JP4613633B2 - Epoxy compound and epoxy resin cured product - Google Patents

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JP4613633B2 JP2005041873A JP2005041873A JP4613633B2 JP 4613633 B2 JP4613633 B2 JP 4613633B2 JP 2005041873 A JP2005041873 A JP 2005041873A JP 2005041873 A JP2005041873 A JP 2005041873A JP 4613633 B2 JP4613633 B2 JP 4613633B2
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Description

本発明は、エポキシ化合物およびエポキシ樹脂硬化物に関する。   The present invention relates to an epoxy compound and a cured epoxy resin.

4,4’−ジヒドロキシビフェニルから誘導されるエポキシ化合物を硬化せしめたエポキシ樹脂硬化物が知られている(例えば特許文献1参照。)。かかるエポキシ樹脂硬化物は耐熱性に優れる等の特性を有しているが、その原料となるエポキシ化合物は、融点が高く、使用しにくいという問題があった(例えば特許文献1参照。)。   An epoxy resin cured product obtained by curing an epoxy compound derived from 4,4'-dihydroxybiphenyl is known (for example, see Patent Document 1). Such a cured epoxy resin has characteristics such as excellent heat resistance, but the epoxy compound as a raw material has a problem that it has a high melting point and is difficult to use (for example, see Patent Document 1).

特許第2551475号公報Japanese Patent No. 2551475

このような状況のもと、本発明者らは、融点が低く、エポキシ樹脂硬化物の原料となり得る新規なエポキシ化合物を開発すべく鋭意検討したところ、下記式(1)

Figure 0004613633
(式中、R、R、R、R、R、R、RおよびRはそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表わし、RおよびR10はそれぞれ同一または相異なって、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表わす。XおよびXはそれぞれ同一または相異なって、下記(X−1)〜(X−3)で示されるいずれかの基を表わす。
Figure 0004613633
ここで、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19およびR20はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表わす。mは1〜10の整数を表わす。)
で示されるエポキシ化合物が新規であって、融点が低く、また、硬化剤により硬化せしめることによりエポキシ樹脂硬化物を製造できることを見出し、本発明に至った。 Under such circumstances, the present inventors have intensively studied to develop a novel epoxy compound that has a low melting point and can be used as a raw material for the cured epoxy resin.
Figure 0004613633
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, Represents an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group, and R 9 and R 10 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X 1 and X 2 are Each of these groups is the same or different and represents any of the following groups (X-1) to (X-3).
Figure 0004613633
Here, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, 8 represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. m represents an integer of 1 to 10. )
The inventors have found that an epoxy compound represented by the formula (1) is novel, has a low melting point, and can be cured with a curing agent to produce a cured epoxy resin, resulting in the present invention.

すなわち、本発明は、式(1)

Figure 0004613633
(式中、R、R、R、R、R、R、RおよびRはそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表わし、RおよびR10はそれぞれ同一または相異なって、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表わす。XおよびXはそれぞれ同一または相異なって、下記(X−1)〜(X−3)で示されるいずれかの基を表わす。
Figure 0004613633
ここで、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19およびR20はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表わす。mは1〜10の整数を表わす。)
で示されるエポキシ化合物、該エポキシ化合物と硬化剤とを含んでなるエポキシ組成物、該エポキシ組成物を硬化せしめてなるエポキシ樹脂硬化物等を提供するものである。 That is, the present invention provides the formula (1)
Figure 0004613633
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, Represents an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group, and R 9 and R 10 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X 1 and X 2 are Each of these groups is the same or different and represents any of the following groups (X-1) to (X-3).
Figure 0004613633
Here, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, 8 represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. m represents an integer of 1 to 10. )
Are provided, an epoxy composition comprising the epoxy compound and a curing agent, a cured epoxy resin obtained by curing the epoxy composition, and the like.

本発明の新規なエポキシ化合物は、融点が低いため、硬化温度以下で、硬化剤と溶融混合が可能となり、容易に、エポキシ樹脂硬化物が得られる。また、本発明のエポキシ樹脂硬化物は、比較的良好な熱伝導率を示しており、例えばプリント配線基板等の高い熱放散性を要求される絶縁材料としても有用である。   Since the novel epoxy compound of the present invention has a low melting point, it can be melt-mixed with a curing agent at a temperature lower than the curing temperature, and an epoxy resin cured product can be easily obtained. Moreover, the cured epoxy resin of the present invention exhibits a relatively good thermal conductivity, and is useful as an insulating material that requires high heat dissipation such as a printed wiring board.

まず、本発明の新規な下記式(1)

Figure 0004613633
で示されるエポキシ化合物(以下、エポキシ化合物(1)と略記する。)について説明する。
エポキシ化合物(1)の式中、R、R、R、R、R、R、RおよびRはそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表わす。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基等の直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数1〜8のアルキル基が挙げられる。炭素数1〜8のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、1,1,3,3−テトラメチルブトキシ基等の直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数1〜8のアルコキシ基が挙げられる。 First, the following new formula (1) of the present invention
Figure 0004613633
Will be described below (hereinafter abbreviated as epoxy compound (1)).
In the formula of the epoxy compound (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are the same or different and are each a hydrogen atom, a halogen atom, 8 represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n -A linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms such as a hexyl group, an n-octyl group, and a 1,1,3,3-tetramethylbutyl group. Examples of the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, and an n-pentyloxy group. , N-hexyloxy group, n-octyloxy group, 1,1,3,3-tetramethylbutoxy group and the like linear or branched alkoxy groups having 1 to 8 carbon atoms.

また、RおよびR10はそれぞれ同一または相異なって、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表わし、炭素数1〜10のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、n−デシル基等の直鎖状もしくは分枝鎖状の炭素数1〜10のアルキル基が挙げられる。 R 9 and R 10 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and n-propyl. Group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-octyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group And a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as an n-decyl group.

また、XおよびXはそれぞれ同一または相異なって、下記(X−1)〜(X−3)で示されるいずれかの基を表わす。

Figure 0004613633
X 1 and X 2 are the same or different and each represents one of the groups represented by the following (X-1) to (X-3).
Figure 0004613633

ここで、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19およびR20はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表わす。mは1〜10の整数を表わす。ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基および炭素数1〜8のアルコキシ基としては、上記したものと同様のものが挙げられる。(X−1)で示される基としては、例えば1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基等が挙げられ、(X−2)で示される基としては、例えばナフタレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−3,6−ジイル基等が挙げられ、(X−3)で示される基としては、例えば4,4’−ビフェニレン基等が挙げられる。 Here, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, 8 represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. m represents an integer of 1 to 10. Examples of the halogen atom, the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms are the same as those described above. Examples of the group represented by (X-1) include a 1,4-phenylene group and a 1,3-phenylene group. Examples of the group represented by (X-2) include naphthalene-2,6- Examples thereof include a diyl group and a naphthalene-3,6-diyl group. Examples of the group represented by (X-3) include a 4,4′-biphenylene group.

