JPH0725877B2 - Epoxy resin - Google Patents

Epoxy resin

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JPH0725877B2
JPH0725877B2 JP60182380A JP18238085A JPH0725877B2 JP H0725877 B2 JPH0725877 B2 JP H0725877B2 JP 60182380 A JP60182380 A JP 60182380A JP 18238085 A JP18238085 A JP 18238085A JP H0725877 B2 JPH0725877 B2 JP H0725877B2
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epoxy resin
amino
epoxy
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康久 斉藤
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住友化学工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は熱硬化性の新規な樹脂に関するものである。さ
らに詳しくは分子末端にエポキシ基を有する、新規な熱
硬化性樹脂に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel thermosetting resin. More specifically, it relates to a novel thermosetting resin having an epoxy group at the molecular end.

エポキシ樹脂は、硬化性、耐熱性、機械特性、密着性、
接着性等に優れており幅広く用いられている。ところ
が、近年封止材料用途あるいは複合材料用途において、
その要求特性が高度化し、従来からの特性に加えて、低
応力性あるいは強靱性が求められている。現在封止材料
用途に使用されているエポキシ樹脂は、0−クレゾール
ノボラックタイプのエポキシであり、一方複合材料用途
に使用されているエポキシ樹脂は、テトラグリシジルジ
アミノジフェニルメタンあるいはトリグリシジアミノフ
ェノールタイプのエポキシであるが、いずれも低応力性
あるいは強靱性が不十分である。
Epoxy resin has curability, heat resistance, mechanical properties, adhesion,
It has excellent adhesiveness and is widely used. However, in recent years, in sealing material applications or composite material applications,
The required properties have become more sophisticated, and in addition to the conventional properties, low stress or toughness is required. The epoxy resin currently used for encapsulation material application is 0-cresol novolac type epoxy, while the epoxy resin used for composite material application is tetraglycidyl diaminodiphenylmethane or triglycidiaminophenol type epoxy. However, all of them have low stress or insufficient toughness.

このようなことから本発明者らは、従来のエポキシ樹脂
が有している特性を保持し、加えて優れた低応力性及び
強靱性を保有するエポキシ樹脂について鋭意検討した結
果、下記エポキシ樹脂が上記の目的を満足することを見
出し、本発明を完成した。
From the above, the present inventors have diligently studied an epoxy resin that retains the properties of a conventional epoxy resin and additionally has excellent low stress and toughness, and the following epoxy resin is The present invention has been completed by finding that the above object is satisfied.

すなわち、本発明は下記の構造式(1) 〔式中、R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基
を、R2,R3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜15の
アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基
またはハロゲン原子を、Aは構造式 (式中、R4,R5はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜1
5のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキ
シ基またはハロゲン原子を、Xは炭素数1〜10の直鎖状
あるいは分岐状のアルキレン基、−O−、−S−、 (ここでR6は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基
を表わす。)を表わす。)で表わされる芳香族二価基
を、m,nは少なくともいずれか一方が0でない0〜100の
整数を表わす。〕で表わされるエポキシ樹脂を提供する
ものである。
That is, the present invention has the following structural formula (1) [In the formula, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or Halogen atom, A is structural formula (In the formula, R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 1.
5 alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or halogen atom, X is a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, -O-, -S-, (Wherein R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms). ), And m and n each represent an integer of 0 to 100 in which at least one of them is not 0. ] The epoxy resin represented by this is provided.

本発明のエポキシ樹脂の製造方法を例示すると、中間体
として下記の構造式(2)で表わされる末端水酸基含有
化合物を経て、この水酸基をエピクロロヒドリン、エピ
プロモヒドリン、β−メチルエピクロロヒロリン、β−
メチルエピプロモヒドリン等のエピハロヒドリンを用い
てハロヒドリンエーテル化後、アルカリで脱ハロゲン化
水素化する方法がある。
As an example of the method for producing an epoxy resin of the present invention, a terminal hydroxyl group-containing compound represented by the following structural formula (2) is used as an intermediate, and this hydroxyl group is converted into epichlorohydrin, epipromohydrin, β-methylepichloro. Hirorin, β-
There is a method of dehydrohalogenating with an alkali after halohydrin etherification using epihalohydrin such as methylepipromohydrin.

