JP4642918B1 - 半導体基板の回転保持装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】サセプタ12は回転駆動軸15に対して上下方向において着脱可能に固定されると共に、半導体基板が載置される複数の基板ホルダ14が配置される開口部13は、上記サセプタ12の厚さ方向において貫通して形成され、上記サセプタ12の下方には上記基板ホルダ15が上下方向において解除可能に係合して、上記サセプタ12の回転により基板ホルダ14が回転しうる係合部16が設けられている。
【選択図】図1
Description
図22及び図23に示すように、このような従来の半導体基板の回転保持装置60は、円盤状に形成されて回転動するサセプタ61と、円盤状に形成され、上記サセプタ61に開設された複数の開口部62内に着脱可能に配置されると共に上記サセプタ61の回転により上記開口部62内で回転するように形成され、上面部には半導体基板が載置される複数の基板ホルダ63とを有している。
そして、上記基板ホルダ63上に半導体基板が載置され、反応炉内において所定の環境下において複数種類の気相物質を半導体素子に供給し、高温で反応させることにより半導体基板上に膜を形成するものである。
その結果、上記リング状フレーム部64の歯部67への、基板ホルダ63の歯部67を適切かつスムーズに歯合させることは困難であることから、ロボットアームを有する搬送装置を使用して反応炉へサセプタ1を搬送することは困難である。
その結果、膜が形成された半導体基板の交換作業が非常に煩雑であり、生産効率が良好ではない、という不具合が存していた。
その結果、径方向に配置された各基板ホルダ63の間が大きく離間してしまい、サセプタ61の中央部に大きな空隙Sが形成されてしまうことから、反応炉内において複数種類の気相物質が供給された場合であっても、上記空隙Sに滞留する気相物質は基板の膜形成に有効に寄与しないことから、気相物質の供給効率が良好ではない、という不具合が存していた。
しかしながら、このような「ガスホイール法」にあっては、ガスを供給しながら基板ホルダーをサセプタから浮上させつつ回転動させるように構成されていることから、半導体基板に膜を形成するための気相物質とは異なるガスが供給されることから、基板ホルダー近傍において供給される膜形成のための気相物質の流れを阻害し、膜の形成が充分に行われない場合がある、という問題点を有していた。
その結果、搬送装置を装備することにより上記サセプタを搬送して回転駆動軸から取り外して搬送することができると共に、サセプタを搬送して回転駆動軸に装着することができる。
また、上記第一の係合突起は上記第二の係合突起に対して上下方向において係合させることができると共に、上下方向において係合を解除することが可能となる。
従って、請求項4記載の発明にあっては、上記いずれの基板ホルダも互いに近接して配置される。
図1及び図2に示すように、本実施の形態に係る半導体基板の回転保持装置10は、有機金属気相成長法により半導体基板に気相状態で膜を形成するために反応炉内において使用され、円盤状に形成されて回転動するサセプタ12と、円盤状に形成され、上記サセプタ12に開設された3つの開口部13内に着脱可能に配置されると共に上記サセプタ12の回転により上記開口部13内で回転するように形成され、上面部には半導体基板が載置される複数の基板ホルダ14と、上記サセプタ12の下方に設けられ、上記サセプタ12を回転させる回転駆動軸15とを有している。
図1及び図2に示すように、上記サセプタ12は、薄型円盤状のサセプタ本体17と、上記サセプタ本体17の周縁上縁部において全周に亘って固定されるサセプタリング18とにより構成されている。
本実施の形態にあっては、図4及び図5に示すように、サセプタ12は直径145mmに形成され、上記開口部13は、直径寸法は55.2mmであって、中心間半径Lは37mmであって、互いに等間隔に3つ開設され、上記開口部13には上記基板ホルダ14が夫々配置されている。本実施の形態にあっては、上記開口部13は、互いに120度の角度位置に配置されている。
図4〜図6に示すように、上記サセプタ本体17は、裏面側中心部に突設された上記回転駆動軸15との接合部21と、周縁下部に形成された周縁突部22とを備えている。
図2に示すように、上記回転駆動軸15は全体細長円柱状に形成され、反応炉内において適宜の回転駆動部に接合されて配設されている。
