JP4699249B2 - Color filter substrate for organic electroluminescence device - Google Patents

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Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(以下、ELと略す。)表示装置に用いられる有機EL素子用カラーフィルタ基板に関するものである。   The present invention relates to a color filter substrate for an organic EL element used in an organic electroluminescence (hereinafter abbreviated as EL) display device.

有機EL素子は、原理的には、陽極と陰極との間に発光層を挟んだ構造を有するものである。実際に、有機EL素子を用いて有機EL表示装置を構成する際には、(1)三原色の各色をそれぞれ発光する発光層を配列する方式、(2)白色発光する発光層と、三原色の着色層とを組み合わせるカラーフィルタ方式、ならびに(3)青色発光する発光層と、青色系から緑色系、および青色系から赤色系にそれぞれ変換する色変換層とを組み合わせる色変換方式等がある。   In principle, the organic EL element has a structure in which a light emitting layer is sandwiched between an anode and a cathode. Actually, when an organic EL display device is configured using organic EL elements, (1) a method of arranging light emitting layers that emit light of each of the three primary colors, and (2) a light emitting layer that emits white light, and coloring of the three primary colors. There are a color filter system combining layers, and (3) a color conversion system combining a light emitting layer emitting blue light and a color conversion layer converting blue to green, and blue to red.

上記(1)の方式では、各色をそれぞれ発光する発光層の特性を揃える必要があり、また高精細なパターニングが困難であるという問題がある。そこで、上記(2)のカラーフィルタ方式および上記(3)の色変換方式が注目されている。これらの方式は、単一種類の発光層のみを使用すれば足りるので、上記(1)の方式のような不具合はない。   In the method (1), it is necessary to make the characteristics of the light emitting layers that emit light of the respective colors uniform, and there is a problem that high-definition patterning is difficult. Therefore, the color filter method (2) and the color conversion method (3) are attracting attention. Since these methods need only use a single type of light-emitting layer, there is no problem like the method (1).

上記(2)のカラーフィルタ方式に用いられる白色発光する発光層を得る方法に関しては盛んに研究が行われており、例えば白色発光する発光材料を用いる方法、または複数色の発光材料を用いる方法などが提案されている。このうち、白色発光する発光材料は少ないことから、複数色の発光材料を用いる方法が主流となっている。   Research has been actively conducted on a method for obtaining a light emitting layer that emits white light used in the color filter method of (2), for example, a method using a light emitting material that emits white light, or a method using light emitting materials of a plurality of colors. Has been proposed. Among these, since there are few light emitting materials which emit white light, a method using a light emitting material of a plurality of colors has become the mainstream.

複数色の発光材料を使用する場合は、三色の発光材料を使用する場合と、二色の発光材料を使用する場合とがある。二色の発光材料を使用する場合は、(1)青色系発光材料および黄色系発光材料、(2)青緑色系発光材料および橙色系発光材料、(3)緑色系発光材料および赤色系発光材料、などを選択することが知られている(例えば、特許文献1参照)。例えば青色系発光材料および黄色系発光材料を用いた場合、得られる白色光の発光スペクトルは、青色領域および緑色領域にそれぞれ発光ピークをもつ。このため、このような白色光が着色層を透過した場合、実際には青色光および緑色光が強く観察され、赤色光が弱く観察されることとなるので、三原色の色特性のバランスが悪いという問題があった。   When using a light emitting material of a plurality of colors, there are a case of using a light emitting material of three colors and a case of using a light emitting material of two colors. When two-color light emitting materials are used, (1) blue light emitting materials and yellow light emitting materials, (2) blue green light emitting materials and orange light emitting materials, and (3) green light emitting materials and red light emitting materials. , Etc. are known (see, for example, Patent Document 1). For example, when a blue light emitting material and a yellow light emitting material are used, the obtained white light emission spectrum has emission peaks in the blue region and the green region, respectively. For this reason, when such white light is transmitted through the colored layer, blue light and green light are actually observed strongly, and red light is observed weakly. Therefore, the balance of the color characteristics of the three primary colors is poor. There was a problem.

特開2004−288624公報JP 2004-288624 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、白色発光層を有する有機EL表示装置に適用可能であり、三原色の色特性のバランスに優れる有機EL素子用カラーフィルタ基板を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and can be applied to an organic EL display device having a white light emitting layer, and provides a color filter substrate for an organic EL element that has an excellent balance of color characteristics of three primary colors. The main purpose.

本発明は、上記目的を達成するために、透明基材と、上記透明基材上にパターン状に形成され、赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を有する着色層と、上記赤色着色部上に形成された赤色色変換部を少なくとも有する色変換層とを有する有機EL素子用カラーフィルタ基板であって、上記赤色色変換部の面積が、上記緑色着色部上に形成される緑色色変換部および上記青色着色部上に形成される青色色変換部の各々の面積よりも大きいことを特徴とする有機EL素子用カラーフィルタ基板を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a transparent base material, a colored layer formed in a pattern on the transparent base material, and having a red colored portion, a green colored portion and a blue colored portion, and the red colored portion. A color filter substrate for an organic EL device having a color conversion layer having at least a red color conversion part formed thereon, wherein the area of the red color conversion part is formed on the green color part There is provided a color filter substrate for an organic EL element, which is larger than each area of the blue color conversion part formed on the part and the blue coloring part.

本発明によれば、有機EL素子用カラーフィルタ基板を例えば白色発光層を有する有機EL表示装置に用いる場合であって、白色発光層からの白色発光が青色光および緑色光から構成され赤色光の成分が少ない場合には、入射光を赤色光に変換する赤色色変換部を形成し、この赤色色変換部の面積を緑色色変換部および青色色変換部の各々の面積よりも大きくすることにより、赤色光の成分を多くすることができる。したがって、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いることにより、三原色の色特性のバランスに優れる有機EL表示装置を提供することが可能である。   According to the present invention, when a color filter substrate for an organic EL element is used for an organic EL display device having a white light emitting layer, for example, white light emission from the white light emitting layer is composed of blue light and green light, and red light is emitted. When the component is small, a red color conversion unit that converts incident light into red light is formed, and the area of the red color conversion unit is made larger than the area of each of the green color conversion unit and the blue color conversion unit. The red light component can be increased. Therefore, by using the color filter substrate for an organic EL element of the present invention, it is possible to provide an organic EL display device excellent in the balance of the color characteristics of the three primary colors.

上記発明においては、上記緑色色変換部および上記青色色変換部が形成されていないことが好ましい。すなわち、色変換層が、赤色着色部上に形成された赤色色変換部のみを有することが好ましい。パターニング工程を繰り返し行う必要がなく、コスト的に有利であり製造工程が簡便となるからである。   In the said invention, it is preferable that the said green color conversion part and the said blue color conversion part are not formed. That is, it is preferable that the color conversion layer has only a red color conversion part formed on the red coloring part. This is because it is not necessary to repeat the patterning process, which is advantageous in terms of cost and simplifies the manufacturing process.

この場合、上記赤色着色部および上記赤色色変換部を合わせた厚みと、上記緑色着色部の厚みと、上記青色着色部の厚みとの差が、2.0μm以下であることが好ましい。上記の厚みの差が大きすぎると、着色層および色変換層の構成による段差(凹凸)が大きくなり、その表面を平坦化するのが困難となるからである。   In this case, it is preferable that the difference between the combined thickness of the red colored portion and the red color converting portion, the thickness of the green colored portion, and the thickness of the blue colored portion is 2.0 μm or less. This is because if the difference in thickness is too large, a step (unevenness) due to the configuration of the colored layer and the color conversion layer becomes large, and it becomes difficult to flatten the surface.

またこの場合、上記赤色着色部および上記赤色色変換部を合わせた厚みと、上記緑色着色部の厚みと、上記青色着色部の厚みとが、1μm〜5μmの範囲内であることが好ましい。厚みが厚すぎる緑色着色部および青色着色部を形成するのは困難であり、また厚みが薄すぎる赤色色変換部を形成するのも困難であるからである。特に、厚みの薄い赤色色変換部を形成するために赤色色変換部中の赤色変換蛍光体の濃度を濃くしすぎると濃度消光が生じるおそれがある。   In this case, it is preferable that the combined thickness of the red colored portion and the red color converting portion, the thickness of the green colored portion, and the thickness of the blue colored portion are in the range of 1 μm to 5 μm. This is because it is difficult to form a green colored portion and a blue colored portion that are too thick, and it is also difficult to form a red color conversion portion that is too thin. In particular, if the concentration of the red conversion phosphor in the red color conversion portion is too high in order to form a thin red color conversion portion, concentration quenching may occur.

さらに本発明においては、上記緑色着色部上に赤色色変換部が形成されていてもよい。赤色色変換部から発せられた赤色光のうちほとんどは緑色着色部を透過することができないが、赤色光の短波長側の成分は緑色光の長波長側の成分として緑色着色部を透過することができるので、このような構成とすることにより色相の調整を図ることができるからである。   Furthermore, in this invention, the red color conversion part may be formed on the said green coloring part. Most of the red light emitted from the red color converter cannot pass through the green colored part, but the short wavelength component of the red light passes through the green colored part as the long wavelength component of the green light. This is because the hue can be adjusted with such a configuration.

さらに本発明においては、上記色変換層上に平坦化層が形成されていることが好ましい。平坦化層が形成されていることにより、着色層や色変換層を保護することができるからである。また、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を有機EL表示装置に用いた場合には、透明電極層形成時の影響を低減し、有機EL層形成時の厚みムラの発生を防止することができるからである。   Furthermore, in the present invention, it is preferable that a planarizing layer is formed on the color conversion layer. This is because the colored layer and the color conversion layer can be protected by forming the planarizing layer. Moreover, when the color filter substrate for organic EL elements of the present invention is used in an organic EL display device, it is possible to reduce the influence at the time of forming the transparent electrode layer and prevent the occurrence of thickness unevenness at the time of forming the organic EL layer. Because it can.

また本発明においては、上記色変換層上にガスバリア層が形成されていることが好ましい。ガスバリア層が形成されていることにより、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を有機EL表示装置に用いた場合、水蒸気、酸素、または着色層や色変換層等からの脱離ガス等に弱い部材である有機EL層を、このようなガスから保護することができるからである。   In the present invention, a gas barrier layer is preferably formed on the color conversion layer. Due to the formation of the gas barrier layer, when the color filter substrate for organic EL elements of the present invention is used in an organic EL display device, it is vulnerable to water vapor, oxygen, or desorbed gas from a colored layer, a color conversion layer, or the like. This is because the organic EL layer as a member can be protected from such a gas.

さらに本発明においては、上記透明基材上の上記各着色部の間に遮光部が形成されていてもよい。遮光部が形成されていることにより、各画素毎に発光する区域を区画すると共に、発光する区域どうしの境界における外光の反射を防止し、コントラストを高めることができるからである。   Furthermore, in this invention, the light shielding part may be formed between each said colored part on the said transparent base material. This is because the formation of the light-shielding portion partitions areas that emit light for each pixel, prevents reflection of external light at the boundaries between the areas that emit light, and increases contrast.

本発明は、また、上述した有機EL素子用カラーフィルタ基板と、上記有機EL素子用カラーフィルタ基板の色変換層側表面上に形成された透明電極層と、上記透明電極層上に形成され、二色発光光源により白色発光する白色発光層を少なくとも含む有機EL層と、上記有機EL層上に形成された対向電極層とを有することを特徴とする有機EL表示装置を提供する。   The present invention is also formed on the transparent electrode layer, the color filter substrate for organic EL elements described above, the transparent electrode layer formed on the color conversion layer side surface of the color filter substrate for organic EL elements, An organic EL display device comprising an organic EL layer including at least a white light emitting layer that emits white light from a two-color light source, and a counter electrode layer formed on the organic EL layer.

本発明の有機EL表示装置は、白色発光する白色発光層を有するものであるが、上述した有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いるので、三原色の色特性のバランスに優れるという利点を有する。   The organic EL display device of the present invention has a white light-emitting layer that emits white light. However, since the above-described color filter substrate for an organic EL element is used, the organic EL display device has an advantage of excellent balance of color characteristics of the three primary colors.

本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を例えば白色発光する白色発光層を有する有機EL表示装置に用いた場合であって、白色発光が青色光および緑色光から構成され赤色光の成分が少ない場合には、赤色色変換部の面積を緑色色変換部および青色色変換部の各々の面積よりも大きくすることにより、赤色光の成分を多くすることができる。したがって、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いた有機EL表示装置では、三原色の色特性のバランスに優れるという効果を奏する。   When the color filter substrate for an organic EL element of the present invention is used for an organic EL display device having a white light emitting layer that emits white light, for example, the white light emission is composed of blue light and green light, and the red light component is small. In this case, the red light component can be increased by making the area of the red color conversion unit larger than the area of each of the green color conversion unit and the blue color conversion unit. Therefore, in the organic EL display device using the color filter substrate for organic EL elements of the present invention, there is an effect that the balance of the color characteristics of the three primary colors is excellent.

