JP4637916B2 - 化学的方法および製造装置 - Google Patents

化学的方法および製造装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4637916B2
JP4637916B2 JP2007545411A JP2007545411A JP4637916B2 JP 4637916 B2 JP4637916 B2 JP 4637916B2 JP 2007545411 A JP2007545411 A JP 2007545411A JP 2007545411 A JP2007545411 A JP 2007545411A JP 4637916 B2 JP4637916 B2 JP 4637916B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluid
product fluid
reactor
eductor
diluted product
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2007545411A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2008522941A (ja
Inventor
チャールズ、ゲーリー
オルソン、ダニエル、ディ.
ブライアント、パトリック、エス.
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Akzo Nobel NV
Original Assignee
Akzo Nobel NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Akzo Nobel NV filed Critical Akzo Nobel NV
Publication of JP2008522941A publication Critical patent/JP2008522941A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4637916B2 publication Critical patent/JP4637916B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02Oxides of chlorine
    • C01B11/022Chlorine dioxide (ClO2)
    • C01B11/023Preparation from chlorites or chlorates
    • C01B11/025Preparation from chlorites or chlorates from chlorates without any other reaction reducing agent than chloride ions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02Oxides of chlorine
    • C01B11/022Chlorine dioxide (ClO2)
    • C01B11/023Preparation from chlorites or chlorates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02Oxides of chlorine
    • C01B11/022Chlorine dioxide (ClO2)
    • C01B11/023Preparation from chlorites or chlorates
    • C01B11/026Preparation from chlorites or chlorates from chlorate ions in the presence of a peroxidic compound, e.g. hydrogen peroxide, ozone, peroxysulfates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02Oxides of chlorine
    • C01B11/022Chlorine dioxide (ClO2)
    • C01B11/023Preparation from chlorites or chlorates
    • C01B11/027Preparation from chlorites or chlorates from chlorate ions in the presence of a nitrogen compound selected from nitrogen dioxide, nitrate or nitrite ions, nitrosylchloride, hydrazine or hydrazine compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B11/00Oxides or oxyacids of halogens; Salts thereof
    • C01B11/02Oxides of chlorine
    • C01B11/022Chlorine dioxide (ClO2)
    • C01B11/028Separation; Purification

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geology (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

