JP4576370B2 - 蒸着装置及び蒸着方法 - Google Patents
蒸着装置及び蒸着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4576370B2 JP4576370B2 JP2006285892A JP2006285892A JP4576370B2 JP 4576370 B2 JP4576370 B2 JP 4576370B2 JP 2006285892 A JP2006285892 A JP 2006285892A JP 2006285892 A JP2006285892 A JP 2006285892A JP 4576370 B2 JP4576370 B2 JP 4576370B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- glass substrate
- heating means
- heating
- source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
なお、図7(a)は、従来のインライン式の真空蒸着装置の一部を示す概略側面図であり、図7(b)は、従来のインライン式の真空蒸着装置で用いられる蒸着マスクの平面図であり、図7(c)は、蒸着マスクの断面図(図7(b)のC−C’線矢視断面図)である。又、図8(a)は、従来のインライン式の真空蒸着装置で用いられる蒸着源の斜視図であり、図8(b)は、蒸着源からの輻射熱により加熱されるガラス基板の温度プロファイルを説明する図である。
ガラス基板の蒸着面をマスクするマスク部材を保持すると共に前記ガラス基板の周辺部を載置する枠部材を有する保持部材と、
前記ガラス基板が載置された前記保持部材を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段に搬送される前記ガラス基板の蒸着面に対向して設けられ、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に長い開口部から蒸着材料の蒸気を前記ガラス基板へ供給する蒸着源、又は、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に列状に並べた複数のるつぼの短い開口部から蒸着材料の蒸気を前記ガラス基板へ供給する蒸着源とを備え、
前記ガラス基板を搬送しながら、前記マスク部材を通して前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う蒸着装置において、
前記ガラス基板を挟んだ前記蒸着源の反対側であり、前記蒸着源の両側端部に対向する位置に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱する2組の第1加熱手段を設け、
前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記両側端部を、前記第1加熱手段により加熱するようにしたことを特徴とする。
上記第1の発明に記載の蒸着装置において、
前記第1加熱手段は、複数に分割されて、分割部分が各々独立して前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に移動可能なものであり、
前記第1加熱手段と前記蒸着源との間に前記ガラス基板が存在しないときには、前記蒸着源の蒸着領域から前記第1加熱手段の各分割部分を逐次退避させるようにしたことを特徴とする。
上記第1又は第2の発明に記載の蒸着装置において、
更に、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記ガラス基板の搬送方向の後端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第2加熱手段と、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第3加熱手段と、
前記ガラス基板の搬送方向の後端部を追尾して、該後端部と共に前記第2加熱手段を移動させると共に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部を追尾して、該前端部と共に前記第3加熱手段を移動させる移動手段とを設け、
前記移動手段は、前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の搬送と共に前記第2加熱手段、第3加熱手段を移動させて、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面の前記後端部、前記前端部を、前記第2加熱手段、前記第3加熱手段により加熱することを特徴とする。
上記第3の発明に記載の蒸着装置において、
前記移動手段は、
前記第2加熱手段を、前記第1加熱手段の近傍までの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第1加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させると共に、
前記第3加熱手段を、前記第1加熱手段の近傍からの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第1加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させることを特徴とする。
上記第4の発明に記載の蒸着装置において、
前記第2加熱手段、前記第3加熱手段は、前記ガラス基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、加熱を停止することを特徴とする。
上記第1〜第5のいずれかの発明に記載の蒸着装置において、
前記保持部材の前記枠部材又は前記マスク部材に、前記ガラス基板の端部を前記蒸着源からの輻射熱に曝す開口部若しくは切欠部を設けたことを特徴とする。
上記第1〜第6のいずれかの発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部の温度を、前記蒸着源の他の部分より高くしたことを特徴とする。
上記第1〜第6のいずれかの発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部の近傍に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱する2つの第4加熱手段を設けたことを特徴とする。
上記第1〜第6のいずれかの発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部における前記ガラス基板への輻射熱が発生する面積を、前記蒸着源の他の部分より大きくしたことを特徴とする。