以下、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板、およびそれを用いた有機EL表示装置について詳細に説明する。   Hereinafter, the color filter substrate for organic EL elements of the present invention and the organic EL display device using the same will be described in detail.

A.有機EL素子用カラーフィルタ基板
本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板は、透明基材と、上記透明基材上にパターン状に形成され、赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を有する着色層と、上記赤色着色部上に形成された赤色色変換部を少なくとも有する色変換層とを有する有機EL素子用カラーフィルタ基板であって、上記赤色色変換部の面積が、上記緑色着色部上に形成される緑色色変換部および上記青色着色部上に形成される青色色変換部の各々の面積よりも大きいことを特徴とするものである。
A. Color filter substrate for organic EL elements The color filter substrate for organic EL elements of the present invention is formed in a pattern on a transparent base material and the transparent base material, and has a red coloring portion, a green coloring portion, and a blue coloring portion. A color filter substrate for an organic EL element having a layer and a color conversion layer having at least a red color conversion part formed on the red color part, wherein the area of the red color conversion part is on the green color part It is characterized by being larger than the area of each of the green color conversion portion formed on the blue color conversion portion and the blue color conversion portion formed on the blue coloring portion.

本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板の一例を示す概略断面図である。図1に示すように有機EL素子用カラーフィルタ基板10においては、透明基材1上に、赤色着色部2R、緑色着色部2Gおよび青色着色部2Bから構成される着色層2と、赤色着色部2R上に形成された赤色色変換部3R、および緑色着色部2G上に形成された緑色色変換部3Gから構成される色変換層3とが順次形成され、この着色層2および色変換層3を覆うように平坦化層5が形成されている。着色層2の各着色部2R、2G、2Bの間に遮光部4が形成されている。また、赤色色変換部3Rの面積は、緑色色変換部3Gの面積よりも大きい。
The color filter substrate for organic EL elements of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of a color filter substrate for an organic EL element of the present invention. As shown in FIG. 1, in the color filter substrate 10 for organic EL elements, on the transparent substrate 1, a colored layer 2 composed of a red colored portion 2R, a green colored portion 2G, and a blue colored portion 2B, and a red colored portion A red color conversion unit 3R formed on 2R and a color conversion layer 3 composed of a green color conversion unit 3G formed on the green coloring unit 2G are sequentially formed. The coloring layer 2 and the color conversion layer 3 A planarization layer 5 is formed so as to cover the surface. A light shielding portion 4 is formed between the colored portions 2R, 2G, and 2B of the colored layer 2. Further, the area of the red color conversion unit 3R is larger than the area of the green color conversion unit 3G.

このような有機EL素子用カラーフィルタ基板を例えば白色発光層を有する有機EL表示装置に用いる場合には、平坦化層5の上に透明電極層、白色発光層および対向電極層が順次積層される。例えば白色発光層から発せられる白色光が青色光および緑色光から構成され赤色光の成分が少ない場合、この白色光が着色層を透過すると赤色光が弱く観察される。これに対し本発明においては、入射光を赤色光に変換する赤色色変換部3Rの面積を緑色色変換部3Gの面積よりも大きくすることにより、赤色光の成分を増やすことができる。したがって、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いることにより、三原色の色特性のバランスに優れる有機EL表示装置を提供することが可能である。   When such a color filter substrate for an organic EL element is used for an organic EL display device having a white light emitting layer, for example, a transparent electrode layer, a white light emitting layer and a counter electrode layer are sequentially laminated on the planarizing layer 5. . For example, when the white light emitted from the white light emitting layer is composed of blue light and green light and the red light component is small, the red light is observed weakly when the white light passes through the colored layer. On the other hand, in the present invention, the red light component can be increased by making the area of the red color conversion unit 3R that converts incident light into red light larger than the area of the green color conversion unit 3G. Therefore, by using the color filter substrate for an organic EL element of the present invention, it is possible to provide an organic EL display device excellent in the balance of the color characteristics of the three primary colors.

また本発明においては、赤色色変換部の面積が緑色色変換部および青色色変換部の各々の面積よりも大きければ、緑色色変換部および青色色変換部の各々の面積としては特に限定されるものではない。また、上述したように、白色発光層から発せられる白色光は緑色光および青色光の成分を含むので、原則的には緑色色変換部および青色色変換部は色変換を行う必要がない。したがって、緑色色変換部および青色色変換部は、形成されていてもよく形成されていなくてもよい。緑色色変換部および青色色変換部が形成されている場合は、緑色および青色の色相を調整できるという利点がある。一方、緑色色変換部および青色色変換部が形成されていない場合は、赤色色変換部のみが形成されていればよいので、各色変換部をパターニングするために例えばフォトリソグラフィ法等を利用してパターニング工程を繰り返し行う必要がなく、コスト的に有利であり、製造工程が簡便であるという利点を有する。本発明においては、上記の中でも、緑色色変換部および青色色変換部が形成されていないことが好ましい。   In the present invention, if the area of the red color conversion unit is larger than the areas of the green color conversion unit and the blue color conversion unit, the areas of the green color conversion unit and the blue color conversion unit are particularly limited. It is not a thing. Further, as described above, since the white light emitted from the white light emitting layer includes components of green light and blue light, in principle, the green color conversion unit and the blue color conversion unit do not need to perform color conversion. Therefore, the green color conversion part and the blue color conversion part may or may not be formed. When the green color conversion unit and the blue color conversion unit are formed, there is an advantage that the hues of green and blue can be adjusted. On the other hand, when the green color conversion unit and the blue color conversion unit are not formed, only the red color conversion unit needs to be formed. Therefore, for example, a photolithography method is used to pattern each color conversion unit. There is no need to repeat the patterning step, which is advantageous in terms of cost and has an advantage that the manufacturing process is simple. In the present invention, among the above, it is preferable that the green color conversion portion and the blue color conversion portion are not formed.

緑色色変換部および青色色変換部が形成されていない場合、例えば図2に示すように、赤色着色部2Rおよび赤色色変換部3Rを合わせた厚みd1と、緑色着色部2Gの厚みd2と、青色着色部2Bの厚みd3との差hが、2.0μm以下であることが好ましく、より好ましくは0.5μm以下であり、最も好ましくは0.2μm以下である。上記の厚みの差が大きすぎると、着色層および色変換層の構成による段差(凹凸)が大きくなり、その表面を平坦化するのが困難となるからである。本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いて有機EL表示装置を作製する際には、色変換層側表面上に透明電極層や有機EL層が形成されることとなるので、着色層および色変換層の構成による表面凹凸が大きいとダークエリアの原因となるおそれがある。   When the green color conversion portion and the blue color conversion portion are not formed, for example, as shown in FIG. 2, the thickness d1 of the red coloring portion 2R and the red color conversion portion 3R, the thickness d2 of the green coloring portion 2G, The difference h from the thickness d3 of the blue colored portion 2B is preferably 2.0 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, and most preferably 0.2 μm or less. This is because if the difference in thickness is too large, a step (unevenness) due to the configuration of the colored layer and the color conversion layer becomes large, and it becomes difficult to flatten the surface. When an organic EL display device is produced using the color filter substrate for an organic EL element of the present invention, a transparent electrode layer and an organic EL layer are formed on the color conversion layer side surface. If the surface unevenness due to the configuration of the color conversion layer is large, it may cause dark areas.

一般に、着色層の厚みに比べて色変換層の厚みは大きい。本発明において上記の厚みの差を所定の範囲とするためには、例えば緑色着色部および青色着色部の厚みを厚くする、あるいは赤色色変換部の厚みを薄くすればよい。具体的には、各着色部中の着色剤の濃度を薄くすることにより緑色着色部および青色着色部の厚みを厚くすることができ、また赤色色変換部中の赤色変換蛍光体の濃度を濃くすることにより赤色色変換部の厚みを薄くすることができる。ただし、厚みが厚すぎる緑色着色部および青色着色部を形成するのは困難であり、また厚みが薄すぎる赤色色変換部を形成するのも困難である。特に、厚みの薄い赤色色変換部を形成するために赤色色変換部中の赤色変換蛍光体の濃度を濃くしすぎると濃度消光が生じるおそれがある。   In general, the thickness of the color conversion layer is larger than the thickness of the colored layer. In the present invention, in order to make the difference in thickness within a predetermined range, for example, the thickness of the green coloring portion and the blue coloring portion may be increased, or the thickness of the red color conversion portion may be decreased. Specifically, the thickness of the green coloring portion and the blue coloring portion can be increased by reducing the concentration of the colorant in each coloring portion, and the concentration of the red conversion phosphor in the red color conversion portion is increased. By doing so, the thickness of the red color conversion part can be reduced. However, it is difficult to form a green colored portion and a blue colored portion that are too thick, and it is also difficult to form a red color conversion portion that is too thin. In particular, if the concentration of the red conversion phosphor in the red color conversion portion is too high in order to form a thin red color conversion portion, concentration quenching may occur.

したがって、赤色着色部2Rおよび赤色色変換部3Rを合わせた厚みd1と、緑色着色部2Gの厚みd2と、青色着色部2Bの厚みd3とは、いずれも1μm〜5μmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは1μm〜3μmの範囲内である。   Accordingly, the total thickness d1 of the red coloring portion 2R and the red color conversion portion 3R, the thickness d2 of the green coloring portion 2G, and the thickness d3 of the blue coloring portion 2B are all in the range of 1 μm to 5 μm. More preferably, it exists in the range of 1 micrometer-3 micrometers.

以下、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板の各構成について説明する。   Hereinafter, each structure of the color filter substrate for organic EL elements of this invention is demonstrated.

1.色変換層
本発明に用いられる色変換層は、赤色着色部上に形成された赤色色変換部を少なくとも有するものである。また、この赤色色変換部の面積は、緑色着色部上に形成される緑色色変換部および青色着色部上に形成される青色色変換部の各々の面積よりも大きいものとなっている。
1. Color Conversion Layer The color conversion layer used in the present invention has at least a red color conversion portion formed on the red coloring portion. Moreover, the area of this red color conversion part is larger than each area of the green color conversion part formed on the green coloring part and the blue color conversion part formed on the blue coloring part.

各色変換部の面積比としては、赤色色変換部の面積が緑色色変換部および青色色変換部の各々の面積よりも大きければ特に限定されるものではない。
なお、ここでいう「面積」とは、透明基材表面に対して水平な面における面積をいう。また、赤色色変換部の面積が、緑色色変換部および青色色変換部の各々の面積よりも大きいことは、光学顕微鏡観察等により確認することができる。
The area ratio of the color conversion units is not particularly limited as long as the area of the red color conversion unit is larger than the areas of the green color conversion unit and the blue color conversion unit.
Here, the “area” means an area on a plane that is horizontal with respect to the transparent substrate surface. Further, it can be confirmed by observation with an optical microscope or the like that the area of the red color conversion unit is larger than the areas of the green color conversion unit and the blue color conversion unit.

また本発明においては、上述したように、緑色色変換部および青色色変換部が形成されていてもよく形成されていなくてもよい。   In the present invention, as described above, the green color conversion unit and the blue color conversion unit may or may not be formed.

緑色色変換部および青色色変換部が形成されている場合は、緑色色変換部および青色色変換部が緑色着色部および青色着色部上の一部にそれぞれ形成されていることにより、赤色色変換部の面積を緑色色変換部および青色色変換部の各々の面積よりも大きくすることができる。この場合、緑色色変換部および青色色変換部の形成位置としては各着色部上の一部であれば特に限定されるものではなく、例えば各着色部の中心に緑色色変換部や青色色変換部が形成されていてもよく、各着色部上に緑色色変換部や青色色変換部が片寄って形成されていてもよい。   When the green color conversion part and the blue color conversion part are formed, the green color conversion part and the blue color conversion part are respectively formed on part of the green color part and the blue color part, thereby converting the red color. The area of the part can be made larger than the areas of the green color conversion part and the blue color conversion part. In this case, the formation position of the green color conversion portion and the blue color conversion portion is not particularly limited as long as it is a part on each coloring portion. For example, the green color conversion portion or the blue color conversion is provided at the center of each coloring portion. A part may be formed, and a green color conversion part or a blue color conversion part may be formed on each colored part.

また、緑色色変換部および青色色変換部が形成されていない場合は、各着色部上に入射光を透過する透過部がそれぞれ形成されていてもよい。この透過部は、緑色着色部上に形成されている場合は緑色光を透過するものであり、青色着色部上に形成されている場合は青色光を透過するものである。   Moreover, when the green color conversion part and the blue color conversion part are not formed, the transmission part which permeate | transmits incident light may be formed on each coloring part, respectively. This transmissive part transmits green light when formed on the green colored part, and transmits blue light when formed on the blue colored part.