また、図7に示すように、上記回転駆動軸15の周囲には、上記サセプタ12を下方から加熱するように複数のヒータ31が、サセプタ12の径方向の略全域に亘って配設されている。
図2、図7、図14、図20又は図21に示すように、上記サセプタ12の周縁部下方には、サセプタ12が上記回転駆動軸15に接合された場合に基板ホルダ14に係合して基板ホルダ14を回転させる係合部16が配設されている。
上記第一の係合突起33は、上記係合部16の上面部35の幅方向内側半部に形成され、幅方向外側半部には、サセプタ載置部32上に、図10に示すサセプタスリップリング34が固定される。
上記サセプタスリップリング34は平面リング状に形成され、配設された場合には、上記サセプタ本体17の周縁下面部に当接してサセプタ12が円滑に回転するように構成されている。
図11〜図13に示すように、上記開口部13に配置される基板ホルダ14は、小型であって薄型の円盤状に形成され、基板ホルダ本体部36と、上記基板ホルダ本体部36の上部により大径に形成された基板載置部37とにより構成されている。
上記基板載置部37の厚さ寸法は、図3に示す上記基板ホルダスリップリング19の段部20の表面と基板ホルダスリップリング19の表面44との間隔寸法と同一に形成され、上記基板ホルダ本体部36の厚さ寸法は、上記段部表面と基板ホルダスリップリング19の裏面45との間の間隔寸法と同一に形成されている。
第二の係合突起38は、上記第一の係合突起33と同様に、長さ寸法3.5mm、幅寸法1mm、高さ寸法1.3mmに形成され、本実施の形態にあっては全体として24個、放射状に配設されている。
その結果、上記第一の係合突起33と上記第二の係合突起38は相互に間隙を以って係合するように構成されている。
また、図14及び図15に示すように、サセプタ搬送装置41は、上記サセプタ12を保持する一対の搬送アーム部42,42を備えている。上記搬送アーム部42,42は、上記サセプタ12の周縁突部22を保持するように構成されており、周縁突部22を下方から支持できるように内側断面略L字形状の支持部43が設けられている。
上記サセプタ搬送装置41は、図示外の適宜の構成のアクチュエータと、当該アクチュエータにより駆動される搬送アーム部42,42と、搬送アーム部42,42がサセプタの周縁突部22を把持するように移動制御できるように、上記アクチュエータに検出信号を送付する適宜の構成のセンサーとを備え、反応炉外部に置いてあるサセプタ12を把持して反応炉内へ搬送し、回転駆動軸15に接合させると共に、係合部16に係合させると共に、サセプタ12を回転駆動軸15から取り外し、反応炉外部へ搬送することもできるように構成されている。
以下に、本実施の形態に係る半導体基板の回転保持装置を使用して半導体基板に有機金属気相成長法により半導体基板に気相状態で膜を形成する場合について説明する。
先ず、上記サセプタ12の3つの開口部13,13,13に、夫々、図3に示す基板ホルダスリップリング19,19,19をはめ込む。その後、図1及び図2に示すように、夫々の開口部13,13,13に各々基板ホルダ14を、上記基板ホルダスリップリング19上に固定する。
この状態で、回転駆動軸15が回転駆動部からの回転駆動力により、例えば、毎分2回転で回転し始めると、サセプタ12が係合部16のサセプタスリップリング34上で毎分2回転で回転を開始する。この場合、3機の基板ホルダ17の第二の係合突起38は係合部16の第一の係合突起33と係合していることから、サセプタ12の回転に伴い、上記3機の基板ホルダ17も開口部13内において回転し始める。
このように第二の係合突起38が第一の係合突起33に重なって配置された場合には、図15に示すように、サセプタ12の重なって配置された側の端部Aが係合部16上においてやや高くなり、第二の係合突起38が第一の係合突起33の間に配置された端部Bが低く、径方向に沿って僅かに斜めになった状態で係合部16上に配置されることとなる。本実施の形態にあっては、端部Aが斜めに持ち上がる高さは1.1mmである。
そして、有機金属気相成長法に基づいて、例えば、水素ガス、アンモニアガス及びトリメチルガリウム(TMG)の混合ガスを、密閉された反応炉内に供給し、1100℃の温度条件下において、3機の基板ホルダ14上に配置された半導体基板上に窒化ガリウムの結晶を成長させる。
