JP4592129B2 - 新規な安息香酸誘導体及びその製造法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な安息香酸誘導体及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
下記化９
【０００３】
【化９】
【０００４】
で表されるカルボン酸エステルで置換されたビシクロヘプテノン誘導体と、アルコラート等との反応により安息香酸誘導体を得る方法（Ａ）が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．，４２，１７４１（１９８６）及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２６，２０６６（１９６１））に記載されている。
しかしながら、ヘテロ環で置換されたビシクロヘプテノン誘導体での反応の報告例はない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、農薬・医薬の製造中間体、特に、除草活性を有する化合物の製造中間体として有用な新規安息香酸誘導体、及びその製造法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（ａ）一般式（１）
【０００７】
【化１０】
【０００８】
（式中、Ｒ1 は、水素原子又はＣ1-4 アルキル基を表し、
Ｒ2 は、水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表し、
Ｈｅｔは、炭素原子でベンゼン環と結合する、Ｎ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む、置換基を有していてもよい飽和あるいは不飽和の５若しくは６員ヘテロ環基を表す。）で表される安息香酸誘導体、
【０００９】
（ｂ）一般式（２）
【００１０】
【化１１】
【００１１】
（式中、Ｒ1 及びＨｅｔは、前記と同じ意味を表す。）で表されるビシクロヘプテノン誘導体に、適当な溶媒中、塩基を作用させることを特徴とする前記一般式（１）で表される安息香酸誘導体の製造法、
【００１２】
（ｃ）一般式（３）
【００１３】
【化１２】
【００１４】
（式中、Ｒ1 及びＨｅｔは、前記と同じ意味を表し、Ｘは、塩素原子，Ｃ1-4 アルコキシ基を表し、二つのＸは一緒になって、Ｃ1-4 アルキル基で置換されていてもよいＣ2-3 アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）で表されるビシクロヘプテン誘導体を加水分解することにより、前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体を得る工程と、前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体に、適当な溶媒中、塩基及び水若しくはアルコールを作用させることを特徴とする前記一般式（１）で表される安息香酸誘導体の製造法、
【００１５】
（ｄ）一般式（４）
【００１６】
【化１３】
【００１７】
（式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。）で表されるシクロペンタジエン誘導体と、一般式（５）
【００１８】
【化１４】
【００１９】
（式中、Ｒ1 及びＨｅｔは、前記と同じ意味を表す。）で表されるヘテロ環で置換されたエチレン誘導体とを反応させて、前記一般式（３）で表されるビシクロヘプテン誘導体を得る工程と、前記一般式（３）で表されるビシクロヘプテン誘導体を加水分解させて、前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体を得る工程と、及び前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体に、適当な溶媒中、塩基及び水若しくはアルコールを作用させることを特徴とする、前記一般式（１）で表される安息香酸誘導体の製造法、及び，
（ｅ）その製造中間体である前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体である。
【００２０】
本発明化合物である一般式（１）、（２）及びその前駆体である一般式（３）で表される化合物において、
Ｒ1 は、水素原子、又はメチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル等のＣ1-4 アルキル基を表す。
【００２１】
Ｒ2 は、水素原子、又はメチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル等のＣ1-4 アルキル基を表す。
【００２２】
前記一般式（３）において、Ｘは、塩素等のハロゲン原子、又は、
メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ等のＣ1-4 アルコキシ基を表す。
【００２３】
また、二つのＸが一緒になって、エチレンジオキシ，トリメチレンジオキシ基等のＣ2-3 アルキレンジオキシ基を形成していてもい。
【００２４】
さらに、前記Ｃ2-3 アルキレンジオキシ基は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル等のＣ1-4 アルキル基で置換されていてもよい。
【００２５】
Ｈｅｔは、炭素原子でベンゼン環又はビシクロヘプタン環と結合する、Ｎ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む、置換基を有していてもよい飽和又は不飽和５若しくは６員ヘテロ環基を表す。
【００２６】
かかるＨｅｔとしては、例えば、
２−フリル、３−フリル、
２−チエニル、３−チエニル、
２，３−ジヒドロフラン−２−イル、２，３−ジヒドロフラン−３−イル、２，３−ジヒドロフラン−４−イル、２，３−ジヒドロフラン−５−イル、２，５−ジヒドロフラン−２−イル、２，５−ジヒドロフラン−３−イル、
２，３−ジヒドロチオフェン−２−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−３−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−４−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−５−イル、２，５−ジヒドロチオフェン−２−イル、２，５−ジヒドロチオフェン−３−イル、
ピロール−２−イル、ピロール−３−イル、
イミダゾール−２−イル、イミダゾール−４−イル、イミダゾール−５−イル、
２−イミダゾリン−２−イル、２−イミダゾリン−４−イル、２−イミダゾリン−５−イル、
【００２７】
ピラゾール−３−イル、ピラゾール−４−イル、ピラゾール−５−イル、
オキサゾール−２−イル、オキサゾール−４−イル、オキサゾール−５−イル、
イソオキサゾール−３−イル、イソオキサゾール−４−イル、イソオキサゾール−５−イル、
１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−５−イル、１，２，５−オキサジアゾール−３−イル、
２−チアゾリル、４−チアゾリル，５−チアゾリル、
イソチアゾール−３−イル、イソチアゾール−４−イル、イソチアゾール−５−イル、
１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−５−イル、１，２，５−チアジアゾール−３−イル、
１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−５−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、１，２，３−トリアゾール−４−イル、１，２，３−トリアゾール−５−イル、テトラゾール−５−イル、
２−ピロリン−１−イル、２−ピロリン−２−イル、２−ピロリン−３−イル、２−ピロリン−４−イル、２−ピロリン−５−イル、
【００２８】
２−オキサゾリン−２−イル、２−オキサゾリン−４−イル、２−オキサゾリン−５−イル、３−オキサゾリン−２−イル、３−オキサゾリン−４−イル、３−オキサゾリン−５−イル、４−オキサゾリン−２−イル、４−オキサゾリン−４−イル、４−オキサゾリン−５−イル、
２−イソオキサゾリン−３−イル、２−イソオキサゾリン−４−イル、２−イソオキサゾリン−５−イル、
３−イソオキサゾリン−３−イル、３−イソオキサゾリン−４−イル、３−イソオキサゾリン−５−イル、
４−イソオキサゾリン−３−イル、４−イソオキサゾリン−４−イル、４−イソオキサゾリン−５−イル、
【００２９】
２−チアゾリン−２−イル、４−チアゾリン−４−イル、４−チアゾリン−５−イル、
２−イソチアゾリン−３−イル、２−イソチアゾリン−４−イル、２−イソチアゾリン−５−イル、
３−イソチアゾリン−３−イル、３−イソチアゾリン−４−イル、３−イソチアゾリン−５−イル、
４−イソチアゾリン−３−イル、４−イソチアゾリン−４−イル、４−イソチアゾリン−５−イル、
１−ピラゾリン−３−イル、１−ピラゾリン−４−イル、１−ピラゾリン−５−イル、
２−ピラゾリン−３−イル、２−ピラゾリン−４−イル、２−ピラゾリン−５−イル、
３−ピラゾリン−３−イル、３−ピラゾリン−４−イル、３−ピラゾリン−５−イル等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む５員環ヘテロ環基、
【００３０】
２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、
２−テトラヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニル、
２−テトラヒドロチエニル、３−テトラヒドロチエニル、
２−オキサゾリジニル、４−オキサゾリジニル、５−オキサゾリジニル、
３−イソオキサゾリジニル、４−イソオキサゾリジニル、５−イソオキサゾリジニル、
２−チアゾリジニル、４−チアゾリジニル、５−チアゾリジニル、
３−イソチアゾリジニル、４−イソチアゾリジニル、５−イソチアゾリジニル、
【００３１】
２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、
１，２，４−オキサジアゾリジン−３−イル、１，２，４−オキサジアゾリジン−５−イル、１，３，４−オキサジアゾリジン−２−イル、
１，２，４−チアジアゾリジン−３−イル、１，２，４−チアジアゾリジン−５−イル、１，３，４−チアジアゾリジン−２−イル、
１，３，４−トリアゾリジン−２−イル、
１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキソラン−４−イル、１，４−ジオキソラン−２−イル、
１，３−ジチオラン−２−イル、１，３−ジチオラン−４−イル、
１，３−オキサチオラン−２−イル基等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む飽和の５員環ヘテロ環基、
【００３２】
２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、
３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、
２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、
ピラジン−２−イル、
２Ｈ−ピラン−３−イル、２Ｈ−チオピラン−３−イル、
２−ピペリジニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、
２−ピペラジニル、
２−モルホリニル、３−モルホリニル、
５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−チアジン−２−イル、
２−テトラヒドロピラニル、３−テトラヒドロピラニル、４−テトラヒドロピラニル、
２−テトラヒドロチオピラニル、３−テトラヒドロチオピラニル、４−テトラヒドロチオピラニル等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む６員環ヘテロ環基を例示することができる。
【００３３】
また、これらの基は、ヘテロ環の任意の位置に１又は２以上の同一若しくは相異なる置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル基等のＣ1-4 アルキル基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，１−フルオロエチル，１，１−ジフルオロエチル，２，２，２−トリフルオロエチル，ペンタフルオロエチル基等Ｃ1-4 ハロアルキル基を挙げることができる。
Ｈｅｔとして、より好ましくは、次のＱ１〜Ｑ９
【００３４】
【化１５】
【００３５】
で表されるいずれかの基を挙げることができる。
上記式中、Ｒ3 は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル基等のＣ1-4 アルキル基、
、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、１−フルオロエチル、１，１−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル基等Ｃ1-4 ハロアルキル基を表し、ｎは、０、１又は２の整数を表す。
また、Ｒ4 は、水素原子、又はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等のＣ1-6 アルキル基を表す。
【００３６】
なお、前記一般式（２）及び一般式（３）で表される本発明化合物において、５位及び６位の置換基により立体異性体が存在し得る。それらはいづれも本発明に含まれる。
【００３７】
【発明の実施の形態】
本発明化合物は、次の方法によって製造することができる。
（製造法１）
【００３８】
【化１６】
【００３９】
（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＨｅｔは、前記と同じ意味を表す。）
【００４０】
即ち、一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体（２）を、適当な溶媒中、塩基及び水若しくはアルコールを作用させることにより、一般式（１）で表される化合物を得ることができる。
【００４１】
この反応に用いられる塩基としては、例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコラート類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩等を挙げることができる。
【００４２】
塩基の使用量は、ビシクロヘプテノン誘導体（２）１モルに対して、２〜５当量が好ましい。
【００４３】
また、反応に用いることのできる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、水、トルエン、ベンゼン等、あるいはこれら２種以上の混合溶媒が挙げられる。
【００４４】
上記反応においては、アルコール系溶媒、即ち、アルコール類、水及びアルコール、或いはアルコール及びエーテル類等の混合溶媒等のアルコール又はアルコールと他の溶媒との混合溶媒の使用が特に好ましい。
【００４５】
上記反応においては、例えば、メチルアルコールを用いることによりメチルエステル、エチルアルコールを用いることによりエチルエステル等のように、用いられるアルコール（Ｒ2 ＯＨ）と対応する、或いは用いる金属アルコキシド（ＭＯＲ2 ）のアルコキシド部分が一致するエステル（ＣＯＯＲ2 ）を得ることができる。
【００４６】
より好ましい塩基と溶媒の組み合わせとしては、例えば、ナトリウムメトキシド−メタノール（又はメタノールと他の溶媒との混合溶媒）、ナトリウムエトキシド−エタノール（又はエタノールと他の溶媒との混合溶媒）、水酸化ナトリウム−アルコール（又はアルコールと他の溶媒との混合溶媒）、水酸化カリウム−アルコール（又はアルコールと他の溶媒との混合溶媒）、カリウム ｔ−ブトキシド−ブタノール等を挙げることができる。
【００４７】
また、混合溶媒或いは含水系溶媒を用いる場合は、カルボン酸（Ｒ2 ＝Ｈ）を得ることができるが、水と共に用いる溶媒としては、アルコール類やエーテル類の使用が好ましく、塩基としては、前記水酸化物又は炭酸塩の使用が好ましい。
【００４８】
なお、金属アルコキシドを用いる場合においては、上記のように対応するアルコールの使用が好ましいが、他のアルコールの使用ももちろん可能である。
反応温度は、−１０℃から用いる溶媒の沸点の間が好ましい。
【００４９】
（製造法２）
【００５０】
【化１７】
【００５１】
（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 Ｈｅｔ及びＸは、前記と同じ意味を表す。）
【００５２】
ビシクロヘプテノン誘導体（２）は、ビシクロヘプテン誘導体（３）を、塩酸、硫酸等の酸で加水分解することにより得ることができる。
【００５３】
即ち、無溶媒又は水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、あるいはこれら２種以上の混合溶媒を用いて、−１０℃から用いる溶媒の沸点の間で、化合物（３）を加水分解させるこにより、化合物（２）を得ることができる。
【００５４】
その後は、前記製造法１で説明した方法と同様にして、目的とする安息香酸誘導体を製造することができる。
【００５５】
（製造法３）
【００５６】
【化１８】
【００５７】
（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｈｅｔ及びＸは、前記と同じ意味を表す。）
シクロペンタジエン誘導体（４）とヘテロ環で置換されたエチレン誘導体（５）とを、Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応を行うことにより、ビシクロヘプテン誘導体（３）を得ることができる。
【００５８】
Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応に関しては、例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．，４２，１７４１−１７４４（１９８６），Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２６，２０６６−２０７２（１９６１）等に記載された方法と同様にして行うことができる。
【００５９】
上記反応においては、シクロペンタジエン類とエチレン誘導体とを加熱下に反応させる。この際用いられるエチレン誘導体のモル比は、シクロペンタジエン類１モルに対し、０．５〜１０倍当量、好ましくは１〜３当量である。反応は、室温から２５０℃の間で行われるが、７０℃〜２００℃がより好ましい。
【００６０】
この反応は通常無溶媒で行われるが、溶媒を用いて行うこともできる。用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、エチレングリコール、１，３−ブタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類、ジメトキエタン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリン等のアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含イオウ炭化水素類及び水等を例示することができる。
【００６１】
また、ヒドロキノン等の重合防止剤の添加、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基の存在により、反応をより円滑に行うことができる。
【００６２】
その後は、前記製造法２と同様にして、目的とする安息香酸誘導体を製造することができる。
【００６３】
本発明化合物及び中間体等は、反応終了後、通常の後処理を行うことにより得ることができる。
【００６４】
また、本発明化合物及び中間体等の構造は、ＩＲ，ＮＭＲ及びＭＳ等から決定した。
【００６５】
【実施例】
次に実施例、参考例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。なお、実施例中では、本発明化合物のうち、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｓ）体及び（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，６Ｒ）体を、「ｔｒａｎｓ」と表記し、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）体及び（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）体を、「ｃｉｓ」と表記する。
【００６６】
実施例１
４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）安息香酸エチルエステル（化合物番号３）の製造
【００６７】
【化１９】
【００６８】
６−メチル−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オン（ｔｒａｎｓ：ｃｉｓ＝１：１混合物）０．１１ｇをエタノール１ｍｌに溶解し、氷冷下でナトリウムエチラート０．０６ｇを加え、室温で１時間攪拌した。反応液を氷水５０ｍｌにあけ、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して粘稠な液体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して、白色結晶として表記化合物０．０２４ｇを得た。
融点８６−８８℃
【００６９】
実施例２
４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）安息香酸メチルエステル（化合物番号２）の製造
【００７０】
【化２０】
【００７１】
６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン０．９９ｇに、氷冷下で濃硫酸６．０２ｇを加え、室温に戻した後、１時間攪拌すると反応液は均一になり、そのまま室温で１５時間放置した。反応液を氷水２０ｍｌ中にあけ、酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。有機層を重曹水で２回洗浄後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去し、溶媒を減圧下に濃縮して、黄色のあめ状物質として、６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オンの粗生成物０．７９ｇを得た。
【００７２】
得られた粗製６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オン０．９４ｇをメタノール１０ｍｌに溶解し、氷冷下に、２８％ナトリウムメチラート−メタノール溶液１．４４ｇを５分で滴下した。室温で４時間攪拌した後、氷水５０ｍｌ中にあけ、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に濃縮して粘稠な液体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して、白色結晶として表記化合物０．４２ｇを得た。融点７６−７７℃
【００７３】
実施例３
４，５−ジクロロ−２−メチル−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）安息香酸（化合物番号１）の製造
【００７４】
【化２１】
【００７５】
水酸化ナトリウム９２ｇの水１１５０ｍｌ溶液中に、６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オン １５６．９ｇのＴＨＦ１１５０ｍｌ溶液を、−３℃〜０℃で１．５時間かけて滴下した。滴下終了後冷却浴をはずし、反応液を徐々に室温に昇温しながら１．５時間攪拌した。反応終了後、反応液にトルエン５００ｍｌを加え、水層を分取した。さらに、有機層に１規定水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌを加えて分液し、水層を分取した。水層を合わせ、濃塩酸２１０ｍｌを加えて酸析し、析出結晶をろ取した。得られた結晶を酢酸エチル３００ｍｌに溶解し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、白色結晶として表記化合物９５．０ｇを得た。
融点２１２−２１３℃
【００７６】
実施例４
４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（２−イソオキサゾリン−３−イル）安息香酸メチルエステル（化合物番号２９）の製造
【００７７】
【化２２】
【００７８】
６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン１．０ｇに、氷冷下、濃硫酸６．３ｇを加え、室温に戻した後、１時間攪拌すると反応液は均一になり、そのまま室温で１５時間放置した。反応液を氷水２０ｍｌ中にあけ、酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。有機層を重曹水で２回洗浄後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去し、溶媒を減圧下に濃縮して、黄色のあめ状物質として、６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オンの粗生成物0.９４ｇを得た。
【００７９】
得られた粗生成物０．９４ｇをメタノール１０ｍｌに溶解し、氷冷下に、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液１．５ｇを５分間で滴下した。室温で２時間攪拌した後反応液を氷水５０ｍｌにあけ、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に濃縮して粘稠な液体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して、白色結晶として表記化合物０．７１ｇを得た。融点７４−７６℃
【００８０】
実施例５
４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（２−イソオキサゾリン−３−イル）安息香酸（化合物番号２８）の製造
【００８１】
【化２３】
【００８２】
実施例４と同様にして得られた６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オンの粗生成物１．６ｇをテトラヒドロフラン５ｍｌと水５ｍｌに溶解し、氷冷下に、１規定水酸化ナトリウム水溶液１４．６ｇを５分間で滴下した。室温で２時間攪拌した後反応液を氷水５０ｍｌにあけ、塩酸でＰＨを酸性にして酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に濃縮して結晶を得た。このものをｎ−ヘキサンで洗浄して、白色結晶として表記化合物０．６ｇを得た。
融点２０３−２０６℃
【００８３】
実施例６
６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【００８４】
【化２４】
【００８５】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン２．１５ｇ、炭酸水素ナトリウム０．８１ｇ、１−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１−プロペン（ｔｒａｎｓ，ｃｉｓ等量混合物）１．００ｇ、ヨウ化亜鉛０．４０ｇ及びハイドロキノン０．１０ｇを混合し、１５０℃で８時間加熱攪拌した。反応液を冷却し、水１００ｍｌを加え、酢酸エチル２００ｍｌで抽出したが、不溶物がみられ、これを濾別後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物に、ｎ−ヘキサンを加え、析出した結晶を濾取して、表記化合物０．９２ｇを得た。融点１００−１０１℃
【００８６】
さらに、上記濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン）で精製して、表記化合物０．７４ｇを得た。
【００８７】
実施例７
６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【００８８】
【化２５】
【００８９】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン４．３０ｇ、１−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１−プロペン（ｔｒａｎｓ，ｃｉｓ等量混合物）１．００ｇ及びハイドロキノン０．１８ｇを１，３−ブタンジオール２０ｍｌに添加し、７時間加熱還流した。反応液を冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物にｎ−ヘキサンを加え、分離した粘稠オイルを除き、ｎ−ヘキサン層を減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン）で精製して、白色結晶として表記化合物１．４１ｇを得た。
融点１００−１０１℃
【００９０】
実施例８
６−メチル−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【００９１】
【化２６】
【００９２】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン１．０７ｇ、炭酸水素ナトリウム０．３４ｇ、ｔｒａｎｓ−１−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１−プロペン０．５０ｇ及びハイドロキノン０．０５ｇを混合し、１８０℃で７時間加熱攪拌した。反応液を冷却し、酢酸エチルを加え、不溶物を濾別後、溶媒を減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン）で精製して、異性体混合物として、表記化合物０．７０ｇを得た。
【００９３】
実施例９
６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【００９４】
【化２７】
【００９５】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン６４．３９ｇ、炭酸水素ナトリウム１４．０７ｇ、ｃｉｓ−１−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１−プロペン２０．００ｇ及びハイドロキノン２．００ｇを混合し、１２０℃で６時間加熱攪拌した。反応液を冷却し、水５００ｍｌを加え、酢酸エチルで３回抽出した。不溶物がみられ、これを濾別後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
【００９６】
溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物に、ｎ−ヘキサンを加え、析出した結晶を濾取して、表記化合物４５．８１ｇを得た。融点１００−１０１℃
さらに結晶を濾取した濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン）で精製して、表記化合物４．５０ｇを得た。
【００９７】
各異性体の 1Ｈ−ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）
ｃｉｓ体
0.83(d,3H),2.30(s,3H),3.08(m,1H),3.58(s,3H),3.66(s,3H),4.17(d,1H)， 6.02(s,1H)
【００９８】
ｔｒａｎｓ体−１
1.40(d,3H),2.30(s,3H),2.37(m,1H),3.58(s,3H),3.62(d,1H),3.66(s,3H)， 6.00(s,1H)
【００９９】
ｔｒａｎｓ体−２
1.09(d,3H),2.34(s,3H),2.84(d,1H),3.07(m,1H),3.50(s,3H),3.57(s,3H)， 6.19(s,1H)
【０１００】
実施例１０
６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【０１０１】
【化２８】
【０１０２】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン２．１４ｇ、炭酸水素ナトリウム０．４６ｇ、ｃｉｓ−１−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−１−プロペン０．６ｇを混合し、１２０℃で６時間加熱攪拌した。反応液を室温に冷却し、氷水に注加して、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、溶媒を減圧濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して、表記化合物１．０ｇを得た。
融点９８−１００℃
【０１０３】
実施例１１
６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【０１０４】
【化２９】
【０１０５】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン２．６２ｇ、炭酸水素ナトリウム１．１ｇ、ｔｒａｎｓ−１−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−１−プロペン１．０ｇを混合し、２００℃で２０時間加熱攪拌した。反応液を室温に冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して表記化合物１．８ｇを得た。ｎ D 19.9 1.5087
【０１０６】
本発明の一般式（１）で表される安息香酸誘導体の代表例を、上記実施例の化合物を含めて第１表に示す。なお、第１表においては、Ｈｅｔは記号を用いて示した。記号の意味は次の通りである。
【０１０７】
【化３０】
【０１０８】
【表１０１】
【０１０９】
【表１０２】
【０１１０】
【表１０３】
【０１１１】
【表１０４】
【０１１２】
【表１０５】
【０１１３】
【表１０６】
【０１１４】
【表１０７】
【０１１５】
【表１０８】
【０１１６】
【表１０９】
【０１１７】
【表１１０】
【０１１８】
【表１１１】
【０１１９】
【表１１２】
【０１２０】
【表１１３】
【０１２１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、農薬・医薬等、特に除草活性化合物の製造中間体として有用である安息香酸誘導体を、安価なシクロペンタジエン誘導体及びヘテロ環で置換されたエチレン誘導体を出発原料として、短工程、簡易且つ工業的に有利に製造することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な安息香酸誘導体及びその製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
下記化９
【０００３】
【化９】
で表されるカルボン酸エステルで置換されたビシクロヘプテノン誘導体と、アルコラート等との反応により安息香酸誘導体を得る方法（Ａ）が、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．，４２，１７４１（１９８６）及びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２６，２０６６（１９６１））に記載されている。
しかしながら、ヘテロ環で置換されたビシクロヘプテノン誘導体での反応の報告例はない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、農薬・医薬の製造中間体、特に、除草活性を有する化合物の製造中間体として有用な新規安息香酸誘導体、及びその製造法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、（ａ）一般式（１）
【０００７】
【化１０】
（式中、Ｒ1 は、水素原子又はＣ1-4 アルキル基を表し、
Ｒ2 は、水素原子又はＣ1-6 アルキル基を表し、
Ｈｅｔは、炭素原子でベンゼン環と結合する、Ｎ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む、置換基を有していてもよい飽和あるいは不飽和の５若しくは６員ヘテロ環基を表す。）で表される安息香酸誘導体、
【０００９】
（ｂ）一般式（２）
【００１０】
【化１１】
（式中、Ｒ1 及びＨｅｔは、前記と同じ意味を表す。）で表されるビシクロヘプテノン誘導体に、適当な溶媒中、塩基を作用させることを特徴とする前記一般式（１）で表される安息香酸誘導体の製造法、
【００１２】
（ｃ）一般式（３）
【００１３】
【化１２】
（式中、Ｒ1 及びＨｅｔは、前記と同じ意味を表し、Ｘは、塩素原子，Ｃ1-4 アルコキシ基を表し、二つのＸは一緒になって、Ｃ1-4 アルキル基で置換されていてもよいＣ2-3 アルキレンジオキシ基を形成してもよい。）で表されるビシクロヘプテン誘導体を加水分解することにより、前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体を得る工程と、前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体に、適当な溶媒中、塩基及び水若しくはアルコールを作用させることを特徴とする前記一般式（１）で表される安息香酸誘導体の製造法、
【００１５】
（ｄ）一般式（４）
【００１６】
【化１３】
（式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。）で表されるシクロペンタジエン誘導体と、一般式（５）
【００１８】
【化１４】
（式中、Ｒ1 及びＨｅｔは、前記と同じ意味を表す。）で表されるヘテロ環で置換されたエチレン誘導体とを反応させて、前記一般式（３）で表されるビシクロヘプテン誘導体を得る工程と、前記一般式（３）で表されるビシクロヘプテン誘導体を加水分解させて、前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体を得る工程と、及び前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体に、適当な溶媒中、塩基及び水若しくはアルコールを作用させることを特徴とする、前記一般式（１）で表される安息香酸誘導体の製造法、及び，
（ｅ）その製造中間体である前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体である。
【００２０】
本発明化合物である一般式（１）、（２）及びその前駆体である一般式（３）で表される化合物において、
Ｒ1 は、水素原子、又はメチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル等のＣ1-4 アルキル基を表す。
【００２１】
Ｒ2 は、水素原子、又はメチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル等のＣ1-4 アルキル基を表す。
【００２２】
前記一般式（３）において、Ｘは、塩素等のハロゲン原子、又は、
メトキシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ等のＣ1-4 アルコキシ基を表す。
【００２３】
また、二つのＸが一緒になって、エチレンジオキシ，トリメチレンジオキシ基等のＣ2-3 アルキレンジオキシ基を形成していてもい。
【００２４】
さらに、前記Ｃ2-3 アルキレンジオキシ基は、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル等のＣ1-4 アルキル基で置換されていてもよい。
【００２５】
Ｈｅｔは、炭素原子でベンゼン環又はビシクロヘプタン環と結合する、Ｎ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む、置換基を有していてもよい飽和又は不飽和５若しくは６員ヘテロ環基を表す。
【００２６】
かかるＨｅｔとしては、例えば、
２−フリル、３−フリル、
２−チエニル、３−チエニル、
２，３−ジヒドロフラン−２−イル、２，３−ジヒドロフラン−３−イル、２，３−ジヒドロフラン−４−イル、２，３−ジヒドロフラン−５−イル、２，５−ジヒドロフラン−２−イル、２，５−ジヒドロフラン−３−イル、
２，３−ジヒドロチオフェン−２−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−３−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−４−イル、２，３−ジヒドロチオフェン−５−イル、２，５−ジヒドロチオフェン−２−イル、２，５−ジヒドロチオフェン−３−イル、
ピロール−２−イル、ピロール−３−イル、
イミダゾール−２−イル、イミダゾール−４−イル、イミダゾール−５−イル、
２−イミダゾリン−２−イル、２−イミダゾリン−４−イル、２−イミダゾリン−５−イル、
【００２７】
ピラゾール−３−イル、ピラゾール−４−イル、ピラゾール−５−イル、
オキサゾール−２−イル、オキサゾール−４−イル、オキサゾール−５−イル、
イソオキサゾール−３−イル、イソオキサゾール−４−イル、イソオキサゾール−５−イル、
１，２，４−オキサジアゾール−３−イル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，２，３−オキサジアゾール−４−イル、１，２，３−オキサジアゾール−５−イル、１，２，５−オキサジアゾール−３−イル、
２−チアゾリル、４−チアゾリル，５−チアゾリル、
イソチアゾール−３−イル、イソチアゾール−４−イル、イソチアゾール−５−イル、
１，２，４−チアジアゾール−３−イル、１，２，４−チアジアゾール−５−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，３−チアジアゾール−４−イル、１，２，３−チアジアゾール−５−イル、１，２，５−チアジアゾール−３−イル、
１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−５−イル、１，３，４−トリアゾール−２−イル、１，２，３−トリアゾール−４−イル、１，２，３−トリアゾール−５−イル、テトラゾール−５−イル、
２−ピロリン−１−イル、２−ピロリン−２−イル、２−ピロリン−３−イル、２−ピロリン−４−イル、２−ピロリン−５−イル、
【００２８】
２−オキサゾリン−２−イル、２−オキサゾリン−４−イル、２−オキサゾリン−５−イル、３−オキサゾリン−２−イル、３−オキサゾリン−４−イル、３−オキサゾリン−５−イル、４−オキサゾリン−２−イル、４−オキサゾリン−４−イル、４−オキサゾリン−５−イル、
２−イソオキサゾリン−３−イル、２−イソオキサゾリン−４−イル、２−イソオキサゾリン−５−イル、
３−イソオキサゾリン−３−イル、３−イソオキサゾリン−４−イル、３−イソオキサゾリン−５−イル、
４−イソオキサゾリン−３−イル、４−イソオキサゾリン−４−イル、４−イソオキサゾリン−５−イル、
【００２９】
２−チアゾリン−２−イル、４−チアゾリン−４−イル、４−チアゾリン−５−イル、
２−イソチアゾリン−３−イル、２−イソチアゾリン−４−イル、２−イソチアゾリン−５−イル、
３−イソチアゾリン−３−イル、３−イソチアゾリン−４−イル、３−イソチアゾリン−５−イル、
４−イソチアゾリン−３−イル、４−イソチアゾリン−４−イル、４−イソチアゾリン−５−イル、
１−ピラゾリン−３−イル、１−ピラゾリン−４−イル、１−ピラゾリン−５−イル、
２−ピラゾリン−３−イル、２−ピラゾリン−４−イル、２−ピラゾリン−５−イル、
３−ピラゾリン−３−イル、３−ピラゾリン−４−イル、３−ピラゾリン−５−イル等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む５員環ヘテロ環基、
【００３０】
２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、
２−テトラヒドロフラニル、３−テトラヒドロフラニル、
２−テトラヒドロチエニル、３−テトラヒドロチエニル、
２−オキサゾリジニル、４−オキサゾリジニル、５−オキサゾリジニル、
３−イソオキサゾリジニル、４−イソオキサゾリジニル、５−イソオキサゾリジニル、
２−チアゾリジニル、４−チアゾリジニル、５−チアゾリジニル、
３−イソチアゾリジニル、４−イソチアゾリジニル、５−イソチアゾリジニル、
【００３１】
２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、
１，２，４−オキサジアゾリジン−３−イル、１，２，４−オキサジアゾリジン−５−イル、１，３，４−オキサジアゾリジン−２−イル、
１，２，４−チアジアゾリジン−３−イル、１，２，４−チアジアゾリジン−５−イル、１，３，４−チアジアゾリジン−２−イル、
１，３，４−トリアゾリジン−２−イル、
１，３−ジオキソラン−２−イル、１，３−ジオキソラン−４−イル、１，４−ジオキソラン−２−イル、
１，３−ジチオラン−２−イル、１，３−ジチオラン−４−イル、
１，３−オキサチオラン−２−イル基等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む飽和の５員環ヘテロ環基、
【００３２】
２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、
３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、
２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、
ピラジン−２−イル、
２Ｈ−ピラン−３−イル、２Ｈ−チオピラン−３−イル、
２−ピペリジニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、
２−ピペラジニル、
２−モルホリニル、３−モルホリニル、
５，６−ジヒドロ−４Ｈ−１，３−チアジン−２−イル、
２−テトラヒドロピラニル、３−テトラヒドロピラニル、４−テトラヒドロピラニル、
２−テトラヒドロチオピラニル、３−テトラヒドロチオピラニル、４−テトラヒドロチオピラニル等のＮ，Ｏ若しくはＳ原子を１〜４個含む６員環ヘテロ環基を例示することができる。
【００３３】
また、これらの基は、ヘテロ環の任意の位置に１又は２以上の同一若しくは相異なる置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，ｓ−ブチル，ｔ−ブチル基等のＣ1-4 アルキル基、クロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，１−フルオロエチル，１，１−ジフルオロエチル，２，２，２−トリフルオロエチル，ペンタフルオロエチル基等Ｃ1-4 ハロアルキル基を挙げることができる。
Ｈｅｔとして、より好ましくは、次のＱ１〜Ｑ９
【００３４】
【化１５】
で表されるいずれかの基を挙げることができる。
上記式中、Ｒ3 は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル基等のＣ1-4 アルキル基、
、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、１−フルオロエチル、１，１−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル基等Ｃ1-4 ハロアルキル基を表し、ｎは、０、１又は２の整数を表す。
また、Ｒ4 は、水素原子、又はメチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等のＣ1-6 アルキル基を表す。
【００３６】
なお、前記一般式（２）及び一般式（３）で表される本発明化合物において、５位及び６位の置換基により立体異性体が存在し得る。それらはいづれも本発明に含まれる。
【００３７】
【発明の実施の形態】
本発明化合物は、次の方法によって製造することができる。
（製造法１）
【００３８】
【化１６】
（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 及びＨｅｔは、前記と同じ意味を表す。）
【００４０】
即ち、一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体（２）を、適当な溶媒中、塩基及び水若しくはアルコールを作用させることにより、一般式（１）で表される化合物を得ることができる。
【００４１】
この反応に用いられる塩基としては、例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコラート類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩等を挙げることができる。
【００４２】
塩基の使用量は、ビシクロヘプテノン誘導体（２）１モルに対して、２〜５当量が好ましい。
【００４３】
また、反応に用いることのできる溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、水、トルエン、ベンゼン等、あるいはこれら２種以上の混合溶媒が挙げられる。
【００４４】
上記反応においては、アルコール系溶媒、即ち、アルコール類、水及びアルコール、或いはアルコール及びエーテル類等の混合溶媒等のアルコール又はアルコールと他の溶媒との混合溶媒の使用が特に好ましい。
【００４５】
上記反応においては、例えば、メチルアルコールを用いることによりメチルエステル、エチルアルコールを用いることによりエチルエステル等のように、用いられるアルコール（Ｒ2 ＯＨ）と対応する、或いは用いる金属アルコキシド（ＭＯＲ2 ）のアルコキシド部分が一致するエステル（ＣＯＯＲ2 ）を得ることができる。
【００４６】
より好ましい塩基と溶媒の組み合わせとしては、例えば、ナトリウムメトキシド−メタノール（又はメタノールと他の溶媒との混合溶媒）、ナトリウムエトキシド−エタノール（又はエタノールと他の溶媒との混合溶媒）、水酸化ナトリウム−アルコール（又はアルコールと他の溶媒との混合溶媒）、水酸化カリウム−アルコール（又はアルコールと他の溶媒との混合溶媒）、カリウム ｔ−ブトキシド−ブタノール等を挙げることができる。
【００４７】
また、混合溶媒或いは含水系溶媒を用いる場合は、カルボン酸（Ｒ2 ＝Ｈ）を得ることができるが、水と共に用いる溶媒としては、アルコール類やエーテル類の使用が好ましく、塩基としては、前記水酸化物又は炭酸塩の使用が好ましい。
【００４８】
なお、金属アルコキシドを用いる場合においては、上記のように対応するアルコールの使用が好ましいが、他のアルコールの使用ももちろん可能である。
反応温度は、−１０℃から用いる溶媒の沸点の間が好ましい。
【００４９】
（製造法２）
【００５０】
【化１７】
（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 Ｈｅｔ及びＸは、前記と同じ意味を表す。）
【００５２】
ビシクロヘプテノン誘導体（２）は、ビシクロヘプテン誘導体（３）を、塩酸、硫酸等の酸で加水分解することにより得ることができる。
【００５３】
即ち、無溶媒又は水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、あるいはこれら２種以上の混合溶媒を用いて、−１０℃から用いる溶媒の沸点の間で、化合物（３）を加水分解させるこにより、化合物（２）を得ることができる。
【００５４】
その後は、前記製造法１で説明した方法と同様にして、目的とする安息香酸誘導体を製造することができる。
【００５５】
（製造法３）
【００５６】
【化１８】
（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｈｅｔ及びＸは、前記と同じ意味を表す。）
シクロペンタジエン誘導体（４）とヘテロ環で置換されたエチレン誘導体（５）とを、Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応を行うことにより、ビシクロヘプテン誘導体（３）を得ることができる。
【００５８】
Ｄｉｅｌｓ−Ａｌｄｅｒ反応に関しては、例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．，４２，１７４１−１７４４（１９８６），Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２６，２０６６−２０７２（１９６１）等に記載された方法と同様にして行うことができる。
【００５９】
上記反応においては、シクロペンタジエン類とエチレン誘導体とを加熱下に反応させる。この際用いられるエチレン誘導体のモル比は、シクロペンタジエン類１モルに対し、０．５〜１０倍当量、好ましくは１〜３当量である。反応は、室温から２５０℃の間で行われるが、７０℃〜２００℃がより好ましい。
【００６０】
この反応は通常無溶媒で行われるが、溶媒を用いて行うこともできる。用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、エチレングリコール、１，３−ブタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類、ジメトキエタン、ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリン等のアミド類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含イオウ炭化水素類及び水等を例示することができる。
【００６１】
また、ヒドロキノン等の重合防止剤の添加、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基の存在により、反応をより円滑に行うことができる。
【００６２】
その後は、前記製造法２と同様にして、目的とする安息香酸誘導体を製造することができる。
【００６３】
本発明化合物及び中間体等は、反応終了後、通常の後処理を行うことにより得ることができる。
【００６４】
また、本発明化合物及び中間体等の構造は、ＩＲ，ＮＭＲ及びＭＳ等から決定した。
【００６５】
【実施例】
次に実施例、参考例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。なお、実施例中では、本発明化合物のうち、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｓ）体及び（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，６Ｒ）体を、「ｔｒａｎｓ」と表記し、（１Ｓ，４Ｒ，５Ｒ，６Ｒ）体及び（１Ｒ，４Ｓ，５Ｓ，６Ｓ）体を、「ｃｉｓ」と表記する。
【００６６】
実施例１
４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）安息香酸エチルエステル（化合物番号３）の製造
【００６７】
【化１９】
６−メチル−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オン（ｔｒａｎｓ：ｃｉｓ＝１：１混合物）０．１１ｇをエタノール１ｍｌに溶解し、氷冷下でナトリウムエチラート０．０６ｇを加え、室温で１時間攪拌した。反応液を氷水５０ｍｌにあけ、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して粘稠な液体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して、白色結晶として表記化合物０．０２４ｇを得た。
融点８６−８８℃
【００６９】
実施例２
４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）安息香酸メチルエステル（化合物番号２）の製造
【００７０】
【化２０】
６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン０．９９ｇに、氷冷下で濃硫酸６．０２ｇを加え、室温に戻した後、１時間攪拌すると反応液は均一になり、そのまま室温で１５時間放置した。反応液を氷水２０ｍｌ中にあけ、酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。有機層を重曹水で２回洗浄後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去し、溶媒を減圧下に濃縮して、黄色のあめ状物質として、６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オンの粗生成物０．７９ｇを得た。
【００７２】
得られた粗製６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オン０．９４ｇをメタノール１０ｍｌに溶解し、氷冷下に、２８％ナトリウムメチラート−メタノール溶液１．４４ｇを５分で滴下した。室温で４時間攪拌した後、氷水５０ｍｌ中にあけ、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に濃縮して粘稠な液体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して、白色結晶として表記化合物０．４２ｇを得た。融点７６−７７℃
【００７３】
実施例３
４，５−ジクロロ−２−メチル−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）安息香酸（化合物番号１）の製造
【００７４】
【化２１】
水酸化ナトリウム９２ｇの水１１５０ｍｌ溶液中に、６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オン １５６．９ｇのＴＨＦ１１５０ｍｌ溶液を、−３℃〜０℃で１．５時間かけて滴下した。滴下終了後冷却浴をはずし、反応液を徐々に室温に昇温しながら１．５時間攪拌した。反応終了後、反応液にトルエン５００ｍｌを加え、水層を分取した。さらに、有機層に１規定水酸化ナトリウム水溶液５００ｍｌを加えて分液し、水層を分取した。水層を合わせ、濃塩酸２１０ｍｌを加えて酸析し、析出結晶をろ取した。得られた結晶を酢酸エチル３００ｍｌに溶解し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、白色結晶として表記化合物９５．０ｇを得た。
融点２１２−２１３℃
【００７６】
実施例４
４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（２−イソオキサゾリン−３−イル）安息香酸メチルエステル（化合物番号２９）の製造
【００７７】
【化２２】
６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン１．０ｇに、氷冷下、濃硫酸６．３ｇを加え、室温に戻した後、１時間攪拌すると反応液は均一になり、そのまま室温で１５時間放置した。反応液を氷水２０ｍｌ中にあけ、酢酸エチル２０ｍｌで２回抽出した。有機層を重曹水で２回洗浄後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを除去し、溶媒を減圧下に濃縮して、黄色のあめ状物質として、６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オンの粗生成物0.９４ｇを得た。
【００７９】
得られた粗生成物０．９４ｇをメタノール１０ｍｌに溶解し、氷冷下に、２８％ナトリウムメチラートのメタノール溶液１．５ｇを５分間で滴下した。室温で２時間攪拌した後反応液を氷水５０ｍｌにあけ、酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に濃縮して粘稠な液体を得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して、白色結晶として表記化合物０．７１ｇを得た。融点７４−７６℃
【００８０】
実施例５
４，５−ジクロロ−２−メチル−３−（２−イソオキサゾリン−３−イル）安息香酸（化合物番号２８）の製造
【００８１】
【化２３】
実施例４と同様にして得られた６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エン−７−オンの粗生成物１．６ｇをテトラヒドロフラン５ｍｌと水５ｍｌに溶解し、氷冷下に、１規定水酸化ナトリウム水溶液１４．６ｇを５分間で滴下した。室温で２時間攪拌した後反応液を氷水５０ｍｌにあけ、塩酸でＰＨを酸性にして酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に濃縮して結晶を得た。このものをｎ−ヘキサンで洗浄して、白色結晶として表記化合物０．６ｇを得た。
融点２０３−２０６℃
【００８３】
実施例６
６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【００８４】
【化２４】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン２．１５ｇ、炭酸水素ナトリウム０．８１ｇ、１−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１−プロペン（ｔｒａｎｓ，ｃｉｓ等量混合物）１．００ｇ、ヨウ化亜鉛０．４０ｇ及びハイドロキノン０．１０ｇを混合し、１５０℃で８時間加熱攪拌した。反応液を冷却し、水１００ｍｌを加え、酢酸エチル２００ｍｌで抽出したが、不溶物がみられ、これを濾別後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物に、ｎ−ヘキサンを加え、析出した結晶を濾取して、表記化合物０．９２ｇを得た。融点１００−１０１℃
【００８６】
さらに、上記濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン）で精製して、表記化合物０．７４ｇを得た。
【００８７】
実施例７
６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【００８８】
【化２５】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン４．３０ｇ、１−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１−プロペン（ｔｒａｎｓ，ｃｉｓ等量混合物）１．００ｇ及びハイドロキノン０．１８ｇを１，３−ブタンジオール２０ｍｌに添加し、７時間加熱還流した。反応液を冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物にｎ−ヘキサンを加え、分離した粘稠オイルを除き、ｎ−ヘキサン層を減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン）で精製して、白色結晶として表記化合物１．４１ｇを得た。
融点１００−１０１℃
【００９０】
実施例８
６−メチル−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【００９１】
【化２６】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン１．０７ｇ、炭酸水素ナトリウム０．３４ｇ、ｔｒａｎｓ−１−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１−プロペン０．５０ｇ及びハイドロキノン０．０５ｇを混合し、１８０℃で７時間加熱攪拌した。反応液を冷却し、酢酸エチルを加え、不溶物を濾別後、溶媒を減圧濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン）で精製して、異性体混合物として、表記化合物０．７０ｇを得た。
【００９３】
実施例９
６−メチル−ｃｉｓ−５−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【００９４】
【化２７】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン６４．３９ｇ、炭酸水素ナトリウム１４．０７ｇ、ｃｉｓ−１−（３−メチルイソオキサゾール−５−イル）−１−プロペン２０．００ｇ及びハイドロキノン２．００ｇを混合し、１２０℃で６時間加熱攪拌した。反応液を冷却し、水５００ｍｌを加え、酢酸エチルで３回抽出した。不溶物がみられ、これを濾別後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
【００９６】
溶媒を減圧濃縮して得られた粗生成物に、ｎ−ヘキサンを加え、析出した結晶を濾取して、表記化合物４５．８１ｇを得た。融点１００−１０１℃
さらに結晶を濾取した濾液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ベンゼン）で精製して、表記化合物４．５０ｇを得た。
【００９７】
各異性体の 1Ｈ−ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ3 ，δｐｐｍ）
ｃｉｓ体
0.83(d,3H),2.30(s,3H),3.08(m,1H),3.58(s,3H),3.66(s,3H),4.17(d,1H)， 6.02(s,1H)
【００９８】
ｔｒａｎｓ体−１
1.40(d,3H),2.30(s,3H),2.37(m,1H),3.58(s,3H),3.62(d,1H),3.66(s,3H)， 6.00(s,1H)
【００９９】
ｔｒａｎｓ体−２
1.09(d,3H),2.34(s,3H),2.84(d,1H),3.07(m,1H),3.50(s,3H),3.57(s,3H)， 6.19(s,1H)
【０１００】
実施例１０
６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【０１０１】
【化２８】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン２．１４ｇ、炭酸水素ナトリウム０．４６ｇ、ｃｉｓ−１−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−１−プロペン０．６ｇを混合し、１２０℃で６時間加熱攪拌した。反応液を室温に冷却し、氷水に注加して、酢酸エチル２００ｍｌで抽出した。有機層を水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち、溶媒を減圧濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して、表記化合物１．０ｇを得た。
融点９８−１００℃
【０１０３】
実施例１１
６−メチル−ｃｉｓ−５−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−７，７−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロビシクロ［２．２．１］ヘプタ−２−エンの製造
【０１０４】
【化２９】
５，５−ジメトキシ−１，２，３，４−テトラクロロシクロペンタ−１，３−ジエン２．６２ｇ、炭酸水素ナトリウム１．１ｇ、ｔｒａｎｓ−１−（２−イソオキサゾリン−３−イル）−１−プロペン１．０ｇを混合し、２００℃で２０時間加熱攪拌した。反応液を室温に冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製して表記化合物１．８ｇを得た。ｎ D 19.9 1.5087
【０１０６】
本発明の一般式（１）で表される安息香酸誘導体の代表例を、上記実施例の化合物を含めて第１表に示す。なお、第１表においては、Ｈｅｔは記号を用いて示した。記号の意味は次の通りである。
【０１０７】
【化３０】
【表１０１】
【表１０２】
【表１０３】
【表１０４】
【表１０５】
【表１０６】
【表１０７】
【表１０８】
【表１０９】
【表１１０】
【表１１１】
【表１１２】
【表１１３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、農薬・医薬等、特に除草活性化合物の製造中間体として有用である安息香酸誘導体を、安価なシクロペンタジエン誘導体及びヘテロ環で置換されたエチレン誘導体を出発原料として、短工程、簡易且つ工業的に有利に製造することができる。
Claims (10)
- 一般式（１）
- 前記Ｈｅｔは、次のＱ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４，Ｑ５，Ｑ６，Ｑ７，Ｑ８及びＱ９
- 一般式（２）
- 一般式（３）
前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体に、適当な溶媒中、塩基及び水若しくはアルコールを作用させる工程を有することを特徴とする、一般式（１）
- 一般式（４）
前記一般式（３）で表されるビシクロヘプテン誘導体を加水分解させて、一般式（２）
前記一般式（２）で表されるビシクロヘプテノン誘導体に、適当な溶媒中、塩基及び水若しくはアルコールを作用させる工程を有することを特徴とする、一般式（１）
- 前記Ｈｅｔは、次のＱ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４，Ｑ５，Ｑ６，Ｑ７，Ｑ８及びＱ９
- 前記塩基は、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属水酸化物及びアルカリ土類金属水酸化物からなる群から選ばれる１種又は２種以上である、請求項３〜６のいずれかに記載の製造法。
- 前記溶媒は、アルコール又はアルコール含有溶媒である、請求項３〜７のいずれかに記載の製造法。
- 一般式（２）
- 前記Ｈｅｔは、次のＱ１，Ｑ２，Ｑ３，Ｑ４，Ｑ５，Ｑ６，Ｑ７，Ｑ８及びＱ９
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