JP4556237B2 - 粉体の充填方法及び充填装置 - Google Patents
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Description
質量百分率でNd30%、Dy3%、B1%、Al0.5%、Co0.5%、残部Feなる組成を有するNd−Fe−B系原料合金粗粉を用い、ジェットミルにより微粉砕を行った。得られた希土類磁石原料粉の平均粒径は、約4μmであった。
先の実施例と同様のフィーダーを用い、ガス供給管に窒素ガスを導入しないで同様の充填、成形を試みた。しかしながら、フィーダー内で希土類磁石原料粉が凝集してブリッジを形成してしまい、十分な充填を行うことができなかった。
フィーダーの形状をロート状から直方体形状(テーパ無し)に変更し、ガス供給管に窒素ガスを導入しないで、実施例と同様の充填、成形を試みた。この場合には、フィーダーを14回(20秒)往復運動させなければ充填を完了することができなかった。また、実施例と同様、成形後の成形体(試料数10)について、実施例の各試料と同様の測定を行った。結果を表1に併せて示す。
Claims (6)
- 上方に向かって次第に開口寸法が拡大されたフィーダー内に供給される粉体中にガスを導入し、当該フィーダを往復動させて金型キャビティに前記フィーダー内の粉体を充填する粉体の充填方法であって、
前記フィーダー内に供給される粉体の平均粒径が1μm〜10μmであり、
それぞれガス供給側配管、ガス導入部、及びガス排出側配管とにより構成されるガス供給管を前記フィーダ内に設置し、
前記フィーダ内に供給された粉体の底部付近から上方に向けてガスを噴出させながら前記往復動させることにより金型キャビティに前記フィーダー内の粉体を充填することを特徴とする粉体の充填方法。 - 前記粉体が、希土類磁石原料粉であることを特徴とする請求項1記載の粉体の充填方法。
- 前記ガスは、不活性ガスであることを特徴とする請求項1または2記載の粉体の充填方法。
- 平均粒径が1μm〜10μmの粉体が供給され、金型キャビティ内に前記粉体を充填するフィーダーを備え、
前記フィーダーは、上方に向かって次第に開口寸法が拡大されており、
前記フィーダーの底面近傍には、当該フィーダー内に供給された粉体中に上方に向けてガスを導入するガス供給管が設けられており、
前記ガス供給管は、それぞれガス供給側配管、ガス導入部、及びガス排出側配管とにより構成されており、
前記フィーダーを所定の方向に往復運動させる揺動機構を備えることを特徴とする粉体の充填装置。 - 前記ガス供給管には、複数のガス導入孔が形成されていることを特徴とする請求項4記載の粉体の充填装置。
- 前記ガス供給管は、前記フィーダ内に前記往復運動方向と略直交する方向に複数設置され、これらガス供給管の設置間隔が20mm〜50mmとされていることを特徴とする請求項4または5記載の粉体の充填装置。
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