欠陥が発生しやすい。   As for the resin molding of this invention, it is more preferable that surface roughness Ra is 20 nm or less. When the surface roughness exceeds 20 nm, not only gas barrier properties and conductivity are lowered, but also display defects such as black spots are likely to occur in the display device.

本発明で光硬化に供する(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]は、上記の如き物性を満足し、かつ下記の(A)、(B)、および(C)を含有してなるものである。
(A)脂環構造を有するポリイソシアネート化合物と水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてなる脂環構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレート
(B)脂環構造を有する多官能(メタ)アクリレート(但し、(A)を除く。)
(C)光重合開始剤
The (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] used for photocuring in the present invention satisfies the physical properties as described above and contains the following (A), (B), and (C). Is.
(A) Polyfunctional urethane (meth) acrylate having an alicyclic structure obtained by reacting a polyisocyanate compound having an alicyclic structure and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (B) Multifunctional (meth) acrylate having an alicyclic structure ( (Excluding (A))
(C) Photopolymerization initiator

成分(A)は、分子内に(メタ)アクリロイル基を2個以上含有するウレタン(メタ)アクリレートである。多官能であるため、硬化速度が向上し、生産性良く樹脂成形体を得ることができる。また、光硬化により架橋樹脂を形成し、耐熱性の高い樹脂成形体を得ることができる。通常、多官能になるほど、成形体の曲げ弾性率は増大してフレキシブル性は失われ、耐衝撃性が低下してもろくなるが、成分(A)は分子内にウレタン基を有し、得られる樹脂成形体は水素結合により、適度な靱性を有し、もろくならないため、高度な架橋構造を有していながら、曲げ弾性率や耐衝撃性などの機械強度に優れたフレキシブルな樹脂成形体を得ることができる。一般的に、2官能以上の(メタ)アクリレート系化合物は重合時の収縮が大きく、硬化物が成形型内でひび割れたり、脱型時に破損して樹脂成形体を得ることが難しかったが、本発明で用いる光重合性組成物はウレタン基により強度が向上するため、歩留まり良く樹脂成形体を得ることができる。また、特筆すべきは、表面硬度の向上である。一般的に多官能のウレタン(メタ)アクリレートはハードコート剤として使用されており、その皮膜は高い鉛筆硬度と耐擦傷性を有する。該単量体を樹脂成形体の成分として用いることにより、プラスチック基板の傷つきやすさを改良することができる。この表面硬度の向上は、特に、4官能以上のウレタン(メタ)アクリレートで発現する。また、成分(A)は脂環構造を分子内に有しており、この脂環構造により樹脂成形体の吸水率が低減することとなる。   Component (A) is a urethane (meth) acrylate containing two or more (meth) acryloyl groups in the molecule. Since it is polyfunctional, the curing rate is improved, and a resin molded product can be obtained with high productivity. Moreover, a crosslinked resin can be formed by photocuring and a resin molded body with high heat resistance can be obtained. Usually, the higher the polyfunctionality, the more the flexural modulus of the molded body increases and the flexibility is lost. Even if the impact resistance decreases, the component (A) has a urethane group in the molecule and is obtained. Since the resin molded body has moderate toughness due to hydrogen bonding and does not become brittle, it obtains a flexible resin molded body with excellent mechanical strength such as flexural modulus and impact resistance while having a highly crosslinked structure. be able to. In general, bifunctional or higher functional (meth) acrylate compounds have large shrinkage during polymerization, and it has been difficult to obtain a resin molded product because the cured product cracks in the mold or breaks during demolding. Since the strength of the photopolymerizable composition used in the invention is improved by the urethane group, a resin molded product can be obtained with a high yield. Also noteworthy is the improvement of surface hardness. In general, polyfunctional urethane (meth) acrylate is used as a hard coating agent, and the film has high pencil hardness and scratch resistance. By using the monomer as a component of the resin molded body, the susceptibility of the plastic substrate to damage can be improved. This improvement in surface hardness is manifested particularly with a tetrafunctional or higher urethane (meth) acrylate. In addition, component (A) has an alicyclic structure in the molecule, and the water absorption rate of the resin molded product is reduced by this alicyclic structure.

成分(B)も、多官能の(メタ)アクリレートであるため、高耐熱性の樹脂成形体を与える。成分(A)のウレタン(メタ)アクリレートよりも耐熱性向上の効果は大きいが、この単量体のみでは、あまりにもガラスライクな架橋樹脂となるためもろい。成分(A)のウレタン(メタ)アクリレートと特定の割合で共重合させることにより、表面硬度に加え、耐熱性とフレキシブル性が両立した樹脂成形体を得ることができる。成分(B)の官能基数が過剰に多いと、耐熱性とフレキシブル性のバランスがくずれるため、成分(B)は2官能であることが必要であり、メタクリレートであることがより好ましい。また、成分(B)も脂環構造を有しており、この脂環構造も樹脂成形体の吸水率を低減する。エステル基やウレタン基は吸水率低減には必ずしも好ましくないが、硬化物の内部に脂環構造を導入することにより、十分に吸水率を低減することができる。また、多官能になるほど光硬化工程における硬化収縮が増大するが、バルキーな脂環構造は収縮の低減に大きく寄与し、成形性を高めることができる。 Since component (B) is also a polyfunctional (meth) acrylate, a highly heat-resistant resin molded product is provided. Although the effect of improving the heat resistance is greater than that of the component (A) urethane (meth) acrylate, this monomer alone is too brittle because it becomes a glass-like crosslinked resin. By copolymerizing the component (A) with urethane (meth) acrylate at a specific ratio, a resin molded body having both heat resistance and flexibility can be obtained in addition to surface hardness. If the number of functional groups in component (B) is excessively large, the balance between heat resistance and flexibility is lost, so component (B) needs to be bifunctional and is more preferably methacrylate. The component (B) also has an alicyclic structure, and this alicyclic structure also reduces the water absorption rate of the resin molded body. An ester group or a urethane group is not necessarily preferable for reducing the water absorption rate, but the water absorption rate can be sufficiently reduced by introducing an alicyclic structure into the cured product. In addition, the curing shrinkage in the photocuring process increases as the polyfunctionality increases, but the bulky alicyclic structure greatly contributes to the reduction of shrinkage and can improve the moldability.

成分(A)と成分(B)の配合割合は、30:70〜70:30(重量比)である。成分(A)が30重量%未満であると、表面硬度や耐衝撃性などの機械特性に劣り、逆に、成分(A)が70重量%を超えると、吸水率が増加することとなり好ましくない。配合割合の好ましい範囲は、40:60〜60:40(重量比)、より好ましくは、45:55〜55:45(重量比)である。   The compounding ratio of the component (A) and the component (B) is 30:70 to 70:30 (weight ratio). If the component (A) is less than 30% by weight, the mechanical properties such as surface hardness and impact resistance are inferior. Conversely, if the component (A) exceeds 70% by weight, the water absorption rate is unfavorably increased. . A preferable range of the blending ratio is 40:60 to 60:40 (weight ratio), and more preferably 45:55 to 55:45 (weight ratio).

本発明の(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]は、23℃における粘度が200〜6000mPa・sであることが好ましい。より好ましくは1000〜4000mPa・s、更に好ましくは2000〜3000mPa・sである。粘度が200mPa・s未満では、成形工程において未重合の単量体が残存しやすく、逆に、6000mPa・sを超えると、バッチ式の注型成形する時には型に注入しづらく、連続成形する時には流動ムラによりリタデーションが増大しやすくなり好ましくない。かかる粘度に調整する方法としては、成分(A)及び(B)の種類や配合量を適宜コントロールすることなどが挙げられる。   The (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] of the present invention preferably has a viscosity at 23 ° C. of 200 to 6000 mPa · s. More preferably, it is 1000-4000 mPa * s, More preferably, it is 2000-3000 mPa * s. If the viscosity is less than 200 mPa · s, unpolymerized monomers are likely to remain in the molding process. Conversely, if the viscosity exceeds 6000 mPa · s, it is difficult to inject into the mold when batch-type casting, and when continuous molding is performed. Retardation tends to increase due to flow unevenness, which is not preferable. Examples of the method for adjusting the viscosity include appropriately controlling the types and blending amounts of the components (A) and (B).

成分(A)の数平均分子量は、200〜5000であることが好ましい。より好ましくは400〜3000、更に好ましくは500〜1000である。数平均分子量が200未満では、硬化収縮が増大し、複屈折が発生しやすい傾向にある。逆に、5000を超えると、架橋性が低下し、耐熱性が不足する傾向にある。   The number average molecular weight of component (A) is preferably 200 to 5,000. More preferably, it is 400-3000, More preferably, it is 500-1000. When the number average molecular weight is less than 200, curing shrinkage increases and birefringence tends to occur. On the other hand, when it exceeds 5000, the crosslinkability tends to decrease and the heat resistance tends to be insufficient.

成分(A)の脂環構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレートは、脂環構造を有するポリイソシアネート化合物と、水酸基含有(メタ)アクリレートを、必要に応じてジブチルチンジラウレートなどの触媒を用いて反応させることにより得ることができる。
脂環構造を有するポリイソシアネート化合物の具体例としては、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、水添化キシリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートの3量体化合物などが挙げられる。
水酸基含有(メタ)アクリレートの具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
The polyfunctional urethane (meth) acrylate having an alicyclic structure as the component (A) is prepared by using a polyisocyanate compound having an alicyclic structure and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate, if necessary, using a catalyst such as dibutyltin dilaurate. It can be obtained by reacting.
Specific examples of the polyisocyanate compound having an alicyclic structure include isophorone diisocyanate, norbornene diisocyanate, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, hydrogenated xylylene diisocyanate. , Hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate trimer compound, and the like.
Specific examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-hydroxy-3- (meth) acryloyl. Examples include roxypropyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol tri (meth) acrylate.

脂環構造を有するポリイソシアネート化合物と、水酸基含有(メタ)アクリレートとの反応により得られる多官能ウレタン(メタ)アクリレートは、2種以上混合して用いても良い。これらの反応物の中では、硬化速度の点からアクリレートが好ましく、耐熱性の観点から4官能以上がより好ましく、表面硬度の点から、下記式(1)〜(4)で表される脂環構造を有する4官能以上のウレタンアクリレートが特に好ましい。   Two or more polyfunctional urethane (meth) acrylates obtained by the reaction of a polyisocyanate compound having an alicyclic structure and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate may be used in combination. Among these reactants, acrylate is preferable from the viewpoint of curing speed, tetrafunctional or higher is more preferable from the viewpoint of heat resistance, and alicyclic rings represented by the following formulas (1) to (4) from the viewpoint of surface hardness. A tetrafunctional or higher functional urethane acrylate having a structure is particularly preferred.

Figure 0004690053

Figure 0004690053

Figure 0004690053
ここで、Rは水素又はメチル基である。
Figure 0004690053

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Figure 0004690053
Here, R 1 is hydrogen or a methyl group.

Figure 0004690053
Figure 0004690053

成分(B)の脂環構造を有する多官能(メタ)アクリレート(但し、(A)を除く。)としては、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシ)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=アクリレートメタクリレート、ビス(ヒドロキシ)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=ジ(メタ)アクリレート、ビス(ヒドロキシ)ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]ペンタデカン=アクリレートメタクリレート、2,2−ビス[4−(β−メタクリロイルオキシエトキシ)シクロヘキシル]プロパン、1,3−ビス(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス(メタクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(メタクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサンなどの2官能(メタ)アクリレート、1,3,5−トリス(メタクリロイルオキシメチル)シクロヘキサン、1,3,5−トリス(メタクリロイルオキシエチルオキシメチル)シクロヘキサンなどの3官能(メタ)アクリレートがあげられ、これらの中でも、フレキシブル性の点から2官能(メタ)アクリレートであることが必要で、耐熱性の点から2官能メタクリレートがより好ましい。更に光学性能の点から下記一般式(5)、(6)、もしくは(7)から選ばれる少なくとも1種以上の2官能(メタ)アクリレートが好ましく、中でも2官能メタクリレートが特に好ましい。
Component polyfunctional (meth) acrylate having an alicyclic structure (B) (provided that (except for A).) The bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2, 6] decane = di (Meth) acrylate, bis (hydroxy) tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane = acrylate methacrylate, bis (hydroxy) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = di (meth) acrylate, bis (hydroxy) pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13 ] pentadecane = acrylate methacrylate, 2,2-bis [4- (β-methacryloyloxyethoxy) cyclohexyl] propane, 1,3-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,3-bis (methacryloyloxyethyl) Bifunctional (meth) acrylates such as oxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis (methacryloyloxymethyl) cyclohexane, 1,4-bis (methacryloyloxyethyloxymethyl) cyclohexane, 1,3,5-tris (methacryloyloxymethyl) ) cyclohexane, 1,3,5-tris (methacryloyloxyethyl oxy) cyclohexane trifunctional (meth) acrylate and the like, among these, difunctional (meth) acrylate from the viewpoint of flexibility It is necessary that there is more preferred difunctional methacrylate from the viewpoint of heat resistance. Furthermore, at least one bifunctional (meth) acrylate selected from the following general formula (5), (6), or (7) is preferable from the viewpoint of optical performance, and bifunctional methacrylate is particularly preferable.

