JP4564836B2 - ハイドレート後処理装置およびハイドレート粒径制御方法 - Google Patents
ハイドレート後処理装置およびハイドレート粒径制御方法 Download PDFInfo
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Description
以下、本発明に係るハイドレート後処理装置の一例である二次生成器を備えるハイドレート製造ラインについて説明する。
b.長さ平均径D2=Σ(nd2)/Σnd
c.面積平均径D3=Σ(nd3)/Σnd2
d.体積平均径D4=Σ(nd4)/Σnd3
これらの式のうちでは、面積平均径D3が最も好ましい。
200 ハイドレート脱水塔
202 脱水スクリーン部
204 脱水スクリーン
206 水回収ジャケット
208 脱水ハイドレート搬送コンベア
300 二次生成器
302 流動層反応器
304 ガス吹出し管
306 ジャケット
308 スラリー循環ライン
310 サイクロン
312 ガス戻りライン
312A コンプレッサ
312B 熱交換器
314 CCDカメラ
350 二次生成器制御部
351 温度センサ
352 温度センサ
400 成形器
1000 ハイドレート製造ライン
Claims (3)
- 水とハイドレート形成ガスとを接触させて得られたハイドレート粒子を後処理するハイドレート後処理装置であって、
前記ハイドレート粒子が、ハイドレート形成ガス流によって流動状態に保持される流動層反応器と、
前記流動層反応器内を流動するハイドレート粒子の粒径を求めるハイドレート粒径測定手段と、
前記ハイドレート粒径測定手段で求めたハイドレート粒子の粒径に基づき、前記流動層反応器に導入されるハイドレート形成ガスの温度および前記流動層反応器内部の温度を制御してハイドレート粒子の粒径を制御するハイドレート粒径制御手段とを
備えてなり、
前記ハイドレート粒径制御手段においては、前記ハイドレート形成ガスおよび前記流動層反応器内部の少なくとも一方の温度を、前記ハイドレート粒径測定手段で求めたハイドレート粒子の粒径が所定範囲よりも小さいときは高くし、前記ハイドレート粒子の粒径が所定範囲よりも大きなときは低くすることを特徴とするハイドレート後処理装置。 - 前記ハイドレート粒径測定手段は、流動層反応器中を流動するハイドレート粒子を撮像する撮像手段と、前記撮像手段で撮像されたハイドレート粒子の画像データに基づいて前記ハイドレート粒子の平均粒径を求める平均粒径算出手段とを備える請求項1に記載のハイドレート後処理装置。
- 水とハイドレート形成ガスとを接触させて生成させたハイドレート粒子を、流動層反応器内において、ハイドレート形成ガスによって流動させるハイドレート後処理装置において、前記ハイドレートの粒径を所定の平均粒径に制御するハイドレート粒径制御方法であって、
前記反応器内を流動するハイドレート粒子の粒径を求めるハイドレート粒径測定工程と、
前記ハイドレート粒径測定工程で求められたハイドレート粒子の粒径に基づき、前記流動層反応器に導入されるハイドレート形成ガスの温度および前記流動層反応器内部の温度を制御してハイドレート粒子の粒径を制御するハイドレート粒径制御工程とを
有し、
前記ハイドレート粒径制御工程においては、前記ハイドレート形成ガスおよび前記流動層反応器内部の少なくとも一方の温度を、前記ハイドレート粒径測定手段で求めたハイドレート粒子の粒径が所定範囲よりも小さいときは高くし、前記所定範囲よりも大きなときは低くすることを特徴とするハイドレート粒径制御方法。
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