JP4662432B2 - Optical filter manufacturing method and organic EL display using the same - Google Patents
Optical filter manufacturing method and organic EL display using the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP4662432B2 JP4662432B2 JP2004228572A JP2004228572A JP4662432B2 JP 4662432 B2 JP4662432 B2 JP 4662432B2 JP 2004228572 A JP2004228572 A JP 2004228572A JP 2004228572 A JP2004228572 A JP 2004228572A JP 4662432 B2 JP4662432 B2 JP 4662432B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- transparent
- resin
- gas barrier
- organic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 44
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 380
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 96
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 96
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 83
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 43
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 30
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 30
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 9
- 238000011049 filling Methods 0.000 claims description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 9
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 8
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 7
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 5
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 claims description 5
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 77
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 71
- 239000010408 film Substances 0.000 description 47
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 33
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 27
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 24
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 18
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 14
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 13
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 11
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 10
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 9
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 9
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 7
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 5
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 5
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 5
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 5
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 5
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 5
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 5
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 5
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 5
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 5
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 4
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 4
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 4
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical class C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 4
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 4
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 4
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 2
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- VYXSBFYARXAAKO-WTKGSRSZSA-N chembl402140 Chemical compound Cl.C1=2C=C(C)C(NCC)=CC=2OC2=C\C(=N/CC)C(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C(=O)OCC VYXSBFYARXAAKO-WTKGSRSZSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical group C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 2
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- NGQSLSMAEVWNPU-YTEMWHBBSA-N 1,2-bis[(e)-2-phenylethenyl]benzene Chemical class C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 NGQSLSMAEVWNPU-YTEMWHBBSA-N 0.000 description 1
- SHXCHSNZIGEBFL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole;zinc Chemical compound [Zn].C1=CC=C2SC=NC2=C1 SHXCHSNZIGEBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RETDKIXQRINZEF-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole;zinc Chemical compound [Zn].C1=CC=C2OC=NC2=C1 RETDKIXQRINZEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical class C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 1,4a-dimethyl-7-propan-2-yl-2,3,4,4b,5,6,10,10a-octahydrophenanthrene-1-carboxylic acid Chemical compound C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 1-(2,2-diphenylethenyl)-4-[4-(2,2-diphenylethenyl)phenyl]benzene Chemical group C=1C=C(C=2C=CC(C=C(C=3C=CC=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1C=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UHXOHPVVEHBKKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 1-[(e)-2-phenylethenyl]anthracene Chemical class C=1C=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=1\C=C\C1=CC=CC=C1 VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- UIWLITBBFICQKW-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[h]quinolin-2-one Chemical compound C1=CC=C2C3=NC(O)=CC=C3C=CC2=C1 UIWLITBBFICQKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTDHEFNWWHSXSU-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrachloroaniline Chemical compound NC1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl YTDHEFNWWHSXSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SULWTXOWAFVWOY-PHEQNACWSA-N 2,3-bis[(E)-2-phenylethenyl]pyrazine Chemical class C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=NC=CN=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 SULWTXOWAFVWOY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical class O=C1C=CC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 2-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n,2-n-triphenylbenzene-1,2-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C(=CC=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 HONWGFNQCPRRFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NC2=CC=CC=C2N1 DWYHDSLIWMUSOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPYMZALMVVFPJZ-UHFFFAOYSA-N 6,7,15,16,24,25,33,34-octamethyl-2,11,20,29,37,38,39,40-octazanonacyclo[28.6.1.13,10.112,19.121,28.04,9.013,18.022,27.031,36]tetraconta-1,3,5,7,9,11,13(18),14,16,19,21(38),22(27),23,25,28,30(37),31(36),32,34-nonadecaene Chemical compound N1=C(N=C2[C]3C=C(C)C(C)=CC3=C(N=C3C4=CC(C)=C(C)C=C4C(=N4)N3)N2)[C](C=C(C(C)=C2)C)C2=C1N=C1C2=CC(C)=C(C)C=C2C4=N1 WPYMZALMVVFPJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 9-methylidenefluorene Chemical class C1=CC=C2C(=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXYHZIYEDDINQH-UHFFFAOYSA-N C1=CNC2=C3C=NN=C3C=CC2=C1 Chemical class C1=CNC2=C3C=NN=C3C=CC2=C1 UXYHZIYEDDINQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N Ipazine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(Cl)=NC(NC(C)C)=N1 OWYWGLHRNBIFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- SJEYSFABYSGQBG-UHFFFAOYSA-M Patent blue Chemical compound [Na+].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=CC=1)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 SJEYSFABYSGQBG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000980 acid dye Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 150000008425 anthrones Chemical class 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000038 blue colorant Substances 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical class C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004775 coumarins Chemical class 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- HFXKQSZZZPGLKQ-UHFFFAOYSA-N cyclopentamine Chemical class CNC(C)CC1CCCC1 HFXKQSZZZPGLKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUIWZLHUNCCYBL-UHFFFAOYSA-N decacyclene Chemical compound C12=C([C]34)C=CC=C4C=CC=C3C2=C2C(=C34)C=C[CH]C4=CC=CC3=C2C2=C1C1=CC=CC3=CC=CC2=C31 CUIWZLHUNCCYBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 150000005125 dioxazines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000982 direct dye Substances 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical class 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N europium atom Chemical compound [Eu] OGPBJKLSAFTDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- JRJLLXQDXANQEC-UHFFFAOYSA-N fastogen green y Chemical compound [Cu+2].[N-]1C(N=C2C3=C(Cl)C(Cl)=C(Br)C(Cl)=C3C(N=C3C4=C(Br)C(Cl)=C(Br)C(Cl)=C4C(=N4)[N-]3)=N2)=C(C(Br)=C(Cl)C(Br)=C2Cl)C2=C1N=C1C2=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Br)=C2C4=N1 JRJLLXQDXANQEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N gamma-Phenylpyridine Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=NC=C1 JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 239000000040 green colorant Substances 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940083761 high-ceiling diuretics pyrazolone derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 1
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N indophenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=C1C=CC(=O)C=C1 RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- AODWRBPUCXIRKB-UHFFFAOYSA-N naphthalene perylene Chemical group C1=CC=CC2=CC=CC=C21.C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 AODWRBPUCXIRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- JZRYQZJSTWVBBD-UHFFFAOYSA-N pentaporphyrin i Chemical compound N1C(C=C2NC(=CC3=NC(=C4)C=C3)C=C2)=CC=C1C=C1C=CC4=N1 JZRYQZJSTWVBBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical class C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIZIRKROSLGMPL-UHFFFAOYSA-N phenoxazin-1-one Chemical compound C1=CC=C2N=C3C(=O)C=CC=C3OC2=C1 FIZIRKROSLGMPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOMHBFAJZRZNQD-UHFFFAOYSA-N phenoxazone Natural products C1=CC=C2OC3=CC(=O)C=CC3=NC2=C1 UOMHBFAJZRZNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical class O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical class C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000001062 red colorant Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000001022 rhodamine dye Substances 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical class C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003967 siloles Chemical class 0.000 description 1
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- 150000003518 tetracenes Chemical class 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007979 thiazole derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001651 triphenylamine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイをはじめとする種々のディスプレイに用いられるカラーフィルター基板もしくは色変換基板において、ダークエリア等の欠陥のない良好な画像表示を可能とする光学フィルターの製造方法、及びこれを用いて構成された有機ＥＬディスプレイに関する。 The present invention relates to a method for producing an optical filter capable of displaying a good image without defects such as dark areas in a color filter substrate or a color conversion substrate used in various displays including an organic electroluminescence (EL) display. And an organic EL display constructed using the same.
有機ＥＬ素子は、原理的には、陽極と陰極との間に有機ＥＬ発光層をはさんだ構造を有するものであるが、実際に、有機ＥＬ素子を用いてカラー表示の可能な有機ＥＬディスプレイとするには、（１）三原色の各色をそれぞれ発光する有機ＥＬ素子どうしを配列する方式、（２）白色光に発光する有機ＥＬ素子を三原色のカラーフィルター層と組み合わせる方式、並びに（３）青色発光する有機ＥＬ素子と、青→緑、及び青→赤にそれぞれ色変換する色変換層（ＣＣＭ層）とを組み合わせるＣＣＭ方式等がある。 In principle, an organic EL element has a structure in which an organic EL light emitting layer is sandwiched between an anode and a cathode. However, in practice, an organic EL display capable of color display using an organic EL element (1) A method of arranging organic EL elements that emit light of each of the three primary colors, (2) A method of combining organic EL elements that emit white light with a color filter layer of three primary colors, and (3) Blue light emission There is a CCM system that combines an organic EL element that performs color conversion layers (CCM layers) that perform color conversion from blue to green and blue to red, respectively.
中でも、（３）のＣＣＭ方式では、同じ色に発光する有機ＥＬ素子を一種類使用すればよいので、上記（１）の方式の有機ＥＬディスプレイにおけるように、各色の有機ＥＬ素子の特性を揃える必要が無く、また、（２）の方式の有機ＥＬディスプレイにおけるように、三原色のカラーフィルターで色分解する際の白色光の利用率が低い欠点が解消され、ＣＣＭ層の変換効率を高めることにより、ディスプレイの輝度を向上させることが可能である。 In particular, in the CCM system of (3), since only one type of organic EL element emitting light of the same color is used, the characteristics of the organic EL elements of the respective colors are aligned as in the organic EL display of the system of (1). This eliminates the disadvantage of low utilization of white light when performing color separation with the three primary color filters, as in the organic EL display of the method (2), and improves the conversion efficiency of the CCM layer. It is possible to improve the brightness of the display.
