JP4608218B2 - 研磨装置及びこれを使用する研磨方法 - Google Patents

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Description

本発明は、研磨装置及び研磨方法に関する。さらに詳しく説明すると、研磨工程が進行される時、被研磨物(例えば半導体基板)に加わる圧力がウエハー全面に至って均等に作用されるようにすることによって、被研磨物の研磨厚さの不均衡を防ぐようにする研磨装置及び研磨方法(POLISHING APPARATUS AND THE POLISHING METHOD USING THE SAME)に関する。
半導体基板上に堆積している金属膜(Cu、W、Alなど)を平坦化して、例えばCuダマシーンなどの金属埋め立て配線を形成する時、CMP(Chemical Mechanical Polishing:化学的機械的研磨)が利用されている。
そして、配線幅が異なる金属埋め立て配線を同時に形成する際に、幅が異なる複数の溝の上に金属膜を堆積させると金属膜の表面に凹凸(段差)が形成されることが知られている。
従来、この金属膜の段差を緩和するために、研磨パッドの硬度と研磨パッドの回転速度を制御して研磨(化学的機械的研磨)を行っている。
前記化学的機械的研磨工程では、回転している研磨パッドに半導体基板であるウエハーを摩擦させていろいろな膜質を研磨する。この時、研磨される量(食刻量)は研磨パッドとウエハーとの間の摩擦力の大きさによって変わる。
従って、その摩擦力の大きさを均一にするためのものとして日本公開特許公報(特開平8−155831号発明の名称:研磨装置及び研磨方法)に開示されている。
その構成を調べてみると、ウエハーチャックテーブルの内部に第1磁気発生体と、ターンテーブルの内部に第1磁気発生体が発生する磁気と対応して反発する磁気を発生させる第2磁気発生体をそれぞれ設置して、前記第1磁気発生体が発生する磁気と第2磁気発生体が発生する磁気によって発生する斥力によってウエハーチャックテーブル下面とターンテーブルの上面との間の間隔が平行に維持されるようにして均一な研磨膜を形成するようにしている。
次に、前述した摩擦力の大きさを決定する要素のうち、もう一つはウエハーの裏面でウエハー上に作用する圧力がある。
前記ウエハーの裏面に加わる圧力の大きさを調節するための装置として米国特許(特許番号5,822,243、発明の名称:動的コントロールを利用している半導体ウエハー研磨方法)に開示されている。
この発明は、モデュレーションユニットを有するキャリアーヘッドを含み、そのモデュレーションユニットは可溶性の下部プレートと多数の分割板からなる上部分割プレートで構成されている複数のキャパシターを含んでいる。
コントローラーモニターは、所定の静電容量に対して各上部分割プレートと下部プレートとの間の静電容量を比較し、測定された大きさと定められた静電容量とが異なる場合、コントローラーはそれぞれの上部分割プレートに適切な電圧を調節して定められた静電容量に合わせる。従って、ウエハー研磨作業を動的で、局部的に遂行できるようにしている。
また、従来ではウエハー裏面に加わる圧力の大きさを調節するためのものとして、Nガスまたは空気の圧力を変化させることに頼っていた。
図1は、そのようなウエハー裏面に加わる圧力の大きさを調節するための構成を示す図であり、図に示されたように上面に研磨布1をつけた回転するターンテーブル3と回転及び加圧可能なように設置されて研磨対象物であるウエハーWを維持するキャリアーヘッド10と、研磨布1に研磨液Sを供給する研磨液供給ノズル7を備えている。キャリアーヘッド10は、シャフト11に連結されている。
前記キャリアーヘッド10は、研磨中に被研磨物(以下“ウエハー”と称する)9がキャリアーヘッド10の下面から外れないようにするために円筒形状のガイドリング13を外側の端の部分に備えており、ガイドリング13はキャリアーヘッド10に対して固定されていて、その下断面はキャリアーヘッド10の維持面から突出するように形成されてウエハー9が維持面内に維持され、研磨中に研磨布1との摩擦力によってキャリアーヘッド10の外に飛び出さないようになっている。
前記キャリアーヘッド10の内部には、図2及び図3に示されたようにその内部にエアーが供給されるバレル部15が備えられ、前記バレル部15は同心円形態をなし所定の空間15a、15b、15cに区切って形成されている。
各区切られたバレル部15a、15b、15cには、多数のエアー供給口16a、16b、16cが突出され、前記エアー供給口16a、16b、16cに連結管17a、17b、17cを媒介としてエアー供給管19a、19b、19cがはめられ図には示されていないが、エアー供給装置からエアーが供給されるように構成されている。
前述したように構成されている従来の研磨装置は、ウエハー9をキャリアーヘッド10下面に維持し、ターンテーブル3上の研磨布1にウエハー9をキャリアーヘッド10によって加圧すると同時に、ターンテーブル3及びキャリアーヘッド10を回転させて研磨布1とウエハー9を相対運動させて研磨する。この時、研磨液供給ノズル7から研磨布1上に研磨液Sを供給する。研磨液Sは例えばアルカリ溶液に微粒子からなる微粒子を懸濁させたものを使用し、アルカリ液による化学的研磨作用と、微粒子による機械的研磨作用の複合作用によりウエハー9を研磨する。
前記ウエハー9がキャリアーヘッド10によって加圧される方法は、前記エアー供給管19a、19b、19cを通って供給されるエアーが前記バレル部15の区切られた所定の空間15a、15b、15cからそれぞれ流入されて加圧されることによってウエハー9が押されるようになる。これによりウエハー9は、適正水準の接触力を維持して研磨工程を実施する。
しかし、前述したように構成された従来の研磨装置は、前記キャリアーヘッド10の加圧力をエアー供給構造にしたためにいろいろな問題点を有する。
それについて説明すると、まず、エアー供給口16a、16b、16c及びエアー供給管19a、19b、19cが連結部材17a、17b、17cを媒介として連結されることによってその連結部材17a、17b、17cと連結された部分を通じてエアーリーク(air leak)が発生する可能性が高いという問題点がある
次に、二つ目の問題点は、エアー供給口(16a、16b、16c)の位置がバレル部15の空間部15a、15b、15cの一側に偏る構造を有することによってエアー供給口16a、16b、16c側に供給されたエアーは図3に示されたように矢印方法(時計、反時計方向)に沿って流動されて分布するようになるが、前記エアー供給口16a、16b、16c側及びその反対側(A、B、C表示部)に位置する部分との圧力差が発生してウエハー9を均一に加圧できなくなる。
前述したように均一な圧力分布が難しくなることによって研磨膜の厚さが不均一になる問題点がある。
特開平8−155831号公報 米国特許第5,822,243号明細書
従って、本発明は前述した問題点を解決するために案出されたものであり、本発明の目的は、被研磨物の裏面に加わる裏面圧力をウエハーの全体面にわたって均等に作用するようにさせ、被研磨物の研磨厚さを均一にする研磨装置及び研磨方法を提供する。
前述した目的を達成するために本発明は、その上面に研磨布が備えられ所定の方向に回転するターンテーブルと、前記ターンテーブル上の研磨布に被研磨物を加圧すると同時に所定の方向に回転して前記被研磨物を回転する前記研磨布と相対運動させて研磨を実施するキャリアーヘッドと、前記キャリアーヘッドの内部に設置されて第1磁気力を発生させる複数の第1磁気発生体と、前記キャリアーヘッドの内部で、前記第1磁気発生体に対応する位置に設置されて前記第1磁気発生体の前記第1磁気力に対応する斥力または引力を発生させる複数の第2磁気発生体とを備え、前記第1磁気発生体と前記第2磁気発生体とは、互いに所定距離分離隔されて互いに対向するように積層構造を成す、磁気加圧力調整手段とを有し、前記磁気加圧力調整手段は、前記相対運動によって研磨された前記被研磨物の研磨膜厚さを検出する研磨膜厚さ検出手段と、前記研磨膜厚さ検出手段によって検出された研磨膜の厚さと基準厚さを比較した結果により前記第2磁気発生体の極性及び磁力を調整する磁力調整手段と、を有することを特徴とする。
前記第1磁気発生体は永久磁石で構成され、前記第2磁気発生体は電磁石で構成される。
前記第1磁気発生体は前記キャリアーヘッドの下部に設置され、前記第2磁気発生体は前記第1磁気発生体の上部側に設置される。
前記第2磁気発生体は前記キャリアーヘッドの下部に設置され、前記第1磁気発生体は前記第2磁気発生体の上部に設置される。
前記第1磁気発生体は円形をなすセンター永久磁石と、前記センター永久磁石の外側に環形に配置されるミドル永久磁石と、前記ミドル永久磁石の外側に環形に配置されるエッジ永久磁石を備え、前記第2磁気発生体は円形を成すセンター電磁石と、前記センター電磁石の外側に環形に配置されるミドル電磁石と、前記ミドル電磁石の外側に環形に配置されるエッジ電磁石とを備える。
前記センター永久磁石、ミドル永久磁石、エッジ永久磁石のそれぞれの間、及び前記センター電磁石、ミドル電磁石、エッジ電磁石のそれぞれの間には絶縁膜が介在される。
前述したように本発明は、キャリアーヘッドの圧力を磁気加圧調整手段によって調整できるように構成され、被研磨物全体面にわたって加圧力が均一に分布し、均一な研磨膜を形成するというメリットがある。
以下、図面を参照して、本発明の一実施例による研磨装置の構成及び作用についてさらに詳しく説明する。
図4は本発明の一実施例による化学的機械的研磨装置のキャリアーヘッドの構成を示した図であり、図5は図4の5A−5Aの断面図であり、図6は図4の5B−5Bの断面図である。
図4に示したように、この研磨装置は、その上面に研磨布101が設けられた回転するターンテーブル103と、回転及び加圧できるように被研磨物102であるウエハーを維持させるキャリアーヘッド105がある。
前記キャリアーヘッド105は、その内部に第1磁気力を発生させる第1磁気発生体111と、前記第1磁気発生体111に対応する位置に設けられて前記第1磁気発生体111の前記第1磁気力に対応する引力及び斥力を発生させる第2磁気発生体115とを備える。
また、この研磨装置は、前記第1磁気発生体111及び第2磁気発生体112の引力及び斥力を調整することによって前記キャリアーヘッド105の加圧程度を調節する磁気加圧力調整手段110を備える。
前記第1磁気発生体111は、永久磁石にすることが望ましく、前記第2磁気発生体115は、その加わる電流の方向及び強さによって前記第1磁気発生体111に対応する斥力及び引力が発生されるとともにその強さが調整される電磁石にすることが望ましい。
ここで前記第1磁気発生体111は、図に示されたようにキャリアーヘッド105の下部に設け、前記第1磁気発生体111の上方側に第2磁気発生体115を配置することができる。また、反対に前記第2磁気発生体115を前記キャリアーヘッド105の下部に設け、前記第1磁気発生体111を前記第2磁気発生体115の上方側に配置してもよい。
しかし、第2磁気発生体115に電流が供給される電源連結ライン116が設けられることを勘案した場合、図4に示されたように、上方に配置することが望ましい。
前記第1磁気発生体111は、同心円形状に配置されるものであり(図6参照)、その構成は円形を成すセンター永久磁石111aと、前記センター永久磁石111aの外側に環形に配置されるミドル永久磁石111b、さらにミドル永久磁石111bの外側に環形に配置されるエッジ永久磁石111cで構成される。
前記第2磁気発生体115は前記第1磁気発生体111に対応して形状であり(図5参照)、円形を成すセンター電磁石115aと、前記センター電磁石115aの外側に環形に配置されるミドル電磁石115bと、さらにミドル電磁石115bの外側に環形に配置されるエッジ電磁石115cで構成される。
前述したようにセンター永久磁石111a、ミドル永久磁石111b、エッジ永久磁石111c、及びセンター電磁石115a、ミドル電磁石115b、エッジ電磁石115cで構成することにおいて、各磁石の間には、絶縁膜117を介在させてそれぞれの極性に影響を及ばないようにすることが望ましい。
次に、前述した構成に加え、図7で示されたように、磁気加圧力調整手段110は、被研磨物102の研磨膜厚さを感知する研磨膜厚さ検出手段121、121sと、前記研磨膜厚さ検出手段121によって検出された研磨膜厚さの結果値が入力され、基準厚さの値に対する差を比較判断して、その判断結果から第2磁気発生体115のセンター電磁石115a、ミドル電磁石115b、エッジ電磁石115cの強さ及び極性を調整する磁力調整手段123を有することが望ましい。
前記センター電磁石115a、ミドル電磁石115b、エッジ電磁石115cの極性は、電源125から供給される電流の方向を変えることで成り立ち、前記磁力の強さは前記電源125から供給される電流の量を調節することで成り立つ。
次に、前述したように構成された本発明の一実施例による研磨装置の動作原理について説明する。
まず、被研磨物102をキャリアーヘッド110の底面に図示されてない吸着手段によって固定させた後、研磨布101の上面と接触させる。
次に、前記電源125からそれぞれのセンター電磁石115a、ミドル電磁石115b、エッジ電磁石115cに供給される電流の強さ及び電流の方向を調節して第1磁気発生体111を構成するセンター永久磁石111a、ミドル永久磁石111b、エッジ永久磁石111cに対応する斥力または、引力を形成するとともに、その強さを調節して被研磨物102を所定の加圧力で押す。
その後、前記キャリアーヘッド110及びターンテーブル103を所定の方向に回転させて研磨工程を実施することになるが、そのような研磨工程によって研磨される被研磨物102の研磨膜厚さが研磨膜厚さ検出手段121によって検出される。
研磨膜厚さ検出手段121によって検出された厚さの結果が磁力調整手段123に伝達されて、基準厚さとの誤差値が算出される。その結果から磁力調整手段123が再び第2磁気発生体115のセンター電磁石115a、ミドル電磁石115b、エッジ電磁石115cの極性及び磁力の強さを調整して被研磨物102に加わる加圧力を調整する。
以上のように、本発明の望ましい実施例を説明したが、当該技術分野の熟練した当業者は、前記の特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から外れない範囲内で、本発明を多様に修正及び変更させられることが理解できる。従って、本発明の範囲は、説明された実施例に局限されず、前述の特許請求範囲のみでなくこの特許請求範囲と均等なものも含め定められなければならない。
従来の化学的機械的研磨装置の構成を示す模式図である。 図1のキャリアーヘッドの構成を示す縦断面図である。 図2のキャリアーヘッドの横断面図である。 本発明の一実施例による化学的機械的研磨装置のキャリアーヘッドの構成を示した図である。 図4の5A−5Aの断面図である。 図4の5B−5Bの断面図である。 本発明の一実施例による化学的機械的研磨装置の磁気加圧力調整手段の構成を示したブロック図である。
符号の説明
101 研磨布
102 被研磨物
103 ターンテーブル
105 キャリアーヘッド
110 磁気加圧力調整手段
111 第1磁気発生体
111a センター永久磁石
111b ミドル永久磁石
111c エッジ永久磁石
115 第2磁気発生体
115a センター電磁石
115b ミドル電磁石
115c エッジ電磁石
121 研磨膜厚さ検出手段
123 磁力調整手段
125 電源

Claims (6)

  1. その上面に研磨布が具備され所定の方向に回転するターンテーブルと、
    前記ターンテーブル上の研磨布に被研磨物を加圧すると同時に所定の方向に回転して前記被研磨物を回転する前記研磨布と相対運動させて研磨を実施するキャリアーヘッドと、
    前記キャリアーヘッドの内部に設けられて第1磁気力を発生させる複数の第1磁気発生体と、前記キャリアーヘッドの内部で、前記第1磁気発生体に対応する位置に設けられて、前記第1磁気発生体の前記第1磁気力に対応する斥力または引力を発生させる複数の第2磁気発生体とを備え、前記第1磁気発生体と前記第2磁気発生体とは、互いに所定距離分離隔されて互いに対向するように積層構造を成す、磁気加圧力調整手段と、を有し、
    前記磁気加圧力調整手段は、
    前記相対運動によって研磨された前記被研磨物の研磨膜厚さを検出する研磨膜厚さ検出手段と、
    前記研磨膜厚さ検出手段によって検出された研磨膜の厚さと基準厚さを比較した結果により前記第2磁気発生体の極性及び磁力を調整する磁力調整手段と、を有することを特徴とする研磨装置。
  2. 前記第1磁気発生体は永久磁石であり、
    前記第2磁気発生体は電磁石でなっていることを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
  3. 前記第1磁気発生体は、前記キャリアーヘッドの下部に設けられ、
    前記第2磁気発生体は、前記第1磁気発生体の上部側に設けられることを特徴とする請求項1または2記載の研磨装置。
  4. 前記第2磁気発生体は、前記キャリアーヘッドの下部に設けられ、
    前記第1磁気発生体は、前記第2磁気発生体の上部に設けられることを特徴とする請求項1または2記載の研磨装置。
  5. 前記第1磁気発生体は、円形を成すセンター永久磁石と、
    前記センター永久磁石の外側に環形に配置されるミドル永久磁石と、
    前記ミドル永久磁石の外側に環形に配置されるエッジ永久磁石と、
    を含み、
    前記第2磁気発生体は、円形を成すセンター電磁石と、
    前記センター電磁石の外側に環形に配置されるミドル電磁石と、
    前記ミドル電磁石の外側に環形に配置されるエッジ電磁石と、
    を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の研磨装置。
  6. 前記センター永久磁石、ミドル永久磁石、エッジ永久磁石のそれぞれの間、及び前記センター電磁石、ミドル電磁石、エッジ電磁石のそれぞれの間には絶縁膜が介在されることを特徴とする請求項5記載の研磨装置。
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