〔式中、R2,R3,A,m,nについては前述に同じ。〕 さらに詳細には、ハロヒドリンエーテル化反応における
触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナ
トリウムメトキシド、カリウムメトキシド、塩化リチウ
ム、水酸化リチウム、トリエチルアミン、トリ−n−ブ
チルアミン、トリフェニルアミン、ジメチルベンジルア
ミン等の8級アミン、テトラメチルアンモニウムクロラ
イド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラエ
チルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンノニウ
ムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマ
イド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベ
ンジルトリエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチ
ルアンモニウムアイオダイド等の4級アンモニウム塩、
ジエチルスルファイド、ジベンジルスルファイド、チオ
ジグリコール、β−ヒドロキシエチレンスルファイド等
のチオエーテル、三フッ化ホウ素などが例示され、これ
らの1種または2種以上が用いられる。
[In the formula, R 2 , R 3 , A, m, and n are the same as described above. More specifically, as the catalyst in the halohydrin etherification reaction, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, potassium methoxide, lithium chloride, lithium hydroxide, triethylamine, tri-n-butylamine, triphenyl are used. Amine, quaternary amine such as dimethylbenzylamine, tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltriethylammonium bromide, tetraethylammonium Quaternary ammonium salt such as iodide,
Examples thereof include thioethers such as diethyl sulfide, dibenzyl sulfide, thiodiglycol, β-hydroxyethylene sulfide, and boron trifluoride, and one or more of these are used.

ハロヒドリンエーテル化反応は好ましくは80乃至180℃
の温度で行うことができる。通常は過剰のエピハロヒド
リンを用い反応溶媒を兼ねることができるが、必要によ
り他の溶媒を併用することができる。
The halohydrin etherification reaction is preferably 80 to 180 ° C.
Can be performed at temperatures of. Usually, an excess of epihalohydrin can be used also as a reaction solvent, but other solvent can be used in combination if necessary.

次いで行なう脱ハロゲン化水素反応で用いられるアルカ
リとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリ
ウムメトキシド、カリウムメトキシド、酢酸カリウム、
酢酸ナトリウム、ギ酸ナトリウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン等を挙げることができる、これ
らは単独でまたは2種以上を混合して用いることができ
るが、その使用量は当量以上であればよい。また脱ハロ
ゲン化水素の反応温度については30〜180度が好まし
く、反応溶媒については特に制限されるものではない。
Examples of the alkali used in the subsequent dehydrohalogenation reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, lithium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium methoxide, potassium methoxide. , Potassium acetate,
Sodium acetate, sodium formate, calcium hydroxide,
Examples thereof include barium hydroxide, strontium hydroxide, trimethylamine, and triethylamine. These may be used alone or in combination of two or more, and the amount used may be equivalent or more. The reaction temperature of dehydrohalogenation is preferably 30 to 180 degrees, and the reaction solvent is not particularly limited.

また、グリシジルエーテル化は、ハロヒドリンエーテル
化と脱ハロゲン化水素を同時に行わせる方法によって行
うこともできる。あるいは、アリルクロライド、アリル
ブロマイドなどでアリルエーテル化後、過酸化水素、過
醋酸などでエポキシ化する方法によっても行うことがで
きる。
The glycidyl etherification can also be carried out by a method in which halohydrin etherification and dehydrohalogenation are carried out simultaneously. Alternatively, it can also be carried out by a method in which after allyl etherification with allyl chloride, allyl bromide, etc., epoxidation with hydrogen peroxide, peracetic acid, etc.

(2)式で表わされる中間体の製造方法について例示す
ると、一般式 で表わされるフェノールイ類と、HO−A−OHで表わされ
るビスフェノール類(ここでR2,R3,Aは前述に同じ)を
酸化重合することによって得られる。
As an example of the method for producing the intermediate represented by the formula (2), the general formula And bisphenols represented by HO-A-OH (wherein R 2 , R 3 , and A are the same as described above) by oxidative polymerization.

酸化の方法については直接酸素ガスあるいは空気を使用
する方法があり、一方で電極酸化の方法もあるが、これ
らに限定はされない。
As a method of oxidation, there is a method of directly using oxygen gas or air, and on the other hand, there is a method of electrode oxidation, but the method is not limited thereto.