ところで、光学フィルター上に有機ＥＬ素子を直接積層した場合、光学フィルター及び光学フィルターの保護膜である有機層から発生する水蒸気、酸素、有機モノマー成分、低分子成分等のガスにより有機発光層が劣化し、発光を維持することが困難になる。そこで、従来、有機層と有機ＥＬ素子との間に透明バリア層を設けることにより、有機層成分の有機ＥＬ素子への侵入を防止している（例えば、特許文献１参照。）。 By the way, when an organic EL element is directly laminated on an optical filter, the organic light emitting layer is deteriorated by gas such as water vapor, oxygen, an organic monomer component, and a low molecular component generated from the organic layer that is the protective film of the optical filter and the optical filter. In addition, it becomes difficult to maintain light emission. Therefore, conventionally, a transparent barrier layer is provided between the organic layer and the organic EL element to prevent the organic layer component from entering the organic EL element (see, for example, Patent Document 1).
透明バリア層の成膜は、無機酸化物系の膜を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の真空成膜方式で形成することが主流である。しかし、これらの膜においてピンホールが存在すると、有機層から発生したガスが局所的にピンホールに集中し、バリア層を通過して有機ＥＬ素子層に到達し、有機ＥＬ素子を劣化させることになる。このような有機ＥＬの劣化は、発光不良箇所（ダークエリア）を生じ、画像品質を低下させる因子となる。このことから、ピンホールの発生を防止するため、同一材料や異なった材料からなる多層構造膜とする必要があり、透明バリア層を多層構造膜とする場合には、複数回の成膜による工程数や材料の増加等、製造コストの点で好ましくないという問題があった。
従って、本発明においては、カラーフィルター基板もしくは色変換基板にガスの通過するピンホールの存在しないバリア積層膜を少ない工程数と低コストで設けるとともに、局所的なガスの通過をなくすことで有機ＥＬ素子の劣化を防ぎ、ダークエリア等の欠陥のない良好な画像表示を可能とする光学フィルターの製造方法、及びこれを用いて構成された有機ＥＬディスプレイを提供することを課題とするものである。 Therefore, in the present invention, a barrier laminated film without a pinhole through which a gas passes is provided on the color filter substrate or the color conversion substrate with a small number of steps and at a low cost, and by eliminating local gas passage, the organic EL An object of the present invention is to provide an optical filter manufacturing method capable of preventing deterioration of elements and displaying a good image without a defect such as a dark area, and an organic EL display configured using the same.
第１の発明は、透明基板上に、各画素毎の入射光を色補正するカラーフィルター層が少なくとも形成された有機ＥＬ素子用の光学フィルターの製造方法であって、前記カラーフィルター層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で全体を覆って積層し、前記ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて形成する工程と、を含み、前記ガスバリア層を通過したガスを前記透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくしたことを特徴とする光学フィルターの製造方法に関するものである。
1st invention is the manufacturing method of the optical filter for organic EL elements in which the color filter layer which color-corrects the incident light for every pixel was formed on the transparent substrate, Comprising: On the said color filter layer A step of forming a transparent gas barrier layer by a vacuum film forming method, a step of forming a transparent layer on the gas barrier layer by covering the whole with a wet coating method, and filling the pinholes and protrusions of the gas barrier layer, and , only including, a method of manufacturing the optical filter, characterized in that it eliminates the passage of local gas by diffusing the gas passing through the gas barrier layer in the transparent layer.
第２の発明は、透明基板上に、各画素毎の入射光を色変換する色変換層が少なくとも形成された有機ＥＬ素子用の光学フィルターの製造方法であって、前記色変換層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で全体を覆って積層し、前記ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて形成する工程と、を含み、前記ガスバリア層を通過したガスを前記透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくしたことを特徴とする光学フィルターの製造方法に関するものである。
2nd invention is a manufacturing method of the optical filter for organic EL elements in which the color conversion layer which color-converts the incident light for every pixel was formed on the transparent substrate, Comprising: On the said color conversion layer A step of forming a transparent gas barrier layer by a vacuum film forming method, a step of forming a transparent layer on the gas barrier layer by covering the whole with a wet coating method, and filling the pinholes and protrusions of the gas barrier layer, and , only including, a method of manufacturing the optical filter, characterized in that it eliminates the passage of local gas by diffusing the gas passing through the gas barrier layer in the transparent layer.
第３の発明は、透明基板上に、各画素毎の入射光を色補正するカラーフィルター層、および各画素毎の入射光を色変換する色変換層の少なくとも二層がこの順に積層された有機ＥＬ素子用の光学フィルターの製造方法であって、前記色変換層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で全体を覆って積層し、前記ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて形成する工程と、を含み、前記ガスバリア層を通過したガスを前記透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくしたことを特徴とする光学フィルターの製造方法に関するものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an organic material in which at least two layers of a color filter layer for color correcting incident light for each pixel and a color conversion layer for color converting incident light for each pixel are laminated in this order on a transparent substrate. a method of manufacturing an optical filter for EL elements, and forming a vacuum deposition method a transparent gas barrier layer on the color conversion layer, the total wet coating a transparent layer on the gas barrier layer covers are laminated, the forming filling the pinholes or projections of the gas barrier layer, only including, eliminating the passage of local gas by diffusing the gas passing through the gas barrier layer in the transparent layer The present invention relates to a method for manufacturing an optical filter.
第４の発明は、第１〜第３の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、前記カラーフィルター層または前記色変換層の上に平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で全体を覆って積層し、前記ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて形成する工程と、を含み、前記ガスバリア層を通過したガスを前記透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくしたことを特徴とするものである。
4th invention is the manufacturing method of the optical filter in any one of 1st-3rd invention, The process of forming a planarization layer on the said color filter layer or the said color conversion layer, The said planarization Forming a transparent gas barrier layer on the layer by a vacuum film-forming method, and laminating the transparent layer on the gas barrier layer by a wet coating method to fill the pinholes and protrusions of the gas barrier layer seen containing a step of forming, a, is characterized in that eliminating the passage of local gas by diffusing the gas passing through the gas barrier layer in the transparent layer.
第５の発明は、前記ガスバリア層が単層または多層の窒化酸化シリコン膜であることを特徴とする光学フィルターの製造方法に関するものである。 A fifth invention relates to a method of manufacturing an optical filter, wherein the gas barrier layer is a single layer or a multilayer silicon nitride oxide film.
第６の発明は、第１〜第４の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、前記透明層が、アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂のいずれかの樹脂で形成された層であることを特徴とするものである。 6th invention is a manufacturing method of the optical filter in any one of 1st-4th invention, The said transparent layer is a layer formed with either resin of acrylic resin or epoxy resin. It is characterized by this.
第７の発明は、第１〜第４の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、前記透明層が、環状ポリオレフィン系樹脂またはノルボルネン系樹脂のいずれかの樹脂で形成された層であることを特徴とするものである。 7th invention is a manufacturing method of the optical filter in any one of 1st-4th invention, The said transparent layer is a layer formed with either resin of cyclic polyolefin resin or norbornene-type resin. It is characterized by being.
第８の発明は、第１〜第４の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法において、前記透明層が、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサンオリゴマーからなるゾルゲル樹脂、ポリシロキサンオリゴマーと有機ポリマーとからなる有機−無機ハイブリッド材料のいずれかから選ばれた樹脂もしくは材料で形成された層であることを特徴とするものである。 An eighth invention is the method for producing an optical filter according to any one of the first to fourth inventions, wherein the transparent layer is a sol-gel resin, a polysiloxane oligomer, a polyimide amide resin, a silicone resin, or a polysiloxane oligomer. It is a layer formed of a resin or material selected from any of organic-inorganic hybrid materials composed of a siloxane oligomer and an organic polymer.
第９の発明は、第１〜第８の発明のいずれかに記載の光学フィルターの製造方法により得られた光学フィルター上に、各画素ごとに発光する発光層を備えた有機ＥＬ素子が配置されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイに関するものである。 According to a ninth aspect of the invention, an organic EL element including a light emitting layer that emits light for each pixel is disposed on the optical filter obtained by the method of manufacturing an optical filter according to any one of the first to eighth aspects. The present invention relates to an organic EL display.
本発明によれば、カラーフィルター層もしくは色変換層もしくは平坦化層上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層を真空成膜法で形成し、さらにウェット塗布法により透明層を積層することにより、ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて、ガスバリア性をさらに高めた光学フィルター、あるいは、ガスバリア層を通過したガスを透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくした光学フィルターが可能となる。さらに、本発明の製造方法による光学フィルターを用いることにより、有機ＥＬ素子の劣化を防止し、ダークスポット、ダークエリア等のない良好な画像表示を可能とする信頼性の高い有機ＥＬディスプレイが得られる。 According to the present invention, a transparent gas barrier layer having a high gas barrier property is formed on the color filter layer or the color conversion layer or the flattening layer by a vacuum film forming method, and further, the transparent layer is laminated by a wet coating method. An optical filter that further enhances the gas barrier property by filling pinholes and protrusions in the gas barrier layer, or an optical filter that eliminates local gas passage by diffusing the gas that has passed through the gas barrier layer in the transparent layer is possible. Become. Furthermore, by using the optical filter according to the manufacturing method of the present invention, it is possible to obtain a highly reliable organic EL display that prevents deterioration of the organic EL element and enables good image display without dark spots and dark areas. .