本発明は、二酸化塩素を含む水溶液を製造するための方法および製造装置に関する。
二酸化塩素は、パルプ漂白、脂肪漂白、水浄化ならびに産業廃棄物からの有機材料の除去などの様々な用途に用いられる。二酸化塩素は貯蔵的に安定でないため、一般的には現場で製造される。
大規模工程では、二酸化塩素は通常ではアルカリ金属塩素酸塩を水性反応液中の還元剤と反応させて製造される。例えば特許文献1および特許文献2や特許文献3などに記載された工程のように、二酸化塩素は反応媒体からガスとして回収できる。通常では、二酸化塩素は次いで水に吸収されて、その水溶液となる。このような大規模工程は極めて効率的であるが、大型の工程装置および計装機器を必要とする。
浄水分野あるいは小形漂白プラントなどの小規模装置において二酸化塩素を製造するためには、二酸化塩素を反応媒体から分離するのではなく、二酸化塩素を含む溶液を反応装置から直接的に、かつオプション的には水による希釈後に、回収するのが好ましい。そのような工程は近年では工業化されており、例えば特許文献4、特許文献5、特許文献6、特許文献7、特許文献8ならびに特許文献9および特許文献10に記載されている。所要の工程装置および計装機器は、上記の大規模工程の場合よりも比較的小型ではあるが、さらに改良を加える必要がある。
二酸化塩素を含む溶液を反応装置から直接的に回収するアルカリ金属塩素酸塩をベースとする方法では、再生紙漂白、バガス漂白、あるいは小規模パルプ漂白などの多くの用途に対して望まれるような高濃度の二酸化塩素を含む溶液を得ることが困難であった。
米国特許第5091166号 米国特許第5091167号 欧州特許第612686号 米国特許第2833624号 米国特許第4534952号 米国特許第5895638号 米国特許第6387344号 米国特許第6790427号 米国特許出願公開第2004/0175322号 米国特許出願公開第2003/0031621号
本発明の目的は、高濃度の水溶液中の二酸化塩素を直接的に製造できる簡略な方法を提供することである。
本発明の別の目的は、前記方法を実施するための製造装置を提供することである。
驚異的に可能なのが判明したのは、下記の連続工程を含む二酸化塩素を製造するための連続的方法を提供することにより、これらの目的が達成できることである:
a) 酸、過酸化水素およびアルカリ金属塩素酸塩を反応装置に供給する工程;
b) 前記アルカリ金属塩素酸塩を酸および過酸化水素と反応させて、二酸化塩素、酸素および前記酸のアルカリ金属塩を含む製品流体を生成する工程;
c) 前記製品流体を前記反応装置からエダクターヘ供給し、それをエダクターに送り込まれた駆動水と混合させることにより、希釈された製品流体を生成する工程;
d) 前記の希釈された製品流体から酸素を除去する工程;
e) 酸素を除去する前記工程前、工程中あるいは工程後に、前記希釈された製品流体の一部を回収する工程;
f) 前記希釈された製品流体の未回収部分に水を加えて、リサイクル流体を生成する工程;および
g) 前記リサイクル流体をエダクターに戻して、それをエダクターに対する駆動水として供給する工程。
前記反応装置およびエダクターは、ここに参考文献として導入される前述の特許文献4、特許文献5、特許文献6、特許文献7、特許文献8ならびに特許文献9および特許文献10に記載されたように稼働させることができる。
前記アルカリ金属塩素酸塩は、好ましくは水溶液として前記反応装置に供給される。前記アルカリ金属は例えばナトリウム、カリウムあるいはそれらの混合物とすることができるが、最も好ましいのはナトリウムである。前記酸として好ましいのは硫酸、塩酸、硝酸、過塩素酸あるいはそれらの混合物などの鉱酸であるが、最も好ましいのは硫酸である。前記反応装置に供給されたH対ClO のモル比は、適切には0.2:1からおよそ2:1、好ましくはおよそ0.5:1からおよそ1.5:1、最も好ましくはおよそ0.5:1からおよそ1:1である。アルカリ金属塩素酸塩は常に不純物としてある程度の塩化物を含むが、金属塩化物または塩酸などのより多くの塩化物を反応装置に供給することは全く可能である。しかし、塩素の生成を最小限にするためには、反応装置に供給される塩化イオン量を低く、適切にはClO のおよそ1モル% Cl以下、好ましくはおよそ0.1モル% Cl以下、より好ましくはおよそ0.05モル% Cl以下、最も好ましくはおよそ0.02モル% Cl以下に抑えることが望ましい(塩素酸塩中の不純物としての塩化物およびオプション的に添加された別の塩化物を含む)。