上記第9の発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする。
上記第9の発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部の開口面積を他の部分より大きくすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする。
上記第9の発明に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする。
ガラス基板の蒸着面をマスクするマスク部材を保持すると共に前記ガラス基板の周辺部を載置する枠部材を有する保持部材に、前記ガラス基板を載置し、
前記ガラス基板が載置された前記保持部材を搬送手段により搬送し、
前記搬送手段に搬送される前記ガラス基板の蒸着面に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に長い開口部から、又は、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に列状に並べた複数の短い開口部から蒸着源の蒸着材料の蒸気を供給し、
前記ガラス基板を搬送しながら、前記マスク部材を通して前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う蒸着方法において、
前記ガラス基板を挟んだ前記蒸着源の反対側であり、前記蒸着源の両側端部に対向する位置に設けた2組の第1加熱手段を用いて、前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱することを特徴とする。
上記第13の発明に記載の蒸着方法において、
前記第1加熱手段として、複数に分割されて、分割部分が各々独立して前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に移動可能なものを用いて、
前記第1加熱手段と前記蒸着源との間に前記ガラス基板が存在しないときには、前記蒸着源の蒸着領域から前記第1加熱手段の各分割部分を逐次退避させることを特徴とする。
上記第13又は第14の発明に記載の蒸着方法において、
更に、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に設けた、前記ガラス基板の搬送方向の後端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第2加熱手段と、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に設けた、前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第3加熱手段と、
前記ガラス基板の搬送方向の後端部を追尾して、該後端部と共に前記第2加熱手段を移動させると共に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部を追尾して、該前端部と共に前記第3加熱手段を移動させる移動手段とを用いて、
前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て及び後端部の全てを、前記ガラス基板を搬送させながら加熱することを特徴とする。
上記第15の発明に記載の蒸着方法において、
前記第2加熱手段を、前記第1加熱手段の近傍までの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第1加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させると共に、
前記第3加熱手段を、前記第1加熱手段の近傍からの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第1加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させることを特徴とする。
上記第16の発明に記載の蒸着方法において、
前記第2加熱手段、前記第3加熱手段が前記ガラス基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、前記第2加熱手段、前記第3加熱手段による加熱を停止することを特徴とする。
上記第13〜第17のいずれかの発明に記載の蒸着方法において、
前記保持部材の前記枠部材又は前記マスク部材に設けた開口部若しくは切欠部を用いて、前記ガラス基板の端部を前記蒸着源からの輻射熱に曝すことを特徴とする。
上記第13〜第18のいずれかの発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の温度を、前記蒸着源の他の部分より高くすることを特徴とする。
上記第13〜第18のいずれかの発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の近傍に設けた2つの第4加熱手段を用いて、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱することを特徴とする。
上記第13〜第18のいずれかの発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における前記ガラス基板への輻射熱が発生する面積を、前記蒸着源の他の部分より大きくすることを特徴とする。
上記第21の発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする。
上記第21の発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の開口面積を他の部分より大きくすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする。
上記第21の発明に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする。
図6は、実施例1の蒸着装置の変形例を示す図であり、図6(a)は、その概略側面図であり、図6(b)は、その概略平面図である。
3 搬送ベルト
4 ガラス基板
21、23、25、27、29、55、56 蒸着源
7、8、9、31 加熱ヒータ
11、12、60 ホルダ
Claims (24)
- ガラス基板の蒸着面をマスクするマスク部材を保持すると共に前記ガラス基板の周辺部を載置する枠部材を有する保持部材と、
前記ガラス基板が載置された前記保持部材を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段に搬送される前記ガラス基板の蒸着面に対向して設けられ、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に長い開口部から蒸着材料の蒸気を前記ガラス基板へ供給する蒸着源、又は、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に列状に並べた複数のるつぼの短い開口部から蒸着材料の蒸気を前記ガラス基板へ供給する蒸着源とを備え、