本発明においては、例えば図3に示すように緑色着色部2G上に赤色色変換部3Rが形成されていてもよい。赤色色変換部3Rから発せられた赤色光のうちほとんどは、緑色着色部2Gを透過することができないが、赤色光の短波長側の成分は緑色光の長波長側の成分として緑色着色部2Gを透過することができ、色相を調整することができるからである。   In the present invention, for example, a red color conversion portion 3R may be formed on the green coloring portion 2G as shown in FIG. Most of the red light emitted from the red color converter 3R cannot pass through the green colored portion 2G, but the short wavelength side component of the red light is used as the long wavelength side component of the green light. This is because the hue can be adjusted.

したがって、緑色着色部上には、緑色色変換部が形成されていてもよく、赤色色変換部が形成されていてもよく、緑色色変換部および赤色色変換部の両方が形成されていてもよく、緑色色変換部および赤色色変換部のいずれもが形成されていなくてもよい。   Therefore, a green color conversion portion may be formed on the green coloring portion, a red color conversion portion may be formed, or both the green color conversion portion and the red color conversion portion may be formed. In addition, neither the green color conversion unit nor the red color conversion unit may be formed.

本発明に用いられる赤色色変換部は、入射光を吸収して赤色の蛍光を発する赤色変換蛍光体が樹脂中に分散または溶解されたものである。   The red color conversion portion used in the present invention is obtained by dispersing or dissolving a red conversion phosphor that absorbs incident light and emits red fluorescence.

赤色変換蛍光体の具体例としては、4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン等のシアニン系色素;1−エチル-2-[4−(p−ジメチルアミノフェニル)−1,3−ブタジエニル]−ピリジウム−パークロレート等のピリジン系色素;ローダミンB、もしくはローダミン6G等のローダミン系色素;オキサジン系色素;ZnS:Mn、ZnS:Mn/ZnMgS等のZnS系蛍光体などの蛍光色素、あるいは、オレンジ顔料(例えばシンヒロイ社製 FA001(商品名))などの蛍光顔料等を例示することができる。   Specific examples of the red conversion phosphor include cyanine dyes such as 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran; 1-ethyl-2- [4- (p- Pyridine dyes such as dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridium-perchlorate; Rhodamine dyes such as rhodamine B or rhodamine 6G; Oxazine dyes; ZnS: Mn, ZnS: Mn / ZnMgS and other ZnS Fluorescent pigments such as phosphors or fluorescent pigments such as orange pigments (for example, FA001 (trade name) manufactured by Shinhiro Corporation) can be exemplified.

また、赤色変換蛍光体は、上記蛍光色素を、例えばポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化した蛍光顔料であってもよい。   In addition, the red conversion phosphor is obtained by combining the fluorescent dye with, for example, polymethacrylate, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, and It may be a fluorescent pigment kneaded in advance in these resin mixtures.

上記蛍光色素および蛍光顔料は、単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The fluorescent dyes and fluorescent pigments may be used alone or in combination of two or more in order to adjust the hue of fluorescence.

赤色色変換部に用いられる樹脂の具体例としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、もしくはポリアミド樹脂等の透明樹脂を例示することができる。また、上記樹脂としては、例えばアクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂(実際には、電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性樹脂であって、後者であることが多い。)を使用することもできる。   Specific examples of the resin used in the red color conversion part include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, polyvinyl chloride resin, melamine resin, Illustrative examples include transparent resins such as phenol resins, alkyd resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyester resins, maleic acid resins, and polyamide resins. Examples of the resin include ionizing radiation curable resins having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber (actually, an electron beam curable resin or an ultraviolet ray). It is also possible to use a curable resin, which is often the latter.

赤色色変換部中の樹脂と赤色変換蛍光体との割合は、樹脂:赤色変換蛍光体=100:0.3〜5(質量基準)程度が好ましい。赤色変換蛍光体の割合が少なすぎると十分な色変換効率が得られない場合があり、上記の割合が多すぎると濃度消光が生じるおそれがあるからである。   The ratio of the resin and the red conversion phosphor in the red color conversion part is preferably about resin: red conversion phosphor = 100: 0.3 to 5 (mass basis). This is because if the ratio of the red conversion phosphor is too small, sufficient color conversion efficiency may not be obtained, and if the ratio is too large, concentration quenching may occur.

また、赤色色変換部の厚みは、1μm〜10μm程度に設定することができる。中でも、上述したように赤色着色部および赤色色変換部を合わせた厚みと、緑色着色部の厚みと、青色着色部の厚みとの差が所定の範囲となるような厚みであり、さらに赤色着色部および赤色色変換部を合わせた厚みが所定の範囲となるような厚みであることが好ましい。具体的には赤色着色部の厚みによって異なるものではあるが、赤色色変換部の厚みが1.5μm〜5μmの範囲内であることが好ましく、より好ましくは1.5μm〜2.5μmの範囲内である。   The thickness of the red color conversion part can be set to about 1 μm to 10 μm. In particular, as described above, the thickness of the combined red coloring portion and the red color conversion portion, the thickness of the green coloring portion, and the thickness of the blue coloring portion are within a predetermined range. It is preferable that the combined thickness of the part and the red color conversion part be a predetermined range. Specifically, although it varies depending on the thickness of the red colored portion, the thickness of the red color conversion portion is preferably in the range of 1.5 μm to 5 μm, more preferably in the range of 1.5 μm to 2.5 μm. It is.

上記の厚みの差や、赤色着色部および赤色色変換部を合わせた厚みを所定の範囲とするために赤色色変換部の厚みを比較的薄く設定する場合には、例えば赤色色変換部中の赤色変換蛍光体の含有量を増やすことにより、色変換効率を低下させずに赤色色変換部の厚みを薄くすることができる。しかしながら、赤色色変換部中の赤色変換蛍光体の含有量が多すぎると濃度消光が生じる場合がある。したがって、赤色色変換部中の赤色変換蛍光体の含有量を増やして赤色色変換部の厚みを薄くする場合は、濃度消光を考慮して厚みが適宜選択される。   When the thickness of the red color conversion part is set to be relatively thin in order to set the thickness difference and the combined thickness of the red coloring part and the red color conversion part within a predetermined range, for example, in the red color conversion part By increasing the content of the red color conversion phosphor, the thickness of the red color conversion part can be reduced without reducing the color conversion efficiency. However, if the content of the red conversion phosphor in the red color conversion portion is too large, concentration quenching may occur. Therefore, when the thickness of the red color conversion portion is reduced by increasing the content of the red conversion phosphor in the red color conversion portion, the thickness is appropriately selected in consideration of concentration quenching.

本発明において緑色色変換部が形成されている場合、この緑色色変換部は、入射光を吸収して緑色の蛍光を発す緑色変換蛍光体が樹脂中に分散または溶解されたものである。   In the present invention, when the green color conversion portion is formed, the green color conversion portion is obtained by dispersing or dissolving a green conversion phosphor that absorbs incident light and emits green fluorescence.

緑色変換蛍光体の具体例としては、2,3,5,6−1H,4H−テトラヒドロ−8−トリフルオロメチルキノリジノ(9,9a,1−gh)クマリン、3−(2´−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン、もしくは3−(2´−ベンズイミダゾリル)−7−N,N−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素;ベーシックイエロー51等のクマリン色素系染料;ソルベントイエロー11、もしくはソルベントイエロー116等のナフタルイミド系色素;ZnS:Tb等のZnS系蛍光体などの蛍光色素、あるいは、黄緑顔料(例えばシンヒロイ社製 FA005(商品名))などの蛍光顔料を例示することができる。   Specific examples of the green conversion phosphor include 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidino (9,9a, 1-gh) coumarin, 3- (2′-benzothiazolyl). ) -7-diethylaminocoumarin, or coumarin dyes such as 3- (2′-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin; coumarin dyes such as basic yellow 51; solvent yellow 11 or solvent yellow 116 And a fluorescent pigment such as a yellow-green pigment (for example, FA005 (trade name) manufactured by Shin-Helloy Co., Ltd.) or a pigment such as a ZnS phosphor such as ZnS: Tb.

また、緑色変換蛍光体は、上記蛍光色素を、例えばポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化した蛍光顔料であってもよい。   In addition, the green conversion phosphor is prepared by combining the fluorescent dye with, for example, polymethacrylate, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, alkyd resin, aromatic sulfonamide resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, and It may be a fluorescent pigment kneaded in advance in these resin mixtures.

上記蛍光色素および蛍光顔料は、単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The fluorescent dyes and fluorescent pigments may be used alone or in combination of two or more in order to adjust the hue of fluorescence.

なお、緑色色変換部に用いられる樹脂については、上述した赤色色変換部に用いられる樹脂と同様である。また、緑色色変換部中の樹脂と緑色変換蛍光体との割合については、上記赤色色変換部の場合と同様である。   In addition, about resin used for a green color conversion part, it is the same as that of resin used for the red color conversion part mentioned above. The ratio of the resin and the green conversion phosphor in the green color conversion unit is the same as that in the red color conversion unit.

緑色色変換部および青色色変換部の厚みは、上記赤色色変換部の厚みと同程度であることが好ましい。   The thicknesses of the green color conversion unit and the blue color conversion unit are preferably approximately the same as the thickness of the red color conversion unit.

さらに、透過部が形成されている場合、この透過部は、緑色着色部上に形成されている場合は緑色光を透過するものであり、青色着色部上に形成されている場合は青色光を透過するものであれば特に限定されるものではなく、例えば色変換蛍光体を含まず、上述した樹脂からなるものとすることができる。   Further, when a transmissive part is formed, this transmissive part transmits green light when formed on the green colored part, and transmits blue light when formed on the blue colored part. The material is not particularly limited as long as it transmits light. For example, it can be made of the above-described resin without including a color conversion phosphor.

色変換層の形成方法としては、例えば上記各色変換蛍光体および樹脂を必要に応じて溶剤、希釈剤もしくは適宜な添加剤と共に混合して、各色変換部形成用塗工液を調製し、この各色変換部形成用塗工液を用いてフォトリソグラフィ法によってパターニングする方法、あるいは、上記の各色変換部形成用塗工液を用いて印刷法によりパターニングする方法が用いられる。   As a method for forming a color conversion layer, for example, each color conversion phosphor and resin are mixed with a solvent, a diluent or an appropriate additive as necessary to prepare a color conversion part forming coating solution. A method of patterning by a photolithography method using a conversion part forming coating solution, or a method of patterning by a printing method using each of the above color conversion part forming coating solutions is used.

2.着色層
本発明に用いられる着色層は、透明基材上にパターン状に形成され、赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を有するものである。各着色部は、各画素に対応して規則的に配列され、遮光部が形成されている場合は遮光部の開口部に対応して設けられる。
2. Colored layer The colored layer used in the present invention is formed in a pattern on a transparent substrate, and has a red colored portion, a green colored portion, and a blue colored portion. Each coloring part is regularly arranged corresponding to each pixel, and when the light shielding part is formed, it is provided corresponding to the opening part of the light shielding part.

本発明に用いられる各着色部は、各色の顔料や染料等の着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである。   Each colored portion used in the present invention is obtained by dispersing or dissolving a colorant such as a pigment or dye of each color in a binder resin.

赤色着色部に用いられる着色剤としては、例えばペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the colorant used in the red coloring part include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. These pigments may be used alone or in combination of two or more.

緑色着色部に用いられる着色剤としては、例えばハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the colorant used in the green coloring portion include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindolinone pigments. Etc. These pigments or dyes may be used alone or in combination of two or more.

青色着色部に用いられる着色剤としては、例えば銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく2種以上を混合して用いてもよい。   Examples of the colorant used in the blue coloring portion include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.

また、各着色部に用いられるバインダ樹脂としては、透明な樹脂が用いられる。   A transparent resin is used as the binder resin used for each colored portion.

着色層の形成方法として印刷法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えばポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。   When a printing method is used as a method for forming the colored layer, examples of the binder resin include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, and polyvinyl chloride resin. Melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin and the like.

また、着色層の形成方法としてフォトリソグラフィ法を用いる場合、バインダ樹脂としては、通常、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂が使用される。通常は、電子線硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂が用いられる。
紫外線硬化光性樹脂を使用する場合には、バインダ樹脂に光重合開始剤が単独または複数組み合わせて使用される。また、紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を用いてもよい。
In addition, when a photolithography method is used as a method for forming a colored layer, the binder resin is usually an ionizing radiation curable resin having a reactive vinyl group such as an acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber. Is used. Usually, an electron beam curable resin or an ultraviolet curable resin is used.
When using an ultraviolet curable photopolymer, a photopolymerization initiator is used alone or in combination with a binder resin. When an ultraviolet curable resin is used, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like may be used as necessary.