反応装置への供給物として硫酸を用いた場合には、その濃度はおよそ60からおよそ98重量%が好ましく、およそ70からおよそ85重量%が最も好ましく、また温度はおよそ0からおよそ80℃が好ましく、およそ20からおよそ60℃が最も好ましい。製造すべきClOのkgあたり、好ましくはおよそ2からおよそ7kg HSO、最も好ましくはおよそ3からおよそ5kg HSOが供給される。高濃度の硫酸を使用するために、好ましくは特許文献9に記載されたような希釈および冷却方式が適用される。
特に好ましい実施形態において、アルカリ金属塩素酸塩および過酸化水素は、例えば特許文献7において記載されたような組成の予備混合水溶液の形態で反応装置に供給される。そのような組成は、およそ1からおよそ6.5モル/リットル、好ましくはおよそ3からおよそ6モル/リットルのアルカリ金属塩素酸塩、およそ1からおよそ7モル/リットル、好ましくはおよそ3からおよそ5モル/リットルの過酸化水素、ならびに少なくともひとつの保護コロイド、ラジカル・スカベンジャーあるいはフォスフォン酸系錯化剤を含む水溶液とすることができるが、該水溶液のpHは適切にはおよそ0.5からおよそ4、好ましくはおよそ1からおよそ3.5、最も好ましくはおよそ1.5から3である。好ましくは、少なくともひとつのフォスフォン酸系錯化剤が存在し、好ましい量はおよそ0.1〜およそ5ミリモル/リットル、最も好ましい量はおよそ0.5からおよそ3ミリモル/リットルである。保護コロイドが存在するならば、その濃度は好ましくはおよそ0.001からおよそ0.5モルリットル、最も好ましくはおよそ0.02からおよそ0.05モル/リットルである。ラジカル・スカベンジャーが存在するならば、その濃度は好ましくはおよそ0.01からおよそ1モル/リットル、最も好ましくはおよそ0.02からおよそ0.2モル/リットルである。特に好ましい組成物は、以下のグループから選択された少なくともひとつのフォスフォン酸系錯化剤を含む:1−ヒドロキシエチルイデン−1,1−ジフォスフォン酸、1−アミノエタン−1,1−ジフォスフォン酸、アミノトリ(メチレンフォスフォン酸)、エチレン・ジアミン・テトラ(メチレンフォスフォン酸)、ヘキサメチレン・ジアミン・テトラ(メチレンフォスフォン酸)、ジエチレントリアミン・ペンタ(メチレンフォスフォン酸)、ジエチレントリアミン・ヘキサ(メチレンフォスフォン酸)、1−アミノアルカン−1,1−ジフォスフォン酸(モリフォルノメタン・ジフォスフォン酸、N,N−ジメチル・アミノジメチル・ジフォスフォン酸、アミノメチル・ジフォスフォン酸)、反応生成物およびそれらの塩、好ましくはナトリウム塩。有用な保護コロイドとして挙げられるのは、アルカリ金属錫酸塩、特にナトリウム錫酸塩(Na2(Sn(OH)6)などのスズ化合物である。有用なラジカル・スカベンジャーとして挙げられるのは、2,6−ピリジン・ジカルボン酸などのピリジン・カルボン酸である。適正な塩化物イオン量はおよそ300ミリモル/リットル以下、好ましくはおよそ50ミリモル/リットル以下、より好ましくはおよそ5ミリモル/リットル以下、さらに最も好ましくはおよそ0.5ミリモル/リットル以下である。
前記反応装置中の温度は通常の圧力下での反応物及び製品流体の沸点以下に、好ましくはおよそ20からおよそ80℃、最も好ましくはおよそ30から60℃に適切に維持される。反応装置内で維持される圧力は、適切にはやや低大気圧に、好ましくはおよそ30からおよそ絶対100kPaに、最も好ましくはおよそ65からおよそ絶対95kPaである。
前記反応装置は、例えば垂直、水平あるいは傾斜して配置されるひとつあるいはいくつかの容器から構成できる。前記反応物は、反応装置に対して直接的に、あるいは別個の混合装置を介して供給できる。適切には、該反応装置は好ましくは実質的に管状の貫流容器またはパイプであり、最も好ましくは反応物を実質的に均一に混合するための手段を含む。そのような混合手段は、例えば特許文献8および特許文献9に記載されている。
使用される反応装置の長さ(主流動方向)は、好ましくはおよそ150からおよそ1500mm、最も好ましくはおよそ300からおよそ900mmである。有利なのが判明したのは、内径およそ25からおよそ300mm、好ましくはおよそ50からおよそ150mmの実質的に管状の反応装置を用いることである。特に有利なのは、長さ対内径の好ましい比率およそ12:1からおよそ1:1、最も好ましくはおよそ8:1からおよそ4:1を有する実質的に管状の反応装置を用いることである。該反応装置における適切な平均滞留時間は、大抵はおよそ1からおよそ60秒、好ましくはおよそ3からおよそ20秒である。
アルカリ金属塩素酸塩、酸および過酸化水素の反応により、反応装置内に製品流体が生成されるが、それは通常は液体および泡からなり、また二酸化塩素、酸素、酸のアルカリ金属塩、さらにほとんどの場合に未反応の残留化学物質を含んでいる。二酸化塩素と酸素は、液体中に溶解して、また気体泡としても存在するかもしれない。硫酸を使用したならば、アルカリ金属塩は硫酸塩である。達成可能なことが判明したのは、アルカリ金属塩素酸塩対二酸化塩素の転換度およそ75パーセントから100パーセント、好ましくはおよそ80パーセントから100パーセント、最も好ましくはおよそ95パーセントから100パーセントである。
酸、アルカリ金属塩素酸塩および還元剤などを含む供給化学物質は好ましくは反応装置の一端に供給され、製品流体は好ましくは反応装置の他端で回収される。
あらゆる液体、泡および気体を含む反応装置から回収された製品流体は、好ましくはエダクターにより形成された吸引力によってエダクターに装入される。次に、該製品流体はエダクターに供給された駆動水と混合されて、希釈された製品流体となる。あらゆる種類のエダクターが使用できるが、特に好ましいのは特許文献8において記載されたような駆動水が少なくとも部分的に螺旋状をなして流入するエダクターを使用することである。
エダクターから得られた希釈された製品流体は、尚も二酸化塩素、酸素および酸のアルカリ金属塩を含む。あらゆる適切な手段、例えば通気孔を備えたサイクロン分離装置、通気弁を備えた大径パイプ、レベルコントローラおよび自動通気弁あるいは液体流からの空気などの不活性ガスを分離するためのあらゆる他の既存手段を備えた分離装置などにより、少なくとも酸素の一部を除去すべきである。好ましい実施形態では、希釈された製品流体は通気タンクに装入され、そこで少なくとも酸素の一部を液体から放出させるために十分な時間だけ保持される。二酸化塩素の損失を最小限にするために、タンク内温度は好ましくはおよそ1から20℃、最も好ましくはおよそ4から10℃に維持される。
希釈された製品流体の一部、すなわち、好ましくはおよそ10からおよそ90パーセント、最も好ましくはおよそ20からおよそ80パーセント、特に最も好ましくは30からおよそ70パーセントが回収されて、本方法からの実際製品つまり好ましくは4グラム/リットル以上の濃度の二酸化塩素を含む水溶液を構成する。これは、酸素の除去前、除去中または除去後にすることができる。酸素を通気式タンクにおいて除去する場合には、実際の製品を構成すべき希釈された製品流体の部分を当該タンクから回収することが好ましい。
前記希釈された製品流体の未回収部分に水を加えてリサイクル流体を生成するが、このリサイクル流体中の二酸化塩素濃度が好ましくはおよそ2からおよそ12グラム/リットル、最も好ましくはおよそ3からおよそ6グラム/リットルとなる量を用いる。この添加水の温度はリサイクル流体温度を20℃以下、好ましくは15℃以下、最も好ましくは10℃以下、特に最も好ましくは5℃以下とするために十分に低くすべきである。熱交換器などの他の冷却手段を使用することもできる。凝結点以下にならないかぎり、下方の温度限界はない。次に、前記リサイクル流体は駆動水としてエダクターに供給され、そこで反応装置からの製品流体と混合される。
本発明の方法は特に小規模の二酸化塩素の製造、例えばおよそ0.5からおよそ250kg ClO/時、好ましくはおよそ10から150kg ClO/時の製造に適している。別途の吸収塔なしで稼動される他の塩素酸塩ベースの方法とは異なり、本発明の方法は高濃度の二酸化塩素溶液を例えばおよそ4からおよそ10グラム/リットルまたはそれ以上製造することができる。
本発明の典型的な小規模製造装置は、通常は反応装置1基のみで構成されるが、例えば管束として複数の反応装置、つまりおよそ15基またはそれ以上の反応装置を並置することもできる。
本発明はさらに二酸化塩素を含む水溶液を製造するための製造装置に関するが、該装置は下記機器から構成される:
a) 酸、過酸化水素およびアルカリ金属塩素酸塩に対するひとつまたはそれ以上の供給口を備えた反応装置;
