JP4666161B2 - 積層用セラミック基板の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は本発明を適用する伝送線路、詳細にはストリップ線路や、マイクロストリップ線路の一実施の形態を示す斜視図、図2は図1に示した伝送線路の断面図、図3は図2に示した伝送線路の部分拡大図である。図示された伝送線路は、誘電体基体1と、接地導体31、32と、信号線2とを含む。誘電体基体1は、例えば、高誘電率のセラミック誘電体、有機誘電体などを含む。
次に、本発明に係る第2の実施の形態について説明する。本実施の形態では、上記第1の実施の形態における、第2のシート用意工程を次のように改変したものであり、その他は第1の実施の形態と同様であるものとする。
次に、本発明に係る第3の実施の形態について説明する。本実施の形態では、上記第1の実施の形態における、第1のシート用意工程及び第2のシート用意工程の双方とも、次のように改変したものであり、その他は第1の実施の形態と同様であるものとする。すなわち、本実施の形態における第1のシート用意工程及び第2のシート用意工程の双方とも、上記第2の実施の形態の図10に示したマスク層を介しパターニングする態様で、シートの構成部分を形成する。そして、その後は、第1の実施の形態と同様、図8に示されるような積層工程、剥離工程を経て、同層に2種類の構成部分101、201を有する積層用セラミック基板51が得られる。本実施の形態によっても、第1及び第2の実施の形態と同様の作用効果が得られる。
本発明により製造した積層用セラミック基板を用いて、上述したように伝送線路を構成することができるが、かかる伝送線路は、それ自体、独立して用いることができるほか、高周波電子部品の回路要素として用いることもできる。これについて説明する。
101 第1の構成部分
101a 第1の支持層
101b 第1の構成部分層
151 第1のシート
201 第2の構成部分
201a 第2の支持層
201b 第2の構成部分層
251 第2のシート
Claims (4)
- 同層に少なくとも2種類以上の構成部分を有する積層用セラミック基板の製造方法であって、
第1の支持層の上に、凸部となる第1の構成部分と、前記第1の構成部分のない凹部とを有する第1のシート、を用意する第1のシート用意工程と、
第2の支持層の上に、前記凹部に嵌合可能な凸部となる第2の構成部分と、前記第2の構成部分のない凹部とを有する第2のシート、を用意する第2のシート用意工程と、
前記凸部を前記凹部に嵌合させるようにして、前記第1のシート及び第2のシートを積層させる積層工程と、
前記積層工程の後に、前記第1の支持層及び第2の支持層の少なくとも一方を剥離し除去する剥離工程と、
を含み、
前記工程を経ることにより、前記凹部が前記凸部によって埋められ、同層に前記第1の構成部分及び前記第2の構成部分を有する一枚の積層用セラミック基板を製造する、
積層用セラミック基板の製造方法。 - 前記凹部及び凸部の双方又は一方は、対応する支持層の上に対応する構成部分を層状に形成し、レーザーによって構成部分を部分的に除去することによって、形成される、
請求項1に記載の積層用セラミック基板の製造方法。 - 前記凹部及び凸部の双方又は一方は、対応する支持層の上にマスク層を設け、被マスク領域以外にペーストを塗布し、乾燥後、前記マスク層を除去することによって、形成される、
請求項1又は2に記載の積層用セラミック基板の製造方法。 - 前記凹部及び凸部の双方又は一方の側面の外形は、層厚方向の断面において単一直線状又は半円弧状に形成されている、
請求項1乃至3の何れか一項に記載の積層用セラミック基板の製造方法。
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2006
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