JP4575206B2 - ガスハイドレートの製造方法及び製造装置 - Google Patents
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そこで、水の代わりに氷を用いて、原料ガスと低温・低圧下で反応させて、固体状のガスハイドレートを直接生成するという、乾式の生成方法が開発された。(例えば、特許文献2を参照。)
この乾式の生成方法を用いたガスハイドレート製造装置の系統図を図5に示す。
前記製氷塔は、その内部を冷却する第一の冷却手段と、該第一の冷却手段により冷却された製氷塔内に原料水を噴霧して1000μm以下の微細な氷を生成する噴霧ノズルと、前記生成された微細な氷を前記ガスハイドレート生成容器へ移送する移送手段と、を備え、
前記ガスハイドレート生成容器は、その内部の温度を1℃〜5℃に保持することにより前記微細な氷の表面を融解させて水膜を形成させる第二の冷却手段と、前記ガスハイドレート生成容器内に前記原料ガスを噴射することにより前記水膜を形成した微細な氷を原料ガスの気流中で攪拌する噴射装置と、生成したガスハイドレートと未反応の原料ガスとを分離して回収する分離器と、を備えたことを特徴とするガスハイドレート製造装置である。
2 液体噴射ノズル
3 噴霧された水滴
4 微細な氷
5 製氷塔の冷却手段
6 移送手段
7 生成容器
8 微細な氷
9 ガス噴射ノズル
10 原料ガス流
11 生成容器の冷却手段
12 分離器
13 ガスハイドレート
14 未反応原料ガス回収ライン
15 原料ガス
16 ポンプ
17 原料ガス供給ライン
20 熱交換器
21 熱交換器
22 制御装置
23 温度計
24 流量弁
60 反応槽
61 噴霧ノズル
62 噴霧水
63 微細な氷
63a 一次生成層
63b 未反応部分
64 原料ガスノズル
65 原料ガス流
66 ボールミル
67 冷却手段
68 熱交換機
69 分離器
70 ガスハイドレート
71 原料ガス回収ライン
72 原料ガスタンク
73 ボールミル駆動装置
Claims (4)
- ガスハイドレート生成容器内で氷と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを製造する方法において、
前記氷は大きさが1000μm以下の微細な氷として前記ガスハイドレート生成容器内に供給され、
前記ガスハイドレート生成容器内の温度を1℃〜5℃に保持することにより前記微細な氷の表面を融解させて水膜を形成させ、
前記水膜を形成した微細な氷を前記原料ガスの気流中で撹拌することにより、前記原料ガスと前記水膜とを反応させてガスハイドレートを生成することを特徴とするガスハイドレート製造方法。 - 原料水から氷を生成する製氷塔と、該製氷塔で生成された氷と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成容器と、から構成されるガスハイドレート製造装置であって、
前記製氷塔は、その内部を冷却する第一の冷却手段と、該第一の冷却手段により冷却された製氷塔内に原料水を噴霧して1000μm以下の微細な氷を生成する噴霧ノズルと、前記生成された微細な氷を前記ガスハイドレート生成容器へ移送する移送手段と、を備え、
前記ガスハイドレート生成容器は、その内部の温度を1℃〜5℃に保持することにより前記微細な氷の表面を融解させて水膜を形成させる第二の冷却手段と、前記ガスハイドレート生成容器内に前記原料ガスを噴射することにより前記水膜を形成した微細な氷を原料ガスの気流中で攪拌する噴射装置と、生成したガスハイドレートと未反応の原料ガスとを分離して回収する分離器と、を備えたことを特徴とするガスハイドレート製造装置。 - 原料水から氷を生成する製氷塔と、該製氷塔で生成された氷と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成容器と、から構成されるガスハイドレート製造装置であって、
前記製氷塔は、その内部を冷却する第一の冷却手段と、該第一の冷却手段により冷却された製氷塔内に原料水を噴霧して1000μm以下の微細な氷を生成する噴霧ノズルと、前記生成された微細な氷を前記ガスハイドレート生成容器へ移送する移送手段と、を備え、
前記ガスハイドレート生成容器は、その内部の温度を1℃〜5℃に保持することにより前記微細な氷の表面を融解させて水膜を形成させる第二の冷却手段と、前記ガスハイドレート生成容器内に前記原料ガスを噴射することにより前記水膜を形成した微細な氷を原料ガスの気流中で攪拌する噴射装置と、生成したガスハイドレートと未反応の原料ガスとを分離して回収する分離器と、を備え、
かつ、前記第一の冷却手段と前記第二の冷却手段の少なくとも1つを、液化天然ガスの冷熱を利用して行うことを特徴とする請求項2記載のガスハイドレート製造装置。 - 原料水から氷を生成する製氷塔と、該製氷塔で生成された氷と原料ガスとを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成容器と、から構成されるガスハイドレート製造装置であって、
前記製氷塔は、その内部を冷却する第一の冷却手段と、該第一の冷却手段により冷却された製氷塔内に原料水を噴霧して1000μm以下の微細な氷を生成する噴霧ノズルと、前記生成された微細な氷を前記ガスハイドレート生成容器へ移送する移送手段と、を備え、
前記ガスハイドレート生成容器は、その内部の温度を1℃〜5℃に保持することにより前記微細な氷の表面を融解させて水膜を形成させる第二の冷却手段と、前記ガスハイドレート生成容器内に前記原料ガスを噴射することにより前記水膜を形成した微細な氷を原料ガスの気流中で攪拌する噴射装置と、生成したガスハイドレートと未反応の原料ガスとを分離して回収する分離器と、を備え、
かつ、前記ガスハイドレート生成容器内の温度に基づき前記第二の冷却手段を制御する制御装置を備えたことを特徴とする請求項2又は3記載のガスハイドレート製造装置。
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