b) 前記反応装置と接続され、また駆動水用入り口ならびに希釈された製品流体を得るために反応装置からの製品流体を駆動水と混合するための手段を備えたエダクター;
c) 前記エダクターから得られた希釈された製品流体から酸素を除去するための手段;
d) 前記希釈された製品流体の一部を回収するための手段;
e) リサイクル流体を得るために、前記希釈された製品流体の未回収部分に水を加えるための手段;ならびに
f) 前記リサイクル流体を駆動水としてエダクターに供給するための手段。
製造装置の好ましい特徴については、上記の工程説明を参照すべきである。
本発明の実施形態について、添付図面に関連して以下に説明する。但し、本発明の範囲はこの実施形態に限定されない。
(図面の簡単な説明)
同図は、本発明の工程ラインを概略的に示している。
図に言及するならば、硫酸ならびに塩素酸ナトリウムおよび過酸化水素の予備混合溶液を垂直型貫流式管状反応装置1に供給し、そこで反応させて、二酸化塩素、酸素、硫酸ナトリウム、残留している硫酸および塩素酸ナトリウムを含む液体および泡状の製品流体2を生成する。エダクター3に駆動水4を供給してわずかに低大気圧力を生成し、製品流体を反応装置1からエダクター3へ装入し、そこで前記駆動水と混合して希釈された製品流体5を生成し、タンク6に入れる。前記希釈された製品流体の一部は、ポンプ8によって最終製品9つまり二酸化塩素を含む水溶液としてタンクから回収される。タンク6は酸素を排出するためのファン7を備えており、酸素は前記希釈された製品流体から分離される。前記希釈された製品流体の回収されなかった部分はポンプ10によってタンク6から排出されて、例えばおよそ1からおよそ20℃、好ましくはおよそ4からおよそ10℃の温度を持つ冷水11と混合されて、リサイクル流体12を生成する。タンク6から排出されたガスには二酸化塩素もある程度含まれ得るため、その損失を最小とすべくガスを水で洗浄して、大半の二酸化塩素(図示せず)を吸収し、前記希釈された製品流体またはリサイクル流体に戻すことができる。リサイクル流体12はエダクターに戻されて、駆動水4として供給される。製品溶液9のリットルあたり6グラムのClOを製造する工程において、前記エダクターの効率に応じて、リットルあたりおよそ3からおよそ4.5グラムのClOを含むリサイクル流体12を得るために十分な水を添加することが望ましい。製品溶液9のリットルあたり10グラムのClOを製造するためには、リットルあたりおよそ7グラムのClOを含むリサイクル流体12を得るために十分な水を添加することが望ましい。
反応装置1、エダクター3およびタンク6を含む本方法の装置は、好ましくはそれらが接触する過酸化水素、塩素酸ナトリウム、硫酸、二酸化塩素などの化学物質に抵抗力を有する材料から製造される。そのような材料として挙げられるのは、例えばガラス、タンタル、チタン、繊維ガラス補強プラスチック、さらにPVDF(フッ化ポリビニリデン)、CPVC(塩素処理ポリ塩化ビニル)、PTFE(ポリテトラフルオロ・エチレン)、PFA(過フルオロアルコキシ重合体)、ECTFE(エチレン・クロロトリフルオロ・エチレン)あるいはFEP(フッ素処理エチレン・プロピレン)などのフルオロ・プラスチック類であるが、これらの材料は鋼鉄またはステンレス鋼などの構造材に対するライニングとして使用できる。好適なフルオロ・プラスチック類は、Kynar(登録商標)、テフロン(登録商標)またはHalar(登録商標)で販売されている。
本発明は以下の実施例により説明されるが、それは本発明の範囲を限定するためのものではない。他に記載なき場合には、すべての部およびパーセントは重量部および重量パーセントで記載されている。
図示されたプラントにおいて、硫酸ならびに塩素酸ナトリウムおよび過酸化水素の混合物から二酸化塩素が製造された。開始から1時間後に、下記の状態が観察された:
稼動速度: 45kg/時ClO
製品液(9)の濃度: 5.9g/リットルClO
製品液(9)の流量: 7m/時
リサイクル流体(12)の流量: 26m/時
冷水(11)の流量: 7.5m/時
冷水(11)の温度: 10℃
タンク(6)の温度: 14℃
同図は、本発明の工程ラインを概略的に示している。
符号の説明
1:反応装置、2、5:製品流体、3:エダクター、4:駆動水、6:タンク、7:ファン、8、10:ポンプ、9:最終製品、11:冷水、12:リサイクル流体。