図１は、本発明の光学フィルターの製造方法の一例を示す工程断面図である。図２は、図１に続く本発明の光学フィルターの製造方法を示す工程断面図であり、本発明の製造方法で得られた光学フィルター１０の断面構造を示すものである。図３は、図２に示した本発明の製造方法で得られた光学フィルターを用いた本発明の有機ＥＬディスプレイ２０の断面構造を示す模式図である。
以下、本発明の製造方法の一例としての図１、図２、およびに本発明の有機ＥＬディスプレイとしての図３に基づいて説明する。図１、図２、および図３を引用して説明する以下の例では、有機ＥＬ発光層は、その層全域に渡って同じ色を発光するものであり、有機ＥＬディスプレイはＣＣＭ方式により、光の三原色を利用したフルカラー表示を行うものとする。また、平坦化層も設けた構成としている。もとより、本発明は上記の方式、構成に限定されるものではない。
FIG. 1 is a process cross-sectional view illustrating an example of a method for producing an optical filter of the present invention. FIG. 2 is a process cross-sectional view showing the manufacturing method of the optical filter of the present invention following FIG. 1, and shows the cross-sectional structure of the
1 and 2 as an example of the manufacturing method of the present invention, and FIG. 3 as an organic EL display of the present invention will be described below. In the following example described with reference to FIG. 1, FIG. 2, and FIG. 3, the organic EL light emitting layer emits the same color over the entire layer. A full-color display using the three primary colors shall be performed. In addition, a planarization layer is also provided. Of course, the present invention is not limited to the above-described system and configuration.
（透明基板）
先ず、透明基板を準備する。本発明において、透明基板１は、光学フィルターを支える支持体であるとともに、その上に形成したカラーフィルター等を保護する機能を有し、透明で表面平滑なガラス基板やプラスチック基板が用いられる。具体的には、ガラス基板（無アルカリガラス、ソーダライムガラスの他、ポリイミド系やメタクリル酸系樹脂等の透明なプラスチック基材を含む。）等を用いることができる。また、透明基板１の厚さも特に限定されるものではないが、通常０．５〜１．５ｍｍ程度である。透明基板１は、必要に応じて、さらに、観察側に擦傷防止のためのハードコート層、帯電防止層、汚染防止層、反射防止層、防眩層等が直接積層されていてもよく、あるいはタッチパネルのような機能が付加されていてもよい。
(Transparent substrate)
First, a transparent substrate is prepared. In the present invention, the
（ブラックマトリックス層の形成）
次に、図１（ａ）に示すように、透明基板１上にブラックマトリックス層２を形成する。
本発明において、ブラックマトリックス層２は、各画素毎に発光する区域を区画すると共に、発光する区域どうしの境界における外光の反射を防止し、画像、映像のコントラストを高めるためのもので、必ずしも設けなくてよいが、コントラストを向上させる以外に、カラーフィルター層をはじめ、有機ＥＬディスプレイを構成するブラックマトリックス層２以降の各層を、ブラックマトリックス層２の開口部に対応させて作製する上で、形成することが好ましい。ブラックマトリクス層２は、通常は、黒色の細線で構成された、縦横の格子状等、もしくは一方向のみの格子状等の、開口部を有するパターン状に形成されたものである。有機ＥＬ素子の発光による光は、このブラックマトリックス層２の開口部を経由し、観察側に到達する。
(Formation of black matrix layer)
Next, as shown in FIG. 1A, a
In the present invention, the
ブラックマトリックス層２は、クロム等の金属または金属酸化物を、蒸着、イオンプレーティング、もしくはスパッタリング等により薄膜形成し、その表面にフォトレジストを塗布し、パターンマスクで露光し、現像、エッチング、及び洗浄等の各工程を経て形成することができる。あるいは無電解メッキ法で形成し、あるいはカーボンブラック等の黒色の顔料もしくは染料を含む感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法で形成したり、もしくは黒色のインキ組成物を用いた印刷法等を利用しても形成することができる。ブラックマトリクス層２の厚みは、薄膜で形成する場合には、０．２μｍ〜０．４μｍ程度であり、黒色の顔料もしくは染料を含む感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法あるいは印刷法によるときは０．５μｍ〜２μｍ程度である。
The
本発明において、ブラックマトリックス層２を黒色の感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィ法あるいは印刷法により形成する場合、ブラックマトリックス層２を構成する樹脂としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の透明樹脂を例示することができる。顔料を含有する感光性樹脂を用いる場合は、通常、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂、特に電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂を使用することができる。
In the present invention, when the
（カラーフィルター層の形成）
次に、図１（ｂ）に示すように、ブラックマトリクス層２を形成した透明基板１上に、カラーフィルター層３を形成する。
本発明において、カラーフィルター層３は、通常は、青色用、緑色用、及び赤色用の三種類が規則的に配列したものであり、各色の顔料もしくは染料とバインダー樹脂で構成されている。カラーフィルター層３の各色の部分は、ブラックマトリクス層２がある場合、その開口部毎に設けたものであってもよいが、便宜的には、図１における手前側から奥側の方向に帯状に設けたものであってよい。
(Formation of color filter layer)
Next, as shown in FIG. 1B, a
In the present invention, the
カラーフィルター層３を形成するには、顔料もしくは染料等の着色剤、好ましくは顔料の配合により着色した感光性樹脂組成物の層をフォトリソグラフィ法によってパターン化するか、もしくは、所定の色に着色したインキ組成物を調製して、各色毎に所定の位置に印刷する等の方法によって行う。カラーフィルター層３の厚みは、１μｍ〜３μｍ程度である。
In order to form the
赤色カラーフィルター層形成用の顔料としては、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、もしくはイソインドリン系顔料等から選択された顔料の１種もしくは２種以上、緑色カラーフィルター層形成用の顔料としては、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、もしくはイソインドリノン系の顔料の１種もしくは２種以上、また、青色カラーフィルター層形成用の顔料としては、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、もしくはジオキサジン系顔料の１種もしくは２種以上を挙げることが好ましい。 The pigment for forming the red color filter layer may be one or two pigments selected from perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, isoindoline pigments, and the like. As a pigment for forming a green color filter layer, a phthalocyanine pigment such as a halogen polysubstituted phthalocyanine pigment or a halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigment, a triphenylmethane basic dye, an isoindolinone pigment, or an isoindolinone One or more of these pigments, and the blue color filter layer forming pigments include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, or dioxazines One kind of pigment Clause it is preferable to include two or more of them.
上記の着色剤を配合するカラーフィルター層３のバインダー樹脂としては、透明な樹脂が用いられ、印刷法を用いる場合には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の透明樹脂を例示することができる。
上記のようなバインダー樹脂中に、上記の着色剤を、形成されるカラーフィルター層３中に５〜５０%含有されるように配合して、着色した塗布用の組成物を調製する。このとき、分散剤を顔料１００重量部に対して３０〜１００重量部の範囲で含有させることができる。
A transparent resin is used as the binder resin of the
In the binder resin as described above, the above colorant is blended so as to be contained in the formed
さらに、顔料を含有する感光性樹脂を用いフォトリソグラフィ法によりパターン化する場合は、通常、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂、特に電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂を使用することができる。紫外線硬化性樹脂を使用する場合には、バインダー樹脂に光重合開始剤が単独または複数組み合わせて使用される。
なお、紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有してもよい。
Furthermore, when patterning by a photolithographic method using a photosensitive resin containing a pigment, ionizing radiation having a reactive vinyl group such as an acrylate type, a methacrylate type, a polyvinyl cinnamate type, or a cyclized rubber type is usually used. A curable resin, particularly an electron beam curable resin or an ultraviolet curable resin can be used. When an ultraviolet curable resin is used, a photopolymerization initiator is used alone or in combination with a binder resin.
In addition, when using an ultraviolet curable resin, you may contain a sensitizer, a coating property improving agent, a development improving agent, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, etc. as needed.
（色変換層の形成）
次に、図１（ｃ）に示すように、カラーフィルター層３上に色変換層４を積層する。
本発明において、色変換層（ＣＣＭ層）４を用いる場合には、色変換層４としては、蛍光色素を透明樹脂中に分散したものが用いられる。例えば、青色発光の有機発光層を用いる場合には、色変換層４は、青色の入射光を赤色または緑色に変える機能をもつものを意味する。
このような青色の発光部材の発光を、橙色から赤色発光にまたは緑色に変換する蛍光色素については、例えば、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリン）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−〔４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル〕−ピリジウム−パーコラレイト（以下ピリジン１）等のピリジン系色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、他にオキサジン系を挙げることができる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等）も蛍光性があれば可能である。また、前記蛍光色素を樹脂中にあらかじめ練りこんで顔料化したものでもよい。
これらの蛍光色素は、必要に応じて、単独または混合して用いてもよい。特に赤色への蛍光変換効率が低いので、上記色素を混合して用いて、発光から蛍光への変換効率を高めることもできる。
(Formation of color conversion layer)
Next, as shown in FIG. 1C, the color conversion layer 4 is laminated on the
In the present invention, when the color conversion layer (CCM layer) 4 is used, the color conversion layer 4 is obtained by dispersing a fluorescent dye in a transparent resin. For example, when a blue light emitting organic light emitting layer is used, the color conversion layer 4 has a function of changing blue incident light to red or green.
As for the fluorescent dye that converts the light emission of such a blue light emitting member from orange to red light emission or green, for example, 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostillin) -4H- Cyanine dyes such as pyran, pyridine dyes such as 1-ethyl-2- [4- (p-dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridium-percollate (hereinafter referred to as pyridine 1), rhodamine B, rhodamine 6G Rhodamine dyes such as oxazine, and the like. Furthermore, various dyes (direct dyes, acid dyes, basic dyes, disperse dyes, etc.) are possible if they are fluorescent. The fluorescent dye may be previously kneaded into a resin to form a pigment.
These fluorescent dyes may be used alone or as a mixture, as required. In particular, since the fluorescence conversion efficiency to red is low, it is possible to increase the conversion efficiency from light emission to fluorescence by mixing the dyes.
一方、蛍光色素を分散する透明樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を挙げることができる。なお、色変換層のパターン形成をフォトリソグラフィ法により行なう場合には、透明な感光性樹脂も選ぶことができる。たとえば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト材料が挙げられる。また、印刷法を用いる場合には、透明な樹脂を用いた印刷インキを選ぶことができる。たとえば、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂のモノマー、オリゴマー、ポリマー、またポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を用いることができる。 On the other hand, examples of the transparent resin for dispersing the fluorescent dye include transparent resins such as polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroxyethyl cellulose, and carboxymethyl cellulose. In addition, when performing pattern formation of the color conversion layer by photolithography, a transparent photosensitive resin can also be selected. For example, a photocurable resist material having a reactive vinyl group such as acrylic acid-based, methacrylic acid-based, polyvinyl cinnamate-based, or cyclized rubber-based may be used. Moreover, when using a printing method, the printing ink using transparent resin can be selected. For example, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin monomer, oligomer, polymer, polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroxy Transparent resins such as ethyl cellulose and carboxymethyl cellulose can be used.
色変換層４が主に蛍光色素からなる場合は、所望の色変換層パターンのマスクを介して真空蒸着またはスパッタリング法で成膜され、一方、蛍光色素と樹脂からなる場合は、蛍光色素と上記樹脂およびレジストを混合、分離または可溶化させ、スピンコート、ロールコート法等の方法で塗布し、フォトリソグラフィ法で所望の色変換部材パターンでパターニングしたり、スクリーン印刷等の方法で所望の色変換層パターンでパターニングすることができる。 When the color conversion layer 4 is mainly composed of a fluorescent dye, the film is formed by vacuum deposition or sputtering through a mask having a desired color conversion layer pattern. On the other hand, when the color conversion layer 4 is composed of a fluorescent dye and a resin, The resin and resist are mixed, separated or solubilized, applied by a method such as spin coating or roll coating, and patterned with a desired color conversion member pattern by photolithography, or desired color conversion by a method such as screen printing. It can be patterned with a layer pattern.
このような色変換層４の厚みは、赤色変換蛍光体層および緑色変換蛍光体層が青色有機ＥＬ素子層で発光された青色光を十分に吸収し蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があり、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜設定することができ、例えば、５〜１５μｍ程度とすることができ、赤色変換蛍光体層と緑色変換蛍光体層との厚みが異なる場合があってもよい。 The thickness of the color conversion layer 4 is such that the red conversion phosphor layer and the green conversion phosphor layer can sufficiently absorb the blue light emitted from the blue organic EL element layer and exhibit a function of generating fluorescence. It is necessary and can be appropriately set in consideration of the fluorescent dye to be used, the fluorescent dye concentration, etc., for example, about 5 to 15 μm, and the thickness of the red conversion phosphor layer and the green conversion phosphor layer May be different.
（平坦化層の形成）
次に、図１（ｄ）に示すように、色変換層４上に平坦化層５を形成する。
本発明において、平坦化層５は、下層を保護する役割を有すると共に、下層の厚みが一定しない場合には、それらの表面をならして平坦化した面とし、上層を形成する工程での影響を低減する目的で設けられる。
本発明において、カラーフィルター層３もしくは色変換層４の上に平坦化層５を設ける場合には、平坦化層５は、例えば、色変換層４より下層の構成により段差（表面凹凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、有機発光層形成における厚みムラ発生を防止する平坦化作用をなすものである。
(Formation of planarization layer)
Next, as shown in FIG. 1D, a
In the present invention, the
In the present invention, when the
本発明において、平坦化層５は、透明樹脂により形成することができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。
上記の平坦化層５の形成は、上記の樹脂材料が液体の場合、スピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、光硬化型樹脂の場合は紫外線照射後に必要に応じて熱硬化させ、熱硬化型樹脂の場合は成膜後そのまま熱硬化させる。また、使用材料がフィルム状に成形されている場合、直接、あるいは、粘着剤を介して貼着することができる。このような平坦化層５の厚みは、例えば、２〜７μｍ程度とすることができる。
In the present invention, the
The
（ガスバリア層の形成）
次に、図１（ｅ）に示すように、平坦化層５の上にガスバリア層６を真空成膜法により形成する。
本発明において、ガスバリア層６としては、低温真空成膜による透明無機膜、または透明樹脂膜、あるいは有機−無機ハイブリッド材料による膜が用いられるが、ガスバリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。透明無機膜の形成は、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されず、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、ＥＢ蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、レーザーアブレーション法等が挙げられる。このうち、有機ＥＬ素子の生産を考慮すると、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法が好ましく、さらには、スパッタリング法を用いることがより好ましい。スパッタリング法を用いることにより、高生産性で、品質安定性に優れたガスバリア層６を形成することができる。
(Formation of gas barrier layer)
Next, as shown in FIG.1 (e), the
In the present invention, as the
本発明において、ガスバリア層６に真空成膜法による透明無機膜を用いる場合には、例えば、酸化アルミニウム、酸化シリコン、酸化マグネシウム等の酸化物、窒化シリコン等の窒化物、窒化酸化シリコン等の窒化酸化物が用いられ、ピンホールや突起が生じにくくガスバリア性が高いことから、スパッタリング法により形成された窒化酸化シリコン膜が好適である。上記の透明無機膜は、単層のみならず、多層としてガスバリア層６に用いることも可能であり、例えば、窒化酸化シリコン膜を窒化酸化シリコンの２層以上の多層膜とすることにより、ガスバリア性はさらに高まる。
本発明において、ガスバリア層６の厚さは、特に限定されるものではなく、透明無機膜を堆積する基板や薄膜の種類、単層か多層かによっても左右されるので一概に規定できないが、通常、全体で５０ｎｍ〜２μｍ程度である。ガスバリア層６の膜厚が１００ｎｍ未満であるとガスバリア性が不十分であり、また２μｍを超えると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易いからである。
In the present invention, when a transparent inorganic film formed by a vacuum film formation method is used for the
In the present invention, the thickness of the
（透明層の形成）
次に、図２に示すように、ガスバリア層６の上に透明層７をウェット塗布法により形成する。
ウェット塗布する透明層７の材料としては、有機ポリマー、有機−無機ハイブリットポリマー、無機物分散溶液等の、ウェット塗布法により成膜可能な、粘度５ｃｐ〜１００ｃｐの溶液材料を用いる。さらに、低吸湿性、脱水分性に優れ、後工程のプロセスに適するような耐熱性、低揮発性の材料が好ましく、低吸水性のポリマー、気体透過性の低いポリマー、耐熱性ポリマー等が好ましい。
例えば、透明層７を形成する塗布材料として樹脂を用いる場合には、ポリカーボネ‐ト樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ノルボルネン系樹脂、４−メチルペンテン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリプロピレンテレフタレート樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン樹脂、ポリアクリレート樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、もしくはマレイン酸樹脂等の透明樹脂が挙げられる。または、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂、特に電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂を使用することができる。さらには、ポリシロキサンオリゴマー等からなるゾルゲル材料もしくはポリシロキサンオリゴマー等と有機ポリマー等とからなる有機−無機ハイブリッド材料を使用することもできる。
(Formation of transparent layer)
Next, as shown in FIG. 2, a
As the material of the
For example, when a resin is used as a coating material for forming the
上記の材料の中で、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂は、汎用溶剤への溶解性が高く、電離放射線硬化性樹脂等へのレジスト化が容易であり、透明性の高い膜を形成することができ、ディスプレイ部材として十分な透明性を得ることが可能なので、透明層７を形成する材料として、より好ましい。
Among the above materials, acrylic resins and epoxy resins are highly soluble in general-purpose solvents, can be easily resisted into ionizing radiation curable resins, and can form highly transparent films. It is possible to obtain sufficient transparency as a display member, so that the material for forming the
また、上記の材料の中で、環状ポリオレフィン系樹脂、ノルボルネン系樹脂は、耐熱性が高く、かつ光学フィルターの作製工程における水分の吸収が低く、光学フィルターに含まれる水分量も低くなるため、結果的にダークエリアの低減につながり、透明層７を形成する材料として、より好ましい。
Among the above materials, the cyclic polyolefin resin and norbornene resin have high heat resistance, low water absorption in the optical filter manufacturing process, and low water content in the optical filter. As a material for forming the
また、上記の材料の中で、ポリイミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリシロキサンオリゴマーからなるゾルゲル材料もしくはポリシロキサンオリゴマーと有機ポリマーとからなる有機−無機ハイブリッド材料は、耐熱性が高く、光学フィルターの作製工程における加熱工程での耐性が高く、分解物および揮発物の発生が低くなるため、結果的にダークエリアの低減につながり、透明層７を形成する材料として、より好ましい。
Among the above materials, a polyimide resin, a polyimide amide resin, a silicone resin, a sol-gel material composed of a polysiloxane oligomer, or an organic-inorganic hybrid material composed of a polysiloxane oligomer and an organic polymer has high heat resistance and is an optical filter. Since the resistance in the heating process in the manufacturing process is high and the generation of decomposition products and volatiles is low, the dark area is reduced as a result, which is more preferable as a material for forming the
上記の塗布材料は、それぞれの材料に適した塗布溶媒を用いて塗布する。ウェット塗布法としては、スピンコート、ダイコート、スリットコート、スロットコート、バーコート、スクリーンコート、ビードコート、グラビアコート等の方法が用いられる。
本発明において、透明層７の厚みとしては、下層の凹凸状態にもよるが０．５μｍ〜５μｍ程度で用いられる。
The above coating material is applied using a coating solvent suitable for each material. Examples of the wet coating method include spin coating, die coating, slit coating, slot coating, bar coating, screen coating, bead coating, and gravure coating.
In the present invention, the thickness of the
上記のような構成とすることにより、図２に示すように、本発明の製造方法による光学フィルター１０は、カラーフィルター層３もしくは色変換層４もしくは平坦化層５の上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層６を真空成膜法で形成し、さらにガスバリア層６の上にウェット塗布法により透明層７を形成することにより、ガスバリア層６のピンホールを透明層７で埋めたり、ガスバリア層６の突起を透明層７で均しくして埋めることにより、ガスバリア性をさらに高めるものである。さらに、ガスバリア層６を通過したガスを透明層７で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくした光学フィルター１０が得られる。
With the above configuration, as shown in FIG. 2, the
（有機ＥＬ素子）
図３の有機ＥＬ素子２１は、図中には示はしていないが、各画素に対応して、第１電極層（透明電極層）、有機ＥＬ発光層、及び第２電極層（背面電極層）とが積層されたものから基本的に構成され、駆動方式としては、パッシブマトリクス、もしくはアクティブマトリクスのいずれのものであってもよい。さらに必要に応じて、封止材が積層され得るものである。
(Organic EL device)
The
有機ＥＬ素子２１において、第１電極層は、第２電極層との間にはさんだ有機ＥＬ発光層に電圧をかけ、所定の位置で発光を起こさせるためのものである。第１電極層は、例えば、ブラックマトリクス層２の開口部の幅に相当する幅の帯状の形状を有する各電極が、図３で言えば、図の左右方向に配置され、図の手前から奥に向かう方向に間隔をあけて配列したもので、配列のピッチはブラックマトリクス層２の開口部の配列ピッチと同じである。
In the
第１電極層は、透明性及び導電性を有する金属酸化物の薄膜で構成され、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、もしくは酸化第二錫等を素材として構成され、これらの素材の一様な薄膜を蒸着法もしくはスパッタリング法等によって形成した後に、フォトリソグラフィ法により不要部を除去することにより形成することが好ましい。 The first electrode layer is composed of a transparent and conductive metal oxide thin film, and is composed of, for example, indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, or stannic oxide. After forming a uniform thin film of the above material by vapor deposition or sputtering, it is preferable to form by removing unnecessary portions by photolithography.
有機ＥＬ発光層は、先に挙げたように、（１）三原色を配列する方式においては、赤色発光用、緑色発光用、及び青色発光用の各色発光用の有機ＥＬ発光層を並べたものであり、（２）白色光に発光する有機ＥＬ素子を三原色のカラーフィルター層と組み合わせる方式においては、白色発光用の有機ＥＬ発光層であり、また、（３）ＣＣＭ方式においては、青色発光用、もしくは青色及び緑色発光用の有機ＥＬ発光層である。 As described above, the organic EL light emitting layer (1) is a system in which the organic EL light emitting layers for red light emission, green light emission, and blue light emission are arranged in the arrangement of the three primary colors. Yes, (2) In the method of combining an organic EL element that emits white light with a color filter layer of three primary colors, it is an organic EL light emitting layer for white light emission, and (3) In the CCM method, for blue light emission, Or it is the organic electroluminescent light emitting layer for blue and green light emission.
有機ＥＬ発光層は、代表的には、（１）有機ＥＬ発光層単独から構成されたもの、（２）有機ＥＬ発光層の透明電極層側に正孔注入層を設けたもの、（３）有機ＥＬ発光層の背面電極層側に電子注入層を設けたもの、もしくは（４）有機ＥＬ発光層の透明電極層側に正孔注入層を設け、背面電極層側に電子注入層を設けたもの、等種々の構造のものがあり得る。 The organic EL light emitting layer is typically (1) one composed of an organic EL light emitting layer alone, (2) one provided with a hole injection layer on the transparent electrode layer side of the organic EL light emitting layer, (3) An electron injection layer provided on the back electrode layer side of the organic EL light emitting layer, or (4) a hole injection layer provided on the transparent electrode layer side of the organic EL light emitting layer, and an electron injection layer provided on the back electrode layer side There can be a variety of structures.
有機ＥＬ発光層は、例えば、色素系、金属錯体系、もしくは高分子系の有機蛍光体で構成され得る。
色素系のものとしては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、もしくはピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
The organic EL light emitting layer can be composed of, for example, a dye-based, metal complex-based, or polymer-based organic phosphor.
Examples of dyes include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazol derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, silole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine A ring compound, a perinone derivative, a perylene derivative, an oligothiophene derivative, an oxadiazole dimer, a pyrazoline dimer, or the like can be given.
金属錯体系のものとしては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等、又はＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、もしくはキノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。 Examples of metal complexes include aluminum quinolinol complex, benzoquinolinol beryllium complex, benzoxazole zinc complex, benzothiazole zinc complex, azomethylzinc complex, porphyrin zinc complex, europium complex, etc., and central metals such as Al, Zn, Be Alternatively, a metal complex having a rare earth metal such as Tb, Eu, or Dy and having a oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, or quinoline structure as a ligand can be given.
高分子系のものとしては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、もしくはポリビニルカルバゾール誘導体、又は前記の色素系のもの、もしくは金属錯体系のものを高分子化したもの等を挙げることができる。 As a high molecular weight type, a polyparaphenylene vinylene derivative, a polythiophene derivative, a polyparaphenylene derivative, a polysilane derivative, a polyacetylene derivative, or the like, a polyfluorene derivative, or a polyvinyl carbazole derivative, or the above-described dye-based or metal complex-based The thing which polymerized the thing etc. can be mentioned.
上記した有機蛍光体には、発光効率の向上、もしくは発光波長を変化させる目的でドーピングを行うことができる。このドーピング材料としては、例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィレン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等を挙げることができる。
以上のような材料からなる、もしくは含有する有機ＥＬ発光層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
The organic phosphor described above can be doped for the purpose of improving the light emission efficiency or changing the light emission wavelength. Examples of the doping material include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrene derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazoline derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like.
Although there is no restriction | limiting in particular as thickness of the organic electroluminescent light emitting layer which consists of the above materials or contains, For example, it is 5 nm-about 5 micrometers.
正孔注入層を構成する材料としては、従来、非伝導材料の正孔注入材料として使用されているものや、有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている公知の物の中から任意に選択して使用することができ、正孔の注入、もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであって、有機物、もしくは無機物のいずれであってもよい。 As a material constituting the hole injection layer, any material conventionally used as a hole injection material of a non-conductive material or a publicly known material used for a hole injection layer of an organic EL element is arbitrarily selected. It can be used selectively and has either hole injection or electron barrier properties, and may be either organic or inorganic.
具体的に正孔注入層を構成する材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、もしくはチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに正孔注入層の材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、もしくはスチリルアミン化合物等を例示することができる。 Specifically, the materials constituting the hole injection layer include triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazoles. Examples include derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane-based, aniline-based copolymers, or conductive polymer oligomers such as thiophene oligomers. Furthermore, examples of the material for the hole injection layer include porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine compounds.
具体的には、ポルフィリン化合物としては、ポルフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン銅（ＩＩ）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、もしくは銅オクタメチルフタロシアニン等、芳香族第三級アミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４’−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、もしくは４，４’，４”−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を例示することができる。
以上に例示したような材料からなる正孔注入層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
Specifically, porphyrin compounds include aromatic amines such as porphine, 1,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-porphine copper (II), aluminum phthalocyanine chloride, or copper octamethylphthalocyanine. Examples of the compound include N, N, N ′, N′-tetraphenyl-4,4′-diaminophenyl, N, N′-diphenyl-N, N′-bis- (3-methylphenyl)-[1,1. '-Biphenyl] -4,4'-diamine, 4- (di-p-tolylamino) -4'-[4 (di-p-tolylamino) styryl] stilbene, 3-methoxy-4'-N, N-diphenyl Aminostilbenzene, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl, or 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylpheny ) -N- phenylamino] may be exemplified triphenyl amine.
Although there is no restriction | limiting in particular as thickness of the positive hole injection layer which consists of a material which was illustrated above, For example, it can be set as about 5 nm-5 micrometers.
電子注入層を構成する材料としては、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、もしくはオキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、もしくはジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。
以上に例示したような材料からなる電子注入層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
Materials that constitute the electron injection layer include nitro-substituted fluorene derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthaleneperylene, carbodiimides, and fluorenylidenemethane derivatives. Anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, or thiazole derivatives in which the oxygen atom of the oxadiazole ring of the oxadiazole derivative is substituted with a sulfur atom, quinoxaline having a quinoxaline ring known as an electron withdrawing group Derivatives, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum, phthalocyanines, metal phthalocyanines, or distyrylpyrazine derivatives can be exemplified.
Although there is no restriction | limiting in particular as thickness of the electron injection layer which consists of a material as illustrated above, For example, it can be set as about 5 nm-5 micrometers.
背面電極層は、有機ＥＬ発光層を発光させるための他方の電極をなすものである。背面電極層は、仕事関数が４ｅＶ以下程度と小さい金属、合金、もしくはそれらの混合物から構成される。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、インジウム、もしくはリチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等を例示することができ、より好ましくは、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、もしくはリチウム／アルミニウム混合物を挙げることができる。これらの素材からなる第２電極層は、これらの素材の一様な薄膜を蒸着法もしくはスパッタリング法等によって形成した後に、フォトリソグラフィ法により不要部を除去することにより形成することが好ましい。
上記のように、本発明の有機ＥＬディスプレイ２０は、本発明の製造方法による光学フィルター１０と上記の有機ＥＬ素子２１を用いることにより得られる。
The back electrode layer forms the other electrode for causing the organic EL light emitting layer to emit light. The back electrode layer is made of a metal, an alloy, or a mixture thereof having a work function as small as about 4 eV or less. Specifically, sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, indium, Or a lithium / aluminum mixture, a rare earth metal, etc. can be illustrated, More preferably, a magnesium / silver mixture, a magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, or a lithium / Mention may be made of aluminum mixtures. The second electrode layer made of these materials is preferably formed by forming a uniform thin film of these materials by vapor deposition or sputtering, and then removing unnecessary portions by photolithography.
As described above, the
また、上記のように、本発明によれば、カラーフィルター層３もしくは色変換層４もしくは平坦化層５の上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層６を真空成膜法で形成し、さらにガスバリア層６の上に透明層７をウェット塗布法により積層することにより、透明なガスバリア層６のピンホールや突起を埋め、バリア膜の性能をさらに高めたものである。例え、ガスバリア層６のピンホールからガスが通過しても、ウェット塗布による透明層７によりガスを拡散し、局所的なガスの通過をなくすことで有機ＥＬ素子２１の劣化を防ぎ、ダークスポットやダークエリア等の欠陥発生を抑止し、良好な画像表示を可能とする有機ＥＬディスプレイ２０が得られるものである。
As described above, according to the present invention, the transparent
（実施例１）
（ブラックマトリクス層の形成）
透明基板として、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのソーダガラス（セントラル硝子社製）を準備した。上記の透明基板上に、スパッタリングにより酸化窒化複合クロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成した。この複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、及び複合クロム薄膜のエッチングを順次行って、８０μｍ×２８０μｍの長方形状の開口部が、短辺方向に１００μｍのピッチ、長辺方向に３００μｍのピッチでマトリックス状に配列したブラックマトリックス層を形成した。
Example 1
(Formation of black matrix layer)
As a transparent substrate, soda glass (manufactured by Central Glass Co., Ltd.) having a thickness of 370 mm × 470 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared. A thin film (thickness 0.2 μm) of oxynitride composite chromium was formed on the transparent substrate by sputtering. A photosensitive resist is coated on the composite chrome thin film, mask exposure, development, and etching of the composite chrome thin film are sequentially performed, so that a rectangular opening of 80 μm × 280 μm has a pitch of 100 μm in the short side direction and a long side. Black matrix layers arranged in a matrix at a pitch of 300 μm in the direction were formed.
（カラーフィルター層の形成）
赤色、緑色、及び青色の各色カラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物を調整した。赤色着色剤としては縮合アゾ系顔料（チバガイギー社製、クロモフタルレッドＢＲＮ）、緑色着色剤としてはフタロシアニン系緑色顔料（東洋インキ製造社製、リオノールグリーン２Ｙ−３０１）、及び青色着色剤としてはアンスラキノン系顔料（チバガイギー社製、クロモフタルブルーＡ３Ｒ）をそれぞれ用い、バインダー樹脂としてはポリビニルアルコール（１０％水溶液）を用い、ポリビニルアルコール水溶液１０部に対し、各着色剤を１部（部数はいずれも質量基準。）の割合で配合して、十分に混合分散させ、得られた溶液１００部に対し、１部の重クロム酸アンモニウムを架橋剤として添加し、各色カラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物を得た。
(Formation of color filter layer)
A photosensitive coating composition for forming color filter layers of red, green, and blue was prepared. As a red colorant, a condensed azo pigment (Ciba Geigy, Chromophthalred BRN), as a green colorant, a phthalocyanine-based green pigment (Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., Lionol Green 2Y-301), and as a blue colorant Each anthraquinone pigment (Ciba Geigy Co., Chromophthal Blue A3R) was used, polyvinyl alcohol (10% aqueous solution) was used as the binder resin, and one part of each colorant was added to 10 parts of the polyvinyl alcohol aqueous solution. Is also mixed on a mass basis.) The mixture is sufficiently mixed and dispersed. To 100 parts of the resulting solution, 1 part of ammonium dichromate is added as a cross-linking agent to form a color filter layer for each color. A coating composition was obtained.
上記の各色カラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物を順次用いて各色のカラーフィルター層を形成した。すなわち、ブラックマトリックス層が形成された上記の透明基板上に、赤色のカラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物をスピンコート法により塗布し、１００℃の温度で５分間のプリベイクを行った。その後、フォトマスクを用いて露光し、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行った。次いで、２００℃の温度で６０分間のポストベイクを行い、ブラックマトリックス層のパターンに同調させ、幅８５μｍ、厚み１．５μｍの帯状の赤色パターンを、その幅方向がブラックマトリックス層の開口部の短辺方向になるよう形成した。以降、緑色のカラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物、及び青色のカラーフィルター層形成用の感光性塗料組成物を順次用い、緑色のパターン、及び青色のパターンを形成し、三色の各パターンが幅方向に繰り返し配列したカラーフィルター層を形成した。 The color filter layer of each color was formed using the above-mentioned photosensitive coating composition for forming each color filter layer in sequence. That is, a photosensitive coating composition for forming a red color filter layer was applied on the transparent substrate on which the black matrix layer was formed by spin coating, and prebaked at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes. Then, it exposed using the photomask and developed with the developing solution (0.05% KOH aqueous solution). Next, post-baking is performed at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes to synchronize with the pattern of the black matrix layer. A band-shaped red pattern having a width of 85 μm and a thickness of 1.5 μm is formed, and the width direction is the short side of the opening of the black matrix layer. It formed so that it might become a direction. Thereafter, a green color filter layer forming photosensitive coating composition and a blue color filter layer forming photosensitive coating composition are sequentially used to form a green pattern and a blue pattern. A color filter layer in which patterns were repeatedly arranged in the width direction was formed.
（色変換層の形成）
ブラックマトリックス層及びカラーフィルター層が形成された上に、青色変換ダミー層形成用塗布液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製、透明感光性樹脂組成物、商品名：「カラーモザイクＣＢ−７０１」）をスピンコート法により塗布し、温度１００℃で５分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行った。これにより、青色カラーフィルター層上に、幅８５μｍ、厚み１０μｍの帯状の青色変換ダミー層を形成した。
(Formation of color conversion layer)
Spinning a coating solution for forming a blue conversion dummy layer (manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd., transparent photosensitive resin composition, trade name: “Color Mosaic CB-701”) on which the black matrix layer and the color filter layer are formed The coating was applied by a coating method and prebaked at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes. Subsequently, after patterning by photolithography, post-baking was performed at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes. As a result, a band-shaped blue conversion dummy layer having a width of 85 μm and a thickness of 10 μm was formed on the blue color filter layer.
次いで、緑色変換蛍光体（アルドリッチ社製、クマリン６）を分散させたアルカリ可溶性ネガ型感光性レジストを緑色変換層形成用塗布液とし、上記と同様の手順により、緑色カラーフィルター層上に、幅８５μｍ、厚み１０μｍの帯状の緑色変換層を形成した。
さらに、赤色変換蛍光体（アルドリッチ社製、ローダミン６Ｇ）を分散させたアルカリ可溶性ネガ型感光性レジストを赤色変換層形成用塗布液とし、上記と同様の手順により、赤色カラーフィルター層上に、幅８５μｍ、厚み１０μｍの帯状の赤色変換層を形成した。
Next, an alkali-soluble negative photosensitive resist in which a green conversion phosphor (Aldrich, Coumarin 6) is dispersed is used as a green conversion layer forming coating solution, and the width is formed on the green color filter layer by the same procedure as described above. A band-shaped green conversion layer having a thickness of 85 μm and a thickness of 10 μm was formed.
Furthermore, an alkali-soluble negative photosensitive resist in which a red conversion phosphor (manufactured by Aldrich, Rhodamine 6G) is dispersed is used as a red conversion layer forming coating solution, and the width is formed on the red color filter layer by the same procedure as described above. A band-shaped red conversion layer having a thickness of 85 μm and a thickness of 10 μm was formed.
（平坦化層の形成）
次いで、色変換層が形成された上に、アクリレート系光硬化性樹脂（新日鐵化学社製、品名：「Ｖ−２５９ＰＡ／ＰＨ５」）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した平坦化層形成用塗布液を調整し、スピンコート法により塗布し、温度１２０℃で５分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行って、色変換層上に厚み５μｍで色変換層全体を覆う透明な保護層を形成した。
(Formation of planarization layer)
Next, for the formation of a flattening layer in which an acrylate-based photocurable resin (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., product name: “V-259PA / PH5”) is diluted with propylene glycol monomethyl ether acetate after the color conversion layer is formed. The coating solution was prepared, applied by spin coating, and prebaked at a temperature of 120 ° C. for 5 minutes. Next, after patterning by photolithography, post-baking was performed at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes to form a transparent protective layer covering the entire color conversion layer with a thickness of 5 μm on the color conversion layer.
（ガスバリア層の形成）
次に、上記の平坦化層上にスパッタリング法により、Ｓｉ3 Ｎ4 ターゲット（３Ｎ）を用い、アルゴンガス導入量：４０ｓｃｃｍ、ＲＦパワー：４３０ｋＷ、基板温度１００℃でスパッタリング成膜し、厚み１５０ｎｍの酸化窒化シリコン膜を積層し、透明なガスバリア層を形成した。
(Formation of gas barrier layer)
Next, a sputtering film is formed on the above flattening layer by sputtering using a Si 3 N 4 target (3N) with an argon gas introduction amount of 40 sccm, an RF power of 430 kW, a substrate temperature of 100 ° C., and a thickness of 150 nm. A silicon oxynitride film was laminated to form a transparent gas barrier layer.