Figure 0004690053
ここで、Rは炭素数1〜6のエーテル結合を含んでも良いアルキレン基、Rは水素又はメチル基、aは1又は2、bは0又は1である。
Figure 0004690053
Here, R 2 is an alkylene group that may contain an ether bond having 1 to 6 carbon atoms, R 3 is hydrogen or a methyl group, a is 1 or 2, and b is 0 or 1.

Figure 0004690053
ここで、Rは炭素数1〜6のエーテル結合を含んでも良いアルキレン基、Rは水素又はメチル基である。
Figure 0004690053
Here, R 4 is an alkylene group that may contain an ether bond having 1 to 6 carbon atoms, and R 5 is hydrogen or a methyl group.

Figure 0004690053
ここで、Rは水素又はメチル基、Rは 炭素数1〜6のエーテル結合を含んでも良いアルキレン基、Rは水素又はメチル基である。
Figure 0004690053
Here, R 6 is hydrogen or a methyl group, R 7 is an alkylene group that may contain an ether bond having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 is hydrogen or a methyl group.

成分(C)は光重合開始剤であり、特に限定されないが、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,6−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホシフィンオキシド等が挙げられる。これらの中でも、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどのラジカル開裂型の光重合開始剤が好ましい。これらの光重合開始剤は単独で用いても、2種以上を併用してもよい。光重合開始剤の配合量は、特に限定されないが、成分(A)と成分(B)の合計100重量部に対して、0.1〜5重量部、更には0.2〜4重量部、特には0.3〜3重量部であることが好ましい。配合量が5重量部を超えると、樹脂成形体のリタデーションが増大し、また400nmにおける光線透過率が低下する傾向にある。一方、0.1重量部未満では重合速度が低下し、重合が十分に進行しないおそれがある。   Component (C) is a photopolymerization initiator and is not particularly limited. For example, benzophenone, benzoin methyl ether, benzoin propyl ether, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,6-dimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, Examples include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide. Among these, radical-cleavage photopolymerization initiators such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide are preferable. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Although the compounding quantity of a photoinitiator is not specifically limited, 0.1-5 weight part with respect to a total of 100 weight part of a component (A) and a component (B), Furthermore, 0.2-4 weight part, In particular, the amount is preferably 0.3 to 3 parts by weight. If the blending amount exceeds 5 parts by weight, the retardation of the resin molded product increases and the light transmittance at 400 nm tends to decrease. On the other hand, if the amount is less than 0.1 parts by weight, the polymerization rate may decrease and the polymerization may not proceed sufficiently.

本発明においては、本発明の樹脂成形体の物性を損ねない範囲で、少量の補助成分を含んでいても良い。例えば、成分(A)及び(B)以外のエチレン性不飽和結合を有する単量体、重合禁止剤、熱重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レべリング剤、ブルーイング剤、染顔料、フィラーなどである。   In the present invention, a small amount of auxiliary components may be included as long as the physical properties of the resin molded body of the present invention are not impaired. For example, monomers having an ethylenically unsaturated bond other than components (A) and (B), polymerization inhibitors, thermal polymerization initiators, antioxidants, ultraviolet absorbers, antifoaming agents, leveling agents, blue Ingredients, dyes and pigments.

成分(A)及び(B)以外のエチレン性不飽和結合を有する単量体としては、メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレートなどの単官能(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコール以上のポリエチレングリコールのジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ1,3−ジ(メタ)アクリロキシプロパン、2,2−ビス[4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル]プロパン、 トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどの多官能(メタ)アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどの(メタ)アクリル酸誘導体、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレンなどのスチレン系化合物が挙げられる。   Monomers having an ethylenically unsaturated bond other than components (A) and (B) include methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meta ) Monofunctional (meth) acrylate such as acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of tetraethylene glycol or higher polyethylene glycol, 1 , 3-butylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 2-hydroxy 1,3-di (meth) acryloxypropane, Polyfunctional (meth) acrylates such as 2,2-bis [4- (meth) acryloyloxyphenyl] propane, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, (meth) acrylic such as acrylamide, methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile Examples thereof include acid derivatives, styrene compounds such as styrene, chlorostyrene, divinylbenzene, and α-methylstyrene.

熱重合開始剤としては、公知の化合物を用いることができる。例えば、ハイドロパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド、ジt−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ(2−エチルヘキサノエート)等のパーオキシエステル、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート、パーオキシケタール、ケトンパーオキサイド等の過酸化物が挙げられる。   Known compounds can be used as the thermal polymerization initiator. For example, hydroperoxide such as hydroperoxide, t-butyl hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide Dialkyl peroxides such as t-butyl peroxybenzoate, peroxyesters such as t-butylperoxy (2-ethylhexanoate), diacyl peroxides such as benzoyl peroxide, and peroxycarbonates such as diisopropyl peroxycarbonate And peroxides such as peroxyketal and ketone peroxide.

かくして本発明で用いる(メタ)アクリレート系光重合性組成物が得られる。
次に、かかる(メタ)アクリレート系光重合性組成物を用いた本発明の樹脂成形体の製造方法について説明する。
Thus, the (meth) acrylate photopolymerizable composition used in the present invention is obtained.
Next, the manufacturing method of the resin molding of this invention using this (meth) acrylate type photopolymerizable composition is demonstrated.

本発明における樹脂成形体の製造方法としては、上記(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]を、波長200〜400nmの紫外線を用いて、照射光量5J/cm以下で光硬化することが好ましい。照射光量のより好ましい範囲は0.5〜4J/cm、更に好ましくは1〜3J/cmである。照射光量が5J/cmを超える場合は生産性に劣り好ましくない。紫外線の照度は、10〜5000mW/cm、好ましくは100〜1000mW/cmである。照度が小さすぎると成形体内部まで十分に硬化しない。逆に、照度が大きすぎると重合が暴走し複屈折が増大する。紫外線は、複数回に分割して照射すると、複屈折がより小さい樹脂成形体が得られるので好ましい。例えば、1回目に全照射量の1/100〜1/10程度を照射し、2回目以降に必要残量を照射する方法が挙げられる。紫外線源としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀灯ランプ、無電極水銀ランプ等が挙げられる。光源から発生する赤外線により重合が暴走するのを防ぐため、ランプに赤外線を遮断するフィルターや赤外線を反射しない鏡等を用いることも可能である。本発明で得られた樹脂成形体は、より重合度の向上のため、あるいは応力ひずみ開放のために熱処理してもよく、100℃以上で熱処理することが好ましい。 As a method for producing a resin molded body in the present invention, the (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] is photocured with an ultraviolet ray having a wavelength of 200 to 400 nm at an irradiation light amount of 5 J / cm 2 or less. Is preferred. A more preferable range of the irradiation light amount is 0.5 to 4 J / cm 2 , and more preferably 1 to 3 J / cm 2 . When the irradiation light quantity exceeds 5 J / cm 2 , the productivity is inferior, which is not preferable. The illuminance of ultraviolet rays is 10 to 5000 mW / cm 2 , preferably 100 to 1000 mW / cm 2 . If the illuminance is too small, the molded body will not be cured sufficiently. On the other hand, if the illuminance is too high, polymerization will run away and birefringence will increase. It is preferable to irradiate the ultraviolet rays in a plurality of times because a resin molded body having smaller birefringence can be obtained. For example, the method of irradiating about 1/100 to 1/10 of the total irradiation amount at the first time and irradiating the necessary remaining amount after the second time can be mentioned. Examples of the ultraviolet light source include a metal halide lamp, a high-pressure mercury lamp lamp, and an electrodeless mercury lamp. In order to prevent polymerization from running away due to infrared rays generated from a light source, it is also possible to use a filter that blocks infrared rays, a mirror that does not reflect infrared rays, or the like for the lamp. The resin molded body obtained in the present invention may be heat-treated for improving the degree of polymerization or releasing stress strain, and is preferably heat-treated at 100 ° C. or higher.

一般的に、光成形はバッチ式で行われる。すなわち、厚さ制御のためのスペーサーを介して、2枚の透明ガラスを対向させた型を作製し、そのキャビティに光重合性組成物を注入し、活性エネルギー線を照射して硬化させ、脱型することにより行われる。   In general, photoforming is performed in a batch mode. That is, a mold in which two transparent glasses are opposed to each other through a spacer for controlling the thickness is prepared, a photopolymerizable composition is injected into the cavity, cured by irradiation with active energy rays, and removed. This is done by typing.

本発明の光成形法は、特に限定されずバッチ式でもよいが、特には長尺幅広なフィルムロールが得られる点で、連続成形法がより好ましい。更に、(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]、もしくは(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]を30重量%以上含む溶液を、ベルトやドラムなどの連続したキャスト基材に流延し、乾燥後、連続して光硬化する手法が特に好ましい。以下、本発明の連続光成形法に関して説明する。   The photoforming method of the present invention is not particularly limited, and may be a batch type. In particular, the continuous forming method is more preferable in that a long and wide film roll can be obtained. Further, a solution containing 30% by weight or more of (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] or (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] is applied to a continuous cast substrate such as a belt or a drum. The technique of continuous photo-curing after casting and drying is particularly preferred. Hereinafter, the continuous photoforming method of the present invention will be described.

本手法で用いられる(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]は、上記成分(A)〜(C)を含むものであるが、必要に応じて、溶剤としては、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、アセトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、N−メチルピロリドン、セロソルブ類などの通常の有機溶剤を使用することができる。(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]の濃度が30重量%未満では、溶剤乾燥の負荷が大きく生産性に劣ることとなり好ましくない。濃度のより好ましい範囲は50〜95重量%、さらに好ましくは70〜90重量%、特に好ましくは80〜90重量%である。溶液の粘度は、好ましくは100〜5000mPa・s、より好ましくは200〜4000mPa・s、さらに好ましくは300〜3000mPa・s、特に好ましくは400〜2000mPa・sである。粘度が100mPa・s未満では膜厚制御が困難であり、5000mPa・sを超えると平坦性が低下する傾向にある。該溶液には、必要に応じて、剥離剤などの添加剤を少量配合しても良い。剥離剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテルなどのノニオン性の界面活性剤が好適である。   The (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] used in this method contains the above-mentioned components (A) to (C). As necessary, the solvent may be isopropyl alcohol, ethyl acetate, acetic acid. Usual organic solvents such as butyl, methyl ethyl ketone, toluene, xylene, acetone, diacetone alcohol, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, N-methylpyrrolidone and cellosolves can be used. If the concentration of the (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] is less than 30% by weight, the solvent drying load is large and the productivity is inferior. A more preferable range of the concentration is 50 to 95% by weight, more preferably 70 to 90% by weight, and particularly preferably 80 to 90% by weight. The viscosity of the solution is preferably 100 to 5000 mPa · s, more preferably 200 to 4000 mPa · s, still more preferably 300 to 3000 mPa · s, and particularly preferably 400 to 2000 mPa · s. When the viscosity is less than 100 mPa · s, it is difficult to control the film thickness, and when it exceeds 5000 mPa · s, the flatness tends to decrease. The solution may contain a small amount of an additive such as a release agent as required. As the release agent, a nonionic surfactant such as polyoxyethylene alkyl ether is suitable.