従って、本実施の形態にあっては、上記のように、サセプタ12は回転駆動軸15に対して上下方向において着脱可能に固定されると共に、従来のように平歯車を使用した遊星機構を使用せず、基板ホルダ14の下面部に形成された第二の係合突起38と上記係合部16の上面に形成された第一の係合突起33とが上下方向において係合する遊星機構を構成していることから、上記サセプタ12の、上記回転駆動軸15に対する上下方向における取り外し及び取り付けが容易に可能となる。
その結果、反応炉内において複数種類の気相物質が供給された場合に、上記気相物質が空隙部に滞留して基板の膜形成に有効に寄与しない、という事態を防止でき、その結果、気相物質が無駄になることがなく、気相物質の供給効率を向上させることができる。
12 サセプタ
13 開口部
14 基板ホルダ
15 回転駆動軸
16 係合部(支持部材)
17 サセプタ本体
18 サセプタリング
19 基板ホルダスリップリング
20 段部
21 接合部
22 周縁突部
23 膨出部
24 凹部
25 段部
26 接合受部
27 回転駆動軸本体部
28 接合上端面部
29 円環状保持部
30 突起部
31 ヒータ
32 サセプタ載置部
33 第一の係合突起
34 サセプタスリップリング
35 上面部
36 基板ホルダ本体部
37 基板載置部
38 第二の係合突起
39 凹部
40 周縁下部
41 サセプタ搬送装置
42 搬送アーム部
43 支持部
44 表面
45 裏面
60 半導体基板の回転保持装置
61 サセプタ
62 開口部
63 基板ホルダ
64 リング状フレーム部
65 開口部
66 回転軸部
67 歯部
68 平歯車
69 平歯車
71 歯部
Claims (5)
- 有機金属気相成長法により半導体基板に気相状態で膜を形成するために反応炉内において使用され、円盤状に形成されて回転動するサセプタと、円盤状に形成され、上記サセプタに開設された複数の開口部内に着脱可能に配置されると共に上記サセプタの回転により上記開口部内で回転するように形成され、上面部には半導体基板が載置される複数の基板ホルダと、上記サセプタの下方に設けられ、上記サセプタを回転させる回転駆動軸とを有する半導体基板の回転保持装置であって、
上記サセプタは回転駆動軸に対して上下方向において着脱可能に固定されると共に、上記開口部は、上記サセプタの厚さ方向において貫通して形成され、
上記サセプタの下方には上記基板ホルダが上下方向において解除可能に係合して、上記サセプタの回転により基板ホルダを上記開口部内において回転させる係合部が設けられ、
上記係合部は平面リング状の支持部材により形成され、上記支持部材の上面部には、周方向に沿って一定間隔を置いて複数の第一の係合突起が放射状に配設されると共に、上記基板ホルダの下面部には、上記第一の係合突起に係合しうる複数の第二の係合突起が周縁部に沿って放射状に配設され、上記開口部内に上記基板ホルダが配置された場合には、上記第二の係合突起は上記開口部下方に突出配置されて上記第一の係合突起と係合することを特徴とする半導体基板の回転保持装置。 - 上記第一の係合突起は、上記係合部の厚さ方向に沿って上方に突出する複数の細長直方体により形成されると共に、上記第二の係合突起は、基板ホルダの厚さ方向に沿って下方に突出する複数の細長直方体により形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体基板の回転保持装置。
- 上記互いに隣接する第一の係合突起の間隔寸法は、上記第二の係合突起の幅寸法よりも大きな間隔寸法に形成されていると共に、上記互いに隣接する第二の係合突起の間隔寸法は、上記第一の係合突起の幅寸法よりも大きな間隔寸法に形成され、上記第一の係合突起と上記第二の係合突起は相互に間隙を以って係合することを特徴とする請求項2記載の半導体基板の回転保持装置。
- 上記開口部は、直径寸法が上記サセプタの半径寸法と略同一に形成され、互いに等間隔に3つ開設され、上記開口部には上記基板ホルダが夫々配置されていることを特徴とする請求項1記載の半導体基板の回転保持装置。
- 上記回転駆動軸の上端部には、複数の突起部が設けられると共に、上記サセプタの中心部には、上記突起部が上下方向において解除可能に挿入係合されうる複数の凹部が形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体基板の回転保持装置の回転保持装置。
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