JP4576370B2 - 蒸着装置及び蒸着方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板上に蒸着を行う蒸着装置及び蒸着方法に関する。

蒸着窓を有する蒸着マスク上にガラス基板を載置し、蒸着マスクの蒸着窓を通して、蒸着材料の蒸気をガラス基板に付着して、ガラス基板上に成膜を行う方法が知られている（特許文献１）。

図７、図８に、従来の蒸着装置として、インライン式の真空蒸着装置を示して、その構成を説明する。
なお、図７（ａ）は、従来のインライン式の真空蒸着装置の一部を示す概略側面図であり、図７（ｂ）は、従来のインライン式の真空蒸着装置で用いられる蒸着マスクの平面図であり、図７（ｃ）は、蒸着マスクの断面図（図７（ｂ）のＣ−Ｃ’線矢視断面図）である。又、図８（ａ）は、従来のインライン式の真空蒸着装置で用いられる蒸着源の斜視図であり、図８（ｂ）は、蒸着源からの輻射熱により加熱されるガラス基板の温度プロファイルを説明する図である。

図７（ａ）に示すように、従来のインライン式の真空蒸着装置は、複数の成膜チャンバ５１、５２が一直線上に配置されて構成されるものである。成膜チャンバ５１、５２の内部には、各々搬送ベルト５３が設けられており、ガラス基板５４が蒸着マスクを支持するホルダ６０上に載置されて、搬送ベルト５３により矢印方向へ順次搬送される構成である。又、成膜チャンバ５１、５２には、各々真空ポンプ、ガス供給系（図示省略）が設けられ、内部を所望の雰囲気、圧力に制御可能な構成である。

又、成膜チャンバ５１、５２の下方側には、搬送ベルト５３に搬送されるガラス基板５４の蒸着面に対向して、ガラス基板５４を下方から臨む蒸着源５５、５６が設けられている。蒸着源５５、５６の上方には、ガラス基板５４の搬送方向に垂直な方向に長い開口部５７が設けられており（後述の図８参照）、この開口部５７から蒸着材料の蒸気をガラス基板５４へ供給し、ホルダ６０の蒸着マスクを通してガラス基板５４に所望の成膜を行う構成である。従って、搬送ベルト５３によりとホルダ６０共にガラス基板５４を矢印方向へ順次搬送しながら、各々の成膜チャンバ５１、５２において、所望の雰囲気、圧力下で、所望の成膜することが可能である。

又、図７（ｂ）、（ｃ）に示すように、ホルダ６０は、互いに格子状に交差して配置された複数の横格子部材６０ａ及び縦格子部材６０ｂと、４辺に配置されて、内側に横格子部材６０ａ及び縦格子部材６０ｂを支持すると共にＬ字断面形状を有する横枠部材６０ｃ及び縦枠部材６０ｄとから構成されている。ガラス基板５４は、Ｌ字断面形状の横枠部材６０ｃ及び縦枠部材６０ｄの内側に載置されており、横格子部材６０ａ、縦格子部材６０ｂ、横枠部材６０ｃ、縦枠部材６０ｄによって形成される窓部分の蒸着マスクを通して、ガラス基板５４に蒸着材料の蒸気を付着させて、所望の成膜を行う構成である。

又、図８（ａ）に示すように、蒸着源５５、５６は、その内部の下方側がるつぼ部分となっており、そのるつぼ部分に蒸着材料が収容されて、蒸着材料の蒸気が生成される構成である。生成された蒸気は、蒸着源５５、５６の上方に形成された開口部５７からガラス基板５４側へ供給される。この開口部５７は、ガラス基板５４の搬送方向の長さが短い短辺部５７ａと、ガラス基板５４の搬送方向に垂直な方向の長さが長い長辺部５７ｂとからなる矩形状となっており、図８（ｂ）にも示すように、ガラス基板５４から所定距離ｈ離れて、ガラス基板５４に平行に配置されている。上記構成により、ガラス基板５４を搬送させながら、ガラス基板５４の搬送方向に垂直な方向に均一に蒸気を供給して、均一な成膜が行えるようにしている。

特公昭６３−１５７１４号公報

蒸着源５５、５６は、ガラス基板５４の搬送方向に垂直な方向に均一に蒸気を供給して、均一な成膜が行えるように、図８（ｂ）に示したように、蒸着源５５、５６の開口部５７が、ガラス基板５４から所定距離ｈ離れた位置に配置されている。しかしながら、このような構成において、蒸着源５５、５６からガラス基板５４への輻射熱による熱流束は、ガラス基板５４の搬送方向に垂直な方向に均一ではないため、図８（ｂ）に示すように、ガラス基板５４の中央部で基板温度が高く、ガラス基板５４の端部で基板温度が低くなり、ガラス基板５４の面内で温度差ΔＴｂを生じさせていた。従来は、ガラス基板５４の大きさが大きくなく、温度差ΔＴｂも大きなものではなかったが、ガラス基板５４のサイズが大きくなってきている近年においては、その温度差ΔＴｂも益々大きくなり、その温度差による熱変形、熱応力が無視できない状況となっている。

更に、上記成膜においては、蒸着マスクを支持するホルダや蒸着マスク自身の陰になる部分のガラス基板の温度も低くなるため、ホルダや蒸着マスクによっても、ガラス基板の面内に温度差を生じさせることになり、その結果、ガラス基板の熱変形、熱応力を大きくさせていた。例えば、図９（ａ）に示すように、ガラス基板の面内温度分布は、ガラス基板の中央部が高く、周辺部が低いという傾向があるが、ホルダや蒸着マスクの陰になる部分（図９（ａ）中の格子形状の部分）は更に温度が低くなっていた。又、図９（ｂ）に示すように、ガラス基板の面内温度分布に応じて、ガラス基板の中央部が鉛直下方へ下がり、周辺部が鉛直上方へ上がるという熱変形を生じていた。そして、ガラス基板の面内温度差が大きくなると、その熱変形、熱応力も大きくなり、熱応力が甚だしい場合には、ガラス基板の割れ（クラック等）や破損が生じるという問題が生じていた。

本発明は上記課題に鑑みなされたもので、ガラス基板面内の温度差を小さくして、ガラス基板の割れや破損を防止する蒸着装置及び蒸着方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決する第１の発明に係る蒸着装置は、
ガラス基板の蒸着面をマスクするマスク部材を保持すると共に前記ガラス基板の周辺部を載置する枠部材を有する保持部材と、
前記ガラス基板が載置された前記保持部材を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段に搬送される前記ガラス基板の蒸着面に対向して設けられ、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に長い開口部から蒸着材料の蒸気を前記ガラス基板へ供給する蒸着源、又は、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に列状に並べた複数のるつぼの短い開口部から蒸着材料の蒸気を前記ガラス基板へ供給する蒸着源とを備え、
前記ガラス基板を搬送しながら、前記マスク部材を通して前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う蒸着装置において、
前記ガラス基板を挟んだ前記蒸着源の反対側であり、前記蒸着源の両側端部に対向する位置に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱する２組の第１加熱手段を設け、
前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記両側端部を、前記第１加熱手段により加熱するようにしたことを特徴とする。

上記課題を解決する第２の発明に係る蒸着装置は、
上記第１の発明に記載の蒸着装置において、
前記第１加熱手段は、複数に分割されて、分割部分が各々独立して前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に移動可能なものであり、
前記第１加熱手段と前記蒸着源との間に前記ガラス基板が存在しないときには、前記蒸着源の蒸着領域から前記第１加熱手段の各分割部分を逐次退避させるようにしたことを特徴とする。

上記課題を解決する第３の発明に係る蒸着装置は、
上記第１又は第２の発明に記載の蒸着装置において、
更に、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記ガラス基板の搬送方向の後端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第２加熱手段と、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第３加熱手段と、
前記ガラス基板の搬送方向の後端部を追尾して、該後端部と共に前記第２加熱手段を移動させると共に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部を追尾して、該前端部と共に前記第３加熱手段を移動させる移動手段とを設け、
前記移動手段は、前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の搬送と共に前記第２加熱手段、第３加熱手段を移動させて、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面の前記後端部、前記前端部を、前記第２加熱手段、前記第３加熱手段により加熱することを特徴とする。

上記課題を解決する第４の発明に係る蒸着装置は、
上記第３の発明に記載の蒸着装置において、
前記移動手段は、
前記第２加熱手段を、前記第１加熱手段の近傍までの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第１加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させると共に、
前記第３加熱手段を、前記第１加熱手段の近傍からの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第１加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させることを特徴とする。

上記課題を解決する第５の発明に係る蒸着装置は、
上記第４の発明に記載の蒸着装置において、
前記第２加熱手段、前記第３加熱手段は、前記ガラス基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、加熱を停止することを特徴とする。

上記課題を解決する第６の発明に係る蒸着装置は、
上記第１〜第５のいずれかの発明に記載の蒸着装置において、
前記保持部材の前記枠部材又は前記マスク部材に、前記ガラス基板の端部を前記蒸着源からの輻射熱に曝す開口部若しくは切欠部を設けたことを特徴とする。

上記課題を解決する第７の発明に係る蒸着装置は、
上記第１〜第６のいずれかの発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部の温度を、前記蒸着源の他の部分より高くしたことを特徴とする。

上記課題を解決する第８の発明に係る蒸着装置は、
上記第１〜第６のいずれかの発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部の近傍に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱する２つの第４加熱手段を設けたことを特徴とする。

上記課題を解決する第９の発明に係る蒸着装置は、
上記第１〜第６のいずれかの発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部における前記ガラス基板への輻射熱が発生する面積を、前記蒸着源の他の部分より大きくしたことを特徴とする。

上記課題を解決する第１０の発明に係る蒸着装置は、
上記第９の発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする。

上記課題を解決する第１１の発明に係る蒸着装置は、
上記第９の発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部の開口面積を他の部分より大きくすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする。

上記課題を解決する第１２の発明に係る蒸着装置は、
上記第９の発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする。

上記課題を解決する第１３の発明に係る蒸着方法は、
ガラス基板の蒸着面をマスクするマスク部材を保持すると共に前記ガラス基板の周辺部を載置する枠部材を有する保持部材に、前記ガラス基板を載置し、
前記ガラス基板が載置された前記保持部材を搬送手段により搬送し、
前記搬送手段に搬送される前記ガラス基板の蒸着面に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に長い開口部から、又は、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に列状に並べた複数の短い開口部から蒸着源の蒸着材料の蒸気を供給し、
前記ガラス基板を搬送しながら、前記マスク部材を通して前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う蒸着方法において、
前記ガラス基板を挟んだ前記蒸着源の反対側であり、前記蒸着源の両側端部に対向する位置に設けた２組の第１加熱手段を用いて、前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱することを特徴とする。

上記課題を解決する第１４の発明に係る蒸着方法は、
上記第１３の発明に記載の蒸着方法において、
前記第１加熱手段として、複数に分割されて、分割部分が各々独立して前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に移動可能なものを用いて、
前記第１加熱手段と前記蒸着源との間に前記ガラス基板が存在しないときには、前記蒸着源の蒸着領域から前記第１加熱手段の各分割部分を逐次退避させることを特徴とする。

上記課題を解決する第１５の発明に係る蒸着方法は、
上記第１３又は第１４の発明に記載の蒸着方法において、
更に、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に設けた、前記ガラス基板の搬送方向の後端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第２加熱手段と、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に設けた、前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第３加熱手段と、
前記ガラス基板の搬送方向の後端部を追尾して、該後端部と共に前記第２加熱手段を移動させると共に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部を追尾して、該前端部と共に前記第３加熱手段を移動させる移動手段とを用いて、
前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て及び後端部の全てを、前記ガラス基板を搬送させながら加熱することを特徴とする。

上記課題を解決する第１６の発明に係る蒸着方法は、
上記第１５の発明に記載の蒸着方法において、
前記第２加熱手段を、前記第１加熱手段の近傍までの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第１加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させると共に、
前記第３加熱手段を、前記第１加熱手段の近傍からの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第１加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させることを特徴とする。

上記課題を解決する第１７の発明に係る蒸着方法は、
上記第１６の発明に記載の蒸着方法において、
前記第２加熱手段、前記第３加熱手段が前記ガラス基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、前記第２加熱手段、前記第３加熱手段による加熱を停止することを特徴とする。

上記課題を解決する第１８の発明に係る蒸着方法は、
上記第１３〜第１７のいずれかの発明に記載の蒸着方法において、
前記保持部材の前記枠部材又は前記マスク部材に設けた開口部若しくは切欠部を用いて、前記ガラス基板の端部を前記蒸着源からの輻射熱に曝すことを特徴とする。

上記課題を解決する第１９の発明に係る蒸着方法は、
上記第１３〜第１８のいずれかの発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の温度を、前記蒸着源の他の部分より高くすることを特徴とする。

上記課題を解決する第２０の発明に係る蒸着方法は、
上記第１３〜第１８のいずれかの発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の近傍に設けた２つの第４加熱手段を用いて、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱することを特徴とする。

上記課題を解決する第２１の発明に係る蒸着方法は、
上記第１３〜第１８のいずれかの発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における前記ガラス基板への輻射熱が発生する面積を、前記蒸着源の他の部分より大きくすることを特徴とする。

上記課題を解決する第２２の発明に係る蒸着方法は、
上記第２１の発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする。

上記課題を解決する第２３の発明に係る蒸着方法は、
上記第２１の発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の開口面積を他の部分より大きくすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする。

上記課題を解決する第２４の発明に係る蒸着方法は、
上記第２１の発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする。

第１、第１３の発明によれば、蒸着源からの輻射熱が保持部材により遮断されるガラス基板の両側端部を、２つの第１加熱手段によりガラス基板の蒸着面の反対側から加熱するので、蒸着の際に蒸着源に曝されるガラス基板の温度を均一にして、その温度差を小さくすることができ、その結果、熱応力を低減させて、ガラス基板の割れや破損を防止することができる。又、割れや破損により使用できなくなるガラス基板の面積も低減されて、ガラス基板の面積を有効に使用することができる。

第２、第１４の発明によれば、第１加熱手段と蒸着源との間にガラス基板が存在しないときには、つまり、搬送されるガラス基板同士の隙間部分が蒸着源の上方にきたときには、蒸着源の蒸着領域から第１加熱手段を分割して退避させるので、第１加熱手段に蒸着材料が付着することはなく、加熱性やメンテナンス性に悪影響を与えることはない。

第３、第４、第１５、第１６の発明によれば、搬送されるガラス基板を追尾して、その前端部及び後端部を、第２加熱手段、第３加熱手段によりガラス基板の蒸着面の反対側から加熱するので、蒸着の際にガラス基板面内の温度を均一にして、ガラス基板面内の温度差を小さくすることができ、その結果、熱応力を低減させて、ガラス基板の割れや破損を防止することができる。

第５、第１７の発明によれば、第２加熱手段、第３加熱手段を基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、つまり、第２加熱手段、第３加熱手段がガラス基板の後端部、前端部の上方にないときには、加熱を停止するので、ガラス基板の後端部、前端部以外を加熱することはなく、ガラス基板面内の温度の均一性に悪影響を与えることはない。

第６、第１８の発明によれば、保持部材側の端部に開口部若しくは切欠部を設け、ガラス基板の端部を蒸着源からの熱輻射に曝すので、蒸着の際にガラス基板面内の温度を均一にして、ガラス基板面内の温度差を小さくすることができ、その結果、熱応力を低減させて、ガラス基板の割れや破損を防止することができる。

第７〜第１２、第１９〜第２４の発明によれば、蒸着源の両側端部からの熱輻射を大きくして、温度の落ち込みやすいガラス基板の両側端部をより多く加熱するので、蒸着の際にガラス基板の温度を均一にして、ガラス基板の温度差を小さくすることができ、その結果、熱応力を低減させて、ガラス基板の割れや破損を防止することができる。

以下、図１〜図５を用いて本発明に係る蒸着装置の実施形態のいくつかを説明する。

図１は、本発明に係る蒸着装置の実施形態の一例を示す図であり、図１（ａ）は、その概略側面図であり、図１（ｂ）は、その概略平面図である。

図１（ａ）、（ｂ）に示すように、本実施例の蒸着装置は、インライン式の真空蒸着装置を構成するものであり、複数の成膜チャンバ１、２が一直線上に配置されて構成されるものである。成膜チャンバ１、２の内部には、各々搬送ベルト３（搬送手段）が設けられており、矩形状の平板のガラス基板４が、ガラス基板４の蒸着面をマスクする蒸着マスク（マスク部材）を保持するホルダ６０（保持部材）上に載置されて、搬送ベルト３により矢印方向へ順次搬送される構成である。又、成膜チャンバ１、２には、各々真空ポンプ、ガス供給系（図示省略）が設けられており、内部を所望の雰囲気、圧力に制御可能な構成である。なお、ここでは、一部の成膜チャンバのみを例示しているが、ガラス基板４を搬入、搬出するロードロックチャンバ等も有するものである。又、製造する目的に合わせて、成膜チャンバを更に増やした構成としてもよい。

又、成膜チャンバ１、２の下方側には、搬送ベルト３に搬送されるガラス基板４の蒸着面に対向して、ガラス基板４を下方から臨む蒸着源５５、５６が設けられている。蒸着源５５、５６の上方には、ガラス基板４の搬送方向に垂直な方向に長い開口部５７が設けられており、この開口部５７から蒸着材料の蒸気をガラス基板４へ供給し、ホルダ６０の蒸着マスクを通してガラス基板４に所望の成膜を行う構成である。つまり、本実施例の蒸着装置は、搬送ベルト３によりホルダ６０と共にガラス基板４を矢印方向へ順次搬送しながら、各々の成膜チャンバ１、２において、所望の雰囲気、圧力下で、所望の成膜を行う構成である。なお、本実施例においては、図７（ｂ）、（ｃ）に示した従来の蒸着源５５、５６及びホルダ６０を使用しており、蒸着源５５、５６及びホルダ６０の構成については、その詳細な説明を省略する。又、本発明においては、長い１つの開口部５７を有する蒸着源５５、５６を使用しているが、蒸着源５５、５６に替えて、短い開口部を有する小型のるつぼを列状に複数個並べた蒸着源も適用可能である。

本実施例の蒸着装置において、成膜チャンバ１、２の上方側には、成膜チャンバ１、２毎に複数の加熱ヒータ７、８、９が設けられており、加熱ヒータ７、８、９により、特に基板温度の落ち込みが大きいガラス基板４の４辺の端部を加熱できるように構成されている。

具体的には、加熱ヒータ７（第１加熱手段）は、ガラス基板４の搬送方向に垂直な方向の両側の端部（以降、ガラス基板の両側端部と呼ぶ。）をガラス基板４の上方側から加熱できるように、ガラス基板４を挟んだ蒸着源５５、５６の反対側であり、蒸着源５５、５６の開口部５７の両側端部に対向した位置に１組ずつ、計２組配置されて、固定されている。つまり、加熱ヒータ７は、ガラス基板４の蒸着面に蒸着を行う際、ホルダ６０の裏面側から、蒸着源５５、５６の開口部５７上に位置するガラス基板４の両側端部の一部分のみを加熱できるように配置されたものである。このように、加熱ヒータ７を用いることにより、ガラス基板４の両側端部の温度の落ち込みを防止することができる。なお、加熱ヒータ７としては、必要な部分のみ加熱可能なように、集光性のあるスポットヒータ等を用いている。

又、加熱ヒータ８（第２加熱手段）は、ガラス基板４の搬送方向の後方側の端部（以降、ガラス基板の後端部と呼ぶ。）をガラス基板４の蒸着面の反対側の方から加熱できるように、ガラス基板４を挟んで、蒸着源５５、５６と反対側の方に配置されると共に、ガラス基板４の搬送と同期して同じ速度で移動可能に設けられている。又、この加熱ヒータ８は、ガラス基板４の搬送方向に垂直な方向（以降、ガラス基板の幅方向と呼ぶ。）に長く、ガラス基板４の後端部の幅方向全てを均一に加熱するものである。

又、加熱ヒータ９（第３加熱手段）は、ガラス基板４の搬送方向の前方側の端部（以降、ガラス基板の前端部と呼ぶ。）をガラス基板４の蒸着面の反対側の方から加熱できるように、ガラス基板４を挟んで、蒸着源５５、５６と反対側の方に配置されると共に、ガラス基板４の搬送と同期して同じ速度で移動可能に設けられている。又、この加熱ヒータ９は、ガラス基板４の幅方向に長く、ガラス基板４の前端部の幅方向全てを均一に加熱するものである。

なお、加熱ヒータ８、９は、ガラス基板４の幅方向に長い線状の形状のものであるが、例えば、スポットヒータを複数一列に配置したもので代替してもよい。

上記加熱ヒータ８には、ガラス基板４の後端部を検知して追尾可能とする追尾センサ（図示せず）が設けられており、この追尾センサ及び移動装置（移動手段；図示せず）により、ガラス基板４の搬送に同期して加熱ヒータ８を移動させて、ガラス基板４を搬送しながら、その後端部を加熱可能としている。具体的な移動動作を説明すると、１つ前の成膜チャンバ（例えば、図１中の成膜チャンバ１）の加熱ヒータ７をガラス基板４の後端部が通過した後、加熱ヒータ８は、ガラス基板４の後端部の追尾を開始し、ガラス基板４の搬送に同期して移動する。そして、次の成膜チャンバ（例えば、図１中の成膜チャンバ２）の加熱ヒータ７の手前まで、ガラス基板４の搬送に同期して、ガラス基板４と共に移動していく。その後、次に搬送されてくるガラス基板４に対応するために、１つ前の成膜チャンバ（例えば、図１中の成膜チャンバ１）の加熱ヒータ７の近傍まで速やかに戻り、同様の移動動作で、次に搬送されてくるガラス基板４の追尾を開始する。つまり、加熱ヒータ８は、任意の蒸着装置の加熱ヒータ７の近傍から次の蒸着装置の加熱ヒータ７の近傍までの所定範囲内を往復運動する構成である。

上記加熱ヒータ９にも、同様に、ガラス基板４の前端部を検知して追尾可能とする追尾センサ（図示せず）が設けられており、この追尾センサ及び移動装置（移動手段；図示せず）により、ガラス基板４の搬送に同期して加熱ヒータ９を移動させて、ガラス基板４を搬送しながら、その前端部を加熱可能としている。具体的な移動動作を説明すると、成膜チャンバ（例えば、図１中の成膜チャンバ１）の加熱ヒータ７をガラス基板４の前端部が通過した後、加熱ヒータ９は、ガラス基板４の前端部の追尾を開始し、ガラス基板４の搬送に同期して移動する。そして、次の成膜チャンバ（例えば、図１中の成膜チャンバ２）の加熱ヒータ７の手前まで、ガラス基板４の搬送に同期して、ガラス基板４と共に移動していく。その後、次に搬送されてくるガラス基板４に対応するために、１つ前の成膜チャンバ（例えば、図１中の成膜チャンバ１）の加熱ヒータ７の近傍まで速やかに戻り、同様の移動動作で、次に搬送されてくるガラス基板４の追尾を開始する。つまり、加熱ヒータ９も、任意の蒸着装置の加熱ヒータ７の近傍から次の蒸着装置の加熱ヒータ７の近傍までの所定範囲内を往復運動する構成である。

なお、上記追尾センサに替えて、加熱ヒータ７をガラス基板４の前端部及び後端部が通過したことを検知する位置センサ（例えば、リミットセンサ、リミットスイッチ等）を設け、位置センサでの検知により、ガラス基板４の搬送と加熱ヒータ８、９の移動を機械的に連動させて、ガラス基板４を搬送しながら、その前端部及び後端部を加熱するようにしてもよい。

このように、搬送方向に移動可能な加熱ヒータ８、９を用いることにより、ガラス基板４を搬送しながら、ガラス基板４の前端部及び後端部の温度の落ち込みも防止することができる。

従って、ガラス基板４の温度が落ち込む端部を、上記構成の加熱ヒータ７、８、９を用いて、ガラス基板４の蒸着面の反対側の方から局所的に加熱することにより、ガラス基板４の面内温度差を従来と比較して小さくすることができる。その結果、ガラス基板４の熱応力を低減して、ガラス基板４の割れを防止することができる。特に、本実施例のように、ホルダ６０の陰になることにより、蒸発源５、６からの輻射熱が遮断されて、温度が落ち込みやすく、又、割れの起点にもなりうるガラス基板４の端部を局部的に加熱することにより、割れの発生を効率的に防止することが可能となる。

なお、本実施例においては、加熱ヒータ７、８、９を全て備える構成例を示したが、成膜チャンバにおけるプロセス条件によっては、少なくとも加熱ヒータ７を有する構成であればよく、プロセス条件に応じて、加熱ヒータ８、９を追加すればよい。又、搬送ベルト３を備えず、ガラス基板４の位置を固定して蒸着を行う蒸着装置の場合には、位置が固定されたガラス基板４の４辺の端部に対応する位置に、ガラス基板４を挟んで、蒸着源と反対側の方に加熱ヒータを配置すればよい。

又、本実施例では、ホルダとして従来のホルダ６０を用い、蒸着源としては従来の蒸着源５５、５６を用いているが、後述する実施例２の蒸着マスク、後述する実施例３の蒸着源を用いることにより、より効果的にガラス基板４の端部での温度の落ち込みを低減することが可能である。

（実施例１の変形例）
図６は、実施例１の蒸着装置の変形例を示す図であり、図６（ａ）は、その概略側面図であり、図６（ｂ）は、その概略平面図である。

図６（ａ）、（ｂ）に示すように、本変形例の蒸着装置は、その基本的構成が図１に示す蒸着装置と同等のものである。従って、同等の構成要素には同じ符号を付し、重複する説明は省略する。本変形例の蒸着装置は、図１に示す蒸着装置に設けた加熱ヒータ７、８、９に替わり、加熱ヒータ４１、４２、４３を設けることにより、特に基板温度の落ち込みが大きいガラス基板４の４辺の端部を加熱できるように構成されている。

具体的には、加熱ヒータ４１（第１加熱手段）は、ガラス基板４の両側端部をガラス基板４の上方側から加熱できるように、ガラス基板４を挟んだ蒸着源５５、５６の反対側であり、蒸着源５５、５６の開口部５７の両側端部に対向した位置に１組ずつ、計２組配置されている。つまり、加熱ヒータ４１は、ガラス基板４の蒸着面に蒸着を行う際、ホルダ６０の裏面側から、蒸着源５５、５６の開口部５７上に位置するガラス基板４の両側端部の一部分のみを加熱できるように配置されたものである。このように、加熱ヒータ４１を用いることにより、ガラス基板４の両側端部の温度の落ち込みを防止することができる。なお、加熱ヒータ４１としては、必要な部分のみ加熱可能なように、集光性のあるスポットヒータ等を用いている。

更に、加熱ヒータ４１は、ガラス基板４の搬送方向において２つ以上に分割されて（図６では、一例として３分割）、分割された部分が各々独立してガラス基板４の幅方向に移動可能に構成されている。図１に示す加熱ヒータ７のように、その位置が固定されたものは、順次搬送されるガラス基板４同士の間に形成される隙間を通って、蒸着源５５、５６からの蒸着材料が付着して、加熱ヒータ７の加熱性、メンテナンス性に影響を与える可能性がある。そこで、本変形例では、加熱ヒータ４１を複数に分割すると共に、各々独立してガラス基板４の幅方向に移動可能とすることにより、ガラス基板４間の隙間部分が蒸着源５５、５６の開口部５７を通過するときには、つまり、加熱ヒータ４１と蒸着源５５、５６の間にガラス基板４が存在しないときには、蒸着領域となる開口部５７の領域から退避するように、分割された加熱ヒータ４１をガラス基板４の幅方向に逐次移動させて、蒸着源５５、５６からの蒸着材料の加熱ヒータ４１への付着を防止している。なお、加熱ヒータ４１は、複数に分割されるので、ガラス基板４の搬送方向に所定の長さを有することが望ましい。

又、加熱ヒータ４２（第２加熱手段）は、ガラス基板４の後端部をガラス基板４の蒸着面の反対側の方から加熱できるように、ガラス基板４を挟んで、蒸着源５５、５６と反対側の方に配置されると共に、ガラス基板４の搬送と同期して同じ速度で移動可能に設けられている。又、この加熱ヒータ４２は、ガラス基板４の幅方向に長いものであるが、ガラス基板４の両側端部に配置された加熱ヒータ４１の間を通過できるように、ガラス基板４の後端部の幅方向の大部分又は一部を均一に加熱する長さに設定されている。

又、加熱ヒータ４３（第３加熱手段）は、ガラス基板４の前端部をガラス基板４の蒸着面の反対側の方から加熱できるように、ガラス基板４を挟んで、蒸着源５５、５６と反対側の方に配置されると共に、ガラス基板４の搬送と同期して同じ速度で移動可能に設けられている。又、この加熱ヒータ４３は、ガラス基板４の幅方向に長いものであるが、ガラス基板４の両側端部に配置された加熱ヒータ４１の間を通過できるように、ガラス基板４の前端部の幅方向の大部分又は一部を均一に加熱する長さに設定されている。

なお、加熱ヒータ４２、４３は、ガラス基板４の幅方向に長い線状の形状のものであるが、例えば、スポットヒータを複数一列に配置したもので代替してもよい。

上記加熱ヒータ４２には、ガラス基板４の後端部を検知して追尾可能とする追尾センサ（図示せず）が設けられており、この追尾センサ及び移動装置（移動手段；図示せず）により、ガラス基板４の搬送に同期して加熱ヒータ４２を移動させて、ガラス基板４を搬送しながら、その後端部を加熱可能としている。具体的な移動動作を説明すると、ガラス基板４の後端部が、加熱ヒータ４１や蒸着源５５、５６の開口部５７から手前に所定の距離離れた追尾開始位置に接近してくると、加熱ヒータ４２は、ガラス基板４の後端部の追尾を開始し、ガラス基板４の搬送に同期して移動する。そして、ガラス基板４の後端部と共に加熱ヒータ４２が、蒸着源５５、５６の開口部５７の上方を通過し、即ち、加熱ヒータ４２が両側端部に配置された加熱ヒータ４１の間を通過し、加熱ヒータ４１や蒸着源５５、５６の開口部５７から搬送方向に所定の距離離れた追尾終了位置まで、ガラス基板４の搬送に同期して、ガラス基板４と共に移動していく。その後、次に近接してくるガラス基板４の後端部に対応するために、追尾開始位置まで速やかに戻り、同様の移動動作で、次に近接してくるガラス基板４の後端部の追尾を開始する。つまり、加熱ヒータ４２は、加熱ヒータ４１、蒸着源５５、５６の開口部５７の位置を中心に、その前後を直線的に（図６（ａ）の符号Ｓ参照）、又は、その周囲を楕円的に（図６（ａ）の符号Ｏ参照）、所定範囲内を往復運動する構成である。

上記加熱ヒータ４３にも、同様に、ガラス基板４の前端部を検知して追尾可能とする追尾センサ（図示せず）が設けられており、この追尾センサ及び移動装置（移動手段；図示せず）により、ガラス基板４の搬送に同期して加熱ヒータ４３を移動させて、ガラス基板４を搬送しながら、その前端部を加熱可能としている。具体的な移動動作を説明すると、ガラス基板４の前端部が、加熱ヒータ４１や蒸着源５５、５６の開口部５７から手前に所定の距離離れた追尾開始位置に接近してくると、加熱ヒータ４３は、ガラス基板４の前端部の追尾を開始し、ガラス基板４の搬送に同期して移動する。そして、ガラス基板４の前端部と共に加熱ヒータ４３が、蒸着源５５、５６の開口部５７の上方を通過し、即ち、加熱ヒータ４３が両側端部に配置された加熱ヒータ４１の間を通過し、加熱ヒータ４１や蒸着源５５、５６の開口部５７から搬送方向に所定の距離離れた追尾終了位置まで、ガラス基板４の搬送に同期して、ガラス基板４と共に移動していく。その後、次に近接してくるガラス基板４の前端部に対応するために、追尾開始位置まで速やかに戻り、同様の移動動作で、次に近接してくるガラス基板４の前端部の追尾を開始する。つまり、加熱ヒータ４３は、加熱ヒータ４１、蒸着源５５、５６の開口部５７の位置を中心に、その前後を直線的に（図６（ａ）の符号Ｓ参照）、又は、その周囲を楕円的に（図６（ａ）の符号Ｏ参照）、所定範囲内を往復運動する構成である。

なお、加熱ヒータ４２、４３が追尾開始位置まで戻る際には、つまり、加熱ヒータ４２、４３がガラス基板４の後端部、前端部の真上でないときには、ヒータオフ状態とし、追尾開始時に、再び、ヒータオン状態としている。又、ガラス基板４間の隙間部分が蒸着源５５、５６の開口部５７を通過するときには、追尾開始位置まで戻る時の加熱ヒータ４２、４３の移動速度を高くして、蒸着源５５、５６からの蒸着材料の加熱ヒータ４２、４３への付着を防止している。

このように、搬送方向に移動可能な加熱ヒータ４２、４３を用いることにより、ガラス基板４を搬送しながら、ガラス基板４の前端部及び後端部の温度の落ち込みも防止することができる。又、加熱ヒータ４２、４３が追尾開始位置まで戻る際には、ヒータオフ状態とするので、ガラス基板の後端部、前端部以外を加熱することはなく、ガラス基板面内の温度の均一性に悪影響を与えることはない。

従って、ガラス基板４の温度が落ち込む端部を、上記構成の加熱ヒータ４１、４２、４３を用いて、ガラス基板４の蒸着面の反対側の方から局所的に加熱することにより、ガラス基板４の面内温度差を従来と比較して小さくすることができる。その結果、ガラス基板４の熱応力を低減して、ガラス基板４の割れを防止することができる。本変形例のように、ホルダ６０の陰になることにより、蒸発源５、６からの輻射熱が遮断されて、温度が落ち込みやすく、又、割れの起点にもなりうるガラス基板４の端部を局部的に加熱することにより、割れの発生を効率的に防止することが可能となる。

なお、本変形例においても、加熱ヒータ４１、４２、４３を全て備える構成例を示したが、成膜チャンバにおけるプロセス条件によっては、少なくとも加熱ヒータ４１を有する構成であればよく、プロセス条件に応じて、加熱ヒータ４２、４３を追加すればよい。又、搬送ベルト３を備えず、ガラス基板４の位置を固定して蒸着を行う蒸着装置の場合には、位置が固定されたガラス基板４の４辺の端部に対応する位置に、ガラス基板４を挟んで、蒸着源と反対側の方に加熱ヒータを配置すればよい。

又、本変形例でも、ホルダとして従来のホルダ６０を用い、蒸着源としては従来の蒸着源５５、５６を用いているが、後述する実施例２の蒸着マスク、後述する実施例３の蒸着源を用いることにより、より効果的にガラス基板４の端部での温度の落ち込みを低減することが可能である。

図２は、本発明に係る蒸着装置の実施形態の他の一例を示す図であり、図１に示す蒸着装置において、従来のホルダ６０に換えて、図２にしめすホルダ１１、１２を用いるようにしたものである。なお、図２（ａ）は、本実施例のホルダの平面図であり、図２（ｂ）は、その断面図（図２（ａ）のＡ−Ａ’線矢視断面図）である。又、図２（ｃ）は、本実施例の変形例のホルダの平面図であり、図２（ｄ）は、その断面図（図２（ｃ）のＢ−Ｂ’線矢視断面図）である。

図２（ａ）、（ｂ）に示すように、ホルダ１１は、互いに格子状に交差して配置された複数の横格子部材１１ａ及び縦格子部材１１ｂと、４辺に配置されて、内側に横格子部材１１ａ及び縦格子部材１１ｂを支持する横枠部材１１ｃ及び縦枠部材１１ｄとから構成されている。更に、横枠部材１１ｃ及び縦枠部材１１ｄは、厚さ方向に段差がある２本の横枠副部材１１ｅ、１１ｆ及び縦枠副部材１１ｇ、１１ｈからなり、２本の枠副部材の間に開口部１１ｉ、１１ｊ、１１ｋが形成された構成である。つまり、図７（ｂ）、（ｃ）に示した従来のホルダ６０の横枠部材６０ｃ及び縦枠部材６０ｄに開口部を設けた構成である。ガラス基板４は、横枠副部材１１ｅ及び縦枠副部材１１ｇの内側に載置されると共に、ガラス基板４の端部から少し内側を、横枠副部材１１ｆ及び縦枠副部材１１ｈにより支持されている。そして、横格子部材１１ａ、縦格子部材１１ｂ、横枠副部材１１ｆ、縦枠副部材１１ｈによって形成される窓部分の蒸着マスクを通して、ガラス基板４に蒸着材料の蒸気を付着させて、所望の成膜を行う構成である。

上記構成のホルダ１１においては、従来のホルダ６０と異なり、矩形状のガラス基板４の４辺の端部部分に対応する位置に、開口部１１ｉ、１１ｊ、１１ｋを形成しているため、ガラス基板４の端部において、ホルダ１１の陰になる部分を著しく減少させる一方、開口部１１ｉ、１１ｊ、１１ｋを通して、ガラス基板４の端部を蒸着源５５、５６からの輻射熱に曝すことにより、ガラス基板４の端部を積極的に加熱して、ガラス基板４の端部における温度の落ち込みを防止することができる。その結果、ガラス基板４の面内温度差を従来と比較して小さくして、熱応力を低減することができ、ガラス基板４の割れを防止することができる。

又、ホルダ１１の変形例として、図２（ｃ）、（ｄ）に示すようなホルダ１２を用いても同様な効果を得ることができる。

具体的には、ホルダ１２は、図２（ｃ）、（ｄ）に示すように、互いに格子状に交差して配置された複数の横格子部材１２ａ及び縦格子部材１２ｂと、ガラス基板４の端部から少し内側の４辺に配置されて、横格子部材１２ａ及び縦格子部材１２ｂを支持する横枠部材１２ｃ及び縦枠部材１２ｄとから構成されている。つまり、図２（ａ）、（ｂ）に示したホルダ１１の横枠副部材１１ｅ及び縦枠副部材１１ｇを取り除いた構成であり、横枠部材１２ｃ及び縦枠部材１２ｄの外側となる突起部１２ｅ、１２ｆ同士の間に、上記ホルダ１１の開口部１１ｉ、１１ｊ、１１ｋと同等の機能を有する切欠部１２ｇ、１２ｈが形成されている。ガラス基板４は、突起部１２ｅ、１２ｆの内側に載置されると共に、ガラス基板４の端部から少し内側を、横枠部材１２ｃ及び縦枠部材１２ｄにより支持されている。そして、格子部材１２ａ、縦格子部材１２ｂ、横枠部材１２ｃ、縦枠部材１２ｄによって形成される窓部分の蒸着マスクを通して、ガラス基板４に蒸着材料の蒸気を付着させて、所望の成膜を行う構成である。

上記構成のホルダ１２においても、ホルダ１１と同様に、ガラス基板４の４辺の端部部分に対応する位置に、切欠部１２ｇ、１２ｈを形成しているため、ガラス基板４の端部において、ホルダ１１の陰になる部分を著しく減少させる一方、切欠部１２ｇ、１２ｈを通して、ガラス基板４の端部を蒸着源５５、５６からの輻射熱に曝すことにより、ガラス基板４の端部を積極的に加熱して、ガラス基板４の端部における温度の落ち込みを防止することができる。その結果、ガラス基板４の面内温度差を従来と比較して小さくして、熱応力を低減することができ、ガラス基板４の割れを防止することができる。

本実施例においては、ホルダの枠部分の形状を工夫して、ガラス基板４の端部の温度の落ち込みを防止しているが、例えば、従来のホルダ６０において（図７（ｂ）等参照）、ガラス基板４の端部に対応する蒸着マスクの位置に、図２に示すような開口部や切欠部を設けて、ガラス基板４の端部の温度の落ち込みを防止するようにしてもよい。

図３〜図５は、本発明に係る蒸着装置の実施形態の他の一例を示す図であり、図３は、本実施例を概念的に説明する図であり、図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、図５（ａ）、（ｂ）は、本実施例を実現する蒸着源の具体的な構成例のいくつかを示す斜視図である。

図８（ｂ）に示したように、従来の蒸着源５５、５６では、開口部５７がガラス基板５４と平行であり、又、制御温度も蒸着源５５、５６全体が均一に制御されているため、蒸着源５５、５６からガラス基板５４への熱流束が均一ではなく、ガラス基板５４の中央部で基板温度が高く、ガラス基板５４の端部で基板温度が低くなり、ガラス基板５４の面内で温度差ΔＴｂが生じるという問題があった。

そこで、本実施例においては、実施例１（図１）に示す蒸着源５５、５６に替えて、熱流束を制御して、ガラス基板４端部での温度の落ち込みを低減可能な構成の蒸着源を使用するようにしている。

図３を参照して、その概念的な構成を説明すると、本実施例の蒸着源は、その温度分布２０を、ガラス基板４の中央部で相対的に小さく、ガラス基板４の端部側で相対的に大きくすることにより、ガラス基板４が配置された位置における熱流束を、その幅方向に均一に制御して、ガラス基板４の面内の温度差ΔＴａをできるだけ小さくするようにしたものである。又、ホルダ６０による輻射熱の遮断が大きい場合には、蒸着源の温度分布２０を、ガラス基板４の端部側で更に大きくすることにより、ガラス基板４が配置された位置における熱流束を、その幅方向に均一にするのではなく、ガラス基板４の端部側で強くして、ガラス基板４の面内の温度差ΔＴａをできるだけ小さくするようにしてもよい。なお、ここでは、ホルダとして、従来のホルダ６０を用いるが、前述した実施例２のホルダ１１、１２を用いると、より効果的にガラス基板４の端部での温度の落ち込みを低減することが可能である。

次に、図３に示すような温度分布２０を実現可能な蒸着源として、その具体的な構成例のいくつかを図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、図５（ａ）、（ｂ）に示して、その詳細を説明する。なお、図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、図５（ａ）、（ｂ）における蒸着源は、いずれも、その内部の下方側にるつぼ部分を有すると共に、その上方側に開口部を有し、その周囲に配置された複数のヒータ（図示せず）により、所望の温度に制御可能な構成である。従って、るつぼ部分に収容された蒸着材料は、複数のヒータによる蒸着源の加熱により、その蒸気が生成されて、生成された蒸気が、蒸着源の開口部から、ガラス基板４側へ供給されるようになっている。

このような構成の蒸着源において、本実施例では、その開口部の構成を工夫することにより、図３に示すような温度分布２０を実現している。

具体的には、図４（ａ）に示す本実施例の蒸着源２１は、形状としては、図８（ａ）に示した蒸着源５５、５６と同等のものであり、蒸着源２１の上方側に配置された開口部２２は、ガラス基板４の搬送方向となる長さが短い短辺部２２ａと、ガラス基板４の幅方向となる長さが長い長辺部２２ｂとからなる矩形状であり、又、開口部２２の上面が、ガラス基板４から所定距離離れて、ガラス基板４に平行に配置されるものである。しかしながら、本実施例の蒸着源２１においては、図８（ａ）に示した蒸着源５５、５６と相違して、短辺部２２ａの温度を他の部分より比較的高い温度に設定しており、このことにより、図３に示すような温度分布２０を実現している。

又、図４（ｂ）に示す本実施例の蒸着源２３は、その上方側に配置された開口部２４が、ガラス基板４の搬送方向となる長さが短い短辺部２４ａと、ガラス基板４の幅方向となる長さが長い長辺部２４ｂとからなる矩形状であり、又、開口部２４の上面が、ガラス基板４から所定距離離れて、ガラス基板４に平行に配置されるものである。本実施例の蒸着源２３においては、更に、長辺部２４ｂの両端部を、蒸着源２３の長手方向に垂直な方向に肉厚に形成することにより、その上面の面積を大きくした大面積部２４ｃを設けており、この大面積部２４ｃからの輻射熱により、図３に示すような温度分布２０を実現している。

又、図４（ｃ）に示す本実施例の蒸着源２５は、その上方側に配置された開口部２６が、ガラス基板４の両側端部に対応して設けられ、２つの円形部２６ａにより形成された２つの円形状開口部と、２つの円形状開口部の間を連通するように設けられ、ガラス基板４の幅方向となる長さが長い長辺部２４ｂにより形成された矩形状開口部とからなり、開口部２６の上面が、ガラス基板４から所定距離離れて、ガラス基板４に平行に配置されるものである。円形状開口部は、矩形状開口部より大きい開口面積に形成されており、この大きい円形状開口部からの輻射熱により、図３に示すような温度分布２０を実現している。

又、図５（ａ）に示す本実施例の蒸着源２７は、その上方側に配置された開口部２８が、ガラス基板４の搬送方向となる長さが短い短辺部２８ａと、ガラス基板４の幅方向となる長さが長い長辺部２８ｂとからなる矩形状であり、又、開口部２８の上面が、ガラス基板４から所定距離離れて、ガラス基板４に平行に配置されるものである。本実施例の蒸着源２７においては、更に、短辺部２８ｂを、蒸着源２３の長手方向に肉厚に形成することにより、その上面の面積を大きくしており、この肉厚の短辺部２８ｂからの輻射熱により、図３に示すような温度分布２０を実現している。

又、図５（ｂ）に示す本実施例の蒸着源２９は、図８（ａ）に示した蒸着源５５、５６と全く同等のものであり、蒸着源２９の上方側に配置された開口部３０が、ガラス基板４の搬送方向となる長さが短い短辺部３０ａと、ガラス基板４の幅方向となる長さが長い長辺部３０ｂとからなる矩形状であり、その上面が、ガラス基板４から所定距離離れて、ガラス基板４に平行に配置されるものである。しかしながら、本実施例の蒸着源２９においては、図８（ａ）に示した蒸着源５５、５６と相違して、蒸着源２９の開口部３０の両側端部の近傍に、換言すると、短辺部３０ａ上方であり、ガラス基板４との間の空間に、２つの加熱ヒータ３１（第４加熱手段）を設け、加熱ヒータ３１の温度を蒸着源２９より比較的高い温度としており、加熱ヒータ３１からの輻射熱により、図３に示すような温度分布２０を実現している。

上述したような蒸着源２１、２３、２５、２７、２９を、実施例１（図１）に示した蒸着装置で用いることにより、ガラス基板４の面内の温度差ΔＴａをできるだけ小さくして、ガラス基板４の熱応力を低減することができ、ガラス基板４の割れを防止することができる。なお、長い１つの開口部を有する蒸着源２１、２３、２５、２７、２９だけでなく、短い開口部を有する小型のるつぼを列状に複数個並べた蒸着源に対しても、図４（ａ）〜図５（ｂ）と同じことが適用可能であり、蒸着源２１、２３、２５、２７、２９と同様な効果を得ることができる。

更に、本実施例と実施例１、２とを組み合わせ、実施例１（図１）に示した蒸着装置において、実施例２に示した蒸着マスク１１、１２、本実施例の蒸着源２１、２３、２５、２７、２９を用いることにより、より効果的にガラス基板４の端部での温度の落ち込みを低減することが可能である。

本発明は、ガラス基板を搬送しながら、ガラス基板に蒸着を行う蒸着装置、蒸着方法に好適なものである。

本発明に係る蒸着装置の実施形態の一例を示す図であり、（ａ）は、その概略側面図であり、（ｂ）は、その平概略面図である。 本発明に係る蒸着装置の実施形態の他の一例を示す図であり、（ａ）は、ホルダの平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線矢視断面図である。又、（ｃ）は、変形例のホルダの平面図であり、（ｄ）は、図２（ｃ）のＢ−Ｂ’線矢視断面図である。 本発明に係る蒸着装置の実施形態の更なる他の一例を概念的に説明する図である。 本発明に係る蒸着装置の実施形態の更なる他の一例を実現する蒸着源の具体的な構成例を示す斜視図である。 本発明に係る蒸着装置の実施形態の更なる他の一例を実現する蒸着源の具体的な構成例を示す斜視図である。 図１に示す蒸着装置の変形例を示す図であり、（ａ）は、その概略側面図であり、（ｂ）は、その平概略面図である。 （ａ）は、従来の蒸着装置を示す概略側面図であり、（ｂ）は、従来の蒸着装置で用いられる蒸着マスクの平面図であり、（ｃ）は、（ｂ）のＣ−Ｃ’線矢視断面図である。 （ａ）は、従来の蒸着装置で用いられる蒸着源の斜視図であり、（ｂ）は、蒸着源からの輻射熱により加熱されるガラス基板の温度プロファイルを説明する図である。 （ａ）は、ガラス基板の面内温度分布を示す図であり、（ｂ）は、ガラス基板の熱変形を示す図である。

符号の説明

１、２ 成膜チャンバ
３ 搬送ベルト
４ ガラス基板
２１、２３、２５、２７、２９、５５、５６ 蒸着源
７、８、９、３１ 加熱ヒータ
１１、１２、６０ ホルダ

Claims (24)

1. ガラス基板の蒸着面をマスクするマスク部材を保持すると共に前記ガラス基板の周辺部を載置する枠部材を有する保持部材と、
   前記ガラス基板が載置された前記保持部材を搬送する搬送手段と、
   前記搬送手段に搬送される前記ガラス基板の蒸着面に対向して設けられ、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に長い開口部から蒸着材料の蒸気を前記ガラス基板へ供給する蒸着源、又は、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に列状に並べた複数のるつぼの短い開口部から蒸着材料の蒸気を前記ガラス基板へ供給する蒸着源とを備え、
   前記ガラス基板を搬送しながら、前記マスク部材を通して前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う蒸着装置において、
   前記ガラス基板を挟んだ前記蒸着源の反対側であり、前記蒸着源の両側端部に対向する位置に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱する２組の第１加熱手段を設け、
   前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記両側端部を、前記第１加熱手段により加熱するようにしたことを特徴とする蒸着装置。
2. 請求項１に記載の蒸着装置において、
   前記第１加熱手段は、複数に分割されて、分割部分が各々独立して前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に移動可能なものであり、
   前記第１加熱手段と前記蒸着源との間に前記ガラス基板が存在しないときには、前記蒸着源の蒸着領域から前記第１加熱手段の各分割部分を逐次退避させるようにしたことを特徴とする蒸着装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の蒸着装置において、
   更に、
   前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記ガラス基板の搬送方向の後端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第２加熱手段と、
   前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第３加熱手段と、
   前記ガラス基板の搬送方向の後端部を追尾して、該後端部と共に前記第２加熱手段を移動させると共に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部を追尾して、該前端部と共に前記第３加熱手段を移動させる移動手段とを設け、
   前記移動手段は、前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の搬送と共に前記第２加熱手段、第３加熱手段を移動させて、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面の前記後端部、前記前端部を、前記第２加熱手段、前記第３加熱手段により加熱することを特徴とする蒸着装置。
4. 請求項３に記載の蒸着装置において、
   前記移動手段は、
   前記第２加熱手段を、前記第１加熱手段の近傍までの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第１加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させると共に、
   前記第３加熱手段を、前記第１加熱手段の近傍からの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第１加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させることを特徴とする蒸着装置。
5. 請求項４に記載の蒸着装置において、
   前記第２加熱手段、前記第３加熱手段は、前記ガラス基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、加熱を停止することを特徴とする蒸着装置。
6. 請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の蒸着装置において、
   前記保持部材の前記枠部材又は前記マスク部材に、前記ガラス基板の端部を前記蒸着源からの輻射熱に曝す開口部若しくは切欠部を設けたことを特徴とする蒸着装置。
7. 請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の蒸着装置において、
   前記蒸着源の両側端部の温度を、前記蒸着源の他の部分より高くしたことを特徴とする蒸着装置。
8. 請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の蒸着装置において、
   前記蒸着源の両側端部の近傍に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱する２つの第４加熱手段を設けたことを特徴とする蒸着装置。
9. 請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の蒸着装置において、
   前記蒸着源の両側端部における前記ガラス基板への輻射熱が発生する面積を、前記蒸着源の他の部分より大きくしたことを特徴とする蒸着装置。
10. 請求項９に記載の蒸着装置において、
    前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする蒸着装置。
11. 請求項９に記載の蒸着装置において、
    前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部の開口面積を他の部分より大きくすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする蒸着装置。
12. 請求項９に記載の蒸着装置において、
    前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする蒸着装置。
13. ガラス基板の蒸着面をマスクするマスク部材を保持すると共に前記ガラス基板の周辺部を載置する枠部材を有する保持部材に、前記ガラス基板を載置し、
    前記ガラス基板が載置された前記保持部材を搬送手段により搬送し、
    前記搬送手段に搬送される前記ガラス基板の蒸着面に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に長い開口部から、又は、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に列状に並べた複数の短い開口部から蒸着源の蒸着材料の蒸気を供給し、
    前記ガラス基板を搬送しながら、前記マスク部材を通して前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う蒸着方法において、
    前記ガラス基板を挟んだ前記蒸着源の反対側であり、前記蒸着源の両側端部に対向する位置に設けた２組の第１加熱手段を用いて、前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱することを特徴とする蒸着方法。
14. 請求項１３に記載の蒸着方法において、
    前記第１加熱手段として、複数に分割されて、分割部分が各々独立して前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に移動可能なものを用いて、
    前記第１加熱手段と前記蒸着源との間に前記ガラス基板が存在しないときには、前記蒸着源の蒸着領域から前記第１加熱手段の各分割部分を逐次退避させることを特徴とする蒸着方法。
15. 請求項１３又は請求項１４に記載の蒸着方法において、
    更に、
    前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に設けた、前記ガラス基板の搬送方向の後端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第２加熱手段と、
    前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に設けた、前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第３加熱手段と、
    前記ガラス基板の搬送方向の後端部を追尾して、該後端部と共に前記第２加熱手段を移動させると共に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部を追尾して、該前端部と共に前記第３加熱手段を移動させる移動手段とを用いて、
    前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て及び後端部の全てを、前記ガラス基板を搬送させながら加熱することを特徴とする蒸着方法。
16. 請求項１５に記載の蒸着方法において、
    前記第２加熱手段を、前記第１加熱手段の近傍までの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第１加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させると共に、
    前記第３加熱手段を、前記第１加熱手段の近傍からの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第１加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させることを特徴とする蒸着方法。
17. 請求項１６に記載の蒸着方法において、
    前記第２加熱手段、前記第３加熱手段が前記ガラス基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、前記第２加熱手段、前記第３加熱手段による加熱を停止することを特徴とする蒸着方法。
18. 請求項１３乃至請求項１７のいずれかに記載の蒸着方法において、
    前記保持部材の前記枠部材又は前記マスク部材に設けた開口部若しくは切欠部を用いて、前記ガラス基板の端部を前記蒸着源からの輻射熱に曝すことを特徴とする蒸着方法。
19. 請求項１３乃至請求項１８のいずれかに記載の蒸着方法において、
    前記蒸着源の両側端部の温度を、前記蒸着源の他の部分より高くすることを特徴とする蒸着方法。
20. 請求項１３乃至請求項１８のいずれかに記載の蒸着方法において、
    前記蒸着源の両側端部の近傍に設けた２つの第４加熱手段を用いて、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱することを特徴とする蒸着方法。
21. 請求項１３乃至請求項１８のいずれかに記載の蒸着方法において、
    前記蒸着源の両側端部における前記ガラス基板への輻射熱が発生する面積を、前記蒸着源の他の部分より大きくすることを特徴とする蒸着方法。
22. 請求項２１に記載の蒸着方法において、
    前記蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする蒸着方法。
23. 請求項２１に記載の蒸着方法において、
    前記蒸着源の両側端部の開口面積を他の部分より大きくすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする蒸着方法。
24. 請求項２１に記載の蒸着方法において、
    前記蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする蒸着方法。

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