濃度調整された該溶液は脱泡処理される。脱泡方法としては、静置脱泡や多軸押出機による脱泡などの方法があげられるが、本発明の製造方法においては、生産性の点より、多軸押出機を用いて脱泡する方法が好ましい。多軸押出機としては、ベントを有した多軸押出機であれば、とくに限定されないが、通常はベントを有した2軸押出機が用いられる。多軸押出機の前後には、ギアポンプが設けられており、前段ギアポンプにより該溶液は多軸押出機に供給され、後段ギアポンプにより、脱泡後の溶液は多軸押出機から排出される。
脱泡処理された溶液は、一定量ずつT型スリットダイに導入され、ドラム型ロール又はエンドレスベルトなどのキャスト基材に流延される。T型スリットダイ出口の組成物の温度は、溶剤使用の有無、及び使用される溶剤の種類と量により制御されるが、0〜150℃であることが好ましく、より好ましくは10〜120℃、さらに好ましくは20〜100℃である。T型スリットダイ出口の溶液温度が0℃未満では流動不良となり、150℃をこえると気泡が発生しやすい。
流延に際しては、平滑かつ平坦なドラム型ロール又はエンドレスベルトで行われるが、幅広化や長尺化、膜厚の均一性などの点からドラム型ロールで行うことが好ましく、以下ドラム型ロールを用いた製造法を例にとり説明する。
The concentration-adjusted solution is defoamed. Examples of the defoaming method include stationary defoaming and defoaming using a multi-screw extruder. In the production method of the present invention, defoaming is performed using a multi-screw extruder from the viewpoint of productivity. The method is preferred. The multi-screw extruder is not particularly limited as long as it is a multi-screw extruder having a vent. Usually, a twin-screw extruder having a vent is used. A gear pump is provided before and after the multi-screw extruder, the solution is supplied to the multi-screw extruder by the front gear pump, and the defoamed solution is discharged from the multi-screw extruder by the rear gear pump.
The defoamed solution is introduced into a T-shaped slit die by a certain amount and cast onto a cast substrate such as a drum-type roll or an endless belt. The temperature of the composition at the exit of the T-shaped slit die is controlled by the presence or absence of the solvent and the type and amount of the solvent used, but is preferably 0 to 150 ° C, more preferably 10 to 120 ° C, More preferably, it is 20-100 degreeC. If the solution temperature at the exit of the T-shaped slit die is less than 0 ° C., flow failure occurs, and if it exceeds 150 ° C., bubbles are likely to be generated.
The casting is performed with a smooth and flat drum-type roll or an endless belt, but is preferably performed with a drum-type roll from the viewpoints of widening, lengthening, film thickness uniformity, etc. The manufacturing method used will be described as an example.

ドラム型ロール(R1)の直径は、好ましくは0.5〜5m、より好ましくは1〜4m、とくに好ましくは2〜3mである。直径が0.5m未満では乾燥長が不足し、5mをこえると設備製造上困難となり好ましくない。ドラム型ロールの幅は、好ましくは0.5〜5m、より好ましくは1〜4m、特に好ましくは2〜3mである。幅が0.5m未満では生産性に劣り、5mを超えると設備製造上困難となる。ドラム型ロールの回転速度は、溶剤の使用の有無、及び使用する場合は溶剤の種類と量により制御されるが、1〜30m/分であることが好ましく、2〜20m/分であることがより好ましい。回転速度が1m/分未満では生産性が劣る傾向があり、30m/分をこえるとレベリングが十分ではないため得られる樹脂成形体の平坦性に劣り、特に、溶剤を使用する場合は溶剤の乾燥が不充分となる傾向がある。また、ドラム型ロールの表面温度は、溶剤の添加の有無、及び添加する場合は溶剤の種類と量により制御されるが、0〜150℃であることが好ましく、10〜120℃であることがより好ましい。表面温度が0℃未満では、ドラム型ロールに結露が生じたり、レベリング不良や乾燥不良が生じやすい。逆に、150℃をこえると気泡が発生しやすい。   The diameter of the drum roll (R1) is preferably 0.5 to 5 m, more preferably 1 to 4 m, and particularly preferably 2 to 3 m. If the diameter is less than 0.5 m, the drying length is insufficient, and if it exceeds 5 m, it is difficult to manufacture the equipment. The width of the drum-type roll is preferably 0.5 to 5 m, more preferably 1 to 4 m, and particularly preferably 2 to 3 m. If the width is less than 0.5 m, the productivity is inferior, and if it exceeds 5 m, it is difficult to manufacture equipment. The rotational speed of the drum-type roll is controlled by the presence or absence of the solvent and, if used, by the type and amount of the solvent, but is preferably 1 to 30 m / min, and preferably 2 to 20 m / min. More preferred. If the rotational speed is less than 1 m / min, the productivity tends to be inferior, and if it exceeds 30 m / min, the leveling is not sufficient and the flatness of the resulting resin molded product is inferior. In particular, when a solvent is used, the solvent is dried. Tends to be insufficient. The surface temperature of the drum-type roll is controlled by the presence or absence of addition of a solvent and, when added, the type and amount of the solvent, but is preferably 0 to 150 ° C, and preferably 10 to 120 ° C. More preferred. When the surface temperature is less than 0 ° C., condensation is likely to occur on the drum-type roll, and leveling failure and drying failure are likely to occur. Conversely, if the temperature exceeds 150 ° C., bubbles are likely to be generated.

ドラム型ロール(R1)上で(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]に、活性エネルギー線を照射する。溶剤を使用する場合は、十分に乾燥してから照射を行う。照射する活性エネルギー線は、前述した波長と光量であれば特に限定されない。1段階で必要光量を照射して硬化させてもよいし、一旦硬化体をロール(R1)から剥離し、硬化体が搬送される次のロール(R2)上で、あるいはロール間で2段階目の照射を行ってもよい。この場合、2段階目の照射は、1段階目に活性エネルギー線が照射された逆面より照射することが好ましい。更に、3段階以上で照射を繰り返す場合は、表裏交互に照射を繰り返すことが好ましい。照射は空気中で行われてもよいし、不活性ガス下でもよい。   The active energy ray is irradiated onto the (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] on the drum roll (R1). If a solvent is used, it must be dried before irradiation. The active energy ray to be irradiated is not particularly limited as long as it has the above-described wavelength and light amount. It may be cured by irradiating the necessary light amount in one stage, or once the cured body is peeled off from the roll (R1), and then on the next roll (R2) to which the cured body is conveyed or between the rolls. Irradiation may be performed. In this case, it is preferable to irradiate the second stage from the reverse side irradiated with the active energy ray in the first stage. Furthermore, when irradiation is repeated in three or more stages, it is preferable to repeat irradiation alternately on the front and back sides. Irradiation may be performed in air or under an inert gas.

ロール(R2)、及びそれ以降の搬送ロールは、硬化体の熱処理を目的に、表面温度を設定することができる。表面温度は、特に限定されないが、重合度の向上と応力ひずみ開放の点から50〜200℃が好ましい。例えば、ロール(R3)を設けて、ロール(R2)で加熱された反対面をロール(R3)上で熱処理することも可能であるし、数本のロールで両面の熱処理を繰り返すこともできる。
こうして得られた樹脂成形体は、巻き取りロールに巻き取られてフィルムロール(製品)となる。
上述した手法で得られたフィルムロールは、平坦性と厚み精度に優れ、長さ100m以上の幅50cm以上とすることが可能で、表示デバイスを生産性よく製造するのに好適である。
The surface temperature of the roll (R2) and subsequent transport rolls can be set for the purpose of heat treatment of the cured body. The surface temperature is not particularly limited, but 50 to 200 ° C. is preferable from the viewpoint of improving the degree of polymerization and releasing stress strain. For example, it is possible to provide a roll (R3) and heat-treat the opposite surface heated by the roll (R2) on the roll (R3), or to repeat the heat treatment on both sides with several rolls.
The resin molded body thus obtained is wound up on a winding roll to form a film roll (product).
The film roll obtained by the above-described method is excellent in flatness and thickness accuracy, can have a length of 100 m or more and a width of 50 cm or more, and is suitable for manufacturing a display device with high productivity.

かくして樹脂成形体が得られるわけであるが、本発明においては、かかる樹脂成形体の光線透過率が90%以上、かつ屈折率が1.48〜1.54であること、リタデーションが10nm以下であること、ガラス転移点が120℃以上、かつ線膨張係数が20〜70ppm/℃であることが特に好ましい。光線透過率や屈折率を上記範囲に満足させるには、例えば、成分(A)、(B)及び(C)の種類や配合量を適宜選択すればよく、リタデーションを上記範囲に満足させるには、例えば、光重合性組成物の粘度や活性エネルギー線の照射方法を適宜選択すればよく、ガラス転移温度や線膨張係数を上記範囲に満足させるには、例えば、成分(A)及び(B)の種類や配合量を適宜選択すればよい。   Thus, a resin molded body is obtained. In the present invention, the resin molded body has a light transmittance of 90% or more and a refractive index of 1.48 to 1.54, and a retardation of 10 nm or less. It is particularly preferable that the glass transition point is 120 ° C. or higher and the linear expansion coefficient is 20 to 70 ppm / ° C. In order to satisfy the light transmittance and refractive index in the above range, for example, the types and blending amounts of the components (A), (B) and (C) may be appropriately selected, and the retardation is satisfied in the above range. For example, the viscosity of the photopolymerizable composition and the irradiation method of the active energy ray may be appropriately selected. In order to satisfy the glass transition temperature and the linear expansion coefficient within the above ranges, for example, the components (A) and (B) What is necessary is just to select suitably the kind and compounding quantity.

ここでいう光線透過率とは、波長400〜700nmにおける分光光線透過率であり、基板両面の反射を含むものである。この波長域のいかなる波長においても、光線透過率が90%未満では、表示デバイスの輝度を確保できず、輝度確保のため発光強度を上げると消費電力が増大する。通常、樹脂は紫外線領域に近い400nm付近の光を吸収するが、本発明の樹脂成形体はこの400nmにおいても90%以上の光線透過率を有する。光線透過率のより好ましい範囲は、400〜700nmの全域で91%以上、特に好ましくは92%以上である。光線透過率は基板の屈折率が高いほど低下する。また屈折率が低すぎると、基板上に積層されるガスバリア層や透明導電層などとの界面反射が増大する。屈折率のより好ましい範囲は1.49〜1.54、特に好ましくは1.50〜52である。   Here, the light transmittance is a spectral light transmittance at a wavelength of 400 to 700 nm, and includes reflection on both sides of the substrate. If the light transmittance is less than 90% at any wavelength in this wavelength range, the luminance of the display device cannot be ensured, and the power consumption increases when the emission intensity is increased to ensure the luminance. Normally, the resin absorbs light in the vicinity of 400 nm close to the ultraviolet region, but the resin molded body of the present invention has a light transmittance of 90% or more even at 400 nm. A more preferable range of light transmittance is 91% or more, particularly preferably 92% or more over the entire range of 400 to 700 nm. The light transmittance decreases as the refractive index of the substrate increases. On the other hand, when the refractive index is too low, interface reflection with a gas barrier layer, a transparent conductive layer or the like laminated on the substrate increases. A more preferable range of the refractive index is 1.49 to 1.54, particularly preferably 1.50 to 52.

樹脂成形体のリタデーションは、特に液晶ディスプレイで問題となる。リタデーションが10nmを超えると、基板を透過する偏光がその偏光特性を維持できないため、画像の精細性が低下する傾向にある。リタデーションは、より好ましくは5nm以下、特に好ましくは2nm以下である。   Retardation of the resin molding is a problem particularly in a liquid crystal display. If the retardation exceeds 10 nm, the polarized light that passes through the substrate cannot maintain its polarization characteristics, and thus the image definition tends to deteriorate. The retardation is more preferably 5 nm or less, particularly preferably 2 nm or less.