前記ガラス基板を搬送しながら、前記マスク部材を通して前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う蒸着装置において、
前記ガラス基板を挟んだ前記蒸着源の反対側であり、前記蒸着源の両側端部に対向する位置に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱する2組の第1加熱手段を設け、
前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記両側端部を、前記第1加熱手段により加熱するようにしたことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1に記載の蒸着装置において、
前記第1加熱手段は、複数に分割されて、分割部分が各々独立して前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に移動可能なものであり、
前記第1加熱手段と前記蒸着源との間に前記ガラス基板が存在しないときには、前記蒸着源の蒸着領域から前記第1加熱手段の各分割部分を逐次退避させるようにしたことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の蒸着装置において、
更に、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記ガラス基板の搬送方向の後端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第2加熱手段と、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第3加熱手段と、
前記ガラス基板の搬送方向の後端部を追尾して、該後端部と共に前記第2加熱手段を移動させると共に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部を追尾して、該前端部と共に前記第3加熱手段を移動させる移動手段とを設け、
前記移動手段は、前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の搬送と共に前記第2加熱手段、第3加熱手段を移動させて、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面の前記後端部、前記前端部を、前記第2加熱手段、前記第3加熱手段により加熱することを特徴とする蒸着装置。 - 請求項3に記載の蒸着装置において、
前記移動手段は、
前記第2加熱手段を、前記第1加熱手段の近傍までの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第1加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させると共に、
前記第3加熱手段を、前記第1加熱手段の近傍からの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第1加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させることを特徴とする蒸着装置。 - 請求項4に記載の蒸着装置において、
前記第2加熱手段、前記第3加熱手段は、前記ガラス基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、加熱を停止することを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の蒸着装置において、
前記保持部材の前記枠部材又は前記マスク部材に、前記ガラス基板の端部を前記蒸着源からの輻射熱に曝す開口部若しくは切欠部を設けたことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部の温度を、前記蒸着源の他の部分より高くしたことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部の近傍に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱する2つの第4加熱手段を設けたことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の蒸着装置において、
前記蒸着源の両側端部における前記ガラス基板への輻射熱が発生する面積を、前記蒸着源の他の部分より大きくしたことを特徴とする蒸着装置。 - 請求項9に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする蒸着装置。 - 請求項9に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部の開口面積を他の部分より大きくすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする蒸着装置。 - 請求項9に記載の蒸着装置において、
前記蒸着源は、該蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくしたものであることを特徴とする蒸着装置。 - ガラス基板の蒸着面をマスクするマスク部材を保持すると共に前記ガラス基板の周辺部を載置する枠部材を有する保持部材に、前記ガラス基板を載置し、
前記ガラス基板が載置された前記保持部材を搬送手段により搬送し、
前記搬送手段に搬送される前記ガラス基板の蒸着面に、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に長い開口部から、又は、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に列状に並べた複数の短い開口部から蒸着源の蒸着材料の蒸気を供給し、
前記ガラス基板を搬送しながら、前記マスク部材を通して前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う蒸着方法において、
前記ガラス基板を挟んだ前記蒸着源の反対側であり、前記蒸着源の両側端部に対向する位置に設けた2組の第1加熱手段を用いて、前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱することを特徴とする蒸着方法。 - 請求項13に記載の蒸着方法において、
前記第1加熱手段として、複数に分割されて、分割部分が各々独立して前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に移動可能なものを用いて、
前記第1加熱手段と前記蒸着源との間に前記ガラス基板が存在しないときには、前記蒸着源の蒸着領域から前記第1加熱手段の各分割部分を逐次退避させることを特徴とする蒸着方法。 - 請求項13又は請求項14に記載の蒸着方法において、
更に、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に設けた、前記ガラス基板の搬送方向の後端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第2加熱手段と、
前記ガラス基板を挟んで前記蒸着源の反対側に設けた、前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て又は大部分又は一部分を加熱可能な長さの第3加熱手段と、
前記ガラス基板の搬送方向の後端部を追尾して、該後端部と共に前記第2加熱手段を移動させると共に、前記ガラス基板の搬送方向の前端部を追尾して、該前端部と共に前記第3加熱手段を移動させる移動手段とを用いて、
前記ガラス基板の蒸着面に蒸着を行う際、前記ガラス基板の蒸着面の反対側の面における前記ガラス基板の搬送方向の前端部の全て及び後端部の全てを、前記ガラス基板を搬送させながら加熱することを特徴とする蒸着方法。 - 請求項15に記載の蒸着方法において、
前記第2加熱手段を、前記第1加熱手段の近傍までの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第1加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させると共に、
前記第3加熱手段を、前記第1加熱手段の近傍からの所定範囲内を往復移動させるか、又は、前記第1加熱手段の位置を中心にその前後の所定範囲内を往復移動させることを特徴とする蒸着方法。 - 請求項16に記載の蒸着方法において、
前記第2加熱手段、前記第3加熱手段が前記ガラス基板の搬送方向と逆の方向に移動する際には、前記第2加熱手段、前記第3加熱手段による加熱を停止することを特徴とする蒸着方法。 - 請求項13乃至請求項17のいずれかに記載の蒸着方法において、
前記保持部材の前記枠部材又は前記マスク部材に設けた開口部若しくは切欠部を用いて、前記ガラス基板の端部を前記蒸着源からの輻射熱に曝すことを特徴とする蒸着方法。 - 請求項13乃至請求項18のいずれかに記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の温度を、前記蒸着源の他の部分より高くすることを特徴とする蒸着方法。 - 請求項13乃至請求項18のいずれかに記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の近傍に設けた2つの第4加熱手段を用いて、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向の両側端部を加熱することを特徴とする蒸着方法。 - 請求項13乃至請求項18のいずれかに記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における前記ガラス基板への輻射熱が発生する面積を、前記蒸着源の他の部分より大きくすることを特徴とする蒸着方法。 - 請求項21に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする蒸着方法。 - 請求項21に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部の開口面積を他の部分より大きくすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする蒸着方法。 - 請求項21に記載の蒸着方法において、
前記蒸着源の両側端部における肉厚を、前記ガラス基板の搬送方向に垂直な方向に厚くすることにより輻射熱が発生する面積を大きくすることを特徴とする蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006285892A JP4576370B2 (ja) | 2006-10-20 | 2006-10-20 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006285892A JP4576370B2 (ja) | 2006-10-20 | 2006-10-20 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008101254A JP2008101254A (ja) | 2008-05-01 |
JP4576370B2 true JP4576370B2 (ja) | 2010-11-04 |
Family
ID=39435804
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006285892A Expired - Fee Related JP4576370B2 (ja) | 2006-10-20 | 2006-10-20 | 蒸着装置及び蒸着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4576370B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4761326B2 (ja) * | 2010-01-15 | 2011-08-31 | シャープ株式会社 | 薄膜形成装置システムおよび薄膜形成方法 |
WO2011143275A2 (en) * | 2010-05-10 | 2011-11-17 | Nanosolar, Inc. | Thin film buffer layer solution deposition assembly |
JP2012177151A (ja) * | 2011-02-25 | 2012-09-13 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 成膜装置、及び成膜基板製造方法 |
JP2015078391A (ja) * | 2012-01-24 | 2015-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置 |
JP5664814B1 (ja) | 2014-06-24 | 2015-02-04 | 三菱マテリアル株式会社 | コーティング膜付き切削工具の成膜装置、切削工具用コーティング膜の成膜方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0316613U (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-19 | ||
JP2004084032A (ja) * | 2002-08-28 | 2004-03-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空処理装置 |
JP2004269948A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Sony Corp | 成膜装置、成膜方法および表示装置の製造方法 |
JP2005054244A (ja) * | 2003-08-05 | 2005-03-03 | Anelva Corp | 成膜装置の基板トレイ |
JP2005515304A (ja) * | 2002-01-22 | 2005-05-26 | ヨンセイ ユニバーシティ | 膜厚プロファイルのコントロールが可能なリニアタイプ又はプレーナタイプのエバポレータ |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07118839A (ja) * | 1993-10-22 | 1995-05-09 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 金属蒸気発生装置 |
JPH09176855A (ja) * | 1995-12-22 | 1997-07-08 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 薄膜形成装置 |
JP3547033B2 (ja) * | 1997-08-20 | 2004-07-28 | 富士通株式会社 | ガラス基板用蒸着装置 |
-
2006
- 2006-10-20 JP JP2006285892A patent/JP4576370B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0316613U (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-19 | ||
JP2005515304A (ja) * | 2002-01-22 | 2005-05-26 | ヨンセイ ユニバーシティ | 膜厚プロファイルのコントロールが可能なリニアタイプ又はプレーナタイプのエバポレータ |
JP2004084032A (ja) * | 2002-08-28 | 2004-03-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 真空処理装置 |
JP2004269948A (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Sony Corp | 成膜装置、成膜方法および表示装置の製造方法 |
JP2005054244A (ja) * | 2003-08-05 | 2005-03-03 | Anelva Corp | 成膜装置の基板トレイ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008101254A (ja) | 2008-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4761326B2 (ja) | 薄膜形成装置システムおよび薄膜形成方法 | |
JP4576370B2 (ja) | 蒸着装置及び蒸着方法 | |
EP2264213B1 (en) | Thin film deposition apparatus | |
CN215328329U (zh) | 标准掩模装置、掩模支承体、掩模装置及其中间体 | |
KR101698536B1 (ko) | 기판 트레이 및 이를 포함하는 기판처리장치 | |
CN102482759B (zh) | 用于将衬底保持在材料沉积设备中的装置 | |
US8418502B2 (en) | Heating apparatus for glass-sheet-forming and a bending method for a glass sheet | |
KR102245762B1 (ko) | 홀더, 홀더를 갖는 캐리어, 및 기판을 고정시키기 위한 방법 | |
US20050281950A1 (en) | Deposition apparatus and method | |
TWI651280B (zh) | 玻璃基板之切斷方法及玻璃基板之製造方法 | |
WO2006090747A1 (ja) | マスク保持機構および成膜装置 | |
KR20130122742A (ko) | 표면 상에 원자층을 증착하기 위한 장치 및 방법 | |
JP4685404B2 (ja) | 有機電界発光素子の垂直蒸着方法,その装置,及び有機電界発光素子の垂直蒸着装置に使用される蒸着源 | |
KR101248355B1 (ko) | 진공 증착 장치 및 유기 el 표시 장치의 제조 방법 | |
US9431279B2 (en) | Heater block and a substrate treatment apparatus | |
KR101876309B1 (ko) | 증착 챔버 및 이를 포함하는 인라인 처리 시스템 | |
KR100814655B1 (ko) | 실리콘 웨이퍼 제조 방법 | |
KR20120126268A (ko) | 인라인 열처리 장치 | |
KR101554466B1 (ko) | 기판 온도 상승을 억제하는 선형 증착 시스템 | |
JP2005343747A (ja) | 板ガラスの曲げ加工方法及び板ガラスの曲げ加工装置 | |
KR101258615B1 (ko) | 인라인 열처리 장치 | |
KR100758692B1 (ko) | 박막 증착을 위한 증발원 장치 | |
KR101258620B1 (ko) | 인라인 열처리 장치 | |
TW201310498A (zh) | 直列型熱處理裝置 | |
KR20130073185A (ko) | 마스크조립체, 기판처리장치 및 기판처리시스템 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090205 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100705 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100727 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100823 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4576370 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |