JP4607581B2 - 集積回路構造の光学測定において使用する波長の選択方法、及びコンピュータ読取可能な記録媒体 - Google Patents
集積回路構造の光学測定において使用する波長の選択方法、及びコンピュータ読取可能な記録媒体 Download PDFInfo
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- 所定のプロファイルを備える集積回路構造の光学測定において使用する波長の選択方法であって、
前記波長の選択を停止させる時点を決定するために使用される1以上の終了基準を決定するステップと、
前記波長を選択する際に使用される1以上の選択基準を決定するステップと、
波長を変化させつつ取得された複数の回折スペクトルから2つの回折スペクトルを選択して相関係数を計算することを、前記選択された2つの回折スペクトルの組み合わせを変えて複数回実行し、前記計算された相関係数に基づいて対称2値行列を生成し、前記対称2値行列及び波長選択アルゴリズムを用いて前記選択基準を満たす波長を選択するステップと、
前記選択された波長が前記終了基準を満たすまで、前記選択基準を変えて前記波長を選択するステップを繰り返し実行するステップと、
前記終了基準が満たされた際に選択されている波長を、光学測定において使用する波長として決定するステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 波長の選択についての前記終了基準は、選択された波長のコスト関数値が予め設定されたコスト関数値以下であるか否かをテストするステップを含み、前記選択された波長のコスト関数値は、選択された波長スペクトルと全波長スペクトルとを比較して前記選択された波長スペクトルと前記全波長スペクトルとの差を計算することにより導かれ、
前記選択された波長スペクトルは、測定装置における前記集積回路構造の前記所定のプロファイルのシミュレート回折スペクトルであり、且つ当該シミュレート回折スペクトルは前記選択された波長だけを用いて決定され、
前記全波長スペクトルは、前記測定装置における前記集積回路構造の前記所定のプロファイルのシミュレート回折スペクトルであり、且つ当該シミュレート回折スペクトルは、前記波長を選択するステップで前記回折スペクトルを取得した全ての波長を用いて決定される、
請求項1に記載の方法。 - 波長の選択についての前記終了基準は、選択された波長のコスト関数値が予め設定されたコスト関数値以下であるか否かをテストするステップを含み、前記選択された波長のコスト関数値は、選択された波長スペクトルと前記複数の回折スペクトルの一つとを比較して前記選択された波長スペクトルと前記複数の回折スペクトルの一つとの差を計算することにより導かれ、
前記選択された波長スペクトルは、光学測定シミュレータを利用したシミュレーションに基づいて生成された回折スペクトルのライブラリから選択された回折スペクトルであり、且つ、前記選択された波長だけを用いて決定された前記集積回路構造の前記所定のプロファイルのシミュレート回折スペクトルと最も一致する回折スペクトルである、
請求項1に記載の方法。 - 波長の選択についての前記終了基準は、選択された波長の適合度値が予め設定された適合度値以上であるか否かをテストするステップを含み、前記選択された波長の適合度値は、選択された波長スペクトルと全波長スペクトルとを比較することにより計算され、
前記選択された波長スペクトルは、測定装置における前記集積回路構造の前記所定のプロファイルのシミュレート回折スペクトルであり、且つ当該シミュレート回折スペクトルは前記選択された波長だけを用いて決定され、
前記全波長スペクトルは、前記測定装置における前記集積回路構造の前記所定のプロファイルのシミュレート回折スペクトルであり、且つ当該シミュレート回折スペクトルは、前記波長を選択するステップで前記回折スペクトルを取得した全ての波長を用いて決定される、
請求項1に記載の方法。 - 波長の選択についての前記終了基準は、選択された波長の適合度値が予め設定された適合度値以上であるか否かをテストするステップを含み、前記選択された波長の適合度値は、選択された波長スペクトルと前記複数の回折スペクトルの一つとを比較することにより計算され、
前記選択された波長スペクトルは、光学測定シミュレータを利用したシミュレーションに基づいて生成された回折スペクトルのライブラリから選択された回折スペクトルであり、且つ、前記選択された波長だけを用いて決定された前記集積回路構造の前記所定のプロファイルのシミュレート回折スペクトルと最も一致する回折スペクトルである、
請求項1に記載の方法。 - 前記波長を選択するステップは、前記対称2値行列の要素が1又は0であり、前記要素は、前記相関係数が相関閾値以上の場合に1と設定され、前記相関係数が前記相関閾値未満の場合に0と設定され、前記対称2値行列における1の数が最大の横列を選択し、且つ前記横列及び前記横列に対応する縦列の要素を0に設定し、前記横列に対応する波長を選択し、
前記繰り返し実行するステップは、前記対称2値行列の要素が全て0になるまで前記相関閾値を変えて前記波長を選択するステップを繰り返し実行する、請求項1に記載の方法。 - さらに、前記選択された波長、選択処理情報、及び構造識別情報を記録するステップを含み、前記選択処理情報は、前記選択基準及び前記終了基準を含む、
請求項1に記載の方法。 - コンピュータ読取可能な記録媒体であって、
所定のプロファイルを備える集積回路構造の光学測定において使用する波長の選択を停止させる時点を決定するために使用される1以上の終了基準を決定し、
前記波長を選択する際に使用される1以上の選択基準を決定し、
波長を変化させつつ取得された複数の回折スペクトルから2つの回折スペクトルを選択して相関係数を計算することを、前記選択された2つの回折スペクトルの組み合わせを変えて複数回実行し、前記計算された相関係数に基づいて対称2値行列を生成し、前記対称2値行列及び波長選択アルゴリズムを用いて前記選択基準を満たす波長を選択し、
前記選択された波長が前記終了基準を満たすまで、前記選択基準を変えて前記波長を選択することを繰り返し実行し、
前記終了基準が満たされた際に選択されている波長を、光学測定において使用する波長として決定するように、
コンピュータが動作するよう指示することにより、前記所定のプロファイルを備える前記集積回路構造の光学測定で使用する波長を選択するためのコンピュータ実行可能なコード、
を保持する記録媒体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/162,516 US7216045B2 (en) | 2002-06-03 | 2002-06-03 | Selection of wavelengths for integrated circuit optical metrology |
PCT/US2003/017441 WO2003102853A1 (en) | 2002-06-03 | 2003-05-30 | Selection of wavelengths for integrated circuit optical metrology |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005528625A JP2005528625A (ja) | 2005-09-22 |
JP4607581B2 true JP4607581B2 (ja) | 2011-01-05 |
Family
ID=29583621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004509865A Expired - Lifetime JP4607581B2 (ja) | 2002-06-03 | 2003-05-30 | 集積回路構造の光学測定において使用する波長の選択方法、及びコンピュータ読取可能な記録媒体 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7216045B2 (ja) |
JP (1) | JP4607581B2 (ja) |
KR (1) | KR101121804B1 (ja) |
CN (1) | CN1659574B (ja) |
AU (1) | AU2003249686A1 (ja) |
TW (1) | TWI221515B (ja) |
WO (1) | WO2003102853A1 (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US20080144036A1 (en) | 2006-12-19 | 2008-06-19 | Asml Netherlands B.V. | Method of measurement, an inspection apparatus and a lithographic apparatus |
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-
2002
- 2002-06-03 US US10/162,516 patent/US7216045B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-05-28 TW TW092114372A patent/TWI221515B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-05-30 CN CN038129663A patent/CN1659574B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-30 JP JP2004509865A patent/JP4607581B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2003-05-30 WO PCT/US2003/017441 patent/WO2003102853A1/en active Application Filing
- 2003-05-30 AU AU2003249686A patent/AU2003249686A1/en not_active Abandoned
- 2003-05-30 KR KR1020047019609A patent/KR101121804B1/ko active IP Right Grant
-
2007
- 2007-04-20 US US11/788,735 patent/US7474993B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1659574B (zh) | 2011-03-16 |
KR101121804B1 (ko) | 2012-03-21 |
US7474993B2 (en) | 2009-01-06 |
AU2003249686A1 (en) | 2003-12-19 |
US20030225535A1 (en) | 2003-12-04 |
TW200401099A (en) | 2004-01-16 |
KR20050008769A (ko) | 2005-01-21 |
CN1659574A (zh) | 2005-08-24 |
US7216045B2 (en) | 2007-05-08 |
WO2003102853A1 (en) | 2003-12-11 |
TWI221515B (en) | 2004-10-01 |
JP2005528625A (ja) | 2005-09-22 |
US20070198211A1 (en) | 2007-08-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
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