ガラス転移温度が120℃未満では、表示デバイスの信頼性に欠ける恐れがある。近年の液晶テレビにおいては強力なバックライトを使用するため、基板の温度も120℃近く上昇する。ガラス転移温度が120℃未満では、表示デバイスに変形が生じる恐れがある。ガラス転移温度のより好ましい範囲は160℃以上、更に好ましくは200℃以上である。また、線膨張係数のより好ましい範囲は30〜60ppm/℃、特に好ましくは40〜50ppm/℃である。30ppm/℃未満では、他の光学フィルムとの差が大きくなり画像の精細性が低下することとなり、逆に、70ppm/℃を超えるとデバイス製造時の寸法変化が大きくなり、画素や配線が位置ずれを起こしやすくなる。   If the glass transition temperature is less than 120 ° C., the reliability of the display device may be lacking. In recent liquid crystal televisions, since a powerful backlight is used, the temperature of the substrate also rises by nearly 120 ° C. If the glass transition temperature is less than 120 ° C., the display device may be deformed. A more preferable range of the glass transition temperature is 160 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher. Moreover, the more preferable range of a linear expansion coefficient is 30-60 ppm / degrees C, Most preferably, it is 40-50 ppm / degrees C. If it is less than 30 ppm / ° C., the difference from other optical films will be large and the fineness of the image will be reduced. Conversely, if it exceeds 70 ppm / ° C., the dimensional change during device manufacture will be large, and the pixels and wiring will be positioned. Misalignment is likely to occur.

本発明により得られる樹脂成形体は、フレキシブルな表示デバイスを作製するのに適している。特に、印刷法などの手法で製造される有機ELディスプレイ用の基板として好適である。フレキシブル性は、樹脂成形体の厚さと曲げ弾性率に依存するが、曲げ弾性率が3.5GPaを超えると柔軟性に欠け、2.5GPa以下では支持体としての機能に乏しい。   The resin molding obtained by this invention is suitable for producing a flexible display device. In particular, it is suitable as a substrate for an organic EL display manufactured by a technique such as a printing method. The flexibility depends on the thickness of the resin molded body and the bending elastic modulus, but when the bending elastic modulus exceeds 3.5 GPa, the flexibility is insufficient, and when it is 2.5 GPa or less, the function as a support is poor.

また、本発明の樹脂成形体にはガスバリア膜や透明導電膜を成膜することができる。ガスバリア膜としては酸化珪素膜やアルミナなどの無機膜、ポリビニルアルコール系樹脂やエチレン−ビニルアルコール系共重合体などのビニルアルコール系樹脂からなる有機膜が挙げられる。無機膜としては、厚さ0.01〜0.1μmの酸化珪素膜が好ましく、有機膜としては、0.5〜5μmのエチレン−ビニルアルコール系共重合体が好ましい。透明導電膜としては、インジウムとスズの酸化物(ITO)などの無機膜や、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)(PEDOT)などの有機膜が挙げられる。   Further, a gas barrier film or a transparent conductive film can be formed on the resin molded body of the present invention. Examples of the gas barrier film include an inorganic film such as a silicon oxide film and alumina, and an organic film made of a vinyl alcohol resin such as a polyvinyl alcohol resin or an ethylene-vinyl alcohol copolymer. The inorganic film is preferably a silicon oxide film having a thickness of 0.01 to 0.1 μm, and the organic film is preferably an ethylene-vinyl alcohol copolymer having a thickness of 0.5 to 5 μm. Examples of the transparent conductive film include inorganic films such as indium and tin oxide (ITO) and organic films such as poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT).

また、以下に、本発明によるプラスチック基板を用いた有機EL素子とその構成について、図1に基づいて説明する。但し、本発明はこれに限定されるものではない。
基板1上に形成された陽極2(上述の透明導電膜に相当する)は、有機発光層3への正孔注入の役割を果たすものである。この陽極2は、前述したITOやPEDOT以外に、アルミニウム、金、銀、白金、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウムの酸化物、スズの酸化物などの金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子などが挙げられる。陽極2の形成は、スパッタリング法、真空蒸着法、スピンコートなどにより行うことができる。陽極2の厚みは、目的とする抵抗値(導電率)により異なるが、0.005〜1μm、好ましくは0.01〜0.5μmである。
陽極2の上に形成される有機発光層3は、電界が与えられた電極間において、陽極2から注入された正孔と陰極4から注入された電子を効率よく輸送して再結合させ、かつ、再結合により効率よく発光する材料から形成される。この有機発光層3は発光効率の向上のために、正孔注入層3a、正孔輸送層3bと電子輸送層3cに分割した機能分離型にすることが好ましい。
In the following, an organic EL element using a plastic substrate according to the present invention and its configuration will be described with reference to FIG. However, the present invention is not limited to this.
The anode 2 (corresponding to the transparent conductive film) formed on the substrate 1 plays a role of hole injection into the organic light emitting layer 3. In addition to ITO and PEDOT, the anode 2 is made of metal such as aluminum, gold, silver, platinum, nickel, palladium, platinum, metal oxide such as indium oxide, tin oxide, copper iodide, etc. Examples thereof include metal halides, carbon black, or conductive polymers such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, and polyaniline. The anode 2 can be formed by sputtering, vacuum deposition, spin coating, or the like. The thickness of the anode 2 varies depending on the target resistance value (conductivity), but is 0.005 to 1 μm, preferably 0.01 to 0.5 μm.
The organic light emitting layer 3 formed on the anode 2 efficiently transports and recombines holes injected from the anode 2 and electrons injected from the cathode 4 between electrodes to which an electric field is applied, and It is formed from a material that emits light efficiently by recombination. The organic light emitting layer 3 is preferably of a function separation type divided into a hole injection layer 3a, a hole transport layer 3b, and an electron transport layer 3c in order to improve luminous efficiency.

正孔注入層3aに用いられる材料としては、フタロシアニン化合物やポルフィリン化合物が用いられる。正孔注入層3aの膜厚は、通常、0.002〜0.1μm、好ましくは0.005〜0.05μmである。このような膜厚の薄い正孔注入層を一様に形成するためには、一般に真空蒸着法を採用するのが好適である。
正孔輸送層3bの材料としては、例えば、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン等の3級芳香族アミンユニットを連結した芳香族ジアミン化合物、4,4’−ビス [N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ] ビフェニルで代表される2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族アミン、トリフェニルベンゼンの誘導体でスターバースト構造を有する芳香族トリアミン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)ビフェニル−4,4’−ジアミン等の芳香族ジアミン、α,α,α’,α’−テトラメチル−α,α’−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−p−キシレン、分子全体として立体的に非対称なトリフェニルアミン誘導体、ビレニル基に芳香族ジアミノ基が複数個置換した化合物、エチレン基で3級芳香族アミンユニットを連結した芳香族ジアミン、スチリル構造を有する芳香族ジアミン、チオフェン基で芳香族3級アミンユニットを連結したもの、スターバースト型芳香族トリアミン、ベンジルフェニル化合物、フルオレン基で3級アミンを連結したもの、トリアミン化合物、ビスジピリジルアミノビフェニル、N,N,N−トリフェニルアミン誘導体、フェノキサジン構造を有する芳香族ジアミン、ジアミノフェニルフェナントリジン誘導体、ヒドラゾン化合物、シラザン化合物、シラナミン誘導体、ホスファミン誘導体、キナクリドン化合物等が挙げられる。これらの化合物は、単独で用いてもよく、また、必要に応じて2種以上を混合して用いてもよい。
As a material used for the hole injection layer 3a, a phthalocyanine compound or a porphyrin compound is used. The film thickness of the hole injection layer 3a is usually 0.002 to 0.1 μm, preferably 0.005 to 0.05 μm. In order to form such a thin hole injection layer uniformly, it is generally preferable to employ a vacuum deposition method.
Examples of the material for the hole transport layer 3b include aromatic diamine compounds in which tertiary aromatic amine units such as 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane are linked, and 4,4′- Bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] An aromatic amine containing two or more tertiary amines represented by biphenyl and having two or more condensed aromatic rings substituted with nitrogen atoms, triphenylbenzene Aromatic triamines having a starburst structure, aromatic diamines such as N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) biphenyl-4,4′-diamine, α, α, α ', Α'-tetramethyl-α, α'-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) -p-xylene, a sterically asymmetric triphenylamine derivative as a whole molecule, aromatic diphenyl group Compounds in which a plurality of mino groups are substituted, aromatic diamines in which tertiary aromatic amine units are linked by ethylene groups, aromatic diamines having a styryl structure, those in which aromatic tertiary amine units are linked by thiophene groups, starburst type Aromatic triamine, benzylphenyl compound, fluorene group linked tertiary amine, triamine compound, bisdipyridylaminobiphenyl, N, N, N-triphenylamine derivative, aromatic diamine having phenoxazine structure, diaminophenyl phen Examples thereof include a nanthridine derivative, a hydrazone compound, a silazane compound, a silanamine derivative, a phosphamine derivative, and a quinacridone compound. These compounds may be used alone or in combination of two or more as required.

正孔輸送層3bは、これらの正孔輸送材料を塗布法又は真空蒸着法により成膜することにより、形成される。正孔輸送層3bの膜厚は、通常、0.01〜0.3μm、好ましくは0.03〜0.1μmである。このような膜厚の薄い正孔輸送層を一様に形成するためには、一般に真空蒸着法を採用するのが好適である。
電子輸送層3cに用いられる電子輸送性化合物としては、テトラフェニルブタジエンなどの芳香族化合物、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体、シクロペンタジエン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ビススチリルベンゼン誘導体、ペリレン誘導体、クマリン化合物、希土類錯体、ジスチリルピラジン誘導体、p−フェニレン化合物、チアジアゾロピリジン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ナフチリジン誘導体などが挙げられる。電子輸送層3cの膜厚は、通常、0.01〜0.2μm、好ましくは0.03〜0.1μmである。電子輸送層も正孔輸送層と同様の方法で形成することができるが、通常は真空蒸着法が用いられる。
The hole transport layer 3b is formed by depositing these hole transport materials by a coating method or a vacuum deposition method. The thickness of the hole transport layer 3b is usually 0.01 to 0.3 μm, preferably 0.03 to 0.1 μm. In order to form such a thin hole transport layer uniformly, it is generally preferable to employ a vacuum deposition method.
Examples of the electron transporting compound used for the electron transporting layer 3c include aromatic compounds such as tetraphenylbutadiene, metal complexes such as aluminum complexes of 8-hydroxyquinoline, cyclopentadiene derivatives, perinone derivatives, oxadiazole derivatives, and bisstyrylbenzene. Derivatives, perylene derivatives, coumarin compounds, rare earth complexes, distyrylpyrazine derivatives, p-phenylene compounds, thiadiazolopyridine derivatives, pyrrolopyridine derivatives, naphthyridine derivatives, and the like. The film thickness of the electron transport layer 3c is usually 0.01 to 0.2 μm, preferably 0.03 to 0.1 μm. The electron transport layer can also be formed by the same method as the hole transport layer, but a vacuum deposition method is usually used.

陰極4は、有機発光層3に電子を注入する役割を果たす。陰極4として用いられる材料は、前記陽極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効率よく電子注入を行うには、仕事関数の低い金属が好ましく、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の適当な金属又はそれらの合金が好適である。陰極4の膜厚は、通常、陽極2と同程度である。
陰極を保護する目的で、この陰極上に更に、大気に対して安定な金属層を積層することにより、素子の安定性を増すことができる。この目的のための金属層には、アルミニウム、銀、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が用いられる。
本発明の有機電界発光素子は、単一の素子、アレイ状に配置された構造からなる素子、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構造の素子のいずれにも適用することができる。
The cathode 4 serves to inject electrons into the organic light emitting layer 3. The material used for the cathode 4 can be the material used for the anode 2, but a metal having a low work function is preferable for efficient electron injection, such as tin, magnesium, indium, calcium, Suitable metals such as aluminum and silver or their alloys are preferred. The film thickness of the cathode 4 is usually about the same as that of the anode 2.
For the purpose of protecting the cathode, the stability of the device can be increased by further laminating a metal layer that is stable to the atmosphere on the cathode. For the metal layer for this purpose, metals such as aluminum, silver, nickel, chromium, gold and platinum are used.
The organic electroluminescent element of the present invention can be applied to any of a single element, an element having a structure arranged in an array, and an element having a structure in which an anode and a cathode are arranged in an XY matrix. .

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明する。
各物性の測定方法は以下の通りである。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
The measuring method of each physical property is as follows.

(1)ウレタン(メタ)アクリレートの数平均分子量
高速液体クロマトグラフィー(昭和電工社製「Shodex GPC system−11型」)に、カラム:「Shodex GPC KF−806L」(排除限界分子量:2×10、分離範囲:100〜2×10、理論段数:10000段/本、充填剤材質:スチレンージビニルベンゼン共重合体、充填剤粒径:10μm)の3本直列を用いて、標準ポリスチレン分子量換算による数平均分子量を測定した。
(2)粘度
芝浦システム社製B型粘度計「ビスメトロンVS−A1」を用いて、回転数60ppmm(No.3回転子)で測定した。
(3)紫外線の照射照度
オーク製作所製紫外線照度計「UV−M02」で、アタッチメント「UV−35」を用いて測定した。
(4)紫外線の照射光量
オーク製作所製紫外線光量計「UV350」を用いて測定した。
(1) Number average molecular weight of urethane (meth) acrylate Column: “Shodex GPC KF-806L” (exclusion limit molecular weight: 2 × 10 7 ) in high performance liquid chromatography (“Shodex GPC system-11 type” manufactured by Showa Denko KK) , Separation range: 100 to 2 × 10 7 , theoretical plate number: 10,000 plates / piece, filler material: styrene-divinylbenzene copolymer, filler particle size: 10 μm) in series, standard polystyrene molecular weight conversion The number average molecular weight was measured.
(2) Viscosity Using a B-type viscometer “Bismetron VS-A1” manufactured by Shibaura System Co., Ltd., the viscosity was measured at a rotational speed of 60 ppmm (No. 3 rotor).
(3) Irradiation intensity of ultraviolet rays Measurement was performed using an ultraviolet ray illuminance meter “UV-M02” manufactured by Oak Seisakusho using an attachment “UV-35”.
(4) Irradiation light quantity of ultraviolet ray It measured using the UV light quantity meter "UV350" by Oak Seisakusho.

(5)鉛筆硬度
JIS K−5600に準じて測定した。
(6)曲げ弾性率
長さ25(mm)×幅10(mm)の試験片を10枚重ねて、島津製作所社製オートグラフAG−5kNE(支点間距離20mm、0.5mm/分)にて25℃で測定した。
(7)表面粗さ
キーエンス社製レーザーフォーカス顕微鏡「VK−8500」を用いて、樹脂成形体両面のRaを測定した。実施例8〜13の連続成形の場合は、最初のドラム型ロール(R1)との接触面を測定した。測定条件は下記の通りである。
測定長:1mm、対物レンズ:50倍、カットオフ:0.8μm、スムージング:なし
(5) Pencil hardness Measured according to JIS K-5600.
(6) Flexural modulus Ten test pieces of length 25 (mm) × width 10 (mm) were stacked and autograph AG-5kNE (distance between fulcrums 20 mm, 0.5 mm / min) manufactured by Shimadzu Corporation. Measured at 25 ° C.
(7) Surface Roughness Ra on both surfaces of the resin molded body was measured using a laser focus microscope “VK-8500” manufactured by Keyence Corporation. In the case of continuous molding in Examples 8 to 13, the contact surface with the first drum-type roll (R1) was measured. The measurement conditions are as follows.
Measurement length: 1 mm, objective lens: 50 times, cutoff: 0.8 μm, smoothing: none

(8)耐擦傷性
1kgの加重をかけたスチールウール#0000を、成形体表面で10往復させた後の表面の傷付き度合いを目視により観察した。傷が付かなかったものを○、傷が付いたものを×とした。
(9)吸水率
JIS K7209に準じ、100mm×100mmサイズの試験片を用いて、50℃、24時間乾燥した後、23℃、24時間水浸漬した後の吸水率を測定した。
(10)光線透過率
分光光度計(日本分光工業(株)製、商品名:「Ubest−35」)を用いて400nmの光線透過率を測定した。
(11)リタデーション
オーク社製複屈折測定装置にて25℃で測定した。
(8) Scratch resistance The degree of scratches on the surface of steel wool # 0000 subjected to 1 kg load after 10 reciprocations on the surface of the molded body was visually observed. The case where no scratch was found was marked with ◯, and the one with scratch was marked with ×.
(9) Water Absorption Rate According to JIS K7209, using a 100 mm × 100 mm size test piece, the water absorption rate after being immersed in water at 23 ° C. for 24 hours was measured after drying at 50 ° C. for 24 hours.
(10) Light transmittance The light transmittance at 400 nm was measured using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, trade name: “Ubest-35”).
(11) Retardation It measured at 25 degreeC with the birefringence measuring apparatus by an Oak company.

(12)屈折率
アタゴ社アッベ屈折率計RX-2000(NaD線)にで23℃で測定した。
(13)ガラス転移温度
長さ30×幅3(mm)の試験片を用い、セイコー電子社製「TMA120」で、引っ張り法TMA(支点間距離20mm、加重100g、昇温速度5℃/分)にて測定した。
(14)線膨張係数:長さ30(mm)×幅3(mm)の試験片を用い、セイコー電子社製「TMA120」で、引っ張り法TMA(支点間距離20mm、加重10g、昇温速度5℃/分)にて測定した。25℃から100℃に昇温した時の試験片の伸び(mm)を測定し、線膨張係数を下式により算出した。
線膨張係数(ppm/℃)=伸び(mm)/20(mm)/75(℃)×10
(12) Refractive index The refractive index was measured at 23 ° C. with an Abbe refractometer RX-2000 (NaD line).
(13) Glass transition temperature Using a test piece of length 30 × width 3 (mm), “TMA120” manufactured by Seiko Denshi Co., Ltd., tensile method TMA (distance 20 mm between fulcrums, weight 100 g, heating rate 5 ° C./min) Measured with
(14) Linear expansion coefficient: Using a test piece of length 30 (mm) × width 3 (mm), “TMA120” manufactured by Seiko Denshi Co., Ltd., tensile method TMA (distance 20 mm between fulcrums, weight 10 g, temperature increase rate 5 (° C./min). The elongation (mm) of the test piece when the temperature was raised from 25 ° C. to 100 ° C. was measured, and the linear expansion coefficient was calculated by the following equation.
Linear expansion coefficient (ppm / ° C.) = Elongation (mm) / 20 (mm) / 75 (° C.) × 10 6

(15)耐溶剤性
幅及び長さ各5cmの試験片を、N−メチルピロリドンに40℃、1時間浸漬し、面荒れなどの外観の異常を目視で観察した。異常の生じたものを×、生じなかったものを○とした。
(16)耐薬品性
幅及び長さ各5cmの試験片を、濃度10%の塩酸に40℃、1時間浸漬し、続いて濃度10%のNaOH水溶液に40℃、1時間浸漬し、面荒れなどの外観の異常を目視で観察した。異常の生じたものを×、生じなかったものを○とした。
(17)耐落球衝撃性
幅及び長さ各5cmの試験片を内径4cmの支持リング上に置き、フィルム中央部に16gの鋼球を自然落下させることにより、試験片が破損する最低の高さを5cm刻みで評価した。
(18)酸素透過率
オキシトラン社製の酸素モコン測定器にて、23℃、80%RHの条件下で測定した。
(19)表面抵抗値
三菱化学社製の4端子法抵抗測定器(ロレスターMP)を用いて測定した。
(15) Solvent resistance Test specimens each having a width and a length of 5 cm were immersed in N-methylpyrrolidone at 40 ° C. for 1 hour, and appearance abnormalities such as surface roughness were visually observed. The case where an abnormality occurred was indicated as x, and the case where no abnormality occurred was indicated as ◯.
(16) Chemical resistance A test piece having a width and a length of 5 cm each was immersed in hydrochloric acid with a concentration of 10% at 40 ° C. for 1 hour, and then immersed in an aqueous NaOH solution with a concentration of 10% at 40 ° C. for 1 hour to roughen the surface. The appearance abnormalities such as were observed visually. The case where an abnormality occurred was indicated as x, and the case where no abnormality occurred was indicated as ◯.
(17) Falling ball impact resistance The minimum height at which a test piece is damaged by placing a test piece of 5 cm in width and length on a support ring with an inner diameter of 4 cm and naturally dropping a 16 g steel ball in the center of the film. Was evaluated in 5 cm increments.
(18) Oxygen permeability The oxygen permeability was measured under the conditions of 23 ° C. and 80% RH with an oxygen mocon measuring device manufactured by Oxytran.
(19) Surface resistance value Measured using a 4-terminal resistance measuring instrument (Lorester MP) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.

<実施例1>
[イソホロン構造を有する6官能ウレタンアクリレート(A)の合成]
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた4つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート53.34g(0.24モル)、ペンタエリスリトールトリアクリレート143.19g(0.48モル)、ハイドロキノンメチルエーテル0.02g、ジブチルスズジラウレート0.02g、メチルエチルケトン500gを仕込み、60℃で3時間反応させ、残存イソシアネート基が0.3%となった時点で反応を終了し、溶剤を留去してウレタンアクリレート(A)を得た。得られたウレタンアクリレート(A)の数平均分子量は820であった。
<Example 1>
[Synthesis of hexafunctional urethane acrylate (A) having isophorone structure]
In a four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, water-cooled condenser and nitrogen gas inlet, 53.34 g (0.24 mol) of isophorone diisocyanate, 143.19 g ( 0.48 mol) of pentaerythritol triacrylate, hydroquinone methyl 0.02 g of ether, 0.02 g of dibutyltin dilaurate and 500 g of methyl ethyl ketone were added and reacted at 60 ° C. for 3 hours. The reaction was terminated when the residual isocyanate group became 0.3%, and the solvent was distilled off to obtain urethane acrylate. (A) was obtained. The number average molecular weight of the obtained urethane acrylate (A) was 820.

[光重合性組成物[I]の調製]
上記の如きイソホロン構造を有する6官能のウレタンアクリレート(A)40重量部、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート60重量部(新中村化学社製DCP)、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー社製「Irgacure184」)1重量部を、60℃にて均一になるまで撹拌し、光重合性組成物[I]を得た。官能基数と分子量は表1に示される通りである。


[Preparation of Photopolymerizable Composition [I]]
6 Urethane acrylate (A) 40 parts by weight of the functional with such isophorone structure of the bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2,6] decane = dimethacrylate 60 parts by weight (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. DCP ), 1 part by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba-Geigy) was stirred at 60 ° C. until uniform, to obtain a photopolymerizable composition [I]. The number of functional groups and the molecular weight are as shown in Table 1.


[樹脂成形体の作製]
ガラス板2枚を対向させ、厚さ0.2mmのシリコン板をスペーサーとした成形型にこの組成物(23℃)を注液し、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cm、光量5J/cmで紫外線を照射した。脱型し得られた硬化物を、180℃の真空オーブン中で2時間加熱して、表2に示される通り幅0.3m×長さ0.4m×厚さ200μmの樹脂成形体を得た。得られた樹脂成形体は、鉛筆硬度5Hと高い表面硬度を有し、曲げ弾性率3.4GPaで適度なフレキシブル性を有し、表面粗さ9nmと高い表面平滑性を有し、耐擦傷性や耐衝撃性にも優れ、吸水率は0.5%と低かった。その他の物性は表3に示される通りであり、良好な光学特性と熱特性、機械特性を有していた。
[Preparation of molded resin]
This composition (23 ° C.) was poured into a mold having two glass plates facing each other and a silicon plate having a thickness of 0.2 mm as a spacer, and using a metal halide lamp, the illuminance was 200 mW / cm 2 , the light amount was 5 J / Ultraviolet rays were irradiated at cm 2 . The cured product obtained by demolding was heated in a vacuum oven at 180 ° C. for 2 hours to obtain a resin molded body having a width of 0.3 m × length of 0.4 m × thickness of 200 μm as shown in Table 2. . The obtained resin molded body has a pencil hardness of 5H and a high surface hardness, a flexural modulus of 3.4 GPa, an appropriate flexibility, a surface roughness of 9 nm and a high surface smoothness, and an abrasion resistance. Excellent impact resistance and low water absorption of 0.5%. The other physical properties were as shown in Table 3, and had good optical properties, thermal properties, and mechanical properties.

[ガスバリア性フィルムの作製]
上記で得られた樹脂成形体の片面に、スパッタ法にて厚さ0.02μmの酸化ケイ素膜を成膜し、ガスバリア性フィルムを得た(かかるガスバリア性フィルムの酸素透過率を表4に示す。)。
[透明導電性フィルムの作製]
得られたガスバリア性フィルムの酸化ケイ素膜面にスパッタ法にて厚さ0.2μmのITO膜を成膜し、透明導電性フィルムを得た(かかる透明導電性フィルムの表面抵抗値を表4に示す。)。
[Production of gas barrier film]
A silicon oxide film having a thickness of 0.02 μm was formed on one side of the resin molded body obtained above by a sputtering method to obtain a gas barrier film (the oxygen permeability of such a gas barrier film is shown in Table 4). .)
[Preparation of transparent conductive film]
An ITO film having a thickness of 0.2 μm was formed on the silicon oxide film surface of the obtained gas barrier film by sputtering to obtain a transparent conductive film (the surface resistance value of the transparent conductive film is shown in Table 4). Show.)

[有機EL素子の作製]
得られた透明導電性フィルムを、先ず、6N塩酸(50℃)のエッチング液を用いて、ITO膜を幅2mmのストライプ状に加工した後、このITO基板をUV/O3 洗浄した。その後、真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が10-4Pa以下になるまで、液体窒素トラップを備えた油拡散ポンプを用いて排気した後、有機正孔注入層材料として、銅フタロシアニンを基板上に20nmの厚さに成膜した。次に、有機正孔輸送材料として、N,N’−ジフェニル−N,N’−(α−ナフチル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミンをセラミックルツボに入れ、ルツボの周囲のタンタル線ヒーターで加熱して、蒸着を行った。この時のルツボの温度は160〜170℃の範囲で制御した。蒸着時の真空度は10-4Paで、膜厚60nmの有機正孔輸送層を得た。次に、電子輸送層の材料として、アルミニウムの8−ヒドロキシキノリン錯体Al(C9 6 NO)3 を用いて、上記有機正孔輸送層の上に同様にして蒸着を行った。この時のルツボの温度は230〜270℃の範囲で制御した。蒸着時の真空度は2×10-6torrである。得られた電子輸送層の膜厚は75nmであった。正孔注入層、正孔輸送層及び電子輸送層を形成した基板に、マグネシウムと銀の合金電極(Mg:Ag=10:1.5(原子比))よりなる陰極を、二元同時蒸着法によって膜厚40nmとなるように蒸着して形成した。蒸着はモリブデンボードを用いて真空度2×10-4Paで行い、光沢のある膜を得た。更に、保護層としてアルミニウムを40nmの膜厚に蒸着した。得られた有機電界発光素子のITO電極側を正極、MgAg合金膜側を陰極として、15Vの直流電圧を印加した時の発光輝度をミノルタ製放射輝度計を用いて測定したところ、30000cd/mで、良好なものであった。
[Production of organic EL element]
The obtained transparent conductive film was first processed into a stripe shape having a width of 2 mm using an etching solution of 6N hydrochloric acid (50 ° C.), and then the ITO substrate was washed with UV / O 3 . Then, after installing in a vacuum deposition apparatus and exhausting using an oil diffusion pump equipped with a liquid nitrogen trap until the degree of vacuum in the apparatus is 10 −4 Pa or less, as an organic hole injection layer material, Copper phthalocyanine was deposited on the substrate to a thickness of 20 nm. Next, as an organic hole transport material, N, N′-diphenyl-N, N ′-(α-naphthyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine is placed in a ceramic crucible, and the periphery of the crucible The tantalum wire heater was used for vapor deposition. At this time, the temperature of the crucible was controlled in the range of 160 to 170 ° C. The degree of vacuum during vapor deposition was 10 −4 Pa, and an organic hole transport layer having a thickness of 60 nm was obtained. Next, using the 8-hydroxyquinoline complex Al (C 9 H 6 NO) 3 of aluminum as the material for the electron transport layer, vapor deposition was performed in the same manner on the organic hole transport layer. At this time, the temperature of the crucible was controlled in the range of 230 to 270 ° C. The degree of vacuum at the time of deposition is 2 × 10 −6 torr. The film thickness of the obtained electron transport layer was 75 nm. A cathode formed of an alloy electrode of magnesium and silver (Mg: Ag = 10: 1.5 (atomic ratio)) is formed on a substrate on which a hole injection layer, a hole transport layer, and an electron transport layer are formed, using a dual simultaneous vapor deposition method. Was formed by vapor deposition so as to have a film thickness of 40 nm. Deposition was performed using a molybdenum board at a vacuum degree of 2 × 10 −4 Pa to obtain a glossy film. Further, aluminum was deposited as a protective layer to a thickness of 40 nm. The light emission luminance when a direct current voltage of 15 V was applied using the ITO electrode side of the obtained organic electroluminescence device as the positive electrode and the MgAg alloy film side as the cathode was measured using a Minolta radiance meter, 30000 cd / m 2. It was good.

<実施例2〜7>
表1に示される光重合性組成物[I]を用いて、表2に示される硬化条件で成形する以外は、実施例1と同様に行った。得られた樹脂成形体の物性は表3に示されるとおりであった。更に、実施例1と同様にして、ガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
なお、実施例4で用いたウレタンアクリレート(A)、実施例5で用いたウレタンアクリレート(A)は下記の通りであった。
<Examples 2 to 7>
The same procedure as in Example 1 was performed except that the photopolymerizable composition [I] shown in Table 1 was used and molding was performed under the curing conditions shown in Table 2. The physical properties of the obtained resin molding were as shown in Table 3. Further, a gas barrier film and a transparent conductive film were obtained in the same manner as in Example 1. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.
The urethane acrylate (A) used in Example 4 and the urethane acrylate (A) used in Example 5 were as follows.

[実施例4で用いたウレタンアクリレート(A):イソホロン構造を有する2官能ウレタンアクリレートの合成]
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた4つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート53.34g(0.24モル)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート55.73g(0.48モル)、ハイドロキノンメチルエーテル0.02g、ジブチルスズジラウレート0.02g、メチルエチルケトン500gを仕込み、60℃で3時間反応させ、残存イソシアネート基が0.3%となった時点で反応を終了し、溶剤を留去してウレタンアクリレート(A)を得た。得られたウレタンアクリレート(A)の数平均分子量は480であった。
[Urethane acrylate (A) used in Example 4: Synthesis of bifunctional urethane acrylate having isophorone structure]
In a four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, water-cooled condenser and nitrogen gas inlet, 53.34 g (0.24 mol) of isophorone diisocyanate, 55.73 g (0.48 mol) of 2-hydroxypropyl acrylate, hydroquinone 0.02 g of methyl ether, 0.02 g of dibutyltin dilaurate, and 500 g of methyl ethyl ketone were added and reacted at 60 ° C. for 3 hours. When the residual isocyanate group became 0.3%, the reaction was terminated, and the solvent was distilled off to obtain urethane. An acrylate (A) was obtained. The number average molecular weight of the obtained urethane acrylate (A) was 480.

[実施例5で用いたウレタンアクリレート(A):イソホロンジイソシアネート3量体構造を有する9官能ウレタンアクリレートの合成]
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた4つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート3量体160.04g(0.24モル)、ペンタエリスリトールトリアクリレート214.79g(0.72モル)、ハイドロキノンメチルエーテル0.02g、ジブチルスズジラウレート0.02g、メチルエチルケトン500gを仕込み、60℃で3時間反応させ、残存イソシアネート基が0.3%となった時点で反応を終了し、溶剤を留去してウレタンアクリレート(A)を得た。得られたウレタンアクリレート(A)の数平均分子量は1570であった。
[Urethane acrylate (A) used in Example 5: Synthesis of 9-functional urethane acrylate having isophorone diisocyanate trimer structure]
In a four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a water-cooled condenser, and a nitrogen gas inlet, 160.04 g (0.24 mol) of isophorone diisocyanate trimer and 214.79 g (0.72 mol) of pentaerythritol triacrylate , 0.02 g of hydroquinone methyl ether, 0.02 g of dibutyltin dilaurate and 500 g of methyl ethyl ketone were added and reacted at 60 ° C. for 3 hours. When the residual isocyanate group reached 0.3%, the reaction was terminated and the solvent was distilled off. As a result, urethane acrylate (A) was obtained. The number average molecular weight of the obtained urethane acrylate (A) was 1570.

<実施例8>

実施例1と同様のイソホロン構造を有する6官能のウレタンアクリレート50重量部、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート(新中村化学社製「DCP」)50重量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー社製「Irgacure184」)1重量部を、60℃にて均一になるまで撹拌し、光重合性組成物[I]を得た。この光重合性組成物[I]を、2軸押出機を用いて脱泡し、T型スリットダイより液温23℃で、表面温度23℃、回転速度3m/分のドラム型ロール(R1)(直径3m、幅4m)に流延した。2分後、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cmで、光量2J/cmの紫外線を照射した。得られた硬化物フィルムをロールから剥離し、フィルムの紫外線照射面が、表面温度23℃、回転速度3m/分のドラム型ロール(R2)(直径1m、幅4m)に接触するように搬送し、ドラム型ロール(R2)上で、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cmで、光量2J/cmの紫外線を照射した(照射光量の合計は4J/cm)。次いで、フィルムの両面を表裏が交互に、表面温度180℃、回転速度3m/分のドラム型ロール(R3)、(R4)、(R5)、(R6)(いずれも直径1m、幅4m)に接触するよう搬送した。各ロール上で2分間熱処理(熱処理の合計は8分)した後、樹脂成形体を巻き取り、表2に示されるフィルムロール(樹脂成形体)を得た。得られた樹脂成形体の物性は表3に示されるとおりであった。得られた樹脂成形体から、実施例1と同様にして、ガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Example 8>

6 Urethane acrylate 50 parts by weight of the functional with the same isophorone structure as in Example 1, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2, 6] decane = dimethacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. "DCP" ) 50 parts by weight, 1 part by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy) was stirred at 60 ° C. until uniform, to obtain a photopolymerizable composition [I]. The photopolymerizable composition [I] was defoamed using a twin-screw extruder, and a drum-type roll (R1) having a liquid temperature of 23 ° C., a surface temperature of 23 ° C., and a rotational speed of 3 m / min from a T-type slit die. Cast to (diameter 3 m, width 4 m). Two minutes later, ultraviolet rays having an illuminance of 200 mW / cm 2 and a light amount of 2 J / cm 2 were irradiated using a metal halide lamp. The obtained cured product film is peeled from the roll and conveyed so that the ultraviolet irradiation surface of the film is in contact with a drum-type roll (R2) (diameter 1 m, width 4 m) at a surface temperature of 23 ° C. and a rotation speed of 3 m / min. On the drum roll (R2), a metal halide lamp was used to irradiate ultraviolet rays with an illuminance of 200 mW / cm 2 and a light amount of 2 J / cm 2 (the total irradiation light amount was 4 J / cm 2 ). Next, both sides of the film are alternately turned into drum-type rolls (R3), (R4), (R5), (R6) (all with a diameter of 1 m and a width of 4 m) at a surface temperature of 180 ° C. and a rotation speed of 3 m / min Transported to contact. After heat treatment for 2 minutes on each roll (total heat treatment was 8 minutes), the resin molded body was wound up to obtain a film roll (resin molded body) shown in Table 2. The physical properties of the obtained resin molding were as shown in Table 3. A gas barrier film and a transparent conductive film were obtained from the obtained resin molded body in the same manner as in Example 1. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.

<実施例9、10>
表1、表2に示される条件で成形する以外は、実施例8と同様に行った。得られた樹脂成形体の物性は表3に示されるとおりであった。更に、実施例1と同様にして、ガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Examples 9 and 10>
The same procedure as in Example 8 was performed except that the molding was performed under the conditions shown in Tables 1 and 2. The physical properties of the obtained resin molding were as shown in Table 3. Further, a gas barrier film and a transparent conductive film were obtained in the same manner as in Example 1. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.