上述した着色剤の含有量としては、各着色部中に5〜50重量%の範囲内であることが好ましい。また、バインダ樹脂の含有量としては、着色剤100重量部に対して30〜100重量部の範囲内であることが好ましい。   The content of the colorant described above is preferably in the range of 5 to 50% by weight in each colored portion. The binder resin content is preferably in the range of 30 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant.

赤色着色部の厚みとしては、上述したように赤色着色部および赤色色変換部を合わせた厚みと、緑色着色部の厚みと、青色着色部の厚みとの差が所定の範囲となるような厚みであり、さらに赤色着色部および赤色色変換部を合わせた厚みが所定の範囲となるような厚みであることが好ましい。具体的には赤色色変換部の厚みによって異なるものではあるが、赤色着色部の厚みが1μm〜3μm程度であることが好ましく、より好ましくは1.2μm〜2μmの範囲内であり、最も好ましくは1.5μm〜1.8μmの範囲内である。   As described above, the thickness of the red colored portion is such that the difference between the thickness of the red colored portion and the red color converting portion, the thickness of the green colored portion, and the thickness of the blue colored portion is within a predetermined range. In addition, it is preferable that the combined thickness of the red colored portion and the red color converting portion is a predetermined range. Specifically, although it varies depending on the thickness of the red color conversion portion, the thickness of the red coloring portion is preferably about 1 μm to 3 μm, more preferably in the range of 1.2 μm to 2 μm, most preferably It is in the range of 1.5 μm to 1.8 μm.

なお、緑色着色部および青色着色部の厚みについては、上述した通りである。   In addition, about the thickness of a green coloring part and a blue coloring part, it is as above-mentioned.

上記の厚みの差や、各着色部の厚みを所定の範囲とするためには、例えば各着色部中の着色剤の含有量を調整すればよい。   In order to set the difference in thickness and the thickness of each colored portion within a predetermined range, for example, the content of the colorant in each colored portion may be adjusted.

各着色部の配列としては、各着色部が巨視的に見て平均的に配列されていれば特に限定されるものではなく、例えばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等が挙げられる。また、各着色部は、遮光部の開口部毎に形成されていてもよい。   The arrangement of the colored portions is not particularly limited as long as the colored portions are arranged on an average when viewed macroscopically, and examples thereof include a stripe arrangement, a mosaic arrangement, and a delta arrangement. Moreover, each coloring part may be formed for every opening part of the light-shielding part.

着色層の形成方法としては、例えば各着色剤をバインダ樹脂に混合、分散または可溶化させて各着色部形成用塗工液を調製し、この着色部形成用塗工液を用いてフォトリソグラフィ法によってパターニングする方法、あるいは、上記の各着色部形成用塗工液を用いて印刷法によりパターニングする方法が用いられる。   As a method for forming a colored layer, for example, each coloring agent is mixed, dispersed or solubilized in a binder resin to prepare each colored portion forming coating solution, and a photolithography method using this colored portion forming coating solution. The method of patterning by the above, or the method of patterning by the printing method using each of the above colored portion forming coating liquids is used.

3.透明基材
本発明に用いられる透明基材は、有機EL素子用カラーフィルタ基板を支える支持体である。また、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いて有機EL表示装置を構成した際には、観察側に配置されるものであり、有機EL表示装置全体を支える支持体でもある。
3. Transparent base material The transparent base material used for this invention is a support body which supports the color filter substrate for organic EL elements. Moreover, when an organic EL display device is configured using the color filter substrate for organic EL elements of the present invention, it is disposed on the observation side and is also a support that supports the entire organic EL display device.

透明基材としては、例えばガラスや石英ガラス等の無機質の板状透明基材、もしくはアクリル樹脂等の有機質(例えば、合成樹脂)の板状透明基材、または、合成樹脂製の透明フィルム状基材を用いることができる。厚みのごく薄いガラスも透明フィルム状基材として利用することができる。   As the transparent substrate, for example, an inorganic plate-like transparent substrate such as glass or quartz glass, an organic (for example, synthetic resin) plate-like transparent substrate such as acrylic resin, or a synthetic resin-made transparent film-like substrate Materials can be used. A very thin glass can also be used as the transparent film substrate.

また、透明基材としては、着色層や色変換層等を形成する側の表面の平滑性が高いものであることが好ましい。具体的には、平均表面粗さ(Ra)が、0.5nm〜3.0nm(5μm□領域)であるものを用いることが好ましい。   Moreover, as a transparent base material, it is preferable that the smoothness of the surface at the side which forms a colored layer, a color conversion layer, etc. is high. Specifically, it is preferable to use one having an average surface roughness (Ra) of 0.5 nm to 3.0 nm (5 μm □ region).

上記透明基材を構成する合成樹脂の具体例としては、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、メタクリル酸メチル樹脂等のアクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、または環状オレフィン樹脂もしくは環状オレフィン共重合樹脂等を挙げることができる。   Specific examples of the synthetic resin constituting the transparent substrate include polycarbonate resin, polyarylate resin, polyethersulfone resin, acrylic resin such as methyl methacrylate resin, cellulose resin such as triacetyl cellulose resin, epoxy resin, or cyclic Examples thereof include olefin resins and cyclic olefin copolymer resins.

4.遮光部
本発明においては、透明基材上の各着色部の間に遮光部(ブラックマトリクスともいう。)が形成されていてもよい。遮光部は、各画素毎に発光する区域を区画すると共に、発光する区域どうしの境界における外光の反射を防止し、画像、映像のコントラストを高めるために設けられるものである。したがって、遮光部は必ずしも設けなくてよいが、コントラストを向上させる以外に、着色層や色変換層等を遮光部の開口部に対応させて形成する上で、遮光部が形成されていることが好ましい。また、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いて有機EL表示装置とした際に、発光層等を遮光部の開口部に対応させて形成することからも、遮光部が形成されていることが好ましい。
4). Light Shielding Part In the present invention, a light shielding part (also referred to as a black matrix) may be formed between the colored parts on the transparent substrate. The light shielding section is provided to partition the light emitting area for each pixel, prevent reflection of external light at the boundary between the light emitting areas, and increase the contrast of images and videos. Therefore, the light-shielding portion is not necessarily provided. However, in addition to improving the contrast, the light-shielding portion is formed when the colored layer, the color conversion layer, or the like is formed corresponding to the opening of the light-shielding portion. preferable. Further, when the organic EL display device is formed using the color filter substrate for the organic EL element of the present invention, the light shielding portion is formed because the light emitting layer and the like are formed corresponding to the opening of the light shielding portion. It is preferable.

遮光部は、通常、黒色のライン状に形成され、マトリクス状またはストライプ状等の開口部を有するパターン状に形成されたものである。本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いて有機EL表示装置とした場合、発光層からの発光は、この遮光部の開口部を経由し、観察者側に到達する。   The light-shielding portion is usually formed in a black line shape, and is formed in a pattern shape having openings such as a matrix shape or a stripe shape. When an organic EL display device is formed using the color filter substrate for organic EL elements of the present invention, light emission from the light emitting layer reaches the observer side via the opening of the light shielding portion.

本発明に用いられる遮光部は、絶縁性を有するものであっても、絶縁性を有しないものであってもよいが、中でも絶縁性を有していることが好ましい。遮光部が絶縁性を有するものであれば、本発明の有機EL素子カラーフィルタ基板を用いて有機EL表示装置とした際に、遮光部と透明電極層とが接触する場合であっても、遮光部と透明電極層とが導通するのを回避することができるからである。   The light-shielding part used in the present invention may be insulating or non-insulating, but preferably has insulating properties. If the light-shielding part has an insulating property, even when the light-shielding part and the transparent electrode layer are in contact with each other when the organic EL element color filter substrate of the present invention is used to form an organic EL display device, the light-shielding part is light-shielded. This is because it is possible to avoid electrical conduction between the portion and the transparent electrode layer.

絶縁性を有する遮光部の形成材料としては、例えばカーボンブラック等の黒色着色剤を含有する樹脂組成物等が挙げられる。この樹脂組成物に用いられる樹脂としては、例えばアクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する電離放射線硬化性樹脂、特に電子線硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂を使用することができる。また、例えばポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、またはポリアミド樹脂等も例示することができる。   Examples of the material for forming the light-shielding portion having insulating properties include a resin composition containing a black colorant such as carbon black. Examples of the resin used in the resin composition include ionizing radiation curable resins having reactive vinyl groups such as acrylate-based, methacrylate-based, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber, particularly electron beam curable resins or An ultraviolet curable resin can be used. Also, for example, polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin Examples thereof include a polyester resin, a maleic acid resin, and a polyamide resin.

また、絶縁性を有しない遮光部の形成材料としては、例えばクロム等の金属または酸化クロム等の金属酸化物が挙げられる。この際、絶縁性を有しない遮光部は、CrO膜(xは任意の数)およびCr膜が2層積層されたものであってもよく、また、より反射率を低減させたCrO膜(xは任意の数)、CrN膜(yは任意の数)およびCr膜が3層積層されたものであってもよい。 In addition, examples of a material for forming a light-shielding portion having no insulating property include metals such as chromium or metal oxides such as chromium oxide. At this time, the light-shielding part having no insulating property may be a laminate of two layers of a CrO x film (x is an arbitrary number) and a Cr film, and a CrO x film with a further reduced reflectance. (X is an arbitrary number), a CrN y film (y is an arbitrary number), and a three-layered Cr film may be laminated.

絶縁性を有する遮光部の形成方法としては、上記の樹脂組成物を基材上に塗布して、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法を用いることができる。また、印刷法等を用いることもできる。   As a method for forming a light-shielding portion having insulating properties, a method of applying the above resin composition on a substrate and patterning it by a photolithography method can be used. Also, a printing method or the like can be used.

また、絶縁性を有しない遮光部の形成方法としては、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等により薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法を利用してパターニングする方法を用いることができる。また、無電界メッキ法等を用いることもできる。   As a method for forming a light-shielding portion having no insulating property, a method of forming a thin film by a vapor deposition method, an ion plating method, a sputtering method, or the like, and patterning using a photolithography method can be used. Further, an electroless plating method or the like can also be used.

上記遮光部の膜厚としては、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等により形成する場合には0.2μm〜0.4μm程度であり、塗布により形成する場合や印刷法によるときは0.5μm〜2μm程度である。   The film thickness of the light-shielding portion is about 0.2 μm to 0.4 μm when formed by vapor deposition, ion plating, sputtering, or the like, and is about 0.2 μm when formed by coating or printing. It is about 5 μm to 2 μm.

5.平坦化層
本発明においては、色変換層上に平坦化層が形成されていてもよい。この平坦化層は、着色層や色変換層を保護する役割を有すると共に、着色層や色変換層の厚みが一定でない場合には、それら層の表面をならして平坦な面とし、有機EL表示装置に用いる場合に透明電極層等を形成する際の影響を低減する目的で設けられるものである。また、平坦化層は、着色層や色変換層の構成により段差(凹凸)が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図り、有機EL表示装置の作製時に有機EL層を形成する際の厚みムラの発生を防止する平坦化作用をなすものである。
5. Flattening layer In the present invention, a flattening layer may be formed on the color conversion layer. This flattening layer has a role of protecting the colored layer and the color conversion layer, and when the thickness of the colored layer and the color conversion layer is not constant, the surface of the layer is smoothed to obtain a flat surface. When used in a display device, it is provided for the purpose of reducing the influence when forming a transparent electrode layer or the like. In addition, when there is a level difference (unevenness) due to the configuration of the color layer or the color conversion layer, the leveling layer eliminates the level difference to achieve leveling, and forms the organic EL layer at the time of manufacturing the organic EL display device. It is a flattening action that prevents the occurrence of uneven thickness.

本発明に用いられる平坦化層の形成材料としては、透明樹脂を用いることができる。具体的には、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。また、上記透明樹脂として、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。   As a material for forming the planarization layer used in the present invention, a transparent resin can be used. Specifically, a photocurable resin or a thermosetting resin having an acrylate-based or methacrylate-based reactive vinyl group can be used. In addition, as the transparent resin, polymethyl methacrylate, polyacrylate, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, hydroxyethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl chloride resin, melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin A maleic acid resin, a polyamide resin, or the like can be used.

上記平坦化層の形成方法としては、上述した透明樹脂を含有する平坦化層形成用塗工液が液体の場合、スピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、光硬化型樹脂の場合は紫外線照射後に必要に応じて熱硬化させ、熱硬化型樹脂の場合は成膜後そのまま熱硬化させる方法を挙げることができる。また、上述した透明樹脂がフィルム状に成形されている場合は、直接、あるいは、粘着剤を介して貼着することにより平坦化層を形成することができる。   As the method for forming the flattening layer, when the flattening layer forming coating liquid containing the transparent resin is a liquid, it is applied by spin coating, roll coating, cast coating, etc. In the case of a curable resin, there may be mentioned a method in which the resin is thermally cured as necessary after irradiation with ultraviolet rays, and in the case of a thermosetting resin, it can be directly heat cured after film formation. Moreover, when the transparent resin mentioned above is shape | molded in the film form, a planarization layer can be formed by sticking directly or via an adhesive.

このような平坦化層の厚みは、例えば1〜5μm程度とすることができる。   The thickness of such a planarization layer can be set to about 1 to 5 μm, for example.

6.ガスバリア層
本発明においては、色変換層上にガスバリア層が形成されていてもよい。例えば図4に示すように平坦化層5が赤色色変換部3R上に形成されている場合は、ガスバリア層6は平坦化層5上に形成される。このガスバリア層は、有機EL表示装置に用いた場合、有機EL層へ有機EL素子用カラーフィルタ基板からの水蒸気や酸素または着色層や色変換層等からの脱離ガスが透過するのを遮断するために設けられるものである。
6). Gas Barrier Layer In the present invention, a gas barrier layer may be formed on the color conversion layer. For example, as shown in FIG. 4, when the planarization layer 5 is formed on the red color conversion unit 3 </ b> R, the gas barrier layer 6 is formed on the planarization layer 5. When this gas barrier layer is used in an organic EL display device, it blocks the permeation of water vapor or oxygen from the color filter substrate for organic EL elements or the desorbed gas from a colored layer or color conversion layer to the organic EL layer. It is provided for this purpose.

本発明に用いられるガスバリア層としては、水蒸気、酸素、脱離ガスなどのガスに対してガスバリア性を発現することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば透明無機膜、透明樹脂膜、あるいは有機−無機ハイブリッド膜等が用いられる。中でも、ガスバリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。   The gas barrier layer used in the present invention is not particularly limited as long as it can exhibit gas barrier properties against gases such as water vapor, oxygen, and desorption gas. For example, a transparent inorganic film, a transparent resin A film or an organic-inorganic hybrid film is used. Among these, a transparent inorganic film is preferable because of its high gas barrier property.

上記透明無機膜に用いられる材料としては、ガスバリア性を発現することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム等の酸化物;窒化ケイ素等の窒化物;窒化酸化ケイ素等の窒化酸化物;などが用いられる。中でも、ピンホールや突起が生じにくくガスバリア性が高いことから、窒化酸化ケイ素が好適である。   The material used for the transparent inorganic film is not particularly limited as long as it can exhibit gas barrier properties. For example, oxides such as aluminum oxide, silicon oxide, and magnesium oxide; nitriding such as silicon nitride A nitride oxide such as silicon nitride oxide; Among these, silicon nitride oxide is preferable because pinholes and protrusions hardly occur and the gas barrier property is high.

また、ガスバリア層は、単層であってもよく多層であってもよい。例えば、ガスバリア層が複数の窒化酸化ケイ素膜が積層された多層である場合は、ガスバリア性をさらに高めることができる。また、ガスバリア層が多層である場合は、各層にそれぞれ異なる材料を用いてもよい。   Further, the gas barrier layer may be a single layer or a multilayer. For example, when the gas barrier layer is a multilayer in which a plurality of silicon nitride oxide films are stacked, the gas barrier property can be further improved. Moreover, when a gas barrier layer is a multilayer, you may use a different material for each layer, respectively.

ガスバリア層の厚みとしては、特に限定されるものではなく、用いる基材やガスバリア層に用いられる材料の種類、あるいはガスバリア層が単層であるか多層であるかによって異なるものであり一概に規定できないが、通常、ガスバリア層全体で50nm〜2μm程度である。ガスバリア層の厚みが薄すぎるとガスバリア性が不十分となる可能性があり、またガスバリア層の厚みが厚すぎると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易いからである。   The thickness of the gas barrier layer is not particularly limited, and differs depending on the base material to be used, the type of material used for the gas barrier layer, or whether the gas barrier layer is a single layer or a multilayer, and cannot be specified unconditionally. However, it is generally about 50 nm to 2 μm for the entire gas barrier layer. This is because if the thickness of the gas barrier layer is too thin, the gas barrier property may be insufficient, and if the thickness of the gas barrier layer is too thick, a phenomenon such as a crack due to the film stress of the thin film tends to occur.

上記ガスバリア層が透明無機膜である場合、この透明無機膜の形成方法としては、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されるものではなく、例えばスパッタリング法、化学気相成長(CVD)法、イオンプレーティング法、電子ビーム(EB)蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、レーザーアブレーション法等が挙げられる。このうち、有機EL素子用カラーフィルタ基板の生産性を考慮すると、スパッタリング法、イオンプレーティング法、CVD法が好ましく、さらには、スパッタリング法を用いることがより好ましい。スパッタリング法を用いることにより、高生産性で、品質安定性に優れたガスバリア層を形成することができるからである。   When the gas barrier layer is a transparent inorganic film, the method for forming the transparent inorganic film is not particularly limited as long as it is a film forming method that can be formed in a vacuum state. For example, sputtering, chemical vapor deposition ( CVD) method, ion plating method, vacuum deposition method such as electron beam (EB) deposition method and resistance heating method, laser ablation method and the like. Among these, considering the productivity of the color filter substrate for an organic EL element, the sputtering method, the ion plating method, and the CVD method are preferable, and the sputtering method is more preferable. This is because by using the sputtering method, a gas barrier layer having high productivity and excellent quality stability can be formed.

7.有機EL素子用カラーフィルタ基板の製造方法
以下、本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板の製造方法の一例について説明する。
まず、透明基材上の全面に、クロム等の金属または酸化クロム等の金属酸化物を蒸着し、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることによりブラックマトリクスを形成する。次に、ブラックマトリクスが形成された透明基材上に、赤色着色剤をバインダ樹脂に分散または溶解させた赤色着色部形成用塗工液を塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより赤色着色部を形成する。同様の手順により緑色着色部および青色着色部を形成する。この際、各着色部は、それぞれの厚みが所定の範囲となるように形成する。
次いで、赤色着色部上に、赤色変換蛍光体を樹脂に分散または溶解させた赤色色変換部形成用塗工液を塗布し、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることにより赤色色変換部を形成する。この際、赤色色変換部は、赤色着色部および赤色色変換部を合わせた厚みと、緑色着色部の厚みと、青色着色部の厚みとが所定の範囲となるように形成する。
そして、必要に応じて、赤色色変換部および各着色部を覆うように平坦化層を形成する。
このようにして有機EL素子用カラーフィルタ基板を作製することができる。
7). Method for Manufacturing Color Filter Substrate for Organic EL Element Hereinafter, an example of a method for manufacturing a color filter substrate for an organic EL element of the present invention will be described.
First, a black matrix is formed by depositing a metal such as chromium or a metal oxide such as chromium oxide on the entire surface of the transparent substrate and patterning it using a photolithography method. Next, a red colored portion forming coating solution in which a red colorant is dispersed or dissolved in a binder resin is applied on a transparent base material on which a black matrix is formed, and then patterned by using a photolithography method. A colored part is formed. A green colored portion and a blue colored portion are formed by the same procedure. At this time, each colored portion is formed so that its thickness falls within a predetermined range.
Next, a red color conversion part forming coating solution in which a red conversion phosphor is dispersed or dissolved in a resin is applied onto the red colored part, and patterning is performed using a photolithography method to form a red color conversion part. . At this time, the red color conversion part is formed such that the thickness of the red color part and the red color conversion part, the thickness of the green color part, and the thickness of the blue color part are within a predetermined range.
And a planarization layer is formed so that a red color conversion part and each coloring part may be covered as needed.
In this way, a color filter substrate for an organic EL element can be produced.

B.有機EL表示装置
次に、本発明の有機EL表示装置について説明する。本発明の有機EL表示装置は、上述した有機EL素子用カラーフィルタ基板と、上記有機EL素子用カラーフィルタ基板の色変換層側表面上に形成された透明電極層と、上記透明電極層上に形成され、二色発光光源により白色発光する白色発光層を少なくとも含む有機EL層と、上記有機EL層上に形成された対向電極層とを有することを特徴とするものである。
B. Organic EL Display Device Next, the organic EL display device of the present invention will be described. The organic EL display device of the present invention includes the above-described color filter substrate for organic EL elements, the transparent electrode layer formed on the color conversion layer side surface of the color filter substrate for organic EL elements, and the transparent electrode layer. The organic EL layer includes at least a white light emitting layer that is formed and emits white light from a two-color light source, and a counter electrode layer formed on the organic EL layer.

本発明の有機EL表示装置は、白色発光する白色発光層を有するものであるが、上述した有機EL素子用カラーフィルタ基板を用いるので、三原色の色特性のバランスに優れるという利点を有する。   The organic EL display device of the present invention has a white light-emitting layer that emits white light. However, since the above-described color filter substrate for an organic EL element is used, the organic EL display device has an advantage of excellent balance of color characteristics of the three primary colors.

図4に、本発明の有機EL表示装置の一例を示す概略断面図を示す。図4において、有機EL素子用カラーフィルタ基板10は、透明基材1上に、三原色の着色部2R、2G、2Bを有する着色層と、赤色着色部2Rに対応する赤色色変換部3Rを有する色変換層とが形成され、各着色部2R、2G、2Bの間に遮光部4が形成されており、着色層および色変換層を覆うように平坦化層5が形成され、その上にガスバリア層6が形成されたものである。有機EL表示装置20においては、有機EL素子用カラーフィルタ基板10のガスバリア層6の上に、透明電極層11、白色発光層を含む有機EL層12、および対向電極層13が形成されており、ガスバリア層6上の透明電極層11の間に絶縁層14が形成され、その上に隔壁部(カソードセパレータ)15が形成されている。
以下、本発明の有機EL表示装置の各構成について説明する。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing an example of the organic EL display device of the present invention. In FIG. 4, the organic EL element color filter substrate 10 has a colored layer having three primary color portions 2R, 2G, and 2B and a red color conversion portion 3R corresponding to the red color portion 2R on the transparent substrate 1. A color conversion layer is formed, a light shielding portion 4 is formed between the colored portions 2R, 2G, and 2B. A planarizing layer 5 is formed so as to cover the colored layer and the color conversion layer, and a gas barrier is formed thereon. The layer 6 is formed. In the organic EL display device 20, the transparent electrode layer 11, the organic EL layer 12 including the white light emitting layer, and the counter electrode layer 13 are formed on the gas barrier layer 6 of the color filter substrate 10 for organic EL elements. An insulating layer 14 is formed between the transparent electrode layers 11 on the gas barrier layer 6, and a partition wall (cathode separator) 15 is formed thereon.
Hereinafter, each configuration of the organic EL display device of the present invention will be described.

1.有機EL層
本発明に用いられる有機EL層は、少なくとも白色発光層を含む1層もしくは複数層の有機層から構成されるものである。すなわち、有機EL層とは、少なくとも白色発光層を含む層であり、その層構成が有機層1層以上の層をいう。通常、塗布による湿式法で有機EL層を形成する場合は、溶媒との関係で多数の層を積層することが困難であることから、1層もしくは2層の有機層で形成される場合が多いが、溶媒への溶解性が異なるように有機材料を工夫したり、真空蒸着法を組み合わせたりすることにより、さらに多数層とすることも可能である。
1. Organic EL Layer The organic EL layer used in the present invention is composed of one or more organic layers including at least a white light emitting layer. That is, the organic EL layer is a layer including at least a white light-emitting layer, and the layer configuration refers to a layer having one or more organic layers. Usually, when an organic EL layer is formed by a wet method by coating, it is often difficult to stack a large number of layers in relation to a solvent, so that it is often formed of one or two organic layers. However, it is possible to further increase the number of layers by devising an organic material so that the solubility in a solvent is different or by combining a vacuum deposition method.

白色発光層以外に有機EL層内に形成される有機層としては、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層を挙げることができる。さらに、その他の有機層としては、白色発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を挙げることができるが、通常これらは上記電荷注入層に電荷輸送の機能を付与することにより、電荷注入層と一体化されて形成される場合が多い。その他、有機EL層内に形成される有機層としては、キャリアブロック層のような正孔あるいは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
以下、このような有機EL層の各構成について説明する。
Examples of the organic layer formed in the organic EL layer other than the white light emitting layer include charge injection layers such as a hole injection layer and an electron injection layer. In addition, examples of the other organic layers include charge transport layers such as a hole transport layer that transports holes to the white light-emitting layer and an electron transport layer that transports electrons to the light-emitting layer. In many cases, the layer is formed integrally with the charge injection layer by providing the layer with a charge transport function. In addition, as an organic layer formed in the organic EL layer, it prevents holes or electrons from penetrating like a carrier block layer and further prevents diffusion of excitons and confines excitons in the light emitting layer. And a layer for increasing the recombination efficiency.
Hereinafter, each structure of such an organic EL layer will be described.

(1)白色発光層
本発明に用いられる白色発光層は、電子と正孔との再結合の場を提供して発光する機能を有し、白色発光するものである。
(1) White light-emitting layer The white light-emitting layer used in the present invention has a function of emitting light by providing a recombination field between electrons and holes, and emits white light.

白色発光層による白色発光は、複数の発光体からの発光の重ね合わせにより得ることができる。本発明における白色発光層は、所定の蛍光ピーク波長を有する2種類の発光体の二色発光の重ね合わせにより白色発光を得るものであってもよく、また所定の蛍光ピーク波長を有する3種類の発光体の三色発光の重ね合わせにより白色発光を得るものであってもよい。中でも、白色発光層が、赤色光の成分が少ない白色発光を示すものであることが好ましい。例えば赤色色変換部を赤色着色部上に形成することにより、良好な赤色表示を得ることができ、赤色光の輝度を向上させることができるので、三原色の色特性のバランスに優れる有機EL表示装置とすることが可能であるからである。   White light emission by the white light emitting layer can be obtained by superimposing light emitted from a plurality of light emitters. The white light emitting layer in the present invention may be one that obtains white light emission by superimposing two-color light emission of two kinds of light emitters having a predetermined fluorescence peak wavelength, and three kinds of light emission layers having a predetermined fluorescence peak wavelength. White light emission may be obtained by superimposing three-color light emission of the light emitter. Especially, it is preferable that a white light emitting layer shows white light emission with few red light components. For example, by forming the red color conversion part on the red coloring part, a good red display can be obtained and the brightness of the red light can be improved, so that the organic EL display device having an excellent balance of the color characteristics of the three primary colors This is because it is possible.

本発明における白色発光層は、所定の蛍光ピーク波長を有する2種類の発光体の二色発光の重ね合わせにより白色発光を得る、いわゆる二色発光光源により白色発光するものであることが好ましい。特に、白色発光層は、青色発光体と少量の黄色発光体とを含有し、二色発光光源により白色発光するものであることが好ましい。このような白色発光層で得られる白色発光には赤色光の成分が少ないが、例えば赤色色変換部を赤色着色部上に形成することにより、良好な赤色表示を得ることができ、赤色光の輝度を向上させることができるからである。これにより、三原色の色特性のバランスに優れる有機EL表示装置とすることが可能となる。   The white light emitting layer in the present invention preferably emits white light by a so-called two-color light source that obtains white light by superimposing two-color light emission of two kinds of light emitters having a predetermined fluorescence peak wavelength. In particular, the white light emitting layer preferably contains a blue light emitter and a small amount of a yellow light emitter and emits white light from a two-color light source. The white light emission obtained by such a white light emitting layer has a small red light component. For example, by forming a red color conversion part on the red coloration part, a good red display can be obtained. This is because the luminance can be improved. As a result, an organic EL display device excellent in the balance of the color characteristics of the three primary colors can be obtained.

白色発光層に用いられる青色発光体は、蛍光ピーク波長が380nm以上480nm未満であることが好ましく、より好ましくは420nm以上475nm未満である。このような青色発光体としては、例えば特開平3−231970号公報、国際公開特許WO92/05131号公報または特開平7−26254号公報に記載されている化合物の中で、上記の蛍光条件を満足するものが挙げられる。具体的には、特開平6−207170号公報に記載されている化合物を挙げることができる。   The blue phosphor used for the white light emitting layer preferably has a fluorescence peak wavelength of 380 nm or more and less than 480 nm, more preferably 420 nm or more and less than 475 nm. As such a blue light emitter, among the compounds described in, for example, JP-A-3-231970, International Publication No. WO92 / 05131 or JP-A-7-26254, the above-mentioned fluorescence condition is satisfied. To do. Specific examples include compounds described in JP-A-6-207170.

また、白色発光層に用いられる黄色発光体は、蛍光ピーク波長が520nm以上590nm以下であることが好ましく、より好ましくは550nm以上580nm以下である。このような黄色発光体としては、5,6,11,12−テトラフェニルナフタセン、3,10−ビス(ジフェニルアミノ)−7,14−ジフェニルアセトナフトフルオレン等が挙げられる。この黄色発光体の含有量は、濃度消光が生じない範囲とされる。   In addition, the yellow phosphor used for the white light emitting layer preferably has a fluorescence peak wavelength of 520 nm or more and 590 nm or less, and more preferably 550 nm or more and 580 nm or less. Examples of such yellow light emitters include 5,6,11,12-tetraphenylnaphthacene, 3,10-bis (diphenylamino) -7,14-diphenylacetonaphthofluorene and the like. The content of this yellow illuminant is in a range where concentration quenching does not occur.

白色発光層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、例えば5nm〜1μm程度とすることができる。   Although it does not specifically limit as thickness of a white light emitting layer, For example, it can be set as about 5 nm-1 micrometer.

上記白色発光層の形成方法としては、高精細なパターニングが可能な方法であれば特に限定されるものではない。例えば蒸着法、印刷法、インクジェット法、またはスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、および自己組織化法(交互吸着法、自己組織化単分子膜法)等を挙げることができる。中でも、蒸着法、スピンコート法、およびインクジェット法を用いることが好ましい。また、白色発光層をパターニングする際には、マスキング法により塗り分けや蒸着を行ってもよく、または白色発光層間に隔壁部を形成してもよい。   The method for forming the white light emitting layer is not particularly limited as long as it is a method capable of high-definition patterning. For example, vapor deposition method, printing method, inkjet method, spin coating method, casting method, dipping method, bar coating method, blade coating method, roll coating method, gravure coating method, flexographic printing method, spray coating method, and self-assembly method (Alternate adsorption method, self-assembled monolayer method) and the like. Among these, it is preferable to use a vapor deposition method, a spin coating method, and an ink jet method. Moreover, when patterning a white light emitting layer, it may coat and vapor-deposit by a masking method, or may form a partition part between white light emitting layers.

(2)正孔注入層
本発明においては、白色発光層と陽極(透明電極層もしくは対向電極層)との間に正孔注入層が形成されていてもよい。正孔注入層を設けることにより、白色発光層への正孔の注入が安定化し、発光効率を高めることができるからである。
(2) Hole injection layer In the present invention, a hole injection layer may be formed between the white light emitting layer and the anode (transparent electrode layer or counter electrode layer). This is because by providing the hole injection layer, the injection of holes into the white light emitting layer is stabilized and the light emission efficiency can be increased.

本発明に用いられる正孔注入層の構成材料としては、一般的に有機EL素子の正孔注入層に使用されている材料を用いることができる。また、正孔注入層の構成材料としては、正孔の注入性もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであればよく、有機物もしくは無機物のいずれであってもよい。   As a constituent material of the hole injection layer used in the present invention, a material generally used for a hole injection layer of an organic EL element can be used. The constituent material of the hole injection layer may be any material that has either a hole injection property or an electron barrier property, and may be an organic material or an inorganic material.

具体的に正孔注入層の構成材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、もしくはチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに、正孔注入層の構成材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、もしくはスチリルアミン化合物等を例示することができる。   Specifically, the constituent material of the hole injection layer includes triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives. And styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, polysilane-based, aniline-based copolymers, or conductive polymer oligomers such as thiophene oligomers. Furthermore, examples of the constituent material of the hole injection layer include porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine compounds.

上記ポルフィリン化合物としては、例えばポルフィン、1,10,15,20−テトラフェニル−21H,23H−ポルフィン銅(II)、アルミニウムフタロシアニンクロリド、もしくは銅オクタメチルフタロシアニン等が挙げられる。   Examples of the porphyrin compound include porphine, 1,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-porphine copper (II), aluminum phthalocyanine chloride, copper octamethylphthalocyanine, and the like.

また、上記芳香族第三級アミン化合物としては、例えばN,N,N´,N´−テトラフェニル−4,4´−ジアミノフェニル、N,N´−ジフェニル−N,N´−ビス−(3−メチルフェニル)−[1,1´−ビフェニル]−4,4´−ジアミン、4−(ジ−p−トリルアミノ)−4´−[4(ジ−p−トリルアミノ)スチリル]スチルベン、3−メトキシ−4´−N,N−ジフェニルアミノスチルベンゼン、4,4´−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル、もしくは4,4´,4´´−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン等が挙げられる。   Examples of the aromatic tertiary amine compound include N, N, N ′, N′-tetraphenyl-4,4′-diaminophenyl, N, N′-diphenyl-N, N′-bis- ( 3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine, 4- (di-p-tolylamino) -4 ′-[4 (di-p-tolylamino) styryl] stilbene, 3- Methoxy-4'-N, N-diphenylaminostilbenzene, 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl, or 4,4 ', 4 "-tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine and the like.

このような正孔注入層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、例えば5nm〜0.5μm程度とすることができる。   The thickness of such a hole injection layer is not particularly limited, but can be, for example, about 5 nm to 0.5 μm.

(3)電子注入層
本発明においては、白色発光層と陰極(透明電極層もしくは対向電極層)との間に電子注入層が形成されていてもよい。電子注入層を設けることにより、白色発光層への電子の注入が安定化し、発光効率を高めることができるからである。
(3) Electron Injection Layer In the present invention, an electron injection layer may be formed between the white light emitting layer and the cathode (transparent electrode layer or counter electrode layer). This is because by providing the electron injection layer, the injection of electrons into the white light emitting layer is stabilized, and the light emission efficiency can be increased.

本発明に用いられる電子注入層の構成材料としては、例えばニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、もしくはオキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス(8−キノリノール)アルミニウム等の8−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、もしくはジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。   As the constituent material of the electron injection layer used in the present invention, for example, nitro-substituted fluorene derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenylquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, heterocyclic tetracarboxylic anhydrides such as naphthaleneperylene, carbodiimide, Fluorenylidenemethane derivatives, anthraquinodimethane and anthrone derivatives, oxadiazole derivatives, or thiazole derivatives in which the oxygen atom of the oxadiazole ring of the oxadiazole derivative is substituted with a sulfur atom, quinoxaline known as an electron withdrawing group Examples thereof include quinoxaline derivatives having a ring, metal complexes of 8-quinolinol derivatives such as tris (8-quinolinol) aluminum, phthalocyanine, metal phthalocyanine, or distyrylpyrazine derivatives.

上記電子注入層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、例えば5nm〜0.5μm程度とすることができる。   Although it does not specifically limit as thickness of the said electron injection layer, For example, it can be set as about 5 nm-0.5 micrometer.

2.透明電極層
本発明に用いられる透明電極層は、対向電極層との間に挟んだ有機EL層に電圧をかけ、所定の位置で発光を起こさせるためのものである。この透明電極層は、上述した有機EL素子用カラーフィルタ基板の色変換層側表面上に形成されるものであり、例えば図4に示すように透明電極層11は、遮光部4の開口部の幅に相当する幅のストライプ状に形成される。この場合、ストライプ状の透明電極層11のピッチは遮光部4の開口部のピッチと同じである。
2. Transparent electrode layer The transparent electrode layer used in the present invention is for applying a voltage to the organic EL layer sandwiched between the counter electrode layer and causing light emission at a predetermined position. The transparent electrode layer is formed on the color conversion layer side surface of the color filter substrate for the organic EL element described above. For example, as shown in FIG. It is formed in a stripe shape having a width corresponding to the width. In this case, the pitch of the striped transparent electrode layer 11 is the same as the pitch of the openings of the light shielding portion 4.

本発明における透明電極層は、通常、透明性および導電性を有する金属酸化物の薄膜で構成される。このような金属酸化物としては、例えば酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム、酸化亜鉛、もしくは酸化第二錫等が挙げられる。   The transparent electrode layer in the present invention is usually composed of a metal oxide thin film having transparency and conductivity. Examples of such a metal oxide include indium tin oxide (ITO), indium oxide, zinc oxide, and stannic oxide.

このような透明電極層の形成方法としては、例えば蒸着法もしくはスパッタリング法等によって金属酸化物の薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が好ましく用いられる。   As a method for forming such a transparent electrode layer, for example, a method of forming a thin film of metal oxide by, for example, vapor deposition or sputtering and then patterning by photolithography is preferably used.

3.対向電極層
本発明に用いられる対向電極層は、有機EL層を発光させるための他方の電極をなすものであり、上記透明電極層と反対の電荷をもつ電極である。この対向電極層は、有機EL層上に形成される。
3. Counter Electrode Layer The counter electrode layer used in the present invention forms the other electrode for causing the organic EL layer to emit light, and is an electrode having a charge opposite to that of the transparent electrode layer. This counter electrode layer is formed on the organic EL layer.