酸素ガスあるいは空気を用いて酸化重合する場合の触媒
としては、CuCl,CuBr,Cu2SO4,CuCl2,MuCl2,Ag2O等の1
種または2種以上が用いられ、さらに上記触媒に加え
て、ピリジン、メチルピリジン、N,N−ジメチル−4−
アミノピリジン、ポリ−4−ビニルピリジン、ピペリジ
ン、モルホリン、トリエタノールアミン、n−ブチルア
ミン、オクチルアミン、ジブチルアミン、N,N−ジメチ
ル−n−ヘキシルアミン、N,N−ジメチル−n−ブチル
アミン、トリテチルアミン、(N,N′−ジ−tert−ブチ
ル)エチレンジアミン、2−アミノエタントール、2−
メチカプト−1−エタノール、1,2−ジメルカプトー4
ーメチルベンゼン等の1種または2種以上が併用される
ことが一般的であるが、これらに限定されるものではな
い。
As a catalyst for oxidative polymerization using oxygen gas or air, one of CuCl, CuBr, Cu 2 SO 4 , CuCl 2 , MuCl 2 , Ag 2 O, etc.
Or two or more of them are used, and in addition to the above catalyst, pyridine, methylpyridine, N, N-dimethyl-4-
Aminopyridine, poly-4-vinylpyridine, piperidine, morpholine, triethanolamine, n-butylamine, octylamine, dibutylamine, N, N-dimethyl-n-hexylamine, N, N-dimethyl-n-butylamine, tritetylamine , (N, N'-di-tert-butyl) ethylenediamine, 2-aminoethanetol, 2-
Methicapto-1-ethanol, 1,2-dimercapto-4
It is common to use one kind or two kinds or more of -methylbenzene etc. in combination, but it is not limited to these.

重合において使用される溶媒は特に限定はなく、温度に
ついても限定はないが、特に0〜50℃が好ましい。
The solvent used in the polymerization is not particularly limited, and the temperature is also not limited, but 0 to 50 ° C. is particularly preferable.

このようにして得られた本発明のエポキシ樹脂は、通常
のエポキシ硬化剤と併用して低応力性及び強靱性に優れ
た特性を発揮する。具体的には従来のエポキシと比較し
て弾性率及び熱膨張係数が小さく、一方で破壊伸び及び
破壊エネルギーは大きくなる。また硬化性、耐熱性、密
着性、接着性等は従来のエポキシ樹脂と比較して同等以
上である。
The thus obtained epoxy resin of the present invention exhibits excellent properties of low stress and toughness when used in combination with an ordinary epoxy curing agent. Specifically, the elastic modulus and the coefficient of thermal expansion are smaller than those of the conventional epoxy, while the breaking elongation and the breaking energy are large. The curability, heat resistance, adhesiveness, adhesiveness, etc. are equal to or higher than those of conventional epoxy resins.

エポキシ硬化剤について例示すると、ジシアンジアミ
ド、テトラメチルグアニジン、フェノールノボラック樹
脂、クレゾールノボラック樹脂、酸無水物、芳香族アミ
ン、その他脂肪族、脂環族の各種アミン等の1種または
2種以上がある。また三フッ化ホウ素等のルイス酸によ
る自己硬化も可能である。
Examples of the epoxy curing agent include dicyandiamide, tetramethylguanidine, phenol novolac resin, cresol novolac resin, acid anhydride, aromatic amine, and one or more kinds of various aliphatic or alicyclic amines. Also, self-curing with a Lewis acid such as boron trifluoride is possible.

酸無水物について例示すると、てとらヒドロ無水フタル
酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無
水フタル酸、メチルキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニ
ル無水コハク酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック
酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸、メチルシルクトヘキセンテト
ラカルボン酸無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テ
トラヒドロー1−ナフタレンコハク酸二無水物、1−メ
チル−3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1
−ナフタレンコハク酸二無水物等の1種または2種以上
がある。
Examples of the acid anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylxahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, nadic acid anhydride, methylnadic acid anhydride, phthalic anhydride, Pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, methylsilktohexene tetracarboxylic acid anhydride, 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic acid dianhydride, 1-methyl- 3,4-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1
There is one or more than one kind of naphthalene succinic acid dianhydride.