Claims (12)

  1. 下記の連続工程を含む二酸化塩素を含む水溶液の製造方法:
    a) 酸、過酸化水素およびアルカリ金属塩素酸塩を反応装置に供給する工程;
    b) 前記アルカリ金属塩素酸塩を酸および過酸化水素と反応させて、二酸化塩素、酸素および前記酸のアルカリ金属塩を含む製品流体を生成する工程;
    c) 前記製品流体を前記反応装置からエダクターヘ供給し、それをエダクターに送り込まれた駆動水と混合させることにより、希釈された製品流体を生成する工程;
    d) 前記の希釈された製品流体から酸素を除去する工程;
    e) 酸素を除去する前記工程前、工程中あるいは工程後に、前記希釈された製品流体の一部を回収する工程;
    f) 前記希釈された製品流体の未回収部分に水を加えて、リサイクル流体を生成する工程;および
    g) 前記リサイクル流体をエダクターに戻して、それをエダクターに対する駆動水として供給する工程。
  2. 前記リサイクル流体を生成するために加えられた水がリサイクル流体の温度を20℃以下に維持するために十分に低い温度を有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記リサイクル流体を生成するために加えられた水がリサイクル流体中の二酸化塩素濃度をグラム/リットルから12グラム/リットルとする量で加えられることを特徴とする請求項1ないし2のいずれか一項に記載の方法。
  4. 前記希釈された製品流体が通気式タンクに装入され、そこで少なくともある程度の酸素が排出されるために充分な時間だけ保持されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記工程(e)において回収された希釈された製品流体が前記通気式タンクから回収されることを特徴とする請求項4に記載の方法。
  6. 前記通気式タンク内の温度がから20℃に維持されることを特徴とする請求項4ないし5のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記希釈された製品流体の10から90%が前記工程(e)において回収されることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記希釈された製品流体が二酸化塩素の4グラム/リットル以上を含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 前記酸が硫酸であることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 前記反応装置が貫流式容器またはパイプであることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 酸、アルカリ金属塩素酸塩および過酸化水素は反応装置の一端に密着して供給され、製品流体は反応装置の他端で回収されることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一項に記載の方法。
  12. 二酸化塩素を含む水溶液を製造するための下記機器により構成される製造装置:
    a) 酸、過酸化水素およびアルカリ金属塩素酸塩に対するひとつまたはそれ以上の供給口を備えた反応装置;
    b) 前記反応装置と接続され、また駆動水用入り口ならびに希釈された製品流体を得るために反応装置からの製品流体を駆動水と混合するための手段を備えたエダクター;
    c) 前記エダクターから得られた希釈された製品流体から酸素を除去するための手段;
    d) 前記希釈された製品流体の一部を回収するための手段;
    e) リサイクル流体を得るために、前記希釈された製品流体の未回収部分に水を加えるための手段;ならびに
    f) 前記リサイクル流体を駆動水としてエダクターに供給するための手段。
JP2007545411A 2004-12-06 2005-11-11 化学的方法および製造装置 Expired - Fee Related JP4637916B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US63313004P 2004-12-06 2004-12-06
EP05100143 2005-01-12
PCT/SE2005/001703 WO2006062456A1 (en) 2004-12-06 2005-11-11 Chemical process and production unit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008522941A JP2008522941A (ja) 2008-07-03
JP4637916B2 true JP4637916B2 (ja) 2011-02-23

