JP4611348B2 - 基板支持装置、基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Description
12:装着穴
2 :フローティングピン
21:基底部
22:首部
23:ストッパ部材
4 :基板搬送装置
42:フィンガー
W :基板
Claims (3)
- 基板処理装置の処理室に配置され且つ処理中に基板(W)を水平に支持する基板支持装置であって、表面が平坦に形成され上面の一直線上に並ばない少なくとも三箇所に穴部を設けた支持装置本体と、柱状のフローティングピンとから成り、前記フローティングピンは、前記穴部にそれぞれ嵌合する基底部と、該基底部より小径に形成された首部とから構成されており、該首部の上端部は円錐状又は球面状に形成され、前記首部の外周側には前記穴部に少なくとも前記首部を固定するストッパ部材が設けられ、前記フローティングピンの基底部の底面には水平な溝が設けられ、ストッパ部材の内周面には縦溝が設けられていることを特徴とする基板支持装置。
- 表面が平坦に形成され上面の一直線上に並ばない少なくとも三箇所に穴部を設けた支持装置本体と、柱状のフローティングピンとから成り、前記フローティングピンは、前記穴部にそれぞれ嵌合する基底部と、該基底部より小径に形成された首部とから構成されており、該首部の上端部は円錐状又は球面状に形成され、前記首部の外周側には前記穴部に少なくとも前記首部を固定するストッパ部材が設けられ、前記フローティングピンの基底部の底面には水平な溝が設けられ、ストッパ部材の内周面には縦溝が設けられている基板支持装置を処理室内に有する基板処理装置。
- 表面が平坦に形成され上面の一直線上に並ばない少なくとも三箇所に穴部を設けた支持装置本体と、柱状のフローティングピンとから成り、前記フローティングピンは、前記穴部にそれぞれ嵌合する基底部と、該基底部より小径に形成された首部とから構成されており、該首部の上端部は円錐状又は球面状に形成され、前記首部の外周側には前記穴部に少なくとも前記首部を固定するストッパ部材が設けられ、前記フローティングピンの基底部の底面には水平な溝が設けられ、ストッパ部材の内周面には縦溝が設けられている基板支持装置を処理室内に有する基板処理装置を用いた基板処理方法であって、
基板を前記フローティングピン上に供給する工程と、供給された前記基板に所要の処理を施す工程とを有する基板処理方法。
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JPH0547652A (ja) * | 1991-08-19 | 1993-02-26 | Tokyo Electron Ltd | 基板加熱装置 |
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2007
- 2007-06-27 JP JP2007168842A patent/JP4611348B2/ja not_active Expired - Lifetime
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