JP4635132B2 - 連続式成膜装置および方法 - Google Patents
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Description
2 仕込室
3 取出室
4 排気系統
5 排気系統
6 排気系統
7 不活性ガス導入口
8 基板
9 基板トレー
10 搬送手段
11 スパッタリング電極
12 シャワー機構
13 遮蔽板
14 仕切バルブ
15 ターゲット
16 DC電源
17 マスフローコントローラ
18 オゾナイザー
19 酸素ボンベ
20 搬送経路
21 成膜位置
30 ノズル
31 孔
40 マスク機構
Claims (13)
- 排気手段を備える真空槽
該真空槽内で基板表面に成膜材料を堆積させる成膜手段、
該成膜手段に対面する成膜位置に順次該基板を搬送する搬送手段、および
該真空槽内の基板搬送経路付近に配置され、該成膜位置に到達する前の基板の表面にオゾンを吹き付けるオゾン導入手段を備えたことを特徴とする連続式成膜装置。
- 請求項1記載の連続式成膜装置であって、
該オゾン導入手段が、さらに、該成膜位置にある該基板にオゾンを吹き付けることを特徴とする連続式成膜装置。
- 請求項2の連続式成膜装置において、
前記オゾン導入手段が、該成膜位置に供給された基板の外周方向からオゾンを吹き付け、前記成膜手段が、該成膜位置に供給された基板の正面方向から成膜材料を堆積させるように構成された連続式成膜装置。
- 請求項2又は3記載の連続式成膜装置であって、
該オゾン導入手段は、酸素ボンベ、オゾナイザー、オゾナイザー用マスフローコントローラ、および、ノズルを備え、該ノズルからオゾンシャワーを噴出する機構であることを特徴とする連続式成膜装置。
- 請求項1乃至4記載の連続式成膜装置であって、
該オゾン導入手段に、オゾンが該基板表面以外へ拡散するのを防止するための拡散防止手段を設けたことを特徴とする連続式成膜装置。
- 請求項5記載の連続式成膜装置であって、
該拡散防止手段は、該基板の近接位置に配置した該オゾン導入手段を該成膜手段に対して遮蔽する遮蔽板であることを特徴とする連続式成膜装置。
- 請求項1乃至4記載の連続式成膜装置であって、
該搬送手段に非接触駆動伝達機構を用い、該成膜位置に該基板を間隙なく連続的に供給することを特徴とする連続式成膜装置。
- 請求項1乃至4記載の連続式成膜装置であって、
該成膜手段は、該真空槽内に固定配置されターゲット材料を備えるスパッタリング電極であり、該真空槽内に不活性ガスを導入するガス供給手段を備えたことを特徴とする連続式成膜装置。
- 基板の搬送手段、オゾン導入手段及び成膜手段を備えた成膜室内部で、
該オゾン導入手段によりオゾン雰囲気を噴出する工程、
該搬送手段により該オゾン雰囲気中に基板を通過させ、該基板を洗浄する工程、及び
該搬送手段により該基板を成膜位置まで搬送し、該成膜手段により成膜を行う工程
からなることを特徴とする連続式成膜方法。
- 請求項9記載の連続式成膜方法であって、
該オゾン雰囲気が該成膜位置においても形成され、該オゾン雰囲気が該基板表面における成膜材料の酸化を行うことを特徴とする連続式成膜方法。
- 請求項9記載の連続式成膜方法であって、
反応性DCスパッタリング法を用い、該成膜室内の該基板搬送経路上のターゲット前面にオゾン雰囲気を形成し、該オゾン雰囲気が該基板上の有機汚染物質除去とスパッタされたターゲット物質の酸化の双方を行うことを特徴とする連続式成膜方法。
- 請求項9記載の連続式成膜方法であって、前記成膜を行なう工程が、
前記オゾン導入手段によって該成膜位置に供給された基板の外周方向からオゾンを吹き付ける工程、及び
前記成膜手段によって該成膜位置に供給された基板の正面から成膜材料を堆積させる工程
からなる連続式成膜方法。
- 請求項12記載の連続式成膜方法において、
前記オゾンを吹き付ける工程と前記成膜材料を堆積させる工程とが同時に行われることを特徴とする連続式成膜方法。
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