本発明における対向電極層は、通常、仕事関数が4eV以下程度と小さい金属、合金、もしくはそれらの混合物から構成される。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム/銅混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、インジウム、もしくはリチウム/アルミニウム混合物、希土類金属等を例示することができる。より好ましくは、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム(Al)混合物、もしくはリチウム/アルミニウム混合物を挙げることができる。 The counter electrode layer in the present invention is usually composed of a metal, an alloy, or a mixture thereof having a work function as small as about 4 eV or less. Specifically, sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / copper mixture, magnesium / silver mixture, magnesium / aluminum mixture, magnesium / indium mixture, aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, indium, Or a lithium / aluminum mixture, a rare earth metal, etc. can be illustrated. More preferable examples include a magnesium / silver mixture, a magnesium / aluminum mixture, a magnesium / indium mixture, an aluminum / aluminum oxide (Al 2 O 3 ) mixture, or a lithium / aluminum mixture.

上記対向電極層は、シート抵抗が数百Ω/cm以下であることが好ましい。
また、対向電極層の厚みとしては、10nm〜1μm程度が好ましく、より好ましくは50〜200nm程度である。
The counter electrode layer preferably has a sheet resistance of several hundred Ω / cm or less.
The thickness of the counter electrode layer is preferably about 10 nm to 1 μm, more preferably about 50 to 200 nm.

このような対向電極層の形成方法としては、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィ法によりパターニングする方法が好ましく用いられる。   As a method for forming such a counter electrode layer, a method of forming a thin film by an evaporation method or a sputtering method and then patterning by a photolithography method is preferably used.

4.その他
本発明においては、ストライプ状の透明電極層の間に、遮光部に対応して絶縁層が形成されていてもよい。
4). Others In the present invention, an insulating layer may be formed between the striped transparent electrode layers so as to correspond to the light shielding portion.

また、絶縁層上には、発光層等を形成する際のマスクの役割を果たす隔壁部が形成されていてもよい。この隔壁部の形成材料としては、例えば感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂、あるいは無機材料などを用いることができる。この場合、隔壁部の表面エネルギー(濡れ性)を変化させる処理を行ってもよい。   In addition, a partition wall functioning as a mask for forming a light emitting layer or the like may be formed on the insulating layer. As a material for forming the partition wall, for example, a photocurable resin such as a photosensitive polyimide resin or an acrylic resin, a thermosetting resin, an inorganic material, or the like can be used. In this case, you may perform the process which changes the surface energy (wetting property) of a partition part.

本発明の有機EL表示装置の駆動方式としては、パッシブマトリクス、もしくはアクティブマトリクスのいずれであってもよい。   The driving method of the organic EL display device of the present invention may be either a passive matrix or an active matrix.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。
[実施例1]
(ブラックマトリクスの形成)
透明基材として、370mm×470mm、厚み0.7mmのソーダガラス(セントラル硝子社製)を準備した。この透明基材上に、スパッタリング法により酸化窒化複合クロムの薄膜(厚み0.2μm)を形成した。この酸化窒化複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、および酸化窒化複合クロム薄膜のエッチングを順次行って、80μm×280μmの長方形状の開口部が、短辺方向に100μmのピッチ、長辺方向に300μmのピッチでマトリクス状に配列したブラックマトリクスを形成した。
Hereinafter, the present invention will be specifically described using examples and comparative examples.
[Example 1]
(Formation of black matrix)
As a transparent substrate, soda glass (manufactured by Central Glass Co., Ltd.) having a thickness of 370 mm × 470 mm and a thickness of 0.7 mm was prepared. A thin film (thickness 0.2 μm) of oxynitride composite chromium was formed on this transparent substrate by sputtering. A photosensitive resist is applied on the oxynitride composite chrome thin film, mask exposure, development, and etching of the oxynitride composite chrome thin film are sequentially performed, and an 80 μm × 280 μm rectangular opening has a length of 100 μm in the short side direction. A black matrix arranged in a matrix at a pitch of 300 μm in the long side direction was formed.

(着色層の形成)
赤色、緑色および青色の各色着色部形成用塗工液を調製した。赤色着色剤としては縮合アゾ系顔料(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、クロモフタルレッドBRN)、緑色着色剤としてはフタロシアニン系緑色顔料(東洋インキ製造社製、リオノールグリーン2Y−301)、および青色着色剤としてはアンスラキノン系顔料(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、クロモフタルブルーA3R)をそれぞれ用いた。また、バインダ樹脂としてはアクリル系UV硬化性樹脂組成物を用いた。
(Formation of colored layer)
A coating solution for forming colored portions of red, green and blue was prepared. Condensed azo pigments (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Chromophthalred BRN) as red colorants, phthalocyanine green pigments (Lionol Green 2Y-301, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.), and blue as green colorants As the colorant, anthraquinone pigment (Ciba Specialty Chemicals, Chromophthal Blue A3R) was used. An acrylic UV curable resin composition was used as the binder resin.

上記の各色着色部形成用塗工液を順次用いて各着色部を形成した。すなわち、上記のブラックマトリクスが形成された透明基材上に、赤色着色部形成用塗工液をスピンコート法により塗布し、120℃で2分間のプリベイクを行った。その後、フォトマスクを用いて露光(積算露光量300mJ/cm)し、現像液(0.05%KOH水溶液)にて現像を行った。次いで、230℃で60分間のポストベイクを行い、ブラックマトリクスのパターンに同調させ、幅85μm、厚み2.0μmのストライプ状の赤色着色部を、その幅方向がブラックマトリクスの開口部の短辺方向になるよう形成した。以降、緑色着色部形成用塗工液および青色着色部形成用塗工液を順次用い、幅85μm、厚み2.0μmのストライプ状の緑色着色部、および、幅85μm、厚み2.0μmのストライプ状の青色着色部を形成した。これにより、三原色の各着色部が幅方向に繰り返し配列した着色層を形成した。 Each colored part was formed using the above-described coating liquid for forming colored parts. That is, on the transparent substrate on which the black matrix was formed, a red colored portion forming coating solution was applied by a spin coating method, and prebaked at 120 ° C. for 2 minutes. Then, it exposed using the photomask (integrated exposure amount 300mJ / cm < 2 >), and developed with the developing solution (0.05% KOH aqueous solution). Next, post-baking is performed at 230 ° C. for 60 minutes to synchronize with the black matrix pattern, and stripe-shaped red colored portions having a width of 85 μm and a thickness of 2.0 μm are arranged in the short side direction of the opening portion of the black matrix. It formed so that it might become. Thereafter, a green colored portion forming coating solution and a blue colored portion forming coating solution are sequentially used to form a striped green colored portion having a width of 85 μm and a thickness of 2.0 μm, and a stripe shape having a width of 85 μm and a thickness of 2.0 μm. The blue colored part of was formed. This formed a colored layer in which the colored portions of the three primary colors were repeatedly arranged in the width direction.

(色変換層の形成)
赤色変換蛍光体としてクマリン6、ローダミン6GおよびローダミンBを組み合わせて用い、赤色変換蛍光体を分散させたアルカリ可溶性ネガ型感光性レジストを赤色色変換部形成用塗工液とし、この赤色色変換部形成用塗工液をブラックマトリクスおよび着色層が形成された上にスピンコート法により塗布し、100℃で5分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、200℃で60分間のポストベイクを行った。これにより、赤色着色部上に、幅85μm、厚み2.5μmのストライプ状の赤色色変換部を形成した。
(Formation of color conversion layer)
This red color conversion part is formed by using a coumarin 6, rhodamine 6G and rhodamine B in combination as a red conversion phosphor, and using an alkali-soluble negative photosensitive resist in which the red conversion phosphor is dispersed as a red color conversion part forming coating solution. The forming coating solution was applied by spin coating on the black matrix and the colored layer, and prebaked at 100 ° C. for 5 minutes. Next, after patterning by photolithography, post baking was performed at 200 ° C. for 60 minutes. As a result, a striped red color conversion portion having a width of 85 μm and a thickness of 2.5 μm was formed on the red colored portion.

(平坦化層の形成)
次いで、色変換層が形成された上に、アクリレート系光硬化性樹脂(新日鐵化学社製、商品名:「V−259PA/PH5」)をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した平坦化層形成用塗工液を調製し、スピンコート法により塗布し、120℃で5分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、200℃で60分間のポストベイクを行って、色変換層上に厚み2μmで着色層および色変換層の全体を覆う透明な平坦化層を形成した。
(Formation of planarization layer)
Next, a flattened layer formed by diluting an acrylate-based photocurable resin (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., trade name: “V-259PA / PH5”) with propylene glycol monomethyl ether acetate on the color conversion layer formed A coating solution was prepared, applied by spin coating, and prebaked at 120 ° C. for 5 minutes. Next, after patterning by photolithography, post baking was performed at 200 ° C. for 60 minutes to form a transparent flattening layer covering the entire color layer and the color conversion layer with a thickness of 2 μm on the color conversion layer.

(ガスバリア層の形成)
次に、上記の平坦化層上にスパッタリング法により、Siターゲット(3N)を用い、アルゴンガス導入量:40sccm、RFパワー:430kW、基板温度:100℃で成膜し、厚み150nmの酸化窒化ケイ素膜を積層し、透明なガスバリア層を形成した。
上述した一連の操作により、有機EL素子用カラーフィルタ基板を作製した。
(Formation of gas barrier layer)
Next, a Si 3 N 4 target (3N) is used on the above planarized layer by sputtering to form an argon gas introduced amount: 40 sccm, RF power: 430 kW, substrate temperature: 100 ° C., and a thickness of 150 nm. A silicon oxynitride film was laminated to form a transparent gas barrier layer.
A color filter substrate for an organic EL element was produced by the series of operations described above.

(透明電極層の形成)
次いで、上記の有機EL素子用カラーフィルタ基板のガスバリア層上にイオンプレーティング法により膜厚150nmの酸化インジウムスズ(ITO)電極膜を形成し、このITO電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ITO電極膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。
(Formation of transparent electrode layer)
Next, an indium tin oxide (ITO) electrode film having a film thickness of 150 nm is formed by ion plating on the gas barrier layer of the color filter substrate for the organic EL element, and a photosensitive resist is applied on the ITO electrode film, Mask exposure, development, and etching of the ITO electrode film were performed to form a transparent electrode layer.

(補助電極の形成)
次に、上記の透明電極層を覆うようにガスバリア層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜(厚み0.2μm)を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。この補助電極は、透明基材上から色変換層上に乗り上げるように透明電極層上に形成されたストライプ状のパターンであった。
(Formation of auxiliary electrode)
Next, a chromium thin film (thickness 0.2 μm) is formed by sputtering on the entire surface of the gas barrier layer so as to cover the transparent electrode layer, a photosensitive resist is applied on the chromium thin film, mask exposure, development, The auxiliary electrode was formed by etching the chromium thin film. This auxiliary electrode was a striped pattern formed on the transparent electrode layer so as to run on the color conversion layer from the transparent substrate.

(絶縁層および隔壁部の形成)
平均分子量が約100,000であるノルボルネン系樹脂(JSR社製、ARTON)をトルエンで希釈した絶縁層形成用塗工液を使用し、スピンコート法により透明電極層を覆うようにガスバリア層上に塗布した後、ベーク(100℃、30分)を行って絶縁膜(厚み1μm)を形成した。次に、この絶縁膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、絶縁膜のエッチングを行って絶縁層を形成した。この絶縁層は、透明電極層と直角に交差するストライプ状(幅20μm)のパターンであり、ブラックマトリクス上に位置するものとした。
次に、隔壁部用塗料(日本ゼオン社製、フォトレジスト、ZPN1100)をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク(70℃、30分間)を行った。その後、所定のフォトマスクを用いて露光し、現像液(日本ゼオン社製、ZTMA−100)にて現像を行い、次いで、ポストベーク(100℃、30分間)を行った。これにより、絶縁層上に隔壁部を形成した。この隔壁部は、高さ10μm、下部(絶縁層側)の幅15μm、上部の幅26μmである形状を有するものであった。
(Formation of insulating layer and partition wall)
Using a coating solution for forming an insulating layer obtained by diluting norbornene-based resin having an average molecular weight of about 100,000 (manufactured by JSR, ARTON) with toluene, the transparent electrode layer is covered on the gas barrier layer by spin coating. After the application, baking (100 ° C., 30 minutes) was performed to form an insulating film (thickness 1 μm). Next, a photosensitive resist was applied on the insulating film, mask exposure, development, and etching of the insulating film were performed to form an insulating layer. This insulating layer was a stripe-like pattern (width 20 μm) intersecting the transparent electrode layer at a right angle, and was located on the black matrix.
Next, a partition wall coating (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., photoresist, ZPN1100) was applied over the entire surface by spin coating so as to cover the insulating layer, and prebaked (70 ° C., 30 minutes). Then, it exposed using the predetermined | prescribed photomask, developed with the developing solution (Nippon-Zeon company make, ZTMA-100), and then post-baked (100 degreeC, 30 minutes). Thereby, the partition part was formed on the insulating layer. The partition wall had a shape with a height of 10 μm, a lower portion (insulating layer side) width of 15 μm, and an upper portion width of 26 μm.

(有機EL層の形成)
次いで、上記の隔壁部をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、白色発光層、電子注入層からなる有機EL層を形成した。
正孔注入材料として4,4´,4´´−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミンを用い、画像表示領域に相当する開口部を備えたフォトスクを介して、この正孔注入材料を膜厚60nmまで蒸着して、正孔注入層を形成した。
同様にして、ホストとして4,4´−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル、ドーパントとしてルブレンを用い、これらを共蒸着して、膜厚20nmの第1の発光層を形成した。次いで、ホストとして4,4´−ビス(2,2´−ジフェニルビニル)ビフェニル、ドーパントとして1,4−ビス[4−(N,N−ジフェニルアミノスチリルベンゼン)]を用い、これらを共蒸着して、膜厚40nmの第2の発光層を形成した。これにより白色発光層を形成した。
その後、トリス(8−キノリノール)アルミニウムを20nm厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とした。
このようにして形成された有機EL層は、幅280μmのストライプ状のパターンとして各隔壁部間に存在するものであり、隔壁部の上部表面にも同様の層構成でダミーの有機EL層が形成された。
(Formation of organic EL layer)
Next, an organic EL layer composed of a hole injection layer, a white light emitting layer, and an electron injection layer was formed by vacuum deposition using the partition wall as a mask.
4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine is used as the hole injection material, and is passed through a photosk provided with an opening corresponding to the image display area. Then, this hole injection material was deposited to a thickness of 60 nm to form a hole injection layer.
Similarly, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl as a host and rubrene as a dopant were co-evaporated to form a first light emitting layer having a thickness of 20 nm. Formed. Next, 4,4′-bis (2,2′-diphenylvinyl) biphenyl as a host and 1,4-bis [4- (N, N-diphenylaminostyrylbenzene)] as a dopant were co-deposited. Thus, a second light emitting layer having a thickness of 40 nm was formed. This formed the white light emitting layer.
Thereafter, tris (8-quinolinol) aluminum was deposited to a thickness of 20 nm to form an electron injection layer.
The organic EL layer thus formed exists between the partition walls as a stripe pattern having a width of 280 μm, and a dummy organic EL layer is formed on the upper surface of the partition wall with the same layer structure. It was done.

(対向電極層の形成)
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたフォトマスクを介して、上記の隔壁部が形成されている領域に、真空蒸着法によりマグネシウムと銀とを同時に蒸着(マグネシウムの蒸着速度=1.3〜1.4nm/秒、銀の蒸着速度=0.1nm/秒)して成膜した。これにより、隔壁部がマスクとなって、マグネシウム/銀化合物からなる厚み200nmの対向電極層を有機EL層上に形成した。この対向電極層は、幅280μmのストライプ状のパターンとして有機EL層上に存在するものであり、隔壁部の上部表面にもダミーの対向電極層が形成された。
上記一連の操作により、有機EL素子を作製した。
(Formation of counter electrode layer)
Next, magnesium and silver are simultaneously deposited by vacuum deposition (magnesium deposition rate) on the region where the partition wall is formed through a photomask having a predetermined opening wider than the image display region. = 1.3 to 1.4 nm / second, silver deposition rate = 0.1 nm / second). Thereby, the partition electrode portion was used as a mask to form a 200 nm-thick counter electrode layer made of a magnesium / silver compound on the organic EL layer. This counter electrode layer exists on the organic EL layer as a stripe pattern having a width of 280 μm, and a dummy counter electrode layer was also formed on the upper surface of the partition wall.
An organic EL element was produced by the series of operations described above.

(有機EL表示装置)
上記の有機EL素子を封止し、有機EL表示装置を得た。
(Organic EL display device)
The organic EL element was sealed to obtain an organic EL display device.

[実施例2]
実施例1において、下記に示すように着色層および色変換層を形成した以外は、実施例1と同様にして有機EL表示装置を作製した。
[Example 2]
In Example 1, an organic EL display device was produced in the same manner as in Example 1 except that a colored layer and a color conversion layer were formed as shown below.

(着色層の形成)
実施例1と同様にして、赤色、緑色および青色の各色着色部形成用塗工液を調製した。これらの各色着色部形成用塗工液を順次用いて各着色部を形成した。すなわち、上記のブラックマトリクスが形成された透明基材上に、赤色着色部形成用塗工液をスピンコート法により塗布し、120℃で2分間のプリベイクを行った。その後、フォトマスクを用いて露光(積算露光量300mJ/cm)し、現像液(0.05%KOH水溶液)にて現像を行った。次いで、230℃で60分間のポストベイクを行い、ブラックマトリクスのパターンに同調させ、幅85μm、厚み1.6μmのストライプ状の赤色着色部を、その幅方向がブラックマトリクスの開口部の短辺方向になるよう形成した。以降、緑色着色部形成用塗工液および青色着色部形成用塗工液を順次用い、幅85μm、厚み3.5μmのストライプ状の緑色着色部、および、幅85μm、厚み3.5μmのストライプ状の青色着色部を形成した。これにより、三原色の各着色部が幅方向に繰り返し配列した着色層を形成した。
(Formation of colored layer)
In the same manner as in Example 1, coating solutions for forming colored portions of red, green, and blue were prepared. Each colored portion was formed by sequentially using these colored portion forming coating solutions. That is, on the transparent substrate on which the black matrix was formed, a red colored portion forming coating solution was applied by a spin coating method, and prebaked at 120 ° C. for 2 minutes. Then, it exposed using the photomask (integrated exposure amount 300mJ / cm < 2 >), and developed with the developing solution (0.05% KOH aqueous solution). Next, post-baking is performed at 230 ° C. for 60 minutes to synchronize with the pattern of the black matrix, and the stripe-shaped red colored portion having a width of 85 μm and a thickness of 1.6 μm is arranged so that the width direction is in the short side direction of the opening portion of the black matrix. It formed so that it might become. Thereafter, a green colored portion forming coating solution and a blue colored portion forming coating solution are sequentially used to form a striped green colored portion having a width of 85 μm and a thickness of 3.5 μm, and a stripe shape having a width of 85 μm and a thickness of 3.5 μm. The blue colored part of was formed. This formed a colored layer in which the colored portions of the three primary colors were repeatedly arranged in the width direction.

(色変換層の形成)
赤色変換蛍光体としてクマリン6、ローダミン6GおよびローダミンBを組み合わせて用い、赤色変換蛍光体を分散させたアルカリ可溶性ネガ型感光性レジストを赤色色変換部形成用塗工液とし、この赤色色変換部形成用塗工液をブラックマトリクスおよび着色層が形成された上にスピンコート法により塗布し、100℃で5分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、200℃で60分間のポストベイクを行った。これにより、緑色着色部上に、幅85μm、厚み2.5μmのストライプ状の赤色色変換部を形成した。
(Formation of color conversion layer)
This red color conversion part is formed by using a coumarin 6, rhodamine 6G and rhodamine B in combination as a red conversion phosphor, and using an alkali-soluble negative photosensitive resist in which the red conversion phosphor is dispersed as a red color conversion part forming coating solution. The forming coating solution was applied by spin coating on the black matrix and the colored layer, and prebaked at 100 ° C. for 5 minutes. Next, after patterning by photolithography, post baking was performed at 200 ° C. for 60 minutes. As a result, a striped red color conversion portion having a width of 85 μm and a thickness of 2.5 μm was formed on the green colored portion.

[比較例1]
実施例1において色変換層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして有機EL表示装置を作製した。
[Comparative Example 1]
An organic EL display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the color conversion layer was not formed in Example 1.

[評価]
実施例1,2および比較例1の有機EL表示装置について、ミノルタ(株)製分光測色計CM2500dを用いて、色度x,yおよび反射率Yを測定した。結果を下記表1に示す。
[Evaluation]
For the organic EL display devices of Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, chromaticity x, y and reflectance Y were measured using a spectrocolorimeter CM2500d manufactured by Minolta. The results are shown in Table 1 below.

Figure 0004699249
Figure 0004699249

表1より、実施例1の有機EL表示装置では比較例1に比べて、鮮やかな赤色を観察することができ、さらに高輝度で幅広い色再現範囲を実現できることがわかった。実施例2の有機EL表示装置では、比較例1と同じ色再現範囲で、比較例1に比べて高輝度の表示が実現できることがわかった。   From Table 1, it was found that the organic EL display device of Example 1 can observe a bright red color compared to Comparative Example 1, and can realize a wider color reproduction range with higher luminance. In the organic EL display device of Example 2, it was found that display with higher luminance than that of Comparative Example 1 can be realized in the same color reproduction range as that of Comparative Example 1.

本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the color filter substrate for organic EL elements of this invention. 本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the color filter substrate for organic EL elements of this invention. 本発明の有機EL素子用カラーフィルタ基板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the color filter substrate for organic EL elements of this invention. 本発明の有機EL表示装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the organic electroluminescent display apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 … 透明基材
2 … 着色層
2R … 赤色着色部
2G … 緑色着色部
2B … 青色着色部
3 … 色変換層
3R … 赤色色変換部
3G … 緑色色変換部
4 … 遮光部
5 … 平坦化層
6 … ガスバリア層
10 … 有機EL素子用カラーフィルタ基板
11 … 透明電極層
12 … 有機EL層
13 … 対向電極層
14 … 絶縁層
15 … 隔壁
20 … 有機EL表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent base material 2 ... Colored layer 2R ... Red colored part 2G ... Green colored part 2B ... Blue colored part 3 ... Color conversion layer 3R ... Red color conversion part 3G ... Green color conversion part 4 ... Light-shielding part 5 ... Flattening layer 6 ... Gas barrier layer 10 ... Color filter substrate for organic EL element 11 ... Transparent electrode layer 12 ... Organic EL layer 13 ... Counter electrode layer 14 ... Insulating layer 15 ... Partition
20 ... Organic EL display device

Claims (6)

透明基材と、前記透明基材上にパターン状に形成され、赤色着色部、緑色着色部および青色着色部を有する着色層と、前記赤色着色部上に形成された赤色色変換部を少なくとも有する色変換層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子用カラーフィルタ基板であって、
前記赤色色変換部の面積が、前記緑色着色部上に形成される緑色色変換部および前記青色着色部上に形成される青色色変換部の各々の面積よりも大きく、
前記緑色着色部上に前記赤色色変換部が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用カラーフィルタ基板。
At least a transparent substrate, a colored layer formed in a pattern on the transparent substrate, having a red colored portion, a green colored portion, and a blue colored portion, and a red color conversion portion formed on the red colored portion A color filter substrate for an organic electroluminescence device having a color conversion layer,
The area of the red color conversion part is much larger than the respective areas of the blue color conversion part is formed on the green colored green color conversion part which is formed on part and the blue colored portion on,
The color filter substrate for an organic electroluminescence element , wherein the red color conversion portion is formed on the green coloring portion .
前記緑色色変換部および前記青色色変換部が形成されていないことを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用カラーフィルタ基板。 The color filter substrate for an organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the green color conversion part and the blue color conversion part are not formed. 前記色変換層上に平坦化層が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用カラーフィルタ基板。 The color filter substrate for an organic electroluminescence element according to claim 1, wherein a planarization layer is formed on the color conversion layer. 前記色変換層上にガスバリア層が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用カラーフィルタ基板。 The color filter substrate for an organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 3, wherein a gas barrier layer is formed on the color conversion layer. 前記透明基材上の前記各着色部の間に遮光部が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用カラーフィルタ基板。 The color filter substrate for an organic electroluminescent element according to any one of claims 1 to 4 , wherein a light-shielding portion is formed between the colored portions on the transparent base material. . 請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用カラーフィルタ基板と、前記有機エレクトロルミネッセンス素子用カラーフィルタ基板の色変換層側表面上に形成された透明電極層と、前記透明電極層上に形成され、二色発光光源により白色発光する白色発光層を少なくとも含む有機エレクトロルミネッセンス層と、前記有機エレクトロルミネッセンス層上に形成された対向電極層とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 The color filter substrate for organic electroluminescence elements according to any one of claims 1 to 5, and a transparent electrode layer formed on a color conversion layer side surface of the color filter substrate for organic electroluminescence elements And an organic electroluminescent layer including at least a white light emitting layer that is formed on the transparent electrode layer and emits white light from a two-color light source, and a counter electrode layer formed on the organic electroluminescent layer. An organic electroluminescence display device.
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