かかるエポキシ化合物(1)としては、例えば2,2’−ビス{4(4−オキシラニルメトキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパン、2,2’−ビス[4−{4−(2−オキシラニルエトキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−{4−(3−オキシラニルプロポキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス{4−(4−オキシラニルメトキシベンゾイルオキシ)フェニル}ブタン、2,2’−ビス[4−{4−(2−オキシラニルエトキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]ブタン、2,2’−ビス[4−{4−(3−オキシラニルプロポキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]ブタン、3,3’−ビス{4−(4−オキシラニルメトキシベンゾイルオキシ)フェニル}ペンタン、3,3’−ビス[4−{4−(2−オキシラニルエトキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]ペンタン、3,3’−ビス[4−{4−(3−オキシラニルプロポキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]ペンタン、2,2’−ビス{4−(2−オキシラニルメトキシ−6−ナフトイルオキシ)フェニル}プロパン、2,2’−ビス[4−{2−(2−オキシラニルエトキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−{2−(3−オキシラニルプロポキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス{4−(2−オキシラニルメトキシ−6−ナフトイルオキシ)フェニル}ブタン、2,2’−ビス[4−{2−(2−オキシラニルエトキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]ブタン、2,2’−ビス[4−{2−(3−オキシラニルプロポキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]ブタン、   Examples of the epoxy compound (1) include 2,2′-bis {4 (4-oxiranylmethoxybenzoyloxy) phenyl} propane, 2,2′-bis [4- {4- (2-oxiranyl). Ethoxy) benzoyloxy} phenyl] propane, 2,2′-bis [4- {4- (3-oxiranylpropoxy) benzoyloxy} phenyl] propane, 2,2′-bis {4- (4-oxira) Nylmethoxybenzoyloxy) phenyl} butane, 2,2′-bis [4- {4- (2-oxiranylethoxy) benzoyloxy} phenyl] butane, 2,2′-bis [4- {4- (3 -Oxiranylpropoxy) benzoyloxy} phenyl] butane, 3,3′-bis {4- (4-oxiranylmethoxybenzoyloxy) phenyl} pentane, 3,3 ′ Bis [4- {4- (2-oxiranylethoxy) benzoyloxy} phenyl] pentane, 3,3′-bis [4- {4- (3-oxiranylpropoxy) benzoyloxy} phenyl] pentane, 2 , 2′-bis {4- (2-oxiranylmethoxy-6-naphthoyloxy) phenyl} propane, 2,2′-bis [4- {2- (2-oxiranylethoxy) -6-naphtho Yloxy} phenyl] propane, 2,2′-bis [4- {2- (3-oxiranylpropoxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] propane, 2,2′-bis {4- (2- Oxiranylmethoxy-6-naphthoyloxy) phenyl} butane, 2,2′-bis [4- {2- (2-oxiranylethoxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] butane, 2,2 ′ -Screw [ - {2- (3-oxiranylmethoxy propoxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] butane,

3,3’−ビス{4−(2−オキシラニルメトキシ−6−ナフトイルオキシ)フェニル}ペンタン、3,3’−ビス[4−{2−(2−オキシラニルエトキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]ペンタン、3,3’−ビス[4−{2−(3−オキシラニルプロポキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]ペンタン、2,2’−ビス[4−{4−(4−オキシラニルメトキシフェニル)ベンゾイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−[4−{4−(2−オキシラニルエトキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−[4−{4−(3−オキシラニルプロポキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−{4−(4−オキシラニルメトキシフェニル)ベンゾイルオキシ}フェニル]ブタン、2,2’−ビス[4−[4−{4−(2−オキシラニルエトキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]ブタン、2,2’−ビス[4−[4−{4−(3−オキシラニルプロポキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]ブタン、3,3’−ビス[4−{4−(4−オキシラニルメトキシフェニル)ベンゾイルオキシ}フェニル]ペンタン、3,3’−ビス[4−[4−{4−(2−オキシラニルエトキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]ペンタン、3,3’−ビス[4−[4−{4−(3−オキシラニルプロポキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]ペンタン等が挙げられる。 3,3′-bis {4- (2-oxiranylmethoxy-6-naphthoyloxy) phenyl} pentane, 3,3′-bis [4- {2- (2-oxiranylethoxy) -6 Naphthoyloxy} phenyl] pentane, 3,3′-bis [4- {2- (3-oxiranylpropoxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] pentane, 2,2′-bis [4- {4 -(4-oxiranylmethoxyphenyl) benzoyloxy} phenyl] propane, 2,2′-bis [4- [4- {4- (2-oxiranylethoxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] propane, 2 , 2′-bis [4- [4- {4- (3-oxiranylpropoxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] propane, 2,2′-bis [4- {4- (4-oxiranylmethoxy) Phenyl Benzoyloxy} phenyl] butane, 2,2′-bis [4- [4- {4- (2-oxiranylethoxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] butane, 2,2′-bis [4- [4 -{4- (3-oxiranylpropoxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] butane, 3,3′-bis [4- {4- (4-oxiranylmethoxyphenyl) benzoyloxy} phenyl] pentane, 3 , 3′-bis [4- [4- {4- (2-oxiranylethoxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] pentane, 3,3′-bis [4- [4- {4- (3-oxy Ranylpropoxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] pentane and the like.

かかるエポキシ化合物(1)は、式(2)

Figure 0004613633
(式中、R、R、R、R、R、R、R、R、R、R10、X、Xおよびmは上記と同一の意味を表わす。)
で示される化合物(以下、化合物(2)と略記する。)と酸化剤とを反応させることにより製造することができる。 The epoxy compound (1) has the formula (2)
Figure 0004613633
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , X 1 , X 2 and m represent the same meaning as described above. )
It can manufacture by making the compound (henceforth abbreviated as a compound (2)) shown by these, and an oxidizing agent react.

かかる化合物(2)としては、例えば2,2’−ビス{4−(4−アリルオキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパン、2,2’−ビス[4−{4−(3−ブテニルオキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−{4−(4−ペンテニルオキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス{4−(4−アリルオキシベンゾイルオキシ)フェニル}ブタン、2,2’−ビス[4−{4−(3−ブテニルオキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]ブタン、2,2’−ビス[4−{4−(4−ペンテニルオキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]ブタン、3,3’−ビス{4−(4−アリルオキシベンゾイルオキシ)フェニル}ペンタン、3,3’−ビス[4−{4−(3−ブテニルオキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]ペンタン、3,3’−ビス[4−{4−(4−ペンテニルオキシ)ベンゾイルオキシ}フェニル]ペンタン、2,2’−ビス{4−(2−アリルオキシ−6−ナフトイルオキシ)フェニル}プロパン、2,2’−ビス[4−{2−(3−ブテニルオキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−{2−(4−ペンテニルオキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス{4−(2−アリルオキシ−6−ナフトイルオキシ)フェニル}ブタン、2,2’−ビス[4−{2−(3−ブテニルオキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]ブタン、2,2’−ビス[4−{2−(4−ペンテニルオキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]ブタン、   Examples of the compound (2) include 2,2′-bis {4- (4-allyloxybenzoyloxy) phenyl} propane, 2,2′-bis [4- {4- (3-butenyloxy) benzoyloxy}. Phenyl] propane, 2,2′-bis [4- {4- (4-pentenyloxy) benzoyloxy} phenyl] propane, 2,2′-bis {4- (4-allyloxybenzoyloxy) phenyl} butane, 2,2′-bis [4- {4- (3-butenyloxy) benzoyloxy} phenyl] butane, 2,2′-bis [4- {4- (4-pentenyloxy) benzoyloxy} phenyl] butane, 3 , 3′-bis {4- (4-allyloxybenzoyloxy) phenyl} pentane, 3,3′-bis [4- {4- (3-butenyloxy) benzoyloxy } Phenyl] pentane, 3,3′-bis [4- {4- (4-pentenyloxy) benzoyloxy} phenyl] pentane, 2,2′-bis {4- (2-allyloxy-6-naphthoyloxy) Phenyl} propane, 2,2′-bis [4- {2- (3-butenyloxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] propane, 2,2′-bis [4- {2- (4-pentenyloxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] propane, 2,2'-bis {4- (2-allyloxy-6-naphthoyloxy) phenyl} butane, 2,2'-bis [4- {2- (3- Butenyloxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] butane, 2,2′-bis [4- {2- (4-pentenyloxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] butane,

3,3’−ビス{4−(2−アリルオキシ−6−ナフトイルオキシ)フェニル}ペンタン、3,3’−ビス[4−{2−(3−ブテニルオキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]ペンタン、3,3’−ビス[4−{2−(4−ペンテニルオキシ)−6−ナフトイルオキシ}フェニル]ペンタン、2,2’−ビス[4−{4−(4−アリルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ}フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−[4−{4−(3−ブテニルオキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−[4−{4−(4−ペンテニルオキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]プロパン、2,2’−ビス[4−{4−(4−アリルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ}フェニル]ブタン、2,2’−ビス[4−[4−{4−(3−ブテニルオキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]ブタン、2,2’−ビス[4−[4−{4−(4−ペンテニルオキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]ブタン、3,3’−ビス[4−{4−(4−アリルオキシフェニル)ベンゾイルオキシ}フェニル]ペンタン、3,3’−ビス[4−[4−{4−(3−ブテニルオキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]ペンタン、3,3’−ビス[4−[4−{4−(4−ペンテニルオキシ)フェニル}ベンゾイルオキシ]フェニル]ペンタン等が挙げられる。 3,3′-bis {4- (2-allyloxy-6-naphthoyloxy) phenyl} pentane, 3,3′-bis [4- {2- (3-butenyloxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] Pentane, 3,3′-bis [4- {2- (4-pentenyloxy) -6-naphthoyloxy} phenyl] pentane, 2,2′-bis [4- {4- (4-allyloxyphenyl) Benzoyloxy} phenyl] propane, 2,2′-bis [4- [4- {4- (3-butenyloxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] propane, 2,2′-bis [4- [4- {4 -(4-pentenyloxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] propane, 2,2'-bis [4- {4- (4-allyloxyphenyl) benzoyloxy} phenyl] butane, 2,2'- [4- [4- {4- (3-Butenyloxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] butane, 2,2′-bis [4- [4- {4- (4-pentenyloxy) phenyl} benzoyloxy] Phenyl] butane, 3,3′-bis [4- {4- (4-allyloxyphenyl) benzoyloxy} phenyl] pentane, 3,3′-bis [4- [4- {4- (3-butenyloxy)] Phenyl} benzoyloxy] phenyl] pentane, 3,3′-bis [4- [4- {4- (4-pentenyloxy) phenyl} benzoyloxy] phenyl] pentane, and the like.

酸化剤としては、炭素−炭素二重結合をエポキシ化可能な酸化剤であればよく、例えばm−クロロ過安息香酸等が挙げられる。かかる酸化剤の使用量は、化合物(2)に対して、通常0.5〜10モル倍である。   The oxidizing agent may be any oxidizing agent that can epoxidize a carbon-carbon double bond, and examples thereof include m-chloroperbenzoic acid. The usage-amount of this oxidizing agent is 0.5-10 mol times normally with respect to a compound (2).

化合物(2)と酸化剤との反応は、通常溶媒中で実施され、溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限されず、例えばジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、水等の単独もしくは混合溶媒が挙げられる。かかる溶媒の使用量は特に制限されない。   The reaction between the compound (2) and the oxidizing agent is usually carried out in a solvent, and the solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, A single or mixed solvent such as water can be used. The amount of such solvent used is not particularly limited.

反応温度は、通常0〜50℃である。   The reaction temperature is usually 0-50 ° C.

反応終了後、例えば反応液に、チオ硫酸ナトリウム等を加え、前記反応液中に残存する酸化剤を分解せしめた後、必要に応じて水および水に不溶の有機溶媒を加えて、分液処理することにより、エポキシ化合物(1)を含む有機層を得ることができる。得られた該有機層を濃縮処理することにより、エポキシ化合物(1)を取り出すことができる。取り出したエポキシ化合物(1)は、例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィー等の通常の精製手段によりさらに精製してもよい。   After completion of the reaction, for example, sodium thiosulfate or the like is added to the reaction solution, the oxidizing agent remaining in the reaction solution is decomposed, and then water and an organic solvent insoluble in water are added as necessary, followed by liquid separation treatment. By doing, the organic layer containing an epoxy compound (1) can be obtained. By concentrating the obtained organic layer, the epoxy compound (1) can be taken out. The taken out epoxy compound (1) may be further purified by ordinary purification means such as silica gel column chromatography.

化合物(2)は、式(3)

Figure 0004613633
(式中、R、R、R、R、R、R、R、R、RおよびR10は上記と同一の意味を表わす。)
で示される化合物(以下、化合物(3)と略記する。)と式(4)
Figure 0004613633
(式中、Xおよびmは上記と同一の意味を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。)
で示される化合物(以下、化合物(4)と略記する。)と式(5)
Figure 0004613633
(式中、Xおよびmは上記と同一の意味を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。)
で示される化合物(以下、化合物(5)と略記する。)とを、塩基の存在下に反応させることにより製造することができる。 Compound (2) has the formula (3)
Figure 0004613633
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 represent the same meaning as described above.)
(Hereinafter abbreviated as compound (3)) and formula (4)
Figure 0004613633
(Wherein X 1 and m represent the same meaning as described above, and X 3 represents a halogen atom.)
(Hereinafter abbreviated as compound (4)) and formula (5)
Figure 0004613633
(Wherein X 2 and m represent the same meaning as described above, and X 4 represents a halogen atom.)
In the presence of a base (hereinafter abbreviated as compound (5)).

化合物(3)としては、例えば2,2’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、3,3’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン等が挙げられる。   Examples of the compound (3) include 2,2′-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2′-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 3,3′-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, and the like. Is mentioned.

化合物(4)および化合物(5)の式中、XおよびXはハロゲン原子を表わし、ハロゲン原子としては、上記したものと同様のものが挙げられる。 In the formulas of the compound (4) and the compound (5), X 3 and X 4 represent a halogen atom, and examples of the halogen atom include those described above.

かかる化合物(4)および化合物(5)は同一であってもよいし、異なっていてもよく、例えば4−アリルオキシ安息香酸クロリド、4−アリルオキシ安息香酸ブロミド、4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸クロリド、4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸ブロミド、4−(4−ペンテニルオキシ)安息香酸クロリド、4−(4−ペンテニルオキシ)安息香酸ブロミド、2−アリルオキシ−6−ナフトエ酸クロリド、2−アリルオキシ−6−ナフトエ酸ブロミド、2−(3−ブテニルオキシ)−6−ナフトエ酸クロリド、2−(3−ブテニルオキシ)−6−ナフトエ酸ブロミド、2−(4−ペンテニルオキシ)−6−ナフトエ酸クロリド、2−(4−ペンテニルオキシ)−6−ナフトエ酸ブロミド、4−(4−アリルオキシフェニル)安息香酸クロリド、4−(4−アリルオキシフェニル)安息香酸ブロミド、4−{4−(3−ブテニルオキシ)フェニル}安息香酸クロリド、4−{4−(3−ブテニルオキシ)フェニル}安息香酸ブロミド、4−{4−(4−ペンテニルオキシ)フェニル}安息香酸クロリド、4−{4−(4−ペンテニルオキシ)フェニル}安息香酸ブロミド等が挙げられる。   The compound (4) and the compound (5) may be the same or different. For example, 4-allyloxybenzoic acid chloride, 4-allyloxybenzoic acid bromide, 4- (3-butenyloxy) benzoic acid chloride 4- (3-butenyloxy) benzoic acid bromide, 4- (4-pentenyloxy) benzoic acid chloride, 4- (4-pentenyloxy) benzoic acid bromide, 2-allyloxy-6-naphthoic acid chloride, 2-allyloxy- 6-naphthoic acid bromide, 2- (3-butenyloxy) -6-naphthoic acid chloride, 2- (3-butenyloxy) -6-naphthoic acid bromide, 2- (4-pentenyloxy) -6-naphthoic acid chloride, 2 -(4-Pentenyloxy) -6-naphthoic acid bromide, 4- (4-allyloxyphenyl) benzoate Acid chloride, 4- (4-allyloxyphenyl) benzoic acid bromide, 4- {4- (3-butenyloxy) phenyl} benzoic acid chloride, 4- {4- (3-butenyloxy) phenyl} benzoic acid bromide, 4- Examples include {4- (4-pentenyloxy) phenyl} benzoic acid chloride, 4- {4- (4-pentenyloxy) phenyl} benzoic acid bromide, and the like.

化合物(4)と化合物(5)とが異なる場合のそれぞれの使用量は、化合物(3)に対して、通常0.5〜50モル倍である。化合物(4)と化合物(5)とが同一の場合のその使用量は、化合物(3)に対して、通常1〜100モル倍である。   When the compound (4) and the compound (5) are different from each other, the amount used is usually 0.5 to 50 mol times based on the compound (3). When the compound (4) and the compound (5) are the same, the amount used thereof is usually 1 to 100 times the compound (3).

塩基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、テトラメチル尿素等の有機塩基、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基等が挙げられ、その使用量は、化合物(3)に対して、通常2モル倍以上であり、その上限は特になく、例えば反応条件下で液体である塩基を用いる場合には、反応溶媒を兼ねて大過剰量用いてもよい。   Examples of the base include organic bases such as triethylamine, pyridine, dimethylaniline, and tetramethylurea, and inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, and potassium carbonate. With respect to 3), it is usually 2 mol times or more, and there is no particular upper limit. For example, when a base that is liquid under reaction conditions is used, a large excess amount may be used also as a reaction solvent.

反応は、通常溶媒中で実施され、溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒等の単独もしくは混合溶媒が挙げられる。また、上記したように、反応条件下で液体である塩基を溶媒として用いてもよい。かかる溶媒の使用量は特に制限されない。   The reaction is usually carried out in a solvent, and examples of the solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, and single or mixed solvents such as ether solvents such as diethyl ether and tetrahydrofuran. Further, as described above, a base that is liquid under reaction conditions may be used as a solvent. The amount of such solvent used is not particularly limited.

反応温度は、通常0〜50℃である。   The reaction temperature is usually 0-50 ° C.

反応終了後、反応液に、水および必要に応じて水に不溶の有機溶媒を加え、分液処理することにより、化合物(2)を含む有機層が得られ、該有機層を濃縮処理することにより、化合物(2)を取り出すことができる。取り出した化合物(2)は、例えばシリカゲルカラムクロマトグラフィー等の通常の精製手段によりさらに精製してもよい。   After completion of the reaction, an organic layer containing the compound (2) is obtained by adding water and, if necessary, an organic solvent insoluble in water to the reaction solution and performing a liquid separation treatment, and the organic layer is concentrated. Thus, the compound (2) can be taken out. The extracted compound (2) may be further purified by ordinary purification means such as silica gel column chromatography.

なお、化合物(3)は、市販されているものを用いてもよいし、例えばビスフェノールA(2,2’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン)の製造方法に準じて、式(6)

Figure 0004613633
(式中、R、R、RおよびRは上記と同一の意味を表わす。)
で示される化合物と式(7)
Figure 0004613633
(式中、R、R、RおよびRは上記と同一の意味を表わす。)
で示される化合物と式(8)
Figure 0004613633
(式中、RおよびR10は上記と同一の意味を表わす。)
で示されるケトン化合物とを、酸触媒の存在下に縮合反応せしめることにより製造したものを用いてもよい。 In addition, what is marketed may be used for a compound (3), for example, according to the manufacturing method of bisphenol A (2,2'-bis (4-hydroxyphenyl) propane), Formula (6)
Figure 0004613633
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 have the same meaning as described above.)
And a compound of formula (7)
Figure 0004613633
(In the formula, R 5 , R 6 , R 7 and R 8 represent the same meaning as described above.)
And a compound of formula (8)
Figure 0004613633
(Wherein R 9 and R 10 represent the same meaning as described above.)
A product produced by subjecting a ketone compound represented by the above to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst may be used.

また、化合物(4)は、例えば式(9)

Figure 0004613633
(式中、mは上記と同一の意味を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。)
で示される化合物(以下、化合物(9)と略記する。)と式(10)
Figure 0004613633
(式中、Xは上記と同一の意味を表わす。)
で示される化合物(以下、化合物(10)と略記する。)とを塩基の存在下に反応させた後、例えば塩化チオニル等のハロゲン化剤を作用させる方法により製造することができ、化合物(5)も化合物(4)と同様にして製造することができる。 In addition, the compound (4) is, for example, the formula (9)
Figure 0004613633
(Wherein m represents the same meaning as described above, and X 5 represents a halogen atom.)
(Hereinafter abbreviated as compound (9)) and formula (10)
Figure 0004613633
(Wherein X 1 represents the same meaning as described above.)
Can be produced by reacting a compound represented by formula (hereinafter abbreviated as compound (10)) in the presence of a base and then reacting with a halogenating agent such as thionyl chloride. ) Can also be produced in the same manner as compound (4).

化合物(9)としては、例えば塩化アリル、臭化アリル、3−ブテニルクロリド、3−ブテニルブロミド、4−ペンテニルクロリド、4−ペンテニルブロミド等が挙げられる。化合物(10)としては、例えば4−ヒドロキシ安息香酸、2−ヒドロキシ−6−ナフトエ酸、4−(4−ヒドロキシフェニル)安息香酸等が挙げられる。   Examples of the compound (9) include allyl chloride, allyl bromide, 3-butenyl chloride, 3-butenyl bromide, 4-pentenyl chloride, 4-pentenyl bromide and the like. Examples of the compound (10) include 4-hydroxybenzoic acid, 2-hydroxy-6-naphthoic acid, 4- (4-hydroxyphenyl) benzoic acid and the like.

化合物(9)の使用量は、化合物(10)に対して、通常1〜5モル倍である。   The amount of compound (9) to be used is generally 1 to 5 mol times based on compound (10).

塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられ、その使用量は、化合物(10)に対して、通常1〜10モル倍である。かかる塩基は、そのまま用いてもよいし、水溶液を用いてもよい。   As a base, inorganic bases, such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, are mentioned, for example, The usage-amount is 1-10 mole times normally with respect to a compound (10). Such a base may be used as it is, or an aqueous solution may be used.

化合物(9)と化合物(10)との反応は、通常溶媒中で実施され、溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、水等の単独もしくは混合溶媒が挙げられ、その使用量は特に制限されない。   The reaction of the compound (9) and the compound (10) is usually carried out in a solvent, and examples of the solvent include alcohol solvents such as methanol and ethanol, single or mixed solvents such as water, and the amount used is There is no particular limitation.

反応終了後、必要に応じて反応液に水に不溶の有機溶媒を加えて洗浄処理した後、例えば反応液に酸を加えて中和処理することにより、反応生成物を結晶として取り出すことができる。   After completion of the reaction, if necessary, an organic solvent insoluble in water is added to the reaction solution for washing treatment, and then the reaction product can be taken out as crystals, for example, by adding an acid to the reaction solution for neutralization treatment. .

取り出した反応生成物にハロゲン化剤を作用させる方法としては、公知のカルボン酸からカルボン酸ハロゲン化物を製造する方法が挙げられる。   Examples of the method of allowing the halogenating agent to act on the extracted reaction product include a method of producing a carboxylic acid halide from a known carboxylic acid.

続いて、本発明のエポキシ組成物について説明する。本発明のエポキシ組成物は、エポキシ化合物(1)と硬化剤とを含んでなるエポキシ組成物である。かかるエポキシ組成物は、エポキシ化合物(1)と硬化剤をそのままもしくは溶媒中で混合することにより得られる。エポキシ組成物は、一種のエポキシ化合物(1)と硬化剤を含んでいてもよいし、異なる二種以上のエポキシ化合物(1)と硬化剤を含んでいてもよい。溶媒としては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、例えばジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒、例えば酢酸ブチル等のエステル系溶媒、例えばプロピレングリゴールモノメチルエーテル等のグリコール系溶媒等が挙げられる。   Then, the epoxy composition of this invention is demonstrated. The epoxy composition of the present invention is an epoxy composition comprising an epoxy compound (1) and a curing agent. Such an epoxy composition can be obtained by mixing the epoxy compound (1) and a curing agent as they are or in a solvent. The epoxy composition may contain a kind of epoxy compound (1) and a curing agent, or may contain two or more different epoxy compounds (1) and a curing agent. Examples of the solvent include ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide and N-methylpyrrolidone, ester solvents such as butyl acetate, and glycols such as propylene glycol monomethyl ether. System solvents and the like.

硬化剤としては、エポキシ化合物(1)を硬化せしめるものであればよく、例えばアミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、酸無水物系硬化剤、触媒系硬化剤等が挙げられ、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤または触媒系硬化剤が好ましい。   Any curing agent may be used as long as it cures the epoxy compound (1). Examples thereof include amine curing agents, phenol curing agents, acid anhydride curing agents, and catalyst curing agents, and amine curing agents. A phenol-based curing agent or a catalyst-based curing agent is preferable.

アミン系硬化剤としては、例えばエチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の炭素数2〜20の脂肪族多価アミン、例えばp−キシレンジアミン、m−キシレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、1,1−ビス(4−アミノフェニル)シクロヘキサン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、ビス(4−アミノフェニル)フェニルメタン等の芳香族多価アミン、4,4’−ジアミノジシクロヘキサン、1,3−ビスアミノメチルシクロヘキサン等の脂環式多価アミン、例えばジシアンジアミド等が挙げられ、芳香族多価アミンやジシアンジアミドが好ましく、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルエタン、1,5−ジアミノナフタレン、p−フェニレンジアミン、ジシアンジアミドがより好ましい。   Examples of amine curing agents include aliphatic polyamines having 2 to 20 carbon atoms such as ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, and triethylenetetramine, such as p-xylenediamine and m-xylene. Diamine, 1,5-diaminonaphthalene, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'- Aromatic polyamines such as diaminodiphenyl ether, 1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, bis (4-aminophenyl) phenylmethane, 4,4′-diaminodicyclohexane 1,3 Examples include alicyclic polyamines such as bisaminomethylcyclohexane, such as dicyandiamide, and aromatic polyamines and dicyandiamide are preferred. 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylethane, 1,5 -Diaminonaphthalene, p-phenylenediamine, and dicyandiamide are more preferable.

フェノール系硬化剤としては、例えばフェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂(フェニレン骨格、ジフェニレン骨格等を有する)、ナフトールアラルキル樹脂、ポリオキシスチレン樹脂等が挙げられる。フェノール樹脂としては、例えばアニリン変性レゾール樹脂、ジメチルエーテルレゾール樹脂等のレゾール型フェノール樹脂、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、tert−ブチルフェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラック樹脂等のノボラック型フェノール樹脂、例えばジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、トリフェノールメタン型樹脂等の特殊フェノール樹脂等が挙げられ、ポリオキシスチレン樹脂としては、例えばポリ(p−オキシスチレン)等が挙げられる。   Examples of the phenolic curing agent include phenol resin, phenol aralkyl resin (having a phenylene skeleton, diphenylene skeleton, etc.), naphthol aralkyl resin, polyoxystyrene resin, and the like. Examples of the phenol resin include resol-type phenol resins such as aniline-modified resole resin and dimethyl ether resole resin, for example, novolac-type phenol resins such as phenol novolak resin, cresol novolac resin, tert-butylphenol novolak resin, and nonylphenol novolak resin, such as dicyclopentadiene. Special phenol resins such as a modified phenol resin, a terpene modified phenol resin, and a triphenol methane type resin can be used. Examples of the polyoxystyrene resin include poly (p-oxystyrene).

酸無水物系硬化剤としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸等が挙げられる。   Examples of the acid anhydride curing agent include maleic anhydride, phthalic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, and the like.

触媒系硬化剤としては、例えば2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、ベンジルジメチルアミン等が挙げられる。   Examples of the catalyst curing agent include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, and benzyldimethylamine.

かかる硬化剤の使用量は、用いる硬化剤の種類に応じて適宜選択すればよく、アミン系硬化剤やフェノール系硬化剤であれば、例えば該硬化剤中のエポキシ基と硬化反応し得る官能基の総量が、エポキシ化合物(1)中のエポキシ基の総量に対して、通常0.5〜1.5倍、好ましくは0.9〜1.1倍となる量が用いられる。   The amount of the curing agent used may be appropriately selected according to the type of the curing agent to be used, and if it is an amine curing agent or a phenol curing agent, for example, a functional group capable of undergoing a curing reaction with an epoxy group in the curing agent. The total amount of is usually 0.5 to 1.5 times, preferably 0.9 to 1.1 times the total amount of epoxy groups in the epoxy compound (1).

本発明のエポキシ組成物は、エポキシ化合物(1)および硬化剤以外に、前記したように前記溶媒を含んでいてもよいし、また、エポキシ組成物を硬化せしめてなるエポキシ樹脂硬化物の所望の性能を妨げない限り、他のエポキシ化合物を含んでいてもよく、また、各種添加剤を含んでいてもよい。他のエポキシ化合物としては、例えばビスフェノールA型エポキシ化合物、オルソクレゾール型エポキシ化合物、例えばビフェノールジグリシジルエーテル、4,4’−ビス(3,4−エポキシブテン−1−イロキシ)フェニルベンゾエート、ナフタレンジグリシジルエーテル、α−メチルスチルベン−4,4’−ジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物等が挙げられる。添加剤としては、例えば溶融破砕シリカ粉末、溶融球状シリカ粉末、結晶シリカ粉末、二次凝集シリカ粉末等のシリカ粉末、例えばアルミナ、チタンホワイト、水酸化アルミニウム、タルク、クレイ、マイカ、ガラス繊維等の充填材、例えばトリフェニルホスフィン、1,8−アザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の硬化促進剤、例えばγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、例えばカーボンブラック等の着色剤、例えばシリコーンオイル、シリコーンゴム等の低応力成分、例えば天然ワックス、合成ワックス、高級脂肪酸またはその金属塩、パラフィン等の離型剤、酸化防止剤等が挙げられる。かかる他のエポキシ化合物や添加剤の含量は、本発明のエポキシ組成物を硬化せしめてなるエポキシ樹脂硬化物の所望の性能を損なわない量であれば特に問題ない。   In addition to the epoxy compound (1) and the curing agent, the epoxy composition of the present invention may contain the solvent as described above, or a desired epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy composition. As long as performance is not hindered, other epoxy compounds may be included, and various additives may be included. Examples of other epoxy compounds include bisphenol A type epoxy compounds, orthocresol type epoxy compounds such as biphenol diglycidyl ether, 4,4′-bis (3,4-epoxybuten-1-yloxy) phenyl benzoate, and naphthalene diglycidyl. And epoxy compounds such as ether and α-methylstilbene-4,4′-diglycidyl ether. Examples of additives include silica powder such as fused crushed silica powder, fused spherical silica powder, crystalline silica powder, and secondary agglomerated silica powder, such as alumina, titanium white, aluminum hydroxide, talc, clay, mica, and glass fiber. Fillers, for example, curing accelerators such as triphenylphosphine and 1,8-azabicyclo [5.4.0] -7-undecene, coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, such as carbon black And low-stress components such as silicone oil and silicone rubber, for example, natural wax, synthetic wax, higher fatty acids or metal salts thereof, mold release agents such as paraffin, and antioxidants. The content of such other epoxy compounds and additives is not particularly limited as long as it is an amount that does not impair the desired performance of the cured epoxy resin obtained by curing the epoxy composition of the present invention.

続いて本発明のエポキシ樹脂硬化物について説明する。本発明のエポキシ樹脂硬化物は、前記エポキシ化合物(1)と硬化剤を含んでなるエポキシ組成物を硬化せしめることにより製造することができる。   Then, the epoxy resin hardened | cured material of this invention is demonstrated. The cured epoxy resin of the present invention can be produced by curing an epoxy composition comprising the epoxy compound (1) and a curing agent.

本発明のエポキシ樹脂硬化物は、一種のエポキシ化合物と硬化剤とを硬化せしめたエポキシ樹脂硬化物であってもよいし、異なる二種以上のエポキシ化合物と硬化剤とを硬化せしめたエポキシ樹脂硬化物であってもよい。   The epoxy resin cured product of the present invention may be an epoxy resin cured product obtained by curing one kind of epoxy compound and a curing agent, or an epoxy resin cured product obtained by curing two or more different epoxy compounds and a curing agent. It may be a thing.

エポキシ組成物を硬化せしめる方法としては、例えばエポキシ組成物をそのまま加熱して硬化させる方法、エポキシ組成物を加熱溶融して金型等に注ぎ、該金型をさらに加熱して成形する方法、エポキシ組成物を溶融し、得られる溶融物をトランスファー成形機で予め加熱された金型に注入し硬化する方法、エポキシ組成物をB−ステージと呼ばれる部分硬化し、得られる部分硬化物を粉砕してなる粉末を金型に充填し、該充填物を溶融成形する方法、エポキシ組成物を必要に応じて溶媒に溶解し、攪拌しながらB−ステージ化し、得られた溶液をキャストした後、溶媒を通風乾燥等で乾燥除去し、必要に応じてプレス機等で圧力をかけながら所定時間加熱する方法等が挙げられる。   Examples of the method for curing the epoxy composition include a method in which the epoxy composition is heated and cured as it is, a method in which the epoxy composition is heated and melted and poured into a mold or the like, and the mold is further heated to be molded. A method of melting the composition, injecting the resulting melt into a preheated mold with a transfer molding machine and curing, partially curing the epoxy composition called B-stage, and crushing the resulting partially cured product A method of filling the resulting powder into a mold, melt-molding the filler, dissolving the epoxy composition in a solvent as necessary, converting to B-stage while stirring, casting the resulting solution, For example, a method of drying and removing by ventilation drying or the like, and heating for a predetermined time while applying pressure with a press machine or the like as necessary may be mentioned.

最後に本発明のエポキシ組成物を基材に含浸もしくは塗布せしめ、半硬化せしめてなるプリプレグについて説明する。本発明のエポキシ組成物を、必要に応じて溶媒で希釈した後、基材に含浸もしくは塗布せしめ、含浸もしくは塗布された基材を加熱し、該基材中のエポキシ化合物を半硬化せしめることにより、プリプレグを製造することができる。基材としては、例えばガラス繊維織布等の無機質繊維の織布もしくは不織布、例えばポリエステル等の有機質繊維の織布もしくは不織布等が挙げられる。かかるプリプレグを用い、通常の方法により、積層板等を容易に製造することができる。   Finally, a prepreg obtained by impregnating or coating the base material with the epoxy composition of the present invention and semi-curing it will be described. By diluting the epoxy composition of the present invention with a solvent as necessary, and then impregnating or coating the substrate, heating the impregnated or coated substrate, and semi-curing the epoxy compound in the substrate. A prepreg can be produced. Examples of the substrate include woven or nonwoven fabrics of inorganic fibers such as glass fiber woven fabrics, and woven or nonwoven fabrics of organic fibers such as polyester. By using such a prepreg, a laminate or the like can be easily produced by a usual method.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。なお、分析には、高速液体クロマトグラフィー(LC)法を用いた。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these Examples. In addition, the high performance liquid chromatography (LC) method was used for the analysis.

実施例1 <エポキシ化合物の製造例>
温度計、冷却管および攪拌装置を備えた1L四つ口フラスコに、4−ヒドロキシ安息香酸90g、メタノール400mL、水酸化カリウム105gおよび水125mLを仕込み、還流温度まで昇温した。これに、臭化アリル90gを2時間かけて滴下し、その後13時間還流条件下で、反応させた。反応終了後、エバポレータによりメタノール250mLを留去した。濃縮残液に、水2.5Lおよびヘキサン250mLを加え、攪拌、静置後、ヘキサン層を分離除去した。水層に、20重量%塩酸300mLを加え、析出した結晶を濾取した。濾取した結晶を水で洗浄した後、乾燥させた。その後、エタノールから再結晶させ、白色粉末状の4−アリルオキシ安息香酸80.2gを得た。純度:99%(LC面積百分率値)。
Example 1 <Production Example of Epoxy Compound>
In a 1 L four-necked flask equipped with a thermometer, a condenser tube and a stirrer, 90 g of 4-hydroxybenzoic acid, 400 mL of methanol, 105 g of potassium hydroxide and 125 mL of water were charged, and the temperature was raised to the reflux temperature. To this, 90 g of allyl bromide was added dropwise over 2 hours, and then reacted under reflux conditions for 13 hours. After completion of the reaction, 250 mL of methanol was distilled off with an evaporator. To the concentrated residue, 2.5 L of water and 250 mL of hexane were added, stirred and allowed to stand, and then the hexane layer was separated and removed. To the aqueous layer, 300 mL of 20 wt% hydrochloric acid was added, and the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals collected by filtration were washed with water and dried. Then, it was recrystallized from ethanol to obtain 80.2 g of 4-allyloxybenzoic acid in the form of white powder. Purity: 99% (LC area percentage value).

温度計、冷却管および攪拌装置を備えた1L四つ口フラスコに、上記で得た4−アリルオキシ安息香酸30g、塩化チオニル365gおよびピリジン1mLを仕込み、還流温度で、8時間反応させた。反応終了後、反応液を濃縮処理し、オイル状の粗4−アリルオキシ安息香酸クロリド39gを得た。   30 g of 4-allyloxybenzoic acid obtained above, 365 g of thionyl chloride and 1 mL of pyridine were charged into a 1 L four-necked flask equipped with a thermometer, a condenser and a stirrer, and reacted at reflux temperature for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was concentrated to obtain 39 g of oily crude 4-allyloxybenzoic acid chloride.

温度計、冷却管および攪拌装置を備えた1L四つ口フラスコに、上記で得た粗4−アリルオキシ安息香酸クロリド20gを仕込み、氷冷下で、2,2’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン11.6gをピリジン139gに溶解させた溶液を1時間かけて滴下した。その後、室温で8時間攪拌、反応させた。反応終了後、反応液を水1L中に注加した。これに、クロロホルムを加え、さらに1N塩酸300gを加え、分液処理し、クロロホルム層を得た。得られたクロロホルム層を濃縮処理し、オイル状の粗2,2’−ビス{4−(4−アリルオキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパン26gを得た。純度:60%(LC面積百分率値)。   Into a 1 L four-necked flask equipped with a thermometer, a condenser tube and a stirrer, 20 g of the crude 4-allyloxybenzoic acid chloride obtained above was charged, and 2,2′-bis (4-hydroxyphenyl) was cooled with ice. A solution prepared by dissolving 11.6 g of propane in 139 g of pyridine was added dropwise over 1 hour. Thereafter, the mixture was stirred and reacted at room temperature for 8 hours. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into 1 L of water. Chloroform was added thereto, and 300 g of 1N hydrochloric acid was further added thereto, followed by liquid separation treatment to obtain a chloroform layer. The resulting chloroform layer was concentrated to obtain 26 g of oily crude 2,2'-bis {4- (4-allyloxybenzoyloxy) phenyl} propane. Purity: 60% (LC area percentage value).

上記で得た粗2,2’−ビス{4−(4−アリルオキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパンをシリカゲルカラム(クロロホルム/メタノール=100/1)で精製処理し、精2,2’−ビス{4−(4−アリルオキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパンを得た。温度計、冷却管および攪拌装置を備えた300mL四つ口フラスコに、精2,2’−ビス{4−(4−アリルオキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパン5g、クロロホルム100gおよび5重量%炭酸水素ナトリウム18gを仕込んだ。室温で、これに、m−クロロ過安息香酸13.5gを加え、10日間攪拌、反応させた。反応終了後、反応液を、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄処理した。無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、濃縮処理し、粗2,2’−ビス{4−(4−オキシラニルメトキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパン6gを得た。これを、シリカゲルカラム(クロロホルム/酢酸エチル=10/1)で精製処理し、2,2’−ビス{4−(4−オキシラニルメトキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパンの白色結晶1gを得た。純度:93%(LC面積百分率値)。融点:138℃。   The crude 2,2′-bis {4- (4-allyloxybenzoyloxy) phenyl} propane obtained above was purified with a silica gel column (chloroform / methanol = 100/1), and purified 2,2′-bis { 4- (4-Allyloxybenzoyloxy) phenyl} propane was obtained. In a 300 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a condenser tube and a stirrer, 5 g of 2,2′-bis {4- (4-allyloxybenzoyloxy) phenyl} propane, 100 g of chloroform and 5% by weight sodium hydrogen carbonate 18g was charged. At room temperature, 13.5 g of m-chloroperbenzoic acid was added thereto and stirred and reacted for 10 days. After completion of the reaction, the reaction solution was washed with a saturated aqueous sodium thiosulfate solution, a saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and then saturated brine. After drying over anhydrous magnesium sulfate, concentration treatment was performed to obtain 6 g of crude 2,2′-bis {4- (4-oxiranylmethoxybenzoyloxy) phenyl} propane. This was purified by a silica gel column (chloroform / ethyl acetate = 10/1) to obtain 1 g of 2,2′-bis {4- (4-oxiranylmethoxybenzoyloxy) phenyl} propane white crystals. Purity: 93% (LC area percentage value). Melting point: 138 ° C.

実施例2 <エポキシ組成物およびエポキシ樹脂硬化物の製造例>
前記実施例1で得られた2,2’−ビス{4−(4−オキシラニルメトキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパン20重量部と、硬化剤として4,4’−ジアミノジフェニルメタン3.4重量部を混合し、エポキシ組成物を得た。140℃程度に加熱した金型の板状の中空部に、溶融させた該エポキシ組成物を注ぎ込み、さらに160〜180℃程度で約5時間加温し、板状のエポキシ樹脂硬化物を得た。このエポキシ樹脂硬化物から、5mm×10mmの薄板状試料を切り出し、熱伝導率を測定した(測定条件は光交流法に準拠し、室温で行った)ところ、0.25W/m・Kであった。
Example 2 <Example of production of epoxy composition and cured epoxy resin>
20 parts by weight of 2,2′-bis {4- (4-oxiranylmethoxybenzoyloxy) phenyl} propane obtained in Example 1 and 3.4 parts by weight of 4,4′-diaminodiphenylmethane as a curing agent Were mixed to obtain an epoxy composition. The molten epoxy composition was poured into a plate-shaped hollow portion of a mold heated to about 140 ° C., and further heated at about 160 to 180 ° C. for about 5 hours to obtain a plate-shaped epoxy resin cured product. . A thin plate sample of 5 mm × 10 mm was cut out from this cured epoxy resin, and the thermal conductivity was measured (measurement conditions were performed at room temperature in accordance with the optical alternating current method), and it was 0.25 W / m · K. It was.

実施例3 <プリプレグの製造例>
前記実施例1で得られた2,2’−ビス{4−(4−オキシラニルメトキシベンゾイルオキシ)フェニル}プロパンと、硬化剤として1,5−ジアミノナフタレンと、溶剤としてメチルエチルケトンとを混合することにより、エポキシ組成物が得られる。該エポキシ組成物をガラス繊維織布に含浸せしめ、加熱し、半硬化させることにより、プリプレグが得られる。
Example 3 <Preparation example of prepreg>
2,2′-bis {4- (4-oxiranylmethoxybenzoyloxy) phenyl} propane obtained in Example 1 is mixed with 1,5-diaminonaphthalene as a curing agent and methyl ethyl ketone as a solvent. As a result, an epoxy composition is obtained. A glass fiber woven fabric is impregnated with the epoxy composition, heated and semi-cured to obtain a prepreg.

Claims (4)

式(1)
Figure 0004613633
(式中、R、R、R、R、R、R、RおよびRはそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表わし、RおよびR10はそれぞれ同一または相異なって、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表わす。XおよびXはそれぞれ同一または相異なって、下記(X−1)〜(X−3)で示されるいずれかの基を表わす。
Figure 0004613633
ここで、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19およびR20はそれぞれ同一または相異なって、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基を表わす。mは1〜10の整数を表わす。)
で示されるエポキシ化合物。
Formula (1)
Figure 0004613633
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, Represents an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group, and R 9 and R 10 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X 1 and X 2 are Each of these groups is the same or different and represents any of the following groups (X-1) to (X-3).
Figure 0004613633
Here, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20 are the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, 8 represents an alkyl group, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group. m represents an integer of 1 to 10. )
An epoxy compound represented by
請求項1に記載のエポキシ化合物と硬化剤とを含んでなるエポキシ組成物。 An epoxy composition comprising the epoxy compound according to claim 1 and a curing agent. 請求項2に記載のエポキシ組成物を硬化せしめてなるエポキシ樹脂硬化物。 A cured epoxy resin obtained by curing the epoxy composition according to claim 2. 請求項2に記載のエポキシ組成物を基材に含浸もしくは塗布せしめ、半硬化せしめてなるプリプレグ。
A prepreg obtained by impregnating or coating a base material with the epoxy composition according to claim 2 and semi-curing the base material.
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