Family

ID=34938506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007545411A Expired - Fee Related JP4637916B2 (ja) 2004-12-06 2005-11-11 化学的方法および製造装置

Country Status (9)

Country Link
EP (1) EP1819635B1 (ja)
JP (1) JP4637916B2 (ja)
AT (1) ATE459574T1 (ja)
AU (1) AU2005312379B2 (ja)
BR (1) BRPI0518029B1 (ja)
CA (1) CA2589721C (ja)
ES (1) ES2341980T3 (ja)
MX (1) MX2007003242A (ja)
WO (1) WO2006062456A1 (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
HUP0600735A2 (en) 2006-09-21 2009-04-28 Zoltan Dr Noszticzius Permeation method and apparatus for preparing fluids containing high-purity chlorine dioxide
TWI447065B (zh) * 2007-07-13 2014-08-01 Akzo Nobel Nv 二氧化氯之製造方法
WO2009077213A1 (de) * 2007-12-19 2009-06-25 Infracor Gmbh Verfahren zur behandlung von wasser mit chlordioxid
DE102010027840A1 (de) * 2010-04-16 2011-10-20 Infracor Gmbh Tauchreaktor
TWI702185B (zh) * 2017-05-04 2020-08-21 優尼克生技股份有限公司 二氧化氯水溶液生產設備

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1192104A (ja) * 1997-09-16 1999-04-06 Chisso Corp 高純度な二酸化塩素水性組成物、その製造方法及び製造装置
JP2004530626A (ja) * 2001-06-25 2004-10-07 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2006513972A (ja) * 2003-03-03 2006-04-27 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2007523040A (ja) * 2004-02-23 2007-08-16 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2007534455A (ja) * 2003-07-11 2007-11-29 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 装置およびそれを用いる方法
JP2008514535A (ja) * 2004-09-24 2008-05-08 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素を製造する方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4744956A (en) * 1986-02-12 1988-05-17 Quantum Technologies, Inc. Continuous reaction of gases with liquids
US20030031621A1 (en) * 2001-05-29 2003-02-13 Alan Gravitt Process and apparatus for the generation of chlorine dioxide using a replenished foam system
US6790427B2 (en) * 2001-06-25 2004-09-14 Eka Chemicals, Inc. Process for producing chlorine dioxide
WO2004103898A1 (en) * 2003-05-19 2004-12-02 The Procter & Gamble Company Compositions, devices and methods for stabilizing and increasing the efficacy of halogen dioxide solutions

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1192104A (ja) * 1997-09-16 1999-04-06 Chisso Corp 高純度な二酸化塩素水性組成物、その製造方法及び製造装置
JP2004530626A (ja) * 2001-06-25 2004-10-07 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2006513972A (ja) * 2003-03-03 2006-04-27 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2007534455A (ja) * 2003-07-11 2007-11-29 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 装置およびそれを用いる方法
JP2007523040A (ja) * 2004-02-23 2007-08-16 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素の製造方法
JP2008514535A (ja) * 2004-09-24 2008-05-08 アクゾ ノーベル エヌ.ブイ. 二酸化塩素を製造する方法

Also Published As

Publication number Publication date
CA2589721A1 (en) 2006-06-15
MX2007003242A (es) 2007-05-23
ES2341980T3 (es) 2010-06-30
AU2005312379A1 (en) 2006-06-15
CA2589721C (en) 2010-05-04
EP1819635B1 (en) 2010-03-03
WO2006062456A1 (en) 2006-06-15
BRPI0518029A (pt) 2008-11-04
AU2005312379B2 (en) 2009-02-19
JP2008522941A (ja) 2008-07-03
BRPI0518029B1 (pt) 2016-11-22
ATE459574T1 (de) 2010-03-15
EP1819635A1 (en) 2007-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4006019B2 (ja) 二酸化塩素の製造方法
US7682592B2 (en) Chemical process and production unit
US6790427B2 (en) Process for producing chlorine dioxide
JP4297910B2 (ja) 二酸化塩素の製造方法
US20070237708A1 (en) Process for the production of chlorine dioxide
US20070116637A1 (en) Process for production of chlorine dioxide
US20050186131A1 (en) Process for production of chlorine dioxide
JP4637916B2 (ja) 化学的方法および製造装置
JP4457114B2 (ja) 二酸化塩素の製造方法
JP5453084B2 (ja) 二酸化塩素の製造法
EP1945566B1 (en) Process for production of chlorine dioxide
RU2417946C2 (ru) Способ получения диоксида хлора

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20090817

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20090817

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100720

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101019

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101022

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101026

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101116

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101124

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131203

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4637916

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees