JP4612163B2 - Cleaning method and cleaning apparatus - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、比較的低温で洗浄する必要のある被洗浄体、例えばハニカムコア単体および片側面に板材を接着したハニカムコアを、ノルマルパラフィン洗浄液を使用して洗浄する洗浄方法および洗浄装置に関する。
【0002】
【従来技術】
ハニカムサンドイッチ構造体は重量に比して機械的強度が大きいという特性を有することから、ハニカムコアの両面に板材を接着したハニカムサンドイッチパネルは、軽量かつ高剛性が要求される航空機や人工衛星等の構造材等に広く応用されている。
【0003】
ハニカムコアの材質としては、アルミニウム合金、マグネシウム、チタン等の非鉄金属が多く採用されており、ハニカムコアは、これらの金属を箔状にし、この箔を部分的に接着し、これを6角セル型や4角セル型等に展張して製造するものであり、接着部分(ノードボンド)を有するのが構造の特徴である。また、ハニカムサンドイッチパネルは、ハニカムコア片側面の切削加工、切削加工面への板材の接着、ハニカムコア他側面の切削加工、切削加工面への板材の接着の各工程によって製造し、ハニカムコアと板材との間は硬化エポキシ系フィルム接着剤を用いて接着する。
【0004】
ハニカムコアと板材との接着性能および接着耐久性は、ハニカムサンドイッチパネルを航空機の構造材等として一次接着または二次接着して用いた後の構造材等全体の機械的強度および耐久性に著しい影響を及ぼすため、接着前に板材、ハニカムコア単体および片側面に板材を接着したハニカムコアそれぞれを十分に洗浄する必要がある。
【0005】
ハニカムコアの接着前洗浄にあたっては、従来トリクロルエタンおよびトリクロルエチレンのような塩素系溶剤による蒸気脱脂が行われてきた。しかし、トリクロルエタンは、日本においては成層圏のオゾン層保護に関するモントリオール議定書が1988年9月30日に採択されて1996年から生産輸入および使用が禁止されており、もはや洗浄に用いることはできない。また、トリクロルエチレンについては、大気汚染防止法の規制はないものの、作業者の健康障害および環境汚染を懸念して規制強化の方向で取り組まれている。上記塩素系溶剤の代替洗浄剤であるフッ素系溶剤(HCFC:水素、塩素、フッ素、炭素化合物)も2020年までには全廃されることが決まっており、従来の洗浄法に変わる環境に配慮した洗浄法の検討が急務となっている。
【0006】
これに対し、特開平9−71883号公報には、アルカリ塩類や界面活性剤を主成分とする水溶液を用いる水系脱脂法は、ノードボンドの強度が接着剤吸湿により低下し、アルカリ塩類および水分がコア内部に滞留することにより製造期間中または運用期間中に腐食損傷が発生するため不適当であり、また、炭化水素系の溶剤(N−メチル−2−ピロリドン、ノルマルパラフィン系、イソパラフィン系、ナフテン系)、準水系(アルコールを主体とし、水および界面活性剤を含有した溶液)、ハロゲン化物、アルコール類、ケトン類について広く検討したところ、添加剤を含有しないノルマルパラフィン洗浄剤がハニカムコアの洗浄に適していることが開示されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
一方、多様なセル形状、セルサイズ、および厚みを有するハニカムコア単体および片側面に板材を接着したハニカムコアに関し、十分に洗浄するためには、セルの開放端を下方に向けて洗浄液を下方から供給して洗浄するのが有効であると考えられる。また、セル奥部まで充分に洗浄液が行き渡るようにしなければハニカムコア切削時等に付着した汚染物質が残存する結果となり、ハニカムサンドイッチパネル組上げ時の十分な接着強度および接着耐久性の確保が困難になると懸念される。
【0008】
そこで、本発明の目的は、作業者の健康障害および環境汚染に関して問題のないノルマルパラフィン洗浄液を用いて、ハニカムコア単体および片側面に板材を接着したハニカムコアを清浄かつ十分に洗浄し、さらに、例えばマグネシウムやチタン等の非鉄金属のように熱による焼けを嫌う被洗浄体や液層への浸漬を好まない被洗浄体の洗浄にも適用可能な洗浄方法および洗浄装置を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を達成するための請求項1に記載の発明は、被洗浄体を洗浄室内に配置する被洗浄体配置工程と、前記洗浄室内の気圧を0.27〜4.00kPaの範囲に、かつ、被洗浄体の温度を70〜85℃の範囲に保ちながらノルマルパラフィン洗浄液を下方から噴出させて被洗浄体を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄室内の気圧を1.33kPa以下の範囲に、かつ、被洗浄体の温度を70〜85℃の範囲に保ちながら被洗浄体を乾燥する乾燥工程と、を含み、前記洗浄工程が、ノルマルパラフィン洗浄液を洗浄室内の下部に配置した洗浄液貯蔵部に導入した後、洗浄室内の気圧を0.27〜1.33kPaの範囲に保ちながら洗浄液を沸騰させる洗浄液沸騰工程と、前記洗浄室内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保ちながら不活性ガスを洗浄液が押し上げられるように洗浄液中に送り込む不活性ガス供給工程と、のうちの少なくとも一方の工程により、被洗浄体の下方から洗浄液を吹き付けて被洗浄体を洗浄する工程であることを特徴とする。
【0010】
請求項1に記載の洗浄方法によれば、洗浄および乾燥工程を通じて被洗浄体の温度が70〜85℃の温度範囲に保たれるので、熱による焼けを嫌う非鉄金属でも安心して洗浄することができる。また、洗浄工程では、洗浄室の気圧が0.27〜4.00kPaの範囲にある低圧条件下において、洗浄液沸騰工程によれば、ノルマルパラフィン洗浄液が被洗浄体の下部から多方向に吹き付けられるので、霧状のノルマルパラフィン粒子が複雑形状を持つ被洗浄体の奥部まで到達し、良好に洗浄することができる。不活性ガス供給工程によれば、洗浄室の気圧が1.33〜4.00kPaである低圧条件において不活性ガスによりノルマルパラフィン洗浄液が被洗浄体の下部から垂直方向に吹き付けられるので、霧状のノルマルパラフィン粒子が不活性ガスの圧力により勢いよく被洗浄体の奥部まで到達し、一般的な蒸気脱脂の効果があまり期待できない熱容量の小さい被洗浄体でも清浄な洗浄を達成することができ、液層への浸漬を好まない被洗浄体についても洗浄を行うことができる。
【0011】
請求項2に記載の発明は、請求項1における被洗浄体がハニカムコア単体または片側面に板材を接着したハニカムコアであり、前記被洗浄体配置工程においてハニカムコアのセルの開放端を下方に向けて水平に洗浄室内に配置することを特徴とする。この洗浄方法によれば、洗浄および乾燥工程を通じてハニカムコアの温度が70〜85℃の温度範囲に保たれるので、ハニカムコアと板材との接着部の接着強度劣化を防止することができ、またハニカムコアの開放端が下方に向いているので、下方から霧状のノルマルパラフィン粒子が供給され、また洗浄後の汚染洗浄液が下方に落下するため、複雑形状を持つ片側面に板材を接着したハニカムコアの奥部まで清浄に洗浄することができる。
【0012】
請求項3に記載の発明は、前記洗浄工程において、被洗浄体を水平方向に揺動させることを特徴とする。この洗浄方法によれば、被洗浄体の奥部、細部に至るまで死角なくノルマルパラフィン粒子が供給されるため、洗浄を徹底的に行うことができる。
【0015】
請求項4に記載の発明は、前記被洗浄体配置工程と洗浄工程の間に、洗浄室内の気圧を1.33〜4.00kPaに保ちながら、70〜85℃の温度範囲にあるノルマルパラフィン洗浄液の蒸気を洗浄室内に供給して被洗浄体を蒸気洗浄する一次蒸気脱脂工程を有することを特徴とする。この洗浄方法によれば、70〜85℃の温度範囲にある蒸気が洗浄室内に供給されるので、被洗浄体の加熱が可能になると共に、油分、切粉、粘着剤、埃等を浮き上がらせて洗浄することができ、さらに洗浄工程を行う際の被洗浄体の湿潤性を向上させることもできる。
【0016】
請求項5に記載の発明は、前記洗浄工程と乾燥工程の間に、被洗浄体の下方からノルマルパラフィン洗浄液からなるシャワー液を供給して被洗浄体を洗浄する仕上げ洗浄工程と、洗浄室内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保ちながら70〜85℃の温度範囲にあるノルマルパラフィン洗浄液の蒸気を洗浄室内に供給して被洗浄体を蒸気洗浄する二次蒸気脱脂工程と、を有することを特徴とする。この洗浄方法によれば、仕上げ洗浄工程で清浄な洗浄液が被洗浄体の下部から供給されるので、充分な仕上げ洗浄が可能となり、二次蒸気脱脂工程では蒸気洗浄により液層への浸漬を好まない被洗浄体の仕上げ洗浄が可能になるとともに乾燥が促進される。
【0017】
請求項6に記載の発明は、被洗浄体を内部配置する密閉可能な洗浄室と、洗浄液蒸気を洗浄室内に供給する洗浄液蒸気供給手段と、前記洗浄室内を真空吸引する真空吸引手段と、前記洗浄室内の下部に配置して前記被洗浄体の下方からシャワー液を供給するシャワー液供給手段と、前記洗浄室の前記シャワー液供給手段よりもさらに下部に配置した洗浄液貯蔵部と、前記洗浄液貯蔵部にノルマルパラフィン洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄液貯蔵部の底部に配置して洗浄液を排出する洗浄液排出手段と、前記洗浄液貯蔵部に配置して不活性ガスを洗浄室内に供給する不活性ガス供給手段と、洗浄室内の温度を70〜85℃に調整する洗浄室温度調整手段と、を備え、前記不活性ガス供給手段は、前記真空吸引手段により前記洗浄室内の気圧が1.33〜4.00kPaの範囲に保たれた状態で、被洗浄体の下方から洗浄液を吹き付けて被洗浄体を洗浄するために、洗浄液が押し上げられるように洗浄液中に不活性ガスを送り込むことを特徴とする洗浄装置である。この洗浄装置によれば、請求項1に記載の洗浄方法を効果的に実施することができる。
【0018】
請求項7に記載の発明は、請求項7に記載の洗浄装置において、更に、前記洗浄室に内部配置した被洗浄体を水平方向に揺動させる揺動手段を備えることを特徴とする。この洗浄装置によれば、被洗浄体の奥部、細部に至るまで死角なくノルマルパラフィン粒子が供給されるため、洗浄を徹底的に行うことができる。
【0019】
請求項8に記載の発明は、請求項6または7に記載の洗浄装置において、更に蒸気発生室および洗浄液貯蔵室を含み、前記洗浄液貯蔵部内の洗浄液を蒸気発生室に導き蒸気を発生させ、発生させた蒸気を前記洗浄室内に導く流路系統と、蒸気発生室で発生させた蒸気を凝縮させて洗浄液貯蔵室に導き、洗浄液貯蔵室から洗浄液を前記シャワー液供給手段および洗浄液供給手段に導く流路系統と、を備えることを特徴とする。この洗浄装置によれば、洗浄液を他のタンク等へ移動することなく洗浄することができるため、洗浄時間を任意に設定することができる上に、被洗浄体が比較的大きいハニカムコアの洗浄においても洗浄剤の使用量を低減でき、周辺施設や管理コストの軽減をも図ることができる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面に基づいて説明する。
【0021】
図1は本洗浄方法を実施するための洗浄装置本体1の構成を示した断面図である。この洗浄装置本体1には、まず開閉扉2が設けられており、これを通じて被洗浄体の搬入搬出および洗浄室4の密閉および開放が行われるようになっている。また、洗浄室4は、外壁が二重構造となっており、2枚の外壁間は洗浄液蒸気の通路3になっている。蒸気通路3は、蒸気の熱によって洗浄室4の内部を加熱すると共に洗浄室4の内部からの熱の逃げすなわち放熱も防止して保温効果の高い洗浄室4を構成する温度調整手段として設けられている。洗浄室4の内部の加熱および温度制御は、他に温度調整手段としてのスチームヒーター(図示せず)によって行うことができるようにもなっている。
【0022】
さらに、洗浄室4には洗浄液蒸気供給手段として蒸気供給口5が設けられており、70〜85℃に加熱された洗浄液の蒸気が洗浄室4内に供給されるようになっている。また、洗浄室4には真空吸引手段として真空排気口6が設けられており、洗浄室4の内部が排気されて一定の気圧に保たれるようになっている。
【0023】
また、洗浄室4内には、ガイドローラー8および揺動手段としての揺動シリンダー9が設けられる。ガイドローラー8は被洗浄体15を搭載している搬送容器7を開閉扉2を通じて搬入搬出するためのものであり、揺動シリンダー9は搬送容器7を揺動させて、すなわち被洗浄体15を揺動させて洗浄効果を高めるためのものである。
【0024】
さらに、洗浄室4内には、上記の搬送容器設置部の下部に仕上げ洗浄に用いるシャワー液を供給するシャワー液供給手段であるシャワーノズル10が設けられている。本実施の形態では、シャワーノズル10は洗浄室4の上下方向を中心方向としたフルコーンノズルとしており、例えば長さが3820mm、幅が1600mmの有効洗浄範囲内でほぼ均一の流量密度を持つようにノズル配置されている。なお、フルコーンノズル以外のノズルを使用することもできる。
【0025】
また、シャワーノズル10の下部には、洗浄液を貯蔵する洗浄液貯蔵部であるドレインパン11が設けられており、ドレインパン11の上部11aは開放されている。ドレインパン11内には不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段である噴射ノズル12が設けられている。本実施の形態では、噴射ノズル12は、配管の上側方向に設けた穿孔12aより不活性ガスが噴出する構造としており、例えば長さが3820mm、幅が1600mmの有効洗浄範囲内で洗浄液が上方側に不活性ガスによって垂直方向に吹き付けられるようになっている。洗浄液は、洗浄液供給手段である洗浄液供給口13からドレインパン11に供給され、洗浄液排出手段である洗浄液排出口14から排出されるようになっている。もっとも洗浄液の供給はシャワーノズル10を用いて行っても良い。また、本実施の形態では、不活性ガスによる洗浄液の吹き付けのための噴射ノズルを設けているが、別途噴霧ノズルを洗浄室4内の下方に設けて洗浄液を上方に向けて噴霧しても良い。
【0026】
図2は、本洗浄方法を実施するための洗浄装置全体の概要を示した図である。洗浄装置本体1の蒸気供給口5は蒸気通路3および蒸気供給管21を介して蒸気発生室22と接続されている。蒸気発生室22は使用済み洗浄剤の貯蔵室を兼ねており、洗浄液排出管23を介して洗浄液排出口14にも接続されている。蒸気発生室22の下部には洗浄液を加熱して蒸気を発生させるためのスチームヒーター24が設けられているが、スチームヒーター24は洗浄室4および洗浄液貯蔵室25等の加熱および温度制御も行うようになっている。蒸気発生室22には第1次のドレインタンクにあたる濃縮タンク26および第1の凝縮器27が接続されており、汚れや水分等の蒸留再生できない液のみを濃縮できるようになっており、濃縮液は廃液タンク28に送られるようになっている。
【0027】
蒸気発生器22は第2の凝縮器29を通して洗浄液貯蔵室25に接続されており、蒸留再生された清浄な洗浄液のみが洗浄液貯蔵室25に貯蔵されるようになっている。洗浄液貯蔵室25はシャワー液供給管30を通してシャワーノズル10と接続されており、また、洗浄液供給管31を通して洗浄液供給口13と接続されている。
【0028】
洗浄装置本体1の真空排気口6は、第3の凝縮器32を通して真空ポンプ33に接続されており、真空ポンプ33の出口側はさらにミストトラップ34に接続されている。また、第3の凝縮器32により凝縮された洗浄液は凝縮液タンク35に蓄えられ、蒸気発生室22に戻されるようになっている。
【0029】
上述のようにシャワーノズル10、洗浄液貯蔵室25、蒸気発生室22、およびドレインパン11を接続することにより、洗浄液を他のタンク等へ移動することなく洗浄することができるため、洗浄時間を任意に設定することができる。また、被洗浄体が比較的大きいハニカムコアの洗浄においても洗浄剤の使用量は1500リットルで済み、第3石油類の指定数量(2000リットル)の範囲内で管理できるため、周辺施設や管理コストの軽減を図ることができる。さらに、廃液タンク28やミストトラップ33を設けることにより、環境適合性の要求を満足することもできる。
【0030】
以下、図1、図2および図6に示す工程説明図を参照して洗浄方法および作用について説明する。
【0031】
まず、被洗浄体15を搬送容器7に搭載し、洗浄装置本体1の開閉扉2を開き、ガイドローラー8に沿って搬入して洗浄室4の中央に配置した後、開閉扉2を閉じて洗浄室4を密閉する。このとき、被洗浄体15として図3に示すような片側面に板材42を接着した6角セル型ハニカムコア41を洗浄する場合には、図4に示すような搬送容器であるバスケット43内に、ハニカムコア41の開放端を下に向けて収容し、シャワーノズル10の中央方向がハニカムコア41のセル軸方向に向くように配置する。洗浄を洗浄室4内で行うのは、引火点70℃のノルマルパラフィン洗浄液を用いて洗浄しても火災の恐れがなく、安全に洗浄を行うことができるからである。
【0032】
次に、図6(1)に示す一次蒸気脱脂工程S1を行う。この一次蒸気脱脂S1を行うには、まず、真空ポンプ33により真空排気口6を通して洗浄室4を真空吸引し、洗浄室4内を0.66kPa以下とする。次に、スチームヒーター24で炭素数11〜12を主体とするノルマルパラフィン洗浄液の入っている蒸気発生室22を70〜85℃に加熱し、発生した蒸気を蒸気供給管21を通して洗浄室4内に供給し、真空吸引して洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaに保ちながら、被洗浄体15を蒸気脱脂する。
【0033】
ここで、蒸気温度を70〜85℃の範囲にするのは、被洗浄体15を洗浄温度まで加熱して蒸気脱脂を行うのに十分な温度にするためであり、また、洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaとするのは、図5に示した本実施の形態において使用したノルマルパラフィン洗浄液の蒸気圧曲線からわかるように、蒸気濃度を十分にして蒸気脱脂効果を高めるためである。この一次蒸気脱脂S1により、油分(機械作動油等)、切粉(切削加工残渣)、粘着剤、埃等を浮きあがらせて蒸気洗浄を行うことができ、また洗浄工程の際における被洗浄体15の湿潤性の向上に寄与させることができる。
【0034】
次に、洗浄工程S2を行う。洗浄工程S2は、一般には、洗浄室4内を真空吸引して0.27〜4.00kPaの範囲に、被洗浄体15の温度を70〜85℃の範囲にそれぞれ保ちながらノルマルパラフィン洗浄液を被洗浄体15の下方から噴出させて行う。
【0035】
洗浄液の噴出は、ノルマルパラフィン洗浄液を洗浄室4内の下部に配置したドレインパン11に導入した後、洗浄室4内の気圧を0.27〜1.33kPaの範囲に保ちながら洗浄液を沸騰させる洗浄液沸騰工程S2aと、洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保ちながら不活性ガスを洗浄液が押し上げられるように洗浄液中に送り込む不活性ガス供給工程S2bと、のうちの少なくとも一方の工程により、被洗浄体15の下方から洗浄液を吹き付けて行うのが好適である。
【0036】
図6(2)に示す洗浄液沸騰工程S2aは、洗浄液供給口13から洗浄液貯蔵室25の洗浄液をドレインパン11に供給した後、蒸気通路3またはヒーターによる温度制御により被洗浄体15の温度を70〜85℃に保ちながら、真空吸引して洗浄室4内の気圧を0.27〜1.33kPaの範囲に保つことにより、ノルマルパラフィン洗浄液の沸騰現象を引き起こして洗浄液を吹き付けて行う。このとき、洗浄効果を高めるために搬送容器7を揺動シリンダー9で揺動させる。
【0037】
被洗浄体15の温度を70〜85℃に保つのは、70℃未満では洗浄が不十分だからであり、85℃以下に保つのは片側面に板材を接着したハニカムコアを洗浄する際のハニカムコア41と板材42との接着部の接着強度劣化とハニカムコア材の焼けを防止するためである。洗浄室4内の気圧を0.27〜1.33kPaの範囲に保つのは、0.27kPa未満では沸騰が激しすぎて霧状のノルマルパラフィン粒子による安定な洗浄を行うことができないからであり、1.33kPaを越えると沸騰現象を起こすことができないからである(図5参照)。
【0038】
上記洗浄液沸騰工程S2aにより、霧状のノルマルパラフィン粒子が被洗浄体15の下部から多方向に飛散して吹き上げられるので、通常のシャワー洗浄に比べて複雑形状を持つ被洗浄体15の洗浄を良好に行うことができる上に、霧状のノルマルパラフィン粒子が被洗浄体15の内部にまで効率よく供給されるため、一般的な蒸気脱脂の効果があまり期待できない熱容量の小さい被洗浄体15および液層への浸漬をあまり好まない被洗浄体15を清浄に洗浄することができる。
【0039】
なお、清浄な洗浄液および洗浄装置を用いて突沸現象を引き起こせば、運動エネルギーの大きい洗浄液の飛沫が多方向に飛散するので、凹凸の激しい複雑形状の被洗浄体15の洗浄を上下側面を問わず行うことができる。
【0040】
不活性ガス供給工程S2bは、洗浄液供給口13から洗浄液貯蔵室25の洗浄液をドレインパン11に噴射ノズル12が充分に隠れるまで供給した後、窒素等の不活性ガスを噴射ノズル12から噴射し、洗浄液を吹き付けて行う。このとき、真空吸引して洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保ち、蒸気通路3またはヒーターによる温度制御により、被洗浄体15の温度を70〜85℃に保つ。また、洗浄効果を高めるために搬送容器7を揺動シリンダー9で揺動させる。
【0041】
洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保つのは、1.33kPa以下では洗浄室4内の温度が不均一であった場合にノルマルパラフィン系洗浄液の沸点に近づくのを回避するためであり、4.00kPa以上ではノルマルパラフィン洗浄液が霧化せず洗浄が促進されないからである。不活性ガスを用いるのは残存酸素濃度を低下させて火災の危険性を低減するためである。
【0042】
上記不活性ガス供給工程S2bにより、洗浄室4の気圧が1.33〜4.00kPaである低圧条件下において、不活性ガスによりノルマルパラフィン洗浄液が被洗浄体15の下部から垂直方向に吹き上げられるので、通常のシャワー洗浄に比べて指向性の良い洗浄が達成される上に、噴射圧を大きくすることにより、例えば厚みのあるハニカムコアの場合でも洗浄することができる。また、霧状のノルマルパラフィン粒子が被洗浄体15の奥部にまで効率よく供給されるため、一般的な蒸気脱脂の効果があまり期待できない熱容量の小さい被洗浄体15および液層への浸漬をあまり好まない被洗浄体15を清浄に洗浄することができる。
【0043】
次に、仕上げ洗浄工程S3と二次蒸気脱脂工程S4とを行う。図6(3)に示す仕上げ洗浄工程S3は、洗浄液貯蔵室25から清浄な洗浄液をシャワー液供給管30を通してシャワーノズル10に供給して行う。このとき、被洗浄体15に付着している汚染液を洗い流すために搬送容器7を揺動シリンダー9で揺動させる。この工程により、清浄な洗浄液が被洗浄体15の下部から供給されるので充分な仕上げ洗浄が可能となる。
【0044】
二次蒸気脱脂工程S4は、蒸気発生室22で発生した蒸気を蒸気供給管21を通して洗浄室4内に供給し、真空吸引して洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaに保ちながら被洗浄体15を蒸気洗浄することにより行う。ここで、蒸気温度を70〜85℃の範囲にし、洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaにするのは、蒸気濃度を充分にして仕上げ脱脂効果を高めるとともに乾燥促進効果をも図るためである。この工程は、液層への浸漬をあまり好まない被洗浄体を清浄に洗浄する場合に特に有効である。
【0045】
また、仕上げ洗浄工程S3に続き二次蒸気脱脂工程S4を行うことにより、仕上げ洗浄を徹底して行うことができ、乾燥促進も図ることができる。
【0046】
最後に、図6(4)に示す乾燥工程S5を行う。この工程S5は、真空ポンプ33により洗浄室4の気圧を1.33kPa以下の範囲にし、被洗浄体15の温度を蒸気通路3またはヒーターにより70〜85℃の範囲に制御して、被洗浄体15を乾燥することにより行う。被洗浄体15の温度を70〜85℃の範囲としたのは、許容できる程度の時間内で乾燥するためであり、85℃以下にしたのは、ハニカムコア41の焼けを防止すると共にハニカムコア41と板材42との接着部の接着強度劣化を防止するためである。乾燥後、洗浄室4を大気開放して被洗浄体15を搬出する。
【0047】
以下に、片側面に板材を接着したハニカムコアを洗浄する場合について、詳細に説明する
図3に示す片側面に板材42を接着した6角セル型ハニカムコア41(長さ2300mm、幅1400mm、厚み100mm)を、図4に示すステンレス製のバスケット43(長さ3700mm、幅1700mm、深さ150mm)内に、ハニカムコア41の開放端を下に向けて収容し、シャワーノズル10の中央方向がハニカムコア41のセル軸方向に向くように配置する。
【0048】
次に、真空ポンプ33により洗浄室4内を真空吸引し、洗浄室4内の気圧を0.66kPa以下とした後、スチームヒーター24でノルマルパラフィン洗浄液の入っている蒸気発生室22を70〜85℃に加熱する。発生した蒸気を蒸気供給管21を通して洗浄室4内に供給し、真空吸引して洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaに保ちながら、ハニカムコア41を10〜15分間蒸気脱脂する。
【0049】
次に、洗浄液供給口13から洗浄液貯蔵室25の洗浄液をドレインパン11に噴射ノズル12が充分に隠れるまで供給した後、ヒーターによる温度制御によりハニカムコア41の温度を70〜85℃に保ちながら、真空吸引して洗浄室4内の気圧を0.27〜1.33kPaの範囲に保ち、ノルマルパラフィン洗浄液の沸騰現象を引き起こして5〜10分間洗浄液を吹き付ける。バスケット43は揺動シリンダー9で揺動させる。
【0050】
さらに、窒素ガスを噴射ノズル12から噴射し、5〜10分間洗浄液を吹き上げる。このとき、真空吸引して洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保ち、ヒーターによる温度制御により、ハニカムコア41の温度を70〜85℃に保つ。また、バスケット43を揺動シリンダー9で揺動させる。
【0051】
次に、洗浄液貯蔵室25から清浄な洗浄液をシャワー液供給管30を通してシャワーノズル10に供給して1〜2分間仕上げ洗浄を行う。このとき、真空吸引して洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保ち、ヒーターによる温度制御によりハニカムコア41の温度を70〜85℃の範囲に保つ。また、バスケット43を揺動シリンダー9で揺動させる。さらに、蒸気発生室22で発生した蒸気を蒸気供給管21を通して洗浄室4内に供給し、真空吸引して洗浄室4内の気圧を1.33〜4.00kPaに保ちながらハニカムコア41を10〜20分蒸気脱脂する。
【0052】
最後に、真空ポンプ33により洗浄室4の気圧を1.33kPa以下の範囲にし、ハニカムコア41の温度をヒーターにより70〜85℃の範囲に制御して、15分間乾燥する。乾燥後、洗浄室4を大気開放してハニカムコア41を搬出する。
【0053】
以上の工程により洗浄した片側面に板材42を接着した6角セル型ハニカムコア41について、洗浄効果を確認した。まずハニカムコア切削時に使用した鉱物油が残っているか否かを調査するために紫外線照射検査を行ったが、残渣は検出されなかった。また、強度試験の1つであるノードボンド強度試験(MIL−C−7438、要求値40(lb/.625in)以上)を行ったところ、60.2(lb/.625in)の値が得られ、トリクロルエチレン洗浄法による49.9(lb/.625in)に比較しても良好な結果が得られた。
【0054】
また、図7に示すように、上記の片側面に板材42を接着した6角セル型ハニカムコア41のコア開放面に120℃硬化エポキシ系フィルム接着剤を用いてアルミニウム面板44を接着し、ハニカムサンドイッチパネルを組上げたところ、十分な接着強度および接着耐久性が確保され、構造強度の大きい構造体が得られた。したがって、本発明による洗浄効果が十分であることが確認された.
なお、本発明の洗浄方法は、70〜85℃の範囲で洗浄を行うので、マグネシウムやチタン等の熱による焼けを嫌う非鉄金属でも安心して洗浄することができる。また、霧状の洗浄液粒子で洗浄するので、ハニカムコアに限らず、複雑形状の被洗浄体や、洗浄液の浸漬による腐食等が懸念される部位を持つ被洗浄体でも洗浄できる。さらに、ハニカムコアを洗浄する場合でもセル形状およびセルサイズの如何にかかわらず洗浄することができる。
【0055】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の洗浄方法によれば、洗浄および乾燥工程を通じて被洗浄体の温度が70℃〜85℃の温度範囲に保たれるので、熱による焼けを嫌う非鉄金属でも安心して洗浄することができ、片側面に板材を接着したハニカムコアでも、ハニカムコアと板材との接着部の接着強度劣化を防止して洗浄を行うことができる。また、霧状のノルマルパラフィン粒子が被洗浄体の奥部にまで効率よく供給されるため、一般的な蒸気脱脂の効果があまり期待できない熱容量の小さい被洗浄体でも、液層への浸漬を嫌う被洗浄体でも、清浄な洗浄を達成することができる。
【0056】
また、本発明の洗浄装置によれば、上述の洗浄方法を効果的に実施することができ、さらに、洗浄液を他のタンク等へ移動することなく洗浄することができるため、洗浄時間を任意に設定することができる上に、被洗浄体が比較的大きいハニカムコアの洗浄においても洗浄剤の使用量を低減でき、周辺施設や管理コストの軽減をも図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に使用される洗浄装置本体の構成を示す断面図である。
【図2】同じく、洗浄装置全体の構成を示す図である。
【図3】片側面に板材を接着した6角セル型ハニカムコアの図である。
【図4】ハニカムコアを搭載する搬送容器(バスケット)の図である。
【図5】本発明の実施の形態に使用されるノルマルパラフィン系洗浄剤の蒸気圧曲線を示すグラフである。
【図6】本発明の実施の形態における洗浄の概要を示す工程説明図である。
【図7】片側面に板材を接着した6角セル型ハニカムコアの他の面に板材を接着して組上げたハニカムサンドイッチパネルの図である。
【符号の説明】
1 洗浄装置本体
3 蒸気通路
4 洗浄室
5 蒸気供給口(洗浄液蒸気供給手段)
6 真空排気口(真空吸引手段)
10 シャワーノズル(シャワー液供給手段)
11 ドレインパン(洗浄液貯蔵部)
12 不活性ガス噴射ノズル(不活性ガス供給手段)
13 洗浄液供給口(洗浄液供給手段)
14 洗浄液排出口(洗浄液排出手段)
15 被洗浄体
22 蒸気発生室
25 洗浄液貯蔵室
41 ハニカムコア
43 バスケット[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a cleaning method and a cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned that needs to be cleaned at a relatively low temperature, for example, a honeycomb core alone and a honeycomb core having a plate member bonded to one side using a normal paraffin cleaning solution.
[0002]
[Prior art]
Since the honeycomb sandwich structure has a characteristic that the mechanical strength is larger than the weight, the honeycomb sandwich panel in which the plate material is bonded to both sides of the honeycomb core is used for an aircraft, an artificial satellite, or the like that is required to be lightweight and highly rigid. Widely applied to structural materials.
[0003]
Many non-ferrous metals such as aluminum alloy, magnesium, and titanium are used as the material for the honeycomb core. The honeycomb core is made of these metals in the form of foil, and this foil is partially bonded to form a hexagonal cell. It is manufactured by being expanded into a mold, a quadrangular cell mold or the like, and has a bonded portion (node bond) as a feature of the structure. Further, the honeycomb sandwich panel is manufactured by each process of cutting the honeycomb core on one side, bonding the plate material to the cut surface, cutting the other side of the honeycomb core, and bonding the plate material to the cut surface. The board material is bonded using a cured epoxy film adhesive.
[0004]
The bonding performance and bonding durability between the honeycomb core and the plate material have a significant effect on the mechanical strength and durability of the entire structural material after the honeycomb sandwich panel is used as an aircraft structural material, either primary or secondary bonded. Therefore, it is necessary to sufficiently clean the plate material, the honeycomb core alone, and the honeycomb core having the plate material bonded to one side before bonding.
[0005]
In the pre-bonding cleaning of the honeycomb core, steam degreasing using a chlorine-based solvent such as trichloroethane and trichloroethylene has been conventionally performed. However, in Japan, the Montreal Protocol on the protection of the stratospheric ozone layer was adopted on September 30, 1988 in Japan, and its production, import and use have been prohibited since 1996, and it can no longer be used for cleaning. Trichlorethylene is being addressed in the direction of stricter regulations, although there are no regulations under the Air Pollution Control Law but concerns about health problems and environmental pollution of workers. Fluorine solvents (HCFC: hydrogen, chlorine, fluorine, carbon compounds), which are alternative cleaning agents for the above chlorinated solvents, have also been decided to be completely abolished by 2020. There is an urgent need to consider cleaning methods.
[0006]
On the other hand, in JP-A-9-71883, an aqueous degreasing method using an aqueous solution mainly composed of alkali salts or surfactants reduces the strength of node bonds due to moisture absorption by the adhesive, and alkali salts and moisture are reduced. It is unsuitable because it stays inside the core and causes corrosion damage during the production period or operation period. It is also unsuitable for hydrocarbon solvents (N-methyl-2-pyrrolidone, normal paraffin, isoparaffin, naphthene). System), quasi-aqueous system (solutions mainly composed of alcohol, water and surfactant), halides, alcohols, and ketones. Normal paraffin detergents that do not contain additives are used to clean honeycomb cores. It is disclosed that it is suitable.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
On the other hand, for honeycomb cores having various cell shapes, cell sizes and thicknesses, and honeycomb cores having a plate bonded to one side, in order to perform sufficient cleaning, the cleaning liquid is applied from below with the open end of the cells facing downward. It is considered effective to supply and wash. In addition, if the cleaning solution does not reach the back of the cell sufficiently, contaminants attached when the honeycomb core is cut, etc. will remain, and it will be difficult to ensure sufficient adhesion strength and adhesion durability when assembling the honeycomb sandwich panel. It is a concern.
[0008]
Accordingly, an object of the present invention is to clean and sufficiently clean the honeycomb core alone and the honeycomb core in which the plate material is bonded to one side surface, using a normal paraffin cleaning liquid that does not have a problem regarding health problems and environmental pollution of the worker, For example, it is to provide a cleaning method and a cleaning apparatus applicable to cleaning of an object to be cleaned that does not like to be burned by heat, such as magnesium and titanium, and an object to be cleaned that does not like immersion in a liquid layer.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The invention according to
[0010]
According to the cleaning method of the first aspect, since the temperature of the object to be cleaned is maintained in the temperature range of 70 to 85 ° C. throughout the cleaning and drying process, it is possible to clean even non-ferrous metals that dislike burning due to heat. it can. In the cleaning process, the pressure in the cleaning chamber is in the low pressure range of 0.27 to 4.00 kPa. According to the cleaning liquid boiling process, normal paraffin cleaning liquid is sprayed in multiple directions from the bottom of the object to be cleaned, so that the mist-like normal paraffin particles reach the back of the object to be cleaned having a complex shape and be cleaned well. Can do. According to the inert gas supply step, the normal paraffin cleaning liquid is sprayed vertically from the lower part of the object to be cleaned under a low pressure condition where the pressure in the cleaning chamber is 1.33 to 4.00 kPa. Normal paraffin particles reach the back of the object to be cleaned with the pressure of the inert gas. A clean object can be achieved even with a to-be-cleaned object having a small heat capacity, for which the effect of general steam degreasing cannot be expected so much, and an object to be cleaned that does not like immersion in a liquid layer can also be cleaned.
[0011]
According to a second aspect of the present invention, the object to be cleaned in
[0012]
According to a third aspect of the present invention, the object to be cleaned is swung horizontally in the cleaning step. According to this cleaning method, normal paraffin particles are supplied without blind spots to the back and details of the object to be cleaned, so that cleaning can be performed thoroughly.
[0015]
Claim 4 According to the invention described in
[0016]
[0017]
[0018]
A seventh aspect of the present invention is the cleaning apparatus according to the seventh aspect, further comprising swinging means for swinging an object to be cleaned disposed in the cleaning chamber in a horizontal direction. According to this cleaning apparatus, normal paraffin particles are supplied without blind spots to the back and details of the object to be cleaned, so that cleaning can be performed thoroughly.
[0019]
Claim 8 The invention described in
[0020]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0021]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a cleaning apparatus
[0022]
Further, the cleaning chamber 4 is provided with a
[0023]
In the cleaning chamber 4, a guide roller 8 and a
[0024]
Further, in the cleaning chamber 4, a
[0025]
Further, a
[0026]
FIG. 2 is a diagram showing an outline of the entire cleaning apparatus for carrying out this cleaning method. The
[0027]
The
[0028]
The
[0029]
By connecting the
[0030]
Hereinafter, the cleaning method and operation will be described with reference to the process explanatory diagrams shown in FIGS. 1, 2, and 6.
[0031]
First, the object to be cleaned 15 is mounted on the transport container 7, the opening / closing door 2 of the cleaning apparatus
[0032]
Next, primary steam degreasing process S1 shown in FIG. 6 (1) is performed. In order to perform this primary vapor degreasing S1, first, the cleaning chamber 4 is vacuum-sucked through the
[0033]
Here, the reason why the steam temperature is set in the range of 70 to 85 ° C. is to heat the
[0034]
Next, cleaning process S2 is performed. In the cleaning step S2, the normal paraffin cleaning liquid is generally applied while vacuuming the inside of the cleaning chamber 4 to keep the temperature of the
[0035]
The cleaning liquid is jetted out after the normal paraffin cleaning liquid is introduced into the
[0036]
In the cleaning liquid boiling step S2a shown in FIG. 6 (2), the cleaning liquid in the cleaning liquid storage chamber 25 is supplied from the cleaning
[0037]
The temperature of the object to be cleaned 15 is maintained at 70 to 85 ° C. because the cleaning is insufficient when the temperature is less than 70 ° C., and the temperature is maintained at 85 ° C. or less when the honeycomb core having a plate material bonded to one side surface is cleaned. This is to prevent deterioration of the adhesive strength of the bonded portion between the core 41 and the
[0038]
By the cleaning liquid boiling step S2a, the mist-like normal paraffin particles are scattered and blown up in multiple directions from the lower part of the
[0039]
In addition, if a bumping phenomenon is caused by using a clean cleaning liquid and a cleaning apparatus, the spray of cleaning liquid with a large kinetic energy is scattered in multiple directions. Can be done without.
[0040]
The inert gas supply step S2b supplies the cleaning liquid in the cleaning liquid storage chamber 25 from the cleaning
[0041]
The pressure in the cleaning chamber 4 is kept in the range of 1.33 to 4.00 kPa because the temperature in the cleaning chamber 4 is not uniform at 1.33 kPa or less and approaches the boiling point of the normal paraffin cleaning solution. This is to avoid this, and when it is 4.00 kPa or more, the normal paraffin cleaning liquid does not atomize and cleaning is not promoted. The inert gas is used to reduce the risk of fire by reducing the residual oxygen concentration.
[0042]
By the inert gas supply step S2b, the normal paraffin cleaning liquid is blown up vertically from the lower portion of the
[0043]
Next, a finishing cleaning step S3 and a secondary steam degreasing step S4 are performed. 6 (3) is performed by supplying clean cleaning liquid from the cleaning liquid storage chamber 25 to the
[0044]
In the secondary steam degreasing step S4, the steam generated in the
[0045]
Further, by performing the secondary steam degreasing step S4 after the finishing cleaning step S3, the finishing cleaning can be performed thoroughly, and drying can be promoted.
[0046]
Finally, a drying step S5 shown in FIG. 6 (4) is performed. In this step S5, the pressure in the cleaning chamber 4 is set to a range of 1.33 kPa or less by the
[0047]
Hereinafter, the case of cleaning the honeycomb core having the plate material bonded to one side surface will be described in detail.
A hexagonal cell type honeycomb core 41 (length 2300 mm, width 1400 mm,
[0048]
Next, the inside of the cleaning chamber 4 is vacuumed by the
[0049]
Next, after supplying the cleaning liquid in the cleaning liquid storage chamber 25 from the cleaning
[0050]
Further, nitrogen gas is injected from the
[0051]
Next, a clean cleaning liquid is supplied from the cleaning liquid storage chamber 25 to the
[0052]
Finally, the air pressure in the cleaning chamber 4 is set to a range of 1.33 kPa or less by the
[0053]
The cleaning effect was confirmed for the hexagonal cell
[0054]
Further, as shown in FIG. 7, an
In addition, since the washing | cleaning method of this invention performs washing | cleaning in the range of 70-85 degreeC, it can wash | clean with confidence also the nonferrous metal which dislikes the burning by heat | fever, such as magnesium and titanium. Further, since the cleaning is performed with the mist-like cleaning liquid particles, the cleaning is not limited to the honeycomb core, and the cleaning target having a complicated shape or the target to be cleaned may be corroded due to immersion of the cleaning liquid. Furthermore, even when the honeycomb core is washed, the honeycomb core can be washed regardless of the cell shape and the cell size.
[0055]
【The invention's effect】
As described above, according to the cleaning method of the present invention, the temperature of the object to be cleaned is maintained in the temperature range of 70 ° C. to 85 ° C. throughout the cleaning and drying process. Even a honeycomb core in which a plate material is bonded to one side surface can be cleaned while preventing deterioration of the adhesive strength of the bonded portion between the honeycomb core and the plate material. In addition, since mist-like normal paraffin particles are efficiently supplied to the inner part of the object to be cleaned, even objects to be cleaned with a small heat capacity that cannot be expected to have the effect of general vapor degreasing hate to be immersed in the liquid layer. Even the object to be cleaned can achieve clean cleaning.
[0056]
Moreover, according to the cleaning apparatus of the present invention, the above-described cleaning method can be effectively carried out, and further, the cleaning liquid can be cleaned without moving to another tank or the like, so that the cleaning time can be arbitrarily set. In addition, it is possible to reduce the amount of cleaning agent used in cleaning a honeycomb core having a relatively large object to be cleaned, and to reduce peripheral facilities and management costs.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration of a cleaning apparatus main body used in an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view similarly showing the configuration of the entire cleaning apparatus.
FIG. 3 is a diagram of a hexagonal cell type honeycomb core having a plate material bonded to one side surface.
FIG. 4 is a view of a transport container (basket) on which a honeycomb core is mounted.
FIG. 5 is a graph showing a vapor pressure curve of a normal paraffin cleaning agent used in the embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a process explanatory diagram showing an outline of cleaning in the embodiment of the present invention.
Fig. 7 is a view of a honeycomb sandwich panel assembled by bonding a plate material to the other surface of a hexagonal cell type honeycomb core having a plate material bonded to one side surface.
[Explanation of symbols]
1 Cleaning device body
3 Steam passage
4 Washing room
5 Vapor supply port (cleaning liquid vapor supply means)
6 Vacuum exhaust port (vacuum suction means)
10 Shower nozzle (shower liquid supply means)
11 Drain pan (cleaning liquid storage part)
12 Inert gas injection nozzle (inert gas supply means)
13 Cleaning liquid supply port (cleaning liquid supply means)
14 Cleaning liquid outlet (cleaning liquid discharging means)
15 Object to be cleaned
22 Steam generation chamber
25 Cleaning liquid storage room
41 Honeycomb core
43 baskets
Claims (8)
前記洗浄室内の気圧を0.27〜4.00kPaの範囲に、かつ、被洗浄体の温度を70〜85℃の範囲に保ちながらノルマルパラフィン洗浄液を下方から噴出させて被洗浄体を洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄室内の気圧を1.33kPa以下の範囲に、かつ、被洗浄体の温度を70〜85℃の範囲に保ちながら被洗浄体を乾燥する乾燥工程と、を含み、
前記洗浄工程が、ノルマルパラフィン洗浄液を洗浄室内の下部に配置した洗浄液貯蔵部に導入した後、洗浄室内の気圧を0.27〜1.33kPaの範囲に保ちながら洗浄液を沸騰させる洗浄液沸騰工程と、前記洗浄室内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保ちながら不活性ガスを洗浄液が押し上げられるように洗浄液中に送り込む不活性ガス供給工程と、のうちの少なくとも一方の工程により、被洗浄体の下方から洗浄液を吹き付けて被洗浄体を洗浄する工程であることを特徴とする洗浄方法。A to-be-cleaned object arranging step for arranging the to-be-washed object in the cleaning chamber;
Cleaning in which the object to be cleaned is cleaned by ejecting a normal paraffin cleaning liquid from below while maintaining the pressure in the cleaning chamber in the range of 0.27 to 4.00 kPa and the temperature of the object to be cleaned in the range of 70 to 85 ° C. Process,
Wherein the cleaning chamber pressure in the range 1.33 kPa, and viewed including the step of drying the cleaning object while keeping the temperature in the range of 70 to 85 ° C. of the cleaning object, and
After the cleaning step introduces the normal paraffin cleaning liquid into the cleaning liquid storage unit disposed at the lower part of the cleaning chamber, the cleaning liquid boiling step of boiling the cleaning liquid while maintaining the atmospheric pressure in the cleaning chamber in the range of 0.27 to 1.33 kPa, At least one of the inert gas supply step of sending the inert gas into the cleaning liquid so that the cleaning liquid is pushed up while maintaining the atmospheric pressure in the cleaning chamber in the range of 1.33 to 4.00 kPa, to be cleaned A cleaning method characterized by being a step of cleaning a body to be cleaned by spraying a cleaning liquid from below the body .
洗浄室内の気圧を1.33〜4.00kPaに保ちながら、70〜85℃の温度範囲にあるノルマルパラフィン洗浄液の蒸気を洗浄室内に供給して被洗浄体を蒸気洗浄する一次蒸気脱脂工程を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の洗浄方法。Between the cleaning object arranging step and the cleaning step,
A primary steam degreasing step is performed in which the vapor of the normal paraffin cleaning liquid in the temperature range of 70 to 85 ° C. is supplied into the cleaning chamber and the object to be cleaned is steam cleaned while maintaining the pressure in the cleaning chamber at 1.33 to 4.00 kPa. The washing | cleaning method of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.
被洗浄体の下方からノルマルパラフィン洗浄液からなるシャワー液を供給して被洗浄体を洗浄する仕上げ洗浄工程と、洗浄室内の気圧を1.33〜4.00kPaの範囲に保ちながら70〜85℃の温度範囲にあるノルマルパラフィン洗浄液の蒸気を洗浄室内に供給して被洗浄体を蒸気洗浄する二次蒸気脱脂工程と、を有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の洗浄方法。Between the washing process and the drying process,
A finish cleaning process for supplying a shower liquid composed of a normal paraffin cleaning liquid from below the object to be cleaned to clean the object to be cleaned, and a pressure of 70 to 85 ° C. while maintaining the pressure in the cleaning chamber within a range of 1.33 to 4.00 kPa. and having a secondary vapor degreasing step of the cleaning object to vapor cleaning by supplying the vapor of normal paraffins cleaning liquid in the temperature range in the cleaning chamber, and according to any one of claims 1-4 Cleaning method.
洗浄液蒸気を洗浄室内に供給する洗浄液蒸気供給手段と、
前記洗浄室内を真空吸引する真空吸引手段と、
前記洗浄室内の下部に配置して前記被洗浄体の下方からシャワー液を供給するシャワー液供給手段と、
前記洗浄室の前記シャワー液供給手段よりもさらに下部に配置した洗浄液貯蔵部と、
前記洗浄液貯蔵部にノルマルパラフィン洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液貯蔵部の底部に配置して洗浄液を排出する洗浄液排出手段と、
前記洗浄液貯蔵部に配置して不活性ガスを洗浄室内に供給する不活性ガス供給手段と、
洗浄室内の温度を70〜85℃に調整する洗浄室温度調整手段と、を備え
前記不活性ガス供給手段は、前記真空吸引手段により前記洗浄室内の気圧が1.33〜4.00kPaの範囲に保たれた状態で、被洗浄体の下方から洗浄液を吹き付けて被洗浄体を洗浄するために、洗浄液が押し上げられるように洗浄液中に不活性ガスを送り込むことを特徴とする洗浄装置。A sealable cleaning chamber in which the object to be cleaned is placed;
Cleaning liquid vapor supply means for supplying cleaning liquid vapor into the cleaning chamber;
Vacuum suction means for vacuum suction of the cleaning chamber;
Shower liquid supply means that is disposed in the lower part of the cleaning chamber and supplies shower liquid from below the object to be cleaned;
A cleaning liquid storage section disposed further below the shower liquid supply means of the cleaning chamber;
Cleaning liquid supply means for supplying a normal paraffin cleaning liquid to the cleaning liquid storage unit;
A cleaning liquid discharging means disposed at the bottom of the cleaning liquid storage section for discharging the cleaning liquid;
An inert gas supply means arranged in the cleaning liquid storage section to supply an inert gas into the cleaning chamber;
E Bei a cleaning compartment temperature adjusting means for adjusting the temperature of the wash chamber 70 to 85 ° C., the
The inert gas supply means cleans the object to be cleaned by spraying a cleaning liquid from below the object to be cleaned in a state where the pressure in the cleaning chamber is maintained within a range of 1.33 to 4.00 kPa by the vacuum suction means. In order to do so, an inert gas is sent into the cleaning liquid so that the cleaning liquid is pushed up .
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