芳香族アミンについて例示すると、4,4′−ジアミノジ
フェニルメタン、3,3′−ジアミノジフェニルメタン、
4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、3,4′−ジアミノ
ジフェニルエーテル、4,4′−ジアミノジフェニルポロ
パン、4,4′−ジアミノジフェニルスルフォン、3,3′−
ジアミノフェニルスルフォン、2,4−トルエンジアミ
ン、2,6−トルエンジアミン、m−フェニレンジアミ
ン、p−フェニレンジアミン、ベンジジン、4,4′−ジ
アミノフェニルスルファイド、3,3′−ジクロロ−4,4′
−ジアミノジフェニルスルフォン、3,3′−ジクロロ−
4,4′−ジアミノジフェニルプロパン、3,3′−ジメチル
−4,4′ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジメトキシ
−4,4′−ジアミノビフェニル、3,3′−ジメチル−4,
4′−ジアミノビフェニル、1,3−ビス(4−アミノフェ
ノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベ
ンゼン、2,2−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)
プロパン、4,4′−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフ
ェニルスルフォン、4,4′−ビス(3−アミノフェノキ
シ)ジフエニルスルフォン、9,9′−ビス(4−アミノ
フェニル)アントラセン、9,9′−ビス(4−アミノフ
ェニル)フルオレン、3、3′−ジカルボキシ−4,4′
−ジアミノジフェニルメタン、2,4−ジアミノアニソー
ル、ビス(3−アミノフェニル)メチルホスフィンオキ
サイド、3,3′−ジアミノベンゾフェノン、0−トルイ
ジスルフォン、4,4′−メチレン−ビス−0−クトトア
ニリン、テトラクロロジアミノジフェニルメタン、m−
キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、4,4′
−ジアミノスチルベン、5−アミノ−1−(4′−アミ
ノフェニル−1,3,3−トリメチルインダン、6−アミノ
−1−(4′−アミノフェニル)−1,3.3−トリメチル
インダン、5−アミノ−6−メチル−1−(3′−アミ
ノ−4′−メチルフェニル)−1,3,3−トリメチルイン
ダン、7−アミノ−6−メチル−1−(3′−アミノ−
4′−メチルフェニル)−1,3,3−トリメチルインダ
ン、6−アミノ−5−メチル−1−(4′−アミノ−
3′−メチルフェニル)−1,3,3−トリメチルインダ
ン、6−アミノ−7−メチル−1−(4′−アミノ−
3′−メチルフェニル)−1,3,3−トリメチルインダン
等の1種または2種以上がある。
Examples of aromatic amines are 4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3′-diaminodiphenylmethane,
4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylporopane, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-
Diaminophenyl sulfone, 2,4-toluenediamine, 2,6-toluenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, benzidine, 4,4'-diaminophenyl sulfide, 3,3'-dichloro-4,4 ′
-Diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-dichloro-
4,4'-diaminodiphenylpropane, 3,3'-dimethyl-4,4'diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethoxy-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,
4'-diaminobiphenyl, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl)
Propane, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) diphenyl sulfone, 4,4'-bis (3-aminophenoxy) diphenyl sulfone, 9,9'-bis (4-aminophenyl) anthracene, 9,9 ′ -Bis (4-aminophenyl) fluorene, 3,3′-dicarboxy-4,4 ′
-Diaminodiphenylmethane, 2,4-diaminoanisole, bis (3-aminophenyl) methylphosphine oxide, 3,3'-diaminobenzophenone, 0-toluisulphone, 4,4'-methylene-bis-0-ctotoaniline, tetra Chlorodiaminodiphenylmethane, m-
Xylylenediamine, p-xylylenediamine, 4,4 '
-Diaminostilbene, 5-amino-1- (4'-aminophenyl-1,3,3-trimethylindane, 6-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3.3-trimethylindane, 5-amino -6-Methyl-1- (3'-amino-4'-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, 7-amino-6-methyl-1- (3'-amino-
4'-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-5-methyl-1- (4'-amino-
3'-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane, 6-amino-7-methyl-1- (4'-amino-
3'-methylphenyl) -1,3,3-trimethylindane and the like.

