JP4678959B2 - プラスチック容器の壁面への成膜方法、成膜装置及びプラスチック容器 - Google Patents

プラスチック容器の壁面への成膜方法、成膜装置及びプラスチック容器 Download PDF

Info

Publication number
JP4678959B2
JP4678959B2 JP2001028683A JP2001028683A JP4678959B2 JP 4678959 B2 JP4678959 B2 JP 4678959B2 JP 2001028683 A JP2001028683 A JP 2001028683A JP 2001028683 A JP2001028683 A JP 2001028683A JP 4678959 B2 JP4678959 B2 JP 4678959B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reactor
plastic container
external electrode
wall surface
container
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2001028683A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002234521A (ja
Inventor
勇治 森岡
利明 立田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samco Inc
Original Assignee
Samco Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samco Inc filed Critical Samco Inc
Priority to JP2001028683A priority Critical patent/JP4678959B2/ja
Publication of JP2002234521A publication Critical patent/JP2002234521A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4678959B2 publication Critical patent/JP4678959B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Containers Having Bodies Formed In One Piece (AREA)
  • Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラスチック容器の壁面にコーティング膜を形成する方法及びそのための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
プラスチック容器は成形が容易であること、軽量であること、低コストであること等の理由から飲食物や医薬品の容器として広く利用されているが、どんな物でも入れることができるというわけではない。例えば、プラスチックには酸素や二酸化炭素のような低分子ガスを透過させる性質がある。このため、例えば飲料をプラスチック容器に充填すると、プラスチック容器を通過して入ってくる酸素により飲料が酸化されて品質が低下するという問題が生じる。また、その飲料が炭酸飲料であれば、飲料中に溶解した炭酸ガスがプラスチック容器を通過して外部へ飛散し、品質が低下する。また、別の問題として、プラスチックによる低分子有機化合物の収着(内部に吸収、定着させる)に起因するものがある。すなわち、プラスチック容器の使用後回収までの間に相当の時間が経過すると、カビ成分等の低分子有機化合物が容器に収着される。そして、このようにプラスチック容器に収着された物質は通常の洗浄では除去されない。これがプラスチック容器のリターナブル容器としての利用を妨げる一因となっているのである。
【0003】
上記問題に鑑みて成された発明が特開平8−53117号公報に開示されている。同公報に記載の発明はプラスチック容器の内壁面に炭素膜コーティングを施す方法及びそのための装置に関する。同発明に従った成膜処理では、プラスチック容器の内外に電極を配置し、同容器の内部を真空にしてそこに原料ガスを供給し、外部電極に高周波電力を投入する。これにより容器内の原料ガスがプラズマ化され、内壁面に炭素膜が形成される。このようにプラスチック容器の内壁面に炭素膜コーティングを施せば、酸素、二酸化炭素、水蒸気等がプラスチック容器を通過できなくなるため、内容物の品質低下が防止される。また、炭素膜コーティングにより内容物の容器壁面への収着等が防止されるため、プラスチック容器をリターナブル容器として利用することが可能となる。
【0004】
また、特開平8−53117号公報に記載の発明の改良発明が特開2000−230064号公報に開示されている。同公報に記載の成膜装置は、容器の形状や大きさに応じたプラスチック製外筒を外部電極と容器との間に配置するようにしたもので、これにより、外部電極を交換することなく外部電極と容器の隙間による非常に高い真空度を容易に維持することができるとしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
プラズマ処理によってプラスチック容器の壁面に成膜を行う場合、膜厚を均一にするには電極から壁面までの距離をほぼ一定にすることが好ましい(特開平8−53117号公報の段落[0024]、[0027]を参照)。しかし、特開2000−230064号公報に記載の成膜装置は電極一式を交換することなく様々な形状及び大きさの容器に対応しようとするものであるため、ある容器については電極から壁面までの距離がほぼ一定となるものの、別の容器についてはそのようにならず、成膜が均一にならない。本発明はこのような課題を解決するために成されたものであり、その目的とするところは、プラスチック容器の形状や大きさに関わらず容器の壁面に均一に膜を形成することができる成膜方法及びそのための装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために成された本発明に係るプラスチック容器の壁面への成膜方法は、
所定の形状及び大きさを有するプラスチック容器を収容するための空間であってその壁面が前記プラスチック容器の壁面と略同一形状である空間を有する外部電極、前記外部電極を絶縁状態で収容するための反応器、及び、接地された内部電極を用いる成膜方法であって、
前記外部電極が前記反応器に収容され、前記プラスチック容器が前記外部電極の空間に収容され、前記内部電極が前記プラスチック容器の口部に挿入された状態となるように、前記プラスチック容器、前記外部電極及び前記内部電極を前記反応器の内部に配置する手順、及び
前記反応器に収容された前記外部電極の空間を排気し、前記空間に収容された前記プラスチック容器の内部へ珪素酸化物膜の原料ガスを供給し、前記外部電極に高周波電力を投入する手順
を備えることを特徴とする。
【0007】
また、本発明に係るプラスチック容器の壁面への成膜装置は
所定の形状及び大きさを有するプラスチック容器を収容するための空間であってその壁面が前記プラスチック容器の壁面と略同一形状である空間を有する外部電極、
前記外部電極を絶縁状態で収容するための反応器、
前記外部電極が前記反応器に収容され、前記プラスチック容器が前記外部電極に収容されているときに、前記プラスチック容器の口部に挿入される、接地された内部電極、
前記反応器の内部を排気するための排気手段、
前記外部電極が前記反応器に収容され、前記プラスチック容器が前記外部電極の空間に収容されているときに、前記プラスチック容器の内部へ珪素酸化物膜の原料ガスを供給するための原料ガス供給手段、及び
前記反応器に収容された前記外部電極へ高周波電力を投入するための電力投入手段
を備えることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態及び発明の効果】
本発明に係る方法は、高周波電力を利用したプラズマ処理によってプラスチック容器の壁面に成膜を行う方法の一種である。このような方法では、処理対象となる容器の大きさ及び形状に応じた空間を有する外部電極を用いることにより、どのような大きさ及び形状の容器の壁面にも均一に膜を形成することができる。例えば、容器が特に飲料の収容に用いるものである場合は、特開平8−53117号公報の段落[0015]に記載されているように、主として容器の内壁面が成膜の対象となるが、このような場合は、外側電極の空間の内壁面形状を容器の内壁面形状と略同一とすればよい。
【0009】
本発明では、外部電極を収容するための反応器を用意し、この反応器を介して外部電極を装置に取り付けるようにしている。このような構成により得られる効果は以下のとおりである。
【0010】
まず装置への外部電極の取り付け構造が複雑であると、容器に応じて外部電極を交換する作業が面倒なものとなる。しかし、上記反応器を用いると、例えば填め込みにより外部電極を反応器に対して着脱自在にするという構造が容易に実現できる。また、プラズマ処理では高度の真空が要求されるが、特開平8−53117号公報の装置では、外部電極の複数の構成部材を組み合わせて成る空間(同公報では空所)がプラズマ処理室としても機能する。従って、容器の形状に応じて複数の外部電極を用意する場合、全ての外部電極において部材間の高い気密性を達成しなければならない。これに対し本発明では、反応器において部材間の高い気密性を達成しておけば、個々の外部電極についてはそのような気密性を考慮する必要がなく、低コストで多様な外部電極を作成することができる。
【0011】
【実施例】
本発明の一実施例である成膜装置について図面を参照しながら説明する。図1に本実施例の成膜装置の平面図及び同平面図のI−I線における断面図を示す。なお、図1に示した部分はケーシングの中に収納されているが、これは図示していない。また、断面図に示された部品の一部は平面図では省略されている。
【0012】
本実施例の成膜装置は、導電体で作成された第一反応器部材11及び第二反応器部材12から構成される反応器10を備えている。第一反応器部材11は第一反応器支持体13を介してベース板14に取り付けられている。第一反応器支持体13にはテフロン(商標)製の絶縁部材131が用いられており、これにより第一反応器部材11はベース板14から絶縁されている。第一反応器部材11の、第二反応器部材12との接触部分にはOリング132が備えられている。一方、第二反応器部材12は、台座161によってガイドレール18(ベース板14に固定されている)に載置された第二反応器支持体16に取り付けられている。第二反応器支持体16にも絶縁部材162が用いられており、これにより第二反応器部材12はガイドレール18及びベース板14から絶縁されている。
【0013】
第一反応器部材11の一側面には給排気口113が設けられており、ここに給排気ユニット20が取り付けられている。給排気ユニット20は、反応器10から空気を除去するための排気管201及び珪素酸化物膜の原料ガスを反応器10の内部へ供給するためのガスマニホールド21を有する。排気管201は図示せぬ真空ポンプに接続されており、ガスマニホールド21は図示せぬ原料ガス供給源に接続されている。ガスマニホールド21は導電体で作成されており、本発明にいう接地された内部電極としても機能する。給排気ユニット20には絶縁部材203が用いられており、これにより第一反応器部材11は給排気ユニット20から絶縁されている。また、ベース板14の下にはRF銅板241を通じて第一反応器部材11に高周波電力を投入するための高周波電源24が配置されている。
【0014】
第一反応器部材11と第二反応器部材12とを組み合わせて成る反応器10の中には有底筒状の外部電極26が収容されている。この外部電極26は、第一反応器部材11に収容された第一電極部材27と、第二反応器部材12に収容された第二電極部材28とを組み合わせて成る。第一電極部材27及び第二電極部材28にはそれぞれ穴271及び281が形成されており、第一電極部材27及び第二電極部材28を図1に示したように組み合わせたとき、これらの穴271及び281はプラスチック容器30(以下、容器30とする)を収容するための空間を形成する。この空間の内壁面は容器30の壁面と略同一形状に成形されており、更に、先に説明したガスマニホールド21の先端部の外壁面も容器30の壁面形状に合わせて成形されている。第一電極部材27の穴271は同電極27を長さ方向(容器30の挿入方向)に貫通している。一方、第二電極部材28の穴281には底があり、そこに導電体から成るスペーサ部材282が装填されている。
【0015】
反応器10への外部電極26及び容器30の収容手順について図2を参照しながら説明する。まず、第一電極部材27及び第二電極部材28を第一反応器部材11及び第二反応器部材12にそれぞれ収容する(図2(A))。第一電極部材27を第一反応器部材11に収容すると、第一電極部材27の穴271が第一反応器部材11の給排気口113と接続され、ガスマニホールド21が穴271に挿入された状態になる(図2(B))。次に、容器30を、ガスマニホールド21を口部に挿入しつつ、第一電極部材27の穴271に収容する。そして、第二反応器支持体16をガイドレール18に沿って図2上で左方向に滑らせ、第二反応器部材12を第一反応器部材11に密着させて、係止具29により両者を結合させる。
【0016】
以上のような作業の結果、図1に示したように、反応器10に外部電極26が収容され、その外部電極26の空間に容器30が収容され、ガスマニホールド(内部電極)21が容器30に挿入された状態となる。この状態で、図示せぬ真空ポンプにより外部電極26の空間を真空にし、図示せぬガス供給源からガスマニホールド21を通じて容器30の中へ珪素酸化物膜の原料ガスを供給する。原料ガスは、例えば、TEOS(Tetraethoxy Silane)、TMOS(Tetramethoxy Silane)等のシリコンアルコキシド系を含む有機珪素化合物及び酸素を含む混合ガスとする。このような原料ガスの供給とともに高周波電源24を起動すると、高周波電力がRF鋼板241及び反応器10(導電体から成る)を通じて外部電極26に投入され、容器30の中の原料ガスが、接地された内部電極21と外部電極26との間でプラズマ化される。ここで、外部電極26は内部電極21より大きな表面積を有するが、常にプラズマの電位は外部電極26の電位よりも高いため、その電位差によりプラズマ中の正イオンが外部電極26の壁面に沿った容器30の内壁に向けて加速されて衝突し、そこに珪素酸化物膜が形成される。
【0017】
本実施例では反応器10を導電体で作成しているため、外部電極26だけでなく、反応器10と外部電極26の全体が内部電極21と対になる外部電極として機能する。ただし、反応器10を導電体で作成することは本発明にとって必須ではない。例えば、第一反応器部材11の底部にRF銅板241と第一電極部材27とを電気的に接続するための導電性部材を配設してもよい。
【0018】
本実施例の装置では、反応器10の内部で外部電極26及び容器30が略水平(横長)に配置される。このような配置形態にすると、外部電極26及び容器30を略垂直(縦長)に配置する形態に比べて、反応器10への外部電極26及び容器30の出し入れが容易となる。また、外部電極26の構成部材27及び28は重いため、水平配置により垂直方向の移動量を減らすことは有利である。また、本実施例の装置では、反応器10の構成部材11及び12は外部電極26の構成部材27及び28の挿入方向に対して斜めの面で密着するように構成されている。このようにすると、反応器10の各構成部材11及び12の開口が斜め方向に大きく開くため、反応器10への外部電極26の構成部材27及び28の出し入れがより容易になる。同様に、外部電極26の構成部材27及び28を容器30の挿入方向に対して斜めの面で密着するように構成することにより、外部電極26の空間への容器30の出し入れがより容易になる。
【0019】
上記装置においては、高周波電力投入時に反応器10が高熱を発生することがある。このような場合を想定し、例えば、反応器10の外部表面に配設した管に冷却水を流す冷却機構を設けるようにすれば、高熱に弱いプラスチック容器でも処理が可能となる。また、反応器10の外側を接地した導電シールド部材で覆って外部に放射される高周波及び熱を遮断するようにすれば、安全性が高まる。なお、この導電シールド部材は反応器10に接触して配置する必要はなく、例えば、図1に示した装置全体を収納するケース状としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例である成膜装置の平面図及び同平面図のI−I線における断面図。
【図2】 反応器への外部電極及び容器の収容手順を示す図。
【符号の説明】
10…反応器
11…第一反応器部材
12…第二反応器部材
14…ベース板
18…ガイドレール
21…ガスマニホールド(内部電極)
24…高周波電源
26…外部電極
27…第一電極部材
28…第二電極部材
30…プラスチック容器

Claims (3)

  1. 所定の形状及び大きさを有するプラスチック容器を収容するための空間であってその壁面が前記プラスチック容器の壁面と略同一形状である空間を有する外部電極、前記外部電極を絶縁状態で収容するための反応器、及び、接地された内部電極を用いる成膜方法であって、
    前記外部電極が前記反応器に収容され、前記プラスチック容器が前記外部電極の空間に収容され、前記内部電極が前記プラスチック容器の口部に挿入された状態となるように、前記プラスチック容器、前記外部電極及び前記内部電極を前記反応器の内部に配置する手順、及び
    前記反応器に収容された前記外部電極の空間を排気し、前記空間に収容された前記プラスチック容器の内部へ珪素酸化物膜の原料ガスを供給し、前記外部電極に高周波電力を投入する手順
    を備えることを特徴とするプラスチック容器の壁面への成膜方法。
  2. 所定の形状及び大きさを有するプラスチック容器を収容するための空間であって、内壁面が前記プラスチック容器の内壁面と略同一形状である空間を有する外部電極、
    前記外部電極を絶縁状態で収容するための反応器、
    前記外部電極が前記反応器に収容され、前記プラスチック容器が前記外部電極に収容されているときに、前記プラスチック容器の口部に挿入される、接地された内部電極、
    前記反応器の内部を真空にするための排気手段、
    前記外部電極が前記反応器に収容され、前記プラスチック容器が前記外部電極の空間に収容されているときに、前記プラスチック容器の内部へ珪素酸化物膜の原料ガスを供給するための原料ガス供給手段、及び
    前記反応器に収容された前記外部電極へ高周波電力を投入するための電力投入手段
    を備えることを特徴とするプラスチック容器の壁面への成膜装置。
  3. 請求項1に記載の方法により又は請求項2に記載の装置を用いて壁面に珪素酸化物膜を形成したプラスチック容器。
JP2001028683A 2001-02-05 2001-02-05 プラスチック容器の壁面への成膜方法、成膜装置及びプラスチック容器 Expired - Lifetime JP4678959B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001028683A JP4678959B2 (ja) 2001-02-05 2001-02-05 プラスチック容器の壁面への成膜方法、成膜装置及びプラスチック容器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001028683A JP4678959B2 (ja) 2001-02-05 2001-02-05 プラスチック容器の壁面への成膜方法、成膜装置及びプラスチック容器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002234521A JP2002234521A (ja) 2002-08-20
JP4678959B2 true JP4678959B2 (ja) 2011-04-27

Family

ID=18893142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001028683A Expired - Lifetime JP4678959B2 (ja) 2001-02-05 2001-02-05 プラスチック容器の壁面への成膜方法、成膜装置及びプラスチック容器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4678959B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2002354470B2 (en) * 2001-12-13 2007-05-10 Mitsubishi Heavy Industries Machinery Systems, Ltd. System for forming carbon film on inner surface of plastic container and method for producing plastic container having inner surface coated with carbon film

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0853117A (ja) * 1994-08-11 1996-02-27 Kirin Brewery Co Ltd 炭素膜コーティングプラスチック容器の製造装置および製造方法
JP2000230064A (ja) * 1999-02-10 2000-08-22 Toppan Printing Co Ltd 成膜装置及び成膜方法
JP2002121667A (ja) * 2000-10-12 2002-04-26 Mitsubishi Shoji Plast Kk プラスチック容器内へのdlc膜連続成膜装置及び連続成膜方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0853117A (ja) * 1994-08-11 1996-02-27 Kirin Brewery Co Ltd 炭素膜コーティングプラスチック容器の製造装置および製造方法
JP2000230064A (ja) * 1999-02-10 2000-08-22 Toppan Printing Co Ltd 成膜装置及び成膜方法
JP2002121667A (ja) * 2000-10-12 2002-04-26 Mitsubishi Shoji Plast Kk プラスチック容器内へのdlc膜連続成膜装置及び連続成膜方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002234521A (ja) 2002-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10081864B2 (en) Method and apparatus for treating containers
JPH10330945A (ja) 中空体を被覆するための方法、中空体を被覆するための装置、及び閉鎖可能な少なくとも1つの開口を備えた容器
KR101672078B1 (ko) 성막 장치, 기판 처리 장치 및 성막 방법
KR101115996B1 (ko) 플라즈마 처리장치 및 플라즈마 처리방법
KR100787080B1 (ko) 기판 처리 방법, 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 및 기판처리 장치
JP4774635B2 (ja) 3次元中空容器への薄膜成膜装置及びそれを用いた薄膜成膜方法
JP2006032344A (ja) 超高速均一プラズマ処理装置
JP2005036260A (ja) ガスバリア膜コーティングプラスチック容器の製造方法
WO2003085165A1 (fr) Appareil de formation d'un film cvd plasma et procede de fabrication d'un conteneur plastique de revetement de film cvc
WO2005064998A1 (ja) プラズマ処理装置
KR20050074241A (ko) 에칭 장치 및 에칭 방법
US11898241B2 (en) Method for a treatment to deposit a barrier coating
JP4678959B2 (ja) プラスチック容器の壁面への成膜方法、成膜装置及びプラスチック容器
KR19990088375A (ko) 박막형성장치
JP2012049065A (ja) プラズマ処理装置
JP3870598B2 (ja) プラスチック容器の成膜装置
TW200913051A (en) Method of manufacturing device having adhesive film on back-side surface thereof
JP2006307346A (ja) 薄膜成膜方法および薄膜成膜装置
JP3880797B2 (ja) ダイヤモンドライクカーボン膜の製膜装置
WO2005035825A1 (ja) Cvd成膜装置及びcvd膜コーティングプラスチック容器の製造方法
JPH09285528A (ja) 圧力過敏性容器の内表面を滅菌するための装置
JP2006005007A (ja) アモルファスシリコン層の形成方法及び形成装置
CN101341582B (zh) 光源装置、基板处理装置、基板处理方法
JPS62159433A (ja) レジスト除去方法及び装置
JP2005268653A (ja) プラズマ処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070912

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101221

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110201

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4678959

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140210

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term