<実施例11>

実施例1と同様のイソホロン構造を有する6官能のウレタンアクリレート50重量部、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.02,6]デカン=ジメタクリレート(新中村化学社製「DCP」)50重量部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー社製「Irgacure184」)1重量部、酢酸エチル5重量部を、60℃にて均一になるまで撹拌し、粘度が1300mPa・sの光重合性組成物[I]溶液を得た。この溶液を、2軸押出機を用いて脱泡し、T型スリットダイより液温23℃で、表面温度60℃、回転速度3m/分のドラム型ロール(R1)(直径3m、幅4m)に流延した。2分間乾燥後、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cmで、光量2J/cmの紫外線を照射した。得られた硬化物フィルムをロールから剥離し、フィルムの紫外線照射面が、表面温度60℃、回転速度3m/分のドラム型ロール(R2)(直径1m、幅4m)に接触するように搬送し、ドラム型ロール(R2)上で、メタルハライドランプを用いて、照度200mW/cmで、光量2J/cmの紫外線を照射した(照射光量の合計は4J/cm)。次いで、フィルムの両面を表裏が交互に、表面温度180℃、回転速度3m/分のドラム型ロール(R3)、(R4)、(R5)、(R6)(いずれも直径1m、幅4m)に接触するよう搬送した。各ロール上で2分間熱処理した後、樹脂成形体を巻き取り、表2に示されるフィルムロール(樹脂成形体)を得た。得られた樹脂成形体の物性は表3に示されるとおりであった。更に得られた樹脂成形体から、実施例1と同様にして、ガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Example 11>

6 Urethane acrylate 50 parts by weight of the functional with the same isophorone structure as in Example 1, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0 2, 6] decane = dimethacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. "DCP" ) 50 parts by weight, 1 part by weight of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (“Irgacure 184” manufactured by Ciba Geigy Co.) and 5 parts by weight of ethyl acetate are stirred until uniform at 60 ° C., and the photopolymerizability is 1300 mPa · s. A composition [I] solution was obtained. This solution was defoamed using a twin-screw extruder, and was a drum-type roll (R1) (diameter 3 m, width 4 m) at a liquid temperature of 23 ° C., a surface temperature of 60 ° C., and a rotational speed of 3 m / min. It was cast into. After drying for 2 minutes, ultraviolet rays with a light intensity of 2 J / cm 2 were irradiated at an illuminance of 200 mW / cm 2 using a metal halide lamp. The obtained cured product film is peeled from the roll, and conveyed so that the ultraviolet irradiation surface of the film is in contact with a drum-type roll (R2) (diameter 1 m, width 4 m) at a surface temperature of 60 ° C. and a rotation speed of 3 m / min. On the drum roll (R2), a metal halide lamp was used to irradiate ultraviolet rays with an illuminance of 200 mW / cm 2 and a light amount of 2 J / cm 2 (the total irradiation light amount was 4 J / cm 2 ). Next, both sides of the film are alternately turned into drum-type rolls (R3), (R4), (R5), (R6) (all with a diameter of 1 m and a width of 4 m) at a surface temperature of 180 ° C. and a rotation speed of 3 m / min. Transported to contact. After heat-treating on each roll for 2 minutes, the resin molded body was wound up to obtain a film roll (resin molded body) shown in Table 2. The physical properties of the obtained resin molding were as shown in Table 3. Further, in the same manner as in Example 1, a gas barrier film and a transparent conductive film were obtained from the obtained resin molded body. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.

<実施例12、13>
表1、表2に示される条件で成形する以外は、実施例11と同様に行った。得られた樹脂成形体の物性は表3に示されるとおりであった。更に、実施例1と同様にして、ガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Examples 12 and 13>
The same procedure as in Example 11 was performed except that the molding was performed under the conditions shown in Tables 1 and 2. The physical properties of the obtained resin molding were as shown in Table 3. Further, a gas barrier film and a transparent conductive film were obtained in the same manner as in Example 1. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.

<実施例14>
エチレン−ビニルアルコール共重合体(日本合成化学工業社製「ソアノールD2908」)をイソプロピルアルコールに溶解し、濃度20重量%のガスバリアコート剤を調整した後、このコート剤を、実施例2で得られた樹脂成形体の片面にスピンコートし、厚さ3μmのガスバリア膜を形成した以外は実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。更に、得られたガスバリア性フィルムを用いて実施例1と同様にして透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Example 14>
An ethylene-vinyl alcohol copolymer (“Soanol D2908” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in isopropyl alcohol to prepare a gas barrier coating agent having a concentration of 20% by weight, and then this coating agent was obtained in Example 2. A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that one side of the resin molded body was spin coated to form a gas barrier film having a thickness of 3 μm. Furthermore, the transparent conductive film was obtained like Example 1 using the obtained gas-barrier film. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.

<実施例15>
エチレン−ビニルアルコール共重合体(日本合成化学工業社製「ソアノールD2908」)をイソプロピルアルコールに溶解し、濃度20重量%のガスバリアコート剤を調整した後、このコート剤を、実施例2の酸化珪素膜上にスピンコートし、厚さ3μmのガスバリア膜を形成した以外は実施例1と同様にしてガスバリア性フィルムを得た。更に、得られたガスバリア性フィルムを用いて実施例1と同様にして透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Example 15>
An ethylene-vinyl alcohol copolymer (“Soanol D2908” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in isopropyl alcohol to prepare a gas barrier coating agent having a concentration of 20% by weight. A gas barrier film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a gas barrier film having a thickness of 3 μm was formed by spin coating on the film. Furthermore, the transparent conductive film was obtained like Example 1 using the obtained gas-barrier film. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.

<比較例1>
表1に示される光重合性組成物を用いて、実施例1と同様にして成形しようとしたが、高粘度のため成形型に注入できなかった。そこで液温を60℃とし表2に示される硬化条件で成形を行った。得られた樹脂成形体の物性は表3に示されるとおりであった。更に、実施例1と同様にして、ガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Comparative Example 1>
Using the photopolymerizable composition shown in Table 1, an attempt was made in the same manner as in Example 1, but it could not be injected into the mold due to high viscosity. Therefore, the liquid temperature was 60 ° C. and molding was performed under the curing conditions shown in Table 2. The physical properties of the obtained resin molding were as shown in Table 3. Further, a gas barrier film and a transparent conductive film were obtained in the same manner as in Example 1. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.

<比較例2>
表1に示される光重合性組成物を用いて、実施例1と同様にして成形しようとしたが、厚さ200μmのフィルムは割れて成形できなかった。そこで厚さ400μmのシリコン板をスペーサーとした成形型を用いて、表2に示される硬化条件で成形を行った。紫外線照射が光量5J/cmでは未反応の液体組成物が存在したので、光量20J/cmを照射した。得られた樹脂成形体の物性は表3に示されるとおりであった。更に、実施例1と同様にして、ガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムを得た。得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Comparative example 2>
Using the photopolymerizable composition shown in Table 1, an attempt was made in the same manner as in Example 1, but the 200 μm thick film was cracked and could not be formed. Therefore, molding was performed under the curing conditions shown in Table 2 using a molding die having a 400 μm thick silicon plate as a spacer. An unreacted liquid composition was present when the amount of UV irradiation was 5 J / cm 2 , and thus a light amount of 20 J / cm 2 was irradiated. The physical properties of the obtained resin molding were as shown in Table 3. Further, a gas barrier film and a transparent conductive film were obtained in the same manner as in Example 1. The characteristics of the obtained gas barrier film and transparent conductive film were as shown in Table 4.

<比較例3>
市販のポリカーボネート製シート(帝人社製「パンライト」厚さ170μm)の物性は表3に示されるとおりであり、それを用いて、実施例1と同様にして得られたガスバリア性フィルムと透明導電性フィルムの特性は表4に示されるとおりであった。
<Comparative Example 3>
The physical properties of a commercially available polycarbonate sheet (“Panlite” thickness 170 μm manufactured by Teijin Ltd.) are as shown in Table 3. Using this, a gas barrier film and a transparent conductive film obtained in the same manner as in Example 1 were used. The properties of the adhesive film were as shown in Table 4.


Figure 0004690053
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本発明の樹脂成形体は、様々な光学材料、電子材料に有利に利用できる。例えば、液晶基板、有機/無機EL用基板、電子ペーパー用基板、導光板、位相差板、タッチパネル等、各種ディスプレイ用部材、光ディスク基板や光ディスク用フィルム・コーティングを初めとする記憶・記録用途、薄膜電池基板、太陽電池基板などのエネルギー用途、光導波路などの光通信用途、更には機能性フィルム・シート、反射防止膜、光学多層膜等各種光学フィルム・シート・コーティング用途に利用できる。
The resin molded body of the present invention can be advantageously used for various optical materials and electronic materials. For example, liquid crystal substrates, organic / inorganic EL substrates, electronic paper substrates, light guide plates, phase difference plates, touch panels, etc., various display members, optical recording substrates and film / coating applications for optical disks, thin films, etc. It can be used for energy applications such as battery substrates and solar cell substrates, optical communication applications such as optical waveguides, and various optical films, sheets and coatings such as functional films and sheets, antireflection films and optical multilayer films.

本発明による透明導電性フィルムを用いた有機EL素子Organic EL device using transparent conductive film according to the present invention

符号の説明Explanation of symbols

1:樹脂成形体
2:陽極
3:有機発光層
3a:正孔注入層
3b:正孔輸送層
3c:電子輸送層
4:陰極
1: Resin molding 2: Anode 3: Organic light emitting layer 3a: Hole injection layer 3b: Hole transport layer 3c: Electron transport layer 4: Cathode

Claims (24)

(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]を光硬化して得られる樹脂成形体であって、厚さ50〜400μmで、かつ表面の鉛筆硬度が4H以上であり、かつ、(メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]が、下記成分(A)、(B)、及び(C)を含有してなることを特徴とする樹脂成形体。
(A)脂環構造を有するポリイソシアネート化合物と水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させてなる脂環構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレート
(B)脂環構造を有する2官能(メタ)アクリレート(但し、(A)を除く。)
(C)光重合開始剤
A resin molded product obtained by photocuring the (meth) acrylate photopolymerizable composition [I], having a thickness of 50 to 400 μm, a surface pencil hardness of 4H or more, and (meth) A resin molded product, wherein the acrylate photopolymerizable composition [I] contains the following components (A), (B), and (C).
(A) Polyfunctional urethane (meth) acrylate having an alicyclic structure obtained by reacting a polyisocyanate compound having an alicyclic structure and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (B) Bifunctional (meth) acrylate having an alicyclic structure ( (Excluding (A))
(C) Photopolymerization initiator
曲げ弾性率が2.5〜3.5GPa(25℃)であることを特徴とする請求項1記載の樹脂成形体。 The resin molded article according to claim 1, wherein the flexural modulus is 2.5 to 3.5 GPa (25 ° C). 少なくとも片面の表面粗さRaが20nm以下であることを特徴とする請求項1又は2記載の樹脂成形体。 The resin molded body according to claim 1 or 2, wherein at least one surface has a surface roughness Ra of 20 nm or less. 成分(A)と成分(B)の配合割合が、30:70〜70:30(重量比)であることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の樹脂成形体。 The compounding ratio of a component (A) and a component (B) is 30: 70-70: 30 (weight ratio), The resin molding in any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. (メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]の23℃における粘度が200〜6000mPa・sであることを特徴とする請求項1〜4いずれか記載の樹脂成形体。 5. The resin molded article according to claim 1, wherein the (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] has a viscosity at 23 ° C. of 200 to 6000 mPa · s. 脂環構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレート(A)の数平均分子量が200〜5000であることを特徴とする請求項1〜5いずれか記載の樹脂成形体。 The number average molecular weight of polyfunctional urethane (meth) acrylate (A) which has an alicyclic structure is 200-5000, The resin molding in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 脂環構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレート(A)がアクリレートであることを特徴とする請求項1〜6いずれか記載の樹脂成形体。 The resin molded product according to any one of claims 1 to 6, wherein the polyfunctional urethane (meth) acrylate (A) having an alicyclic structure is an acrylate. 脂環構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレート(A)が分子内に2〜6個のアクリロイル基を有することを特徴とする請求項7記載の樹脂成形体。 The resin molded product according to claim 7, wherein the polyfunctional urethane (meth) acrylate (A) having an alicyclic structure has 2 to 6 acryloyl groups in the molecule. 脂環構造を有する多官能ウレタン(メタ)アクリレート(A)が、下記式(1)、(2)、(3)または(4)で表わされる脂環構造を有することを特徴とする請求項1〜8いずれか記載の樹脂成形体
Figure 0004690053

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ここで、Rは水素又はメチル基である。
Figure 0004690053
The polyfunctional urethane (meth) acrylate (A) having an alicyclic structure has an alicyclic structure represented by the following formula (1), (2), (3) or (4). ~ 8 molded resin
Figure 0004690053

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Here, R 1 is hydrogen or a methyl group.
Figure 0004690053
脂環構造を有する2官能(メタ)アクリレート(B)(但し、(A)を除く。)がメタクリレートであることを特徴とする請求項1〜9いずれか記載の樹脂成形体。 The resin molded article according to any one of claims 1 to 9, wherein the bifunctional (meth) acrylate (B) having an alicyclic structure (excluding (A)) is methacrylate. 脂環構造を有する2官能(メタ)アクリレート(B)が下記一般式(5)、(6)、(7)より選ばれる少なくとも1種以上の2官能(メタ)アクリレートであることを特徴とする請求項1〜9いずれか記載の樹脂成形体。
Figure 0004690053

ここで、Rは炭素数1〜6のエーテル結合を含んでも良いアルキレン基、Rは水素又はメチル基、aは1又は2、bは0又は1である。
Figure 0004690053

ここで、Rは炭素数1〜6のエーテル結合を含んでも良いアルキレン基、Rは水素又はメチル基である。
Figure 0004690053

ここで、Rは水素又はメチル基、Rは炭素数1〜6のエーテル結合を含んでも良いアルキレン基、Rは水素又はメチル基である。
The bifunctional (meth) acrylate (B) having an alicyclic structure is at least one bifunctional (meth) acrylate selected from the following general formulas (5), (6), and (7). The resin molding in any one of Claims 1-9.
Figure 0004690053

Here, R 2 is an alkylene group that may contain an ether bond having 1 to 6 carbon atoms, R 3 is hydrogen or a methyl group, a is 1 or 2, and b is 0 or 1.
Figure 0004690053

Here, R 4 is an alkylene group that may contain an ether bond having 1 to 6 carbon atoms, and R 5 is hydrogen or a methyl group.
Figure 0004690053

Here, R 6 is hydrogen or a methyl group, R 7 is an alkylene group that may contain an ether bond having 1 to 6 carbon atoms, and R 8 is hydrogen or a methyl group.
光線透過率が90%以上であり、かつ屈折率が1.48〜1.54であることを特徴とする請求項1〜11いずれか記載の樹脂成形体。 The resin molded product according to any one of claims 1 to 11, which has a light transmittance of 90% or more and a refractive index of 1.48 to 1.54. リタデーションが10nm以下であることを特徴とする請求項1〜12いずれか記載の樹脂成形体。 Retardation is 10 nm or less, The resin molding in any one of Claims 1-12 characterized by the above-mentioned. ガラス転移点が120℃以上であり、かつ線膨張係数が20〜70ppm/℃であることを特徴とする請求項1〜13いずれか記載の樹脂成形体。 The resin molded article according to any one of claims 1 to 13, wherein the glass transition point is 120 ° C or higher and the linear expansion coefficient is 20 to 70 ppm / ° C. 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ用の基板として用いることを特徴とする請求項1〜14いずれか記載の樹脂成形体。 It uses as a board | substrate for organic electroluminescent displays, The resin molding in any one of Claims 1-14 characterized by the above-mentioned. (メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]を、波長200〜400nmの活性エネルギー線を用いて、照射光量5J/cm以下で光硬化することを特徴とする請求項1〜15いずれか記載の樹脂成形体の製造方法。 The (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] is photocured at an irradiation light amount of 5 J / cm 2 or less using an active energy ray having a wavelength of 200 to 400 nm. The manufacturing method of the resin molding of description. (メタ)アクリレート系光重合性組成物[I]を30重量%以上含む溶液を、連続したキャスト基材に流延し、乾燥後、光硬化することを特徴とする請求項16記載の樹脂成形体の製造方法。 The resin molding according to claim 16, wherein a solution containing 30% by weight or more of a (meth) acrylate photopolymerizable composition [I] is cast on a continuous cast substrate, dried and then photocured. Body manufacturing method. 光硬化した後に、更に100℃以上の温度で熱処理することを特徴とする請求項16又は17記載の樹脂成形体の製造方法 The method for producing a resin molded body according to claim 16 or 17, further comprising heat-treating at a temperature of 100 ° C or higher after photocuring . 請求項1〜15いずれか記載の樹脂成形体の少なくとも片面にガスバリア膜が成膜されてなることを特徴とするガスバリア性フィルム。 A gas barrier film, wherein a gas barrier film is formed on at least one surface of the resin molded body according to claim 1. ガスバリア膜が酸化珪素膜及び/又はビニルアルコール系樹脂膜よりなることを特徴とする請求項19記載のガスバリア性フィルム。 The gas barrier film according to claim 19, wherein the gas barrier film comprises a silicon oxide film and / or a vinyl alcohol resin film. 樹脂成形体/酸化珪素膜/ビニルアルコール系樹脂膜の層構成で成膜されてなることを特徴とする請求項19又は20記載のガスバリア性フィルム。 21. The gas barrier film according to claim 19 or 20, wherein the gas barrier film is formed by a layer structure of resin molded body / silicon oxide film / vinyl alcohol-based resin film. 請求項19〜21いずれか記載のガスバリア性フィルムの少なくとも片面に透明導電膜が成膜されてなることを特徴とする透明導電性フィルム。 A transparent conductive film comprising a transparent conductive film formed on at least one surface of the gas barrier film according to claim 19. 請求項22記載の透明導電性フィルムを用いてなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 An organic electroluminescent device comprising the transparent conductive film according to claim 22. 請求項1〜15いずれか記載の樹脂成形体を用いてなることを特徴とするタッチパネル。 A touch panel comprising the resin molded body according to claim 1.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016069595A (en) * 2014-10-01 2016-05-09 凸版印刷株式会社 Photocurable resin molding and method for producing the same

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5057775B2 (en) * 2006-01-05 2012-10-24 日本合成化学工業株式会社 Resin molded body, method for producing resin molded body, and use thereof
JP5241153B2 (en) * 2006-08-21 2013-07-17 日本合成化学工業株式会社 Manufacturing method of resin substrate
TWI455982B (en) * 2006-10-31 2014-10-11 Hitachi Chemical Co Ltd Optical resin composition, optical resin material using the same, optical filter for image display device, and image display device
JP4976116B2 (en) * 2006-12-06 2012-07-18 日本合成化学工業株式会社 Gas barrier laminate
JP5546093B2 (en) 2006-12-26 2014-07-09 株式会社Adeka Polymerizable compound and polymerizable composition
KR20080065484A (en) * 2007-01-09 2008-07-14 주식회사 엘지화학 Impact absorption layer having excellent impact resistance and film having use of impact absorption comprising the same
JP4963419B2 (en) * 2007-01-31 2012-06-27 キヤノン株式会社 Flexible display device
JP4900001B2 (en) * 2007-03-30 2012-03-21 大日本印刷株式会社 Manufacturing method of optical film
JP5403930B2 (en) * 2008-03-31 2014-01-29 株式会社きもと Resin molded product using hard coat film
KR20120038932A (en) * 2009-07-16 2012-04-24 닛폰고세이가가쿠고교 가부시키가이샤 Molded resin and protective plate for display
JP5494334B2 (en) * 2010-07-28 2014-05-14 マツダ株式会社 In-vehicle solar panel mounting structure
JP5529786B2 (en) * 2011-03-03 2014-06-25 株式会社ダイセル Flexible optical sheet
TW201247719A (en) * 2011-04-13 2012-12-01 Nippon Synthetic Chem Ind Resin molding, and laminate produced using same
KR101441851B1 (en) * 2012-09-21 2014-09-18 닛폰고세이가가쿠고교 가부시키가이샤 Laminate and use thereof
WO2014074402A1 (en) * 2012-11-08 2014-05-15 Dow Global Technologies Llc Liquid 1,3/1,4-alkoxylated cyclohexanedimethanol based diacrylates
KR20140071163A (en) * 2012-12-03 2014-06-11 제일모직주식회사 Composite sheet, method for preparing the same and flexible display device comprising the same
KR101557186B1 (en) 2013-01-09 2015-10-05 (주)엘지하우시스 Transparent resin laminate and touch screen panel including the same
WO2015008556A1 (en) * 2013-07-18 2015-01-22 日本合成化学工業株式会社 Resin molded article, protective plate and touch panel substrate both for displays, and method for self-repairing of resin molded article
JP6415107B2 (en) * 2013-08-27 2018-10-31 日本合成化学工業株式会社 Resin molded body and its use
CN105392827A (en) * 2013-10-15 2016-03-09 日本合成化学工业株式会社 Resin sheet and use thereof
WO2015098783A1 (en) * 2013-12-27 2015-07-02 日本合成化学工業株式会社 Radical curable composition, plastic sheet, plastic sheet roll, and molded product
JP6256021B2 (en) * 2014-01-15 2018-01-10 東亞合成株式会社 Active energy ray-curable composition for forming optical film or sheet and optical film or sheet
JP2015163684A (en) * 2014-01-29 2015-09-10 日本合成化学工業株式会社 Resin molded article and use thereof
WO2015178391A1 (en) * 2014-05-20 2015-11-26 日本合成化学工業株式会社 Resin sheet, resin sheet with adhesive layer, and use of same
JP6277164B2 (en) * 2014-09-29 2018-02-07 富士フイルム株式会社 Method for producing polymer film
WO2016052038A1 (en) * 2014-09-29 2016-04-07 富士フイルム株式会社 Method for manufacturing polymer film
JP6604012B2 (en) * 2015-03-20 2019-11-13 三菱ケミカル株式会社 Radical curable composition, plastic sheet, plastic sheet roll and molded product
JP6766456B2 (en) * 2015-06-29 2020-10-14 三菱ケミカル株式会社 Radical curable compositions, plastic sheets, plastic sheet rolls and moldings
JP2017024227A (en) * 2015-07-17 2017-02-02 日本合成化学工業株式会社 Method for production of molded product, plastic sheet used therefor and production method for plastic sheet roll
TWI739523B (en) * 2015-07-17 2021-09-11 日商大日本印刷股份有限公司 Laminated body for optical component and image display device
JP6547481B2 (en) * 2015-07-17 2019-07-24 大日本印刷株式会社 Organic electroluminescent laminate
WO2017066364A1 (en) * 2015-10-13 2017-04-20 Corning Incorporated Bendable electronic device modules, articles and methods of making the same
JP2017210579A (en) * 2016-05-27 2017-11-30 凸版印刷株式会社 Photocurable resin molded body using urethane acrylate
JP6388053B2 (en) * 2017-04-28 2018-09-12 大日本印刷株式会社 Optical film transfer body, optical film, optical film transfer body manufacturing method, optical film manufacturing method

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01190762A (en) * 1988-01-26 1989-07-31 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Resin composition for secondary cladding of optical glass fiber
JPH0275614A (en) * 1988-09-09 1990-03-15 Desoto Inc Curable liquid resin composition
JPH03199216A (en) * 1989-12-27 1991-08-30 Desoto Inc Liquid curable resin composition
JPH05163318A (en) * 1991-12-16 1993-06-29 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Liquid curable resin composition
JPH06345835A (en) * 1993-06-08 1994-12-20 Mitsubishi Rayon Co Ltd Cross-linked cured resin
JP2002012677A (en) * 2000-06-27 2002-01-15 Kawamura Inst Of Chem Res Method for producing component-gradient composite material
JP2003291239A (en) * 2002-03-29 2003-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Antistatic hard coat-finished article
JP2004070297A (en) * 2002-06-14 2004-03-04 Dainippon Ink & Chem Inc Photosetting composition for liquid crystal panel sealing, and liquid crystal panel

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01190762A (en) * 1988-01-26 1989-07-31 Mitsubishi Petrochem Co Ltd Resin composition for secondary cladding of optical glass fiber
JPH0275614A (en) * 1988-09-09 1990-03-15 Desoto Inc Curable liquid resin composition
JPH03199216A (en) * 1989-12-27 1991-08-30 Desoto Inc Liquid curable resin composition
JPH05163318A (en) * 1991-12-16 1993-06-29 Japan Synthetic Rubber Co Ltd Liquid curable resin composition
JPH06345835A (en) * 1993-06-08 1994-12-20 Mitsubishi Rayon Co Ltd Cross-linked cured resin
JP2002012677A (en) * 2000-06-27 2002-01-15 Kawamura Inst Of Chem Res Method for producing component-gradient composite material
JP2003291239A (en) * 2002-03-29 2003-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Antistatic hard coat-finished article
JP2004070297A (en) * 2002-06-14 2004-03-04 Dainippon Ink & Chem Inc Photosetting composition for liquid crystal panel sealing, and liquid crystal panel

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016069595A (en) * 2014-10-01 2016-05-09 凸版印刷株式会社 Photocurable resin molding and method for producing the same

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