本発明のエポキシ樹脂はその特性を損なわない範囲で、
分子中に2個以上のエポキシ基を有する通常のエポキシ
樹脂との併用が可能である。例をあげればビスフェノー
ルA、ビスフェノールF,ハイドロキノン、レゾルシン、
フロログリシン、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)
メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン等の二価あるいは3価以上のフェノール類ま
たはテトラブロムビスフェノールA等のハロゲン化ビス
フェノール類から誘導されるグリシジルエーテル化合
物、フェノール、O−クレゾール等のフェノール類とホ
ルムアルデヒドの反応生成物であるノボラック樹脂から
誘導されるノボラック系エポキシ樹脂、アニリン、p−
アミノフェノール、m−アミノフェノール、4−アミノ
−m−クレゾール、6−アミノ−m−クレゾール、4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、3,3′−ジアミノジフ
ェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテル、
3,4′−ジアミノジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−
アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ
フェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノ
キシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)
ベンゼン、2,2ービス(4−アミノフェノキシフェニ
ル)プロパン、p−フェニルレンジアミン、m−フェニ
レンジアミン、2,4−トルエンジアミン、2,6−トルエン
ジアミン、p−キシリレンジアミン、m−キシリレンジ
アイン、1,4−シクロヘキサン−ビス(メチルアミ
ン)、1,3−シクロヘキサン−ビス(メチルアミン)、
5−アミノ−1−(4′−アミノフェニル)−1,3,3−
トリメチルインダン、6−アミノ−1−(4′−アミノ
フェニル)−1,3,3−トリメチルイダン等から誘導され
るアミン系エポキシ樹脂、p−オキシ安息香酸、m−オ
キシ安息香酸、テレフタル酸、イソフタル酸等の芳香族
カルボン酸から誘導されるグリシジルエステル系化合
物、5,5ジメチル・ヒダントイン等から誘導されるヒダ
ントイン系エポキシ樹脂、2,2′−ビス(3,4−エポキシ
シクロヘキシル)ピロパン、2,2−ビス〔4−(2,3−エ
ポキシブロピル)シクロヘキシル〕プロパン、ビニルシ
クロヘキセンジオキサイド、3,4−エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4−エポキシシクロキサンカルボキシレ
ート等の脂環式エポキシ樹脂、その他、トリグリシジル
イソシアート、2,4,6−トリグリシドキシ−8−トチア
ジン等の1種または2種以上を挙げることができる。
Epoxy resin of the present invention, within the range of not impairing its properties,
It can be used in combination with a normal epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule. Examples include bisphenol A, bisphenol F, hydroquinone, resorcin,
Phloroglysin, Tris- (4-hydroxyphenyl)
Glycidyl ether compounds derived from divalent or trivalent phenols such as methane and 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane or halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A, phenol, Novolak-based epoxy resin derived from novolac resin which is a reaction product of phenols such as O-cresol and formaldehyde, aniline, p-
Aminophenol, m-aminophenol, 4-amino-m-cresol, 6-amino-m-cresol, 4,
4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenyl ether,
3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,4-bis (4-
Aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy)
Benzene, 2,2-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, 2,6-toluenediamine, p-xylylenediamine, m-xylylenediamine Ein, 1,4-cyclohexane-bis (methylamine), 1,3-cyclohexane-bis (methylamine),
5-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3-
Amine-based epoxy resin derived from trimethylindan, 6-amino-1- (4'-aminophenyl) -1,3,3-trimethylidane, p-oxybenzoic acid, m-oxybenzoic acid, terephthalic acid, Glycidyl ester compounds derived from aromatic carboxylic acids such as isophthalic acid, hydantoin epoxy resins derived from 5,5 dimethylhydantoin, 2,2'-bis (3,4-epoxycyclohexyl) pyropan, 2 Alicyclic epoxy resins such as 2,2-bis [4- (2,3-epoxypropyl) cyclohexyl] propane, vinylcyclohexenedioxide, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycycloxanecarboxylate, In addition, one or more kinds of triglycidyl isocyate, 2,4,6-triglycidoxy-8-tothiazine and the like are mentioned. be able to.

さらに必要により硬化促進剤として、従来より公知であ
る三級アミン、フェノール化合物、イミダゾール類その
他ルイス酸を添加してもよい。
If necessary, conventionally known tertiary amines, phenol compounds, imidazoles and other Lewis acids may be added as curing accelerators.

本発明のエポキシ化合物は、必要に応じて増量剤、充填
剤、補強剤あるいは顔料などが併用される。たとえばシ
リカ、炭酸カルシウム、三酸化アンチモン、カオリン、
二酸化チタン、酸化亜鉛、雲母、バライト、カーボンブ
ラック、ポリエチレン粉、ポリプロピレン粉、アルミニ
ウム粉、鉄粉、銅粉、ガラス繊維、炭素繊維、アルミナ
繊維、アスベスト繊維、等の1種または2種以上が用い
られる。成形、積層、接着剤、複合材料等への用途に供
せられる。
The epoxy compound of the present invention may be used in combination with a filler, a filler, a reinforcing agent, a pigment or the like, if necessary. For example, silica, calcium carbonate, antimony trioxide, kaolin,
One or more of titanium dioxide, zinc oxide, mica, barite, carbon black, polyethylene powder, polypropylene powder, aluminum powder, iron powder, copper powder, glass fiber, carbon fiber, alumina fiber, asbestos fiber, etc. are used. To be It can be used for molding, lamination, adhesives, composite materials, etc.

以下実施例において本発明にさらに具体的に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 〈中間体の製法〉 撹拌装置、温度計、空気導入管のついたフラスコにクロ
ロホルム112g、CuCl20.276g(2.79ミリモル)4−ジメ
チルアミノピリジン0.498g(4.08ミリモル)を加え25℃
で15分間20l/hrの空気をバブリングした。その後あらか
じめ201gのクロロホルムに溶解した2,6−キシレノール1
0.5g(86.0ミリモル)、2,2′−ビス−(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)−プロパン6.15g(21.6ミ
リモル)を添加し、20l/hrの空気のバブリングを続けな
がら、25℃で3時間保温した。保温後20l/hrの窒素ガス
を10分間バブリングし、15%塩酸水溶液75gで2回洗浄
し、5%NaHCO3水溶液で中和して、さらに水洗を数回行
って後処理を行った。その後160℃2mmHgを最終条件にし
てクロロホルムの留去を行い中間体を得た。
Example 1 <Preparation of Intermediate> stirrer, thermometer, chloroform with a flask air inlet tube 112g, CuCl 2 0.276g (2.79 mmol) 4-dimethylaminopyridine 0.498 g (4.08 mmol) 25 ° C.
Bubbled air at 20 l / hr for 15 minutes. After that, 2,6-xylenol 1 dissolved in 201 g of chloroform in advance was used.
0.5 g (86.0 mmol), 2,2'-bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -propane 6.15 g (21.6 mmol) were added, and while bubbling 20 l / hr of air, 25 The temperature was kept at 3 ° C for 3 hours. After keeping the temperature, 20 l / hr of nitrogen gas was bubbled for 10 minutes, washed twice with 75 g of 15% hydrochloric acid aqueous solution, neutralized with 5% NaHCO 3 aqueous solution, and further washed with water several times for post-treatment. Then, chloroform was distilled off under the final conditions of 160 ° C. and 2 mmHg to obtain an intermediate.

このものは水酸基当量が427g/eq、VPOから求めた数平均
分子量が950、融点が約110℃であった。
This product had a hydroxyl equivalent of 427 g / eq, a number average molecular weight of 950 determined from VPO, and a melting point of about 110 ° C.

〈エポキシ化物の製法〉 撹拌装置、温度計、冷却分液装置、滴下漏斗、減圧装置
のついたフラスコに上記で得られた中間体17,1g(水酸
基当り0.04当量)、エピクロロヒドリン185g(2モル)
を仕込み、60℃まで昇温して溶解した。その後150mmHg
まで減圧して、水を共沸で留去しながら、48%水酸化ナ
トリウム水溶液3.67g(0.044モル)を1時間かえて滴下
した。滴下中温度はほぼ60℃であり、滴下後30分間保温
して水留去を終了した。この後最終140℃、5mmHgの条件
で残存のエピクロロヒドリンを留去し、得られた樹脂物
を198gのトルエンに溶解して、過により生成塩を除去
し、さらに水洗により不純物を除去した。その後最終条
件150℃、2mmHgでトルエン留去を行いエポキシ化物を得
た。
<Production method of epoxidized product> Agitator, thermometer, cooling liquid separator, dropping funnel, intermediate 17,17 g (0.04 equivalent per hydroxyl group) obtained above in a flask equipped with a decompression device, epichlorohydrin 185 g ( 2 mol)
Was charged and the temperature was raised to 60 ° C. to dissolve. Then 150mmHg
The pressure was reduced to, and while water was distilled off azeotropically, 3.67 g (0.044 mol) of a 48% sodium hydroxide aqueous solution was added for 1 hour. The temperature during the dropwise addition was about 60 ° C., and after the dropwise addition, the temperature was kept for 30 minutes to complete the water distillation. After that, the remaining epichlorohydrin was distilled off under the conditions of final 140 ° C. and 5 mmHg, the obtained resin product was dissolved in 198 g of toluene, the generated salt was removed by filtration, and the impurities were removed by further washing with water. . After that, toluene was distilled off under final conditions of 150 ° C. and 2 mmHg to obtain an epoxidized product.

このものはエポキシ当量が594g/eq、融点が約90℃であ
った。
This product had an epoxy equivalent of 594 g / eq and a melting point of about 90 ° C.

実施例2 〈中間体の製法〉 実施例1の2,2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンを2,2−ビス−(3,5−ジメチル−
4−ヒドロキシフェニル)メタン25.4g(208ミリモル)
にかえて、他は実施例1と同様の操作を行って、反応及
び後処理を行い、クロロホルムを留去した後、テトラヒ
ドロフラン48gに溶解して水に沈澱した。沈澱後数回水
洗を繰り返し、減圧乾燥して中間体を得た。
Example 2 <Production Method of Intermediate> 2,2-bis- (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane of Example 1 was converted into 2,2-bis- (3,5-dimethyl-).
4-hydroxyphenyl) methane 25.4 g (208 mmol)
Instead, the same operations as in Example 1 were carried out except that the reaction and post-treatment were carried out. After chloroform was distilled off, the residue was dissolved in 48 g of tetrahydrofuran and precipitated in water. After the precipitation, washing with water was repeated several times and drying under reduced pressure to obtain an intermediate.

このものは水酸基当量が780kg/eq,VPOから求めた数平均
分子量が1620、融点が約150℃であった。
This compound had a hydroxyl equivalent of 780 kg / eq, a number average molecular weight of 1620 determined from VPO, and a melting point of about 150 ° C.

〈エポキシ化物の製法〉 上述の中間体の使用量を31.2g(0.04当量)残存エピク
ロロヒドリンの留去温度を160℃、及びトルエンの留去
温度を170℃にかえて、他は実施例1と同様の操作を行
ってエポキシ化物を得た。
<Production method of epoxidized product> The amount of the above-mentioned intermediate used was 31.2 g (0.04 equivalent), the distillation temperature of residual epichlorohydrin was changed to 160 ° C, and the distillation temperature of toluene was changed to 170 ° C. The same operation as in 1 was performed to obtain an epoxidized product.

このものはエポキシ当量が995g/eq、融点が約135℃であ
った。
This product had an epoxy equivalent of 995 g / eq and a melting point of about 135 ° C.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記の構造式 〔式中、R1は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基
を、R2,R3はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜15の
アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基
またはハロゲン原子を、Aは構造式 (式中、R4,R5はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜1
5のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキ
シ基またはハロゲン原子を、Xは炭素数1〜10の直鎖状
あるいは分岐状のアルキレン基、−O−、−S−、 (ここでR6は水素原子または炭素数1〜10のアルキル基
を表わす。)を表わす。)で表わされる芳香族二価基
を、m,nは少なくともいずれか一方が0でない0〜100の
整数を表わす。〕で表わされるエポキシ樹脂。
1. The following structural formula [In the formula, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group or Halogen atom, A is structural formula (In the formula, R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 1.
5 alkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group or halogen atom, X is a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, -O-, -S-, (Wherein R 6 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms). ), And m and n each represent an integer of 0 to 100 in which at least one of them is not 0. ] The epoxy resin represented by.
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