（透明層の形成）
次に、上記バリア層上に、エポキシ系熱硬化性樹脂（新日鐵化学社製、品名：「Ｖ−２５９ＥＨ／２１０Ｘ６」）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した透明層形成用塗布液を調整し、スピンコート法により塗布し、温度１２０℃で５分間のプリベイクを行った後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行って、透明基板上の全体を覆う透明層を形成した。
上記の結果、透明基板上に、カラーフィルター層、色変換層、平坦化層の順に積層された光学フィルターの平坦化層上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層を真空成膜法で形成し、さらにウェット塗布法により透明層を積層して形成した光学フィルターが得られた。
(Formation of transparent layer)
Next, a coating solution for forming a transparent layer is prepared by diluting an epoxy thermosetting resin (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., product name: “V-259EH / 210X6”) with propylene glycol monomethyl ether acetate on the barrier layer. Then, after applying by spin coating and pre-baking at a temperature of 120 ° C. for 5 minutes, post-baking at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes was performed to form a transparent layer covering the entire transparent substrate.
As a result of the above, a transparent gas barrier layer having a high gas barrier property is formed on the transparent substrate by a vacuum film formation method on the flattening layer of the optical filter laminated in the order of the color filter layer, the color conversion layer, and the flattening layer. Furthermore, an optical filter formed by laminating a transparent layer by a wet coating method was obtained.
（第１電極層の形成）
次いで、上記の光学フィルターの透明層上にイオンプレーティング法により膜厚１５０ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、第１電極層第１電極層（透明電極層）を形成した。
(Formation of first electrode layer)
Next, an indium tin oxide (ITO) electrode film having a film thickness of 150 nm is formed by ion plating on the transparent layer of the optical filter, a photosensitive resist is applied on the ITO electrode film, mask exposure, development, The ITO electrode film was etched to form a first electrode layer and a first electrode layer (transparent electrode layer).
（補助電極の形成）
次に、上記の透明電極層を覆うように透明バリア層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。この補助電極は、透明基板上から色変換蛍光体層上に乗り上げるように透明電極層上に形成されたストライプ上のパターンであった。
(Formation of auxiliary electrode)
Next, a chromium thin film (thickness 0.2 μm) is formed by sputtering on the entire surface of the transparent barrier layer so as to cover the transparent electrode layer, a photosensitive resist is applied on the chromium thin film, mask exposure, development Then, the chromium thin film was etched to form an auxiliary electrode. This auxiliary electrode was a pattern on a stripe formed on the transparent electrode layer so as to run on the color conversion phosphor layer from the transparent substrate.
（絶縁層と隔壁部の形成）
平均分子量が約１０００００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ社製：ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈した透明保護層用塗布液を使用し、スピンコート法により透明電極層を覆うように透明バリア層上に塗布した後、ベーク（１００℃、３０分）を行って絶縁膜（厚み１μｍ）を形成した。次に、この絶縁膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、絶縁膜のエッチングを行って絶縁層を形成した。この絶縁層は、透明電極層と直角に交差するストライプ状（幅２０μｍ）のパターンであり、ブラックマトリクス層の遮光部上に位置するものとした。
次に、隔壁部用塗料（日本ゼオン社製フォトレジスト：ＺＰＮ１１００）をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク（７０℃、３０分間）を行った。その後、所定の隔壁部用フォトマスクを用いて露光し、現像液（日本ゼオン社製：ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、絶縁層上に隔壁部を形成した。この隔壁部は、高さ１０μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅２６μｍである形状を有するものであった。
(Formation of insulating layer and partition wall)
Using a coating solution for transparent protective layer in which norbornene-based resin (manufactured by JSR: ARTON) having an average molecular weight of about 100,000 was diluted with toluene, it was applied on the transparent barrier layer so as to cover the transparent electrode layer by spin coating. Then, baking (100 degreeC, 30 minutes) was performed, and the insulating film (
Next, the partition wall coating material (photograph made by Nippon Zeon Co., Ltd .: ZPN1100) was applied to the entire surface so as to cover the insulating layer by spin coating, and prebaked (70 ° C., 30 minutes). Then, it exposed using the predetermined photomask for partition parts, developed with the developing solution (Nippon-Zeon company make: ZTMA-100), and then post-baked (100 degreeC, 30 minutes). Thereby, the partition part was formed on the insulating layer. The partition wall had a shape with a height of 10 μm, a lower portion (insulating layer side) width of 15 μm, and an upper portion width of 26 μm.
（青色有機発光層の形成）
次いで、上記の隔壁部をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、発光層、電子注入層からなる青色有機発光層を形成した。
すなわち、まず４，４’，４”―トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを、画像表示領域に相当する開口部を備えたフォトマスクを介して２００ｎｍまで蒸着して成膜し、その後４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁部がマスクパターンとなり、各隔壁部間のみを正孔注入層材料が通過して透明電極層上に正孔注入層が形成された。同様にして、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜することにより発光層とした。その後、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とした。このようにして形成された青色有機発光層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして各隔壁部間に存在するものであり、隔壁部の上部表面にも同様の層構成でダミーの青色有機発光層が形成された。
(Formation of blue organic light-emitting layer)
Next, a blue organic light emitting layer composed of a hole injection layer, a light emitting layer, and an electron injection layer was formed by vacuum deposition using the partition wall as a mask.
That is, first, 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine is added to 200 nm through a photomask having an opening corresponding to the image display region. By vapor-depositing to form a film, and then depositing 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl to a thickness of 20 nm, the partition wall becomes a mask pattern. The hole injection layer material passed only between the partition walls to form a hole injection layer on the transparent electrode layer, and in the same manner, 4,4′-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl up to 50 nm. A light emitting layer was formed by vapor deposition, and then an electron injection layer was formed by vapor deposition of tris (8-quinolinol) aluminum to a thickness of 20 nm. Color organic light-emitting layer, which exists between the partition wall as a band-shaped pattern with a width of 280 .mu.m, the blue organic light-emitting layer of the dummy in the same layer configuration to the top surface of the partition wall portion is formed.
（第２電極層の形成）
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたフォトマスクを介して、上記の隔壁部が形成されている領域に、真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜した。これにより、隔壁部がマスクとなって、マグネシウム／銀化合物からなる厚み２００ｎｍの第２電極層（背面電極層）を青色有機ＥＬ素子層上に形成した。この背面電極層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして青色有機発光層上に存在するものであり、隔壁部の上部表面にもダミーの背面電極層が形成された。以上の方法により、有機ＥＬ素子を得た。
(Formation of second electrode layer)
Next, magnesium and silver are simultaneously vapor-deposited in a region where the partition wall is formed through a photomask having a predetermined opening wider than the image display region by a vacuum vapor deposition method (magnesium vapor deposition rate = The film was formed at a rate of 1.3 to 1.4 nm / second and a silver deposition rate of 0.1 nm / second. Thereby, the partition wall portion was used as a mask to form a second electrode layer (back electrode layer) made of magnesium / silver compound with a thickness of 200 nm on the blue organic EL element layer. This back electrode layer exists on the blue organic light emitting layer as a band-like pattern having a width of 280 μm, and a dummy back electrode layer was also formed on the upper surface of the partition wall. The organic EL element was obtained by the above method.
（有機ＥＬディスプレイ）
上記の有機ＥＬ素子を封止し、有機ＥＬディスプレイを得た。この有機ＥＬディスプレイの透明電極層と背面電極層に直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ2 の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の青色有機発光層を発光させた。
発光部の任意の５mm×５mm領域を光学顕微鏡にて観察したところ、１０μm以上の非発光部は観察されず、ダークエリアによる不良発生がない、高品質の三原色画像表示が可能な有機ＥＬディスプレイが得られた。
(Organic EL display)
Said organic EL element was sealed and the organic EL display was obtained. Desirable that the transparent electrode layer and the back electrode layer intersect each other by applying a voltage of DC 8.5 V to the transparent electrode layer and the back electrode layer of this organic EL display at a constant current density of 10 mA / cm 2 and driving them continuously. The blue organic light-emitting layer in the portion was caused to emit light.
When an arbitrary 5 mm × 5 mm area of the light emitting part is observed with an optical microscope, a non-light emitting part of 10 μm or more is not observed, and there is no defect caused by a dark area, and an organic EL display capable of displaying a high-quality three primary color image is obtained. Obtained.
（実施例２）
実施例１と同様にして、透明層を形成する樹脂のみを変えた光学フィルターを作製した。すなわち、実施例１と同じ条件で、透明基板上に、ブラックマトリクス層、カラーフィルター層、色変換層、平坦化層、ガスバリア層を形成し、次に、ガスバリア層上に、平均分子量が約１０００００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ社製：ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈した透明層形成用塗布液を調整し、スピンコート法により塗布し、温度８０℃で５分間のプリベイクを行った後、温度１００℃で６０分間のポストベイクを行って、透明基板上の全体を覆う透明層を形成した。
上記の結果、透明基板上に、カラーフィルター層、色変換層、平坦化層の順に積層された光学フィルターの平坦化層上に、ガスバリア性の高い透明なガスバリア層を真空成膜法で形成し、さらにウェット塗布法により透明層を積層して形成した光学フィルターが得られた。
この光学フィルターを用い、実施例１と同様に、有機ＥＬディスプレイを作製して発光させたところ、ダークエリアによる不良が生じない高品質の画像表示が得られた。
(Example 2)
In the same manner as in Example 1, an optical filter in which only the resin forming the transparent layer was changed was produced. That is, under the same conditions as in Example 1, a black matrix layer, a color filter layer, a color conversion layer, a planarization layer, and a gas barrier layer are formed on a transparent substrate, and then the average molecular weight is about 100,000 on the gas barrier layer. A coating solution for forming a transparent layer obtained by diluting a norbornene-based resin (manufactured by JSR: ARTON) with toluene was prepared, applied by spin coating, prebaked at a temperature of 80 ° C. for 5 minutes, and then at a temperature of 100 ° C. And post-baking for 60 minutes to form a transparent layer covering the entire transparent substrate.
As a result of the above, a transparent gas barrier layer having a high gas barrier property is formed on the transparent substrate by a vacuum film formation method on the flattening layer of the optical filter laminated in the order of the color filter layer, the color conversion layer, and the flattening layer. Furthermore, an optical filter formed by laminating a transparent layer by a wet coating method was obtained.
Using this optical filter, as in Example 1, an organic EL display was produced and emitted light. As a result, a high-quality image display free from defects due to dark areas was obtained.
（比較例）
実施例１および実施例２と同様にして、比較例としての有機ＥＬディスプレイを作製した。ただし、比較例の有機ＥＬディスプレイは、ウェット塗布による透明層の形成を省き、透明層を有さない光学フィルターを用いた。この有機ＥＬディスプレイの透明電極層と背面電極層に、実施例と同じく、直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ2 の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の青色有機発光層を発光させた。
この比較例とした有機ＥＬディスプレイにおいて、発光部の任意の５mm×５mm領域を光学顕微鏡にて観察し、１０μm以上の非発光部を数えたところ、平均１５〜３０箇所の非発光部が観察された。
(Comparative example)
In the same manner as in Example 1 and Example 2, an organic EL display as a comparative example was produced. However, in the organic EL display of the comparative example, the formation of the transparent layer by wet coating was omitted, and an optical filter having no transparent layer was used. By applying a direct current voltage of 8.5 V to the transparent electrode layer and the back electrode layer of this organic EL display at a constant current density of 10 mA / cm 2 and driving them continuously, the transparent electrode layer and the back electrode layer The blue organic light emitting layer at a desired position where the layer intersects was caused to emit light.
In this organic EL display as a comparative example, an arbitrary 5 mm × 5 mm region of the light emitting part was observed with an optical microscope, and when 10 μm or more of non-light emitting parts were counted, an average of 15 to 30 non-light emitting parts were observed. It was.
１ 透明基板
２ ブラックマトリクス層
３ カラーフィルター層
４ 色変換層
５ 平坦化層
６ ガスバリア層
７ 透明層
１０ 光学フィルター
２０ 有機ＥＬディスプレイ
２１ 有機ＥＬ素子
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記カラーフィルター層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、
前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で全体を覆って積層し、前記ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて形成する工程と、
を含み、前記ガスバリア層を通過したガスを前記透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくしたことを特徴とする光学フィルターの製造方法。 A method for producing an optical filter for an organic EL element in which at least a color filter layer for color correcting incident light for each pixel is formed on a transparent substrate,
Forming a transparent gas barrier layer on the color filter layer by a vacuum film formation method;
A step of forming a transparent layer on the gas barrier layer so as to cover the whole by a wet coating method and filling pinholes and protrusions of the gas barrier layer;
Only including, a manufacturing method of an optical filter, characterized in that it eliminates the passage of local gas by the gas passing through the gas barrier layer be diffused in the transparent layer.
前記色変換層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、
前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で全体を覆って積層し、前記ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて形成する工程と、
を含み、前記ガスバリア層を通過したガスを前記透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくしたことを特徴とする光学フィルターの製造方法。 A method for producing an optical filter for an organic EL element in which at least a color conversion layer for color-converting incident light for each pixel is formed on a transparent substrate,
Forming a transparent gas barrier layer on the color conversion layer by a vacuum film-forming method;
A step of forming a transparent layer on the gas barrier layer so as to cover the whole by a wet coating method and filling pinholes and protrusions of the gas barrier layer;
Only including, method of manufacturing the optical filter, characterized in that it eliminates the passage of local gas by the gas passing through the gas barrier layer be diffused in the transparent layer.
前記色変換層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、
前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で全体を覆って積層し、前記ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて形成する工程と、
を含み、前記ガスバリア層を通過したガスを前記透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくしたことを特徴とする光学フィルターの製造方法。 An optical filter for an organic EL element in which at least two layers of a color filter layer for color correcting incident light for each pixel and a color conversion layer for color converting incident light for each pixel are laminated in this order on a transparent substrate. A manufacturing method of
Forming a transparent gas barrier layer on the color conversion layer by a vacuum film-forming method;
A step of forming a transparent layer on the gas barrier layer so as to cover the whole by a wet coating method and filling pinholes and protrusions of the gas barrier layer;
Only including, a manufacturing method of an optical filter, characterized in that it eliminates the passage of local gas by the gas passing through the gas barrier layer be diffused in the transparent layer.
前記カラーフィルター層または前記色変換層の上に平坦化層を形成する工程と、
前記平坦化層の上に透明なガスバリア層を真空成膜法で形成する工程と、
前記ガスバリア層の上に透明層をウェット塗布法で全体を覆って積層し、前記ガスバリア層のピンホールや突起を埋めて形成する工程と、
を含み、前記ガスバリア層を通過したガスを前記透明層で拡散させることにより局所的なガスの通過をなくしたことを特徴とする光学フィルターの製造方法。 In the manufacturing method of the optical filter in any one of Claims 1-3,
Forming a planarization layer on the color filter layer or the color conversion layer;
Forming a transparent gas barrier layer on the planarizing layer by a vacuum film formation method;
A step of forming a transparent layer on the gas barrier layer so as to cover the whole by a wet coating method and filling pinholes and protrusions of the gas barrier layer;
Only including, a manufacturing method of an optical filter, characterized in that it eliminates the passage of local gas by the gas passing through the gas barrier layer be diffused in the transparent layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004228572A JP4662432B2 (en) | 2004-08-04 | 2004-08-04 | Optical filter manufacturing method and organic EL display using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004228572A JP4662432B2 (en) | 2004-08-04 | 2004-08-04 | Optical filter manufacturing method and organic EL display using the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006047689A JP2006047689A (en) | 2006-02-16 |
| JP4662432B2 true JP4662432B2 (en) | 2011-03-30 |
Family
ID=36026313
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004228572A Expired - Fee Related JP4662432B2 (en) | 2004-08-04 | 2004-08-04 | Optical filter manufacturing method and organic EL display using the same |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4662432B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150255749A1 (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-10 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Gas permeation barriers and methods of making the same |
| US20150255759A1 (en) * | 2014-03-10 | 2015-09-10 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Hybrid barrier stacks and methods of making the same |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04151104A (en) * | 1990-10-15 | 1992-05-25 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for preventing discoloration of colored layer of color filter |
| JP2002333507A (en) * | 2001-03-07 | 2002-11-22 | Nitto Denko Corp | Resin sheet with attached color filter, method for manufacturing the same and liquid crystal display device |
| JP2003059643A (en) * | 2001-08-22 | 2003-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Electroluminescence element |
| JP2003229270A (en) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Organic electroluminescent image display device |
| JP2003229271A (en) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Organic electroluminescent image display device and manufacturing method of the same |
| JP2004273317A (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Tdk Corp | Organic el display device, manufacturing method and manufacturing device of the same |
-
2004
- 2004-08-04 JP JP2004228572A patent/JP4662432B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04151104A (en) * | 1990-10-15 | 1992-05-25 | Dainippon Printing Co Ltd | Method for preventing discoloration of colored layer of color filter |
| JP2002333507A (en) * | 2001-03-07 | 2002-11-22 | Nitto Denko Corp | Resin sheet with attached color filter, method for manufacturing the same and liquid crystal display device |
| JP2003059643A (en) * | 2001-08-22 | 2003-02-28 | Dainippon Printing Co Ltd | Electroluminescence element |
| JP2003229270A (en) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Organic electroluminescent image display device |
| JP2003229271A (en) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Dainippon Printing Co Ltd | Organic electroluminescent image display device and manufacturing method of the same |
| JP2004273317A (en) * | 2003-03-10 | 2004-09-30 | Tdk Corp | Organic el display device, manufacturing method and manufacturing device of the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2006047689A (en) | 2006-02-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7368863B2 (en) | Optical filter and organic EL display using the same | |
| KR101288687B1 (en) | Color Filter Substrate for Organic EL Element | |
| US20030062520A1 (en) | Light emitting device and manufacturing method thereof and display used this light emitting device | |
| JP5625448B2 (en) | Method for manufacturing organic EL element and organic EL image display device | |
| JP2007207656A (en) | Organic el-display | |
| JP5034220B2 (en) | Color filter substrate for organic electroluminescence device | |
| JP4447269B2 (en) | Optical filter and organic EL display using gas barrier film | |
| JP5194353B2 (en) | Color filter substrate for organic electroluminescence device | |
| JP4618562B2 (en) | Manufacturing method of organic EL display | |
| JP4578573B2 (en) | Color filter substrate for organic electroluminescent device | |
| JP2005050552A (en) | Organic el display device | |
| JP4699249B2 (en) | Color filter substrate for organic electroluminescence device | |
| JP2007280718A (en) | Color filter for organic electroluminescent element | |
| JP4662432B2 (en) | Optical filter manufacturing method and organic EL display using the same | |
| JP2008305730A (en) | Manufacturing method for multicolor light-emitting device | |
| JP2006228578A (en) | Color filter base plate for organic electroluminescent element | |
| JP2007273327A (en) | Organic electroluminescent display device | |
| JP3861821B2 (en) | Organic EL display panel and manufacturing method thereof | |
| JP2010060938A (en) | Color filter for organic electroluminescent display device, and organic electroluminescent display device | |
| JP2007280791A (en) | Color filter for organic electroluminescent element | |
| JP2010072106A (en) | Color filter for organic electroluminescence display device and the organic electroluminescence display device | |
| JP3456638B2 (en) | Fluorescent color conversion film, fluorescent color conversion film filter using the fluorescent color conversion film, and organic light emitting device including the fluorescent color conversion film filter | |
| JP2006286225A (en) | Organic electroluminescent image display device | |
| JP5126653B2 (en) | Electroluminescence element | |
| JP2006106448A (en) | Optical filter and organic el display using the optical filter |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070608 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100209 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100325 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100909 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101108 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20101115 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101222 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101228 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4662432 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 3 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |