JP4551094B2 - Adhesive film, flexible metal-clad laminate with improved dimensional stability obtained therefrom, and method for producing the same - Google Patents

Adhesive film, flexible metal-clad laminate with improved dimensional stability obtained therefrom, and method for producing the same Download PDF

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本発明は、絶縁性フィルムの少なくとも片面に接着層を設けた接着フィルム、ならびにこの接着フィルムに熱ロールラミネート装置により金属箔を貼り合わせて得られるフレキシブル金属張積層板、ならびにその製造方法に関する。   The present invention relates to an adhesive film provided with an adhesive layer on at least one surface of an insulating film, a flexible metal-clad laminate obtained by bonding a metal foil to the adhesive film with a hot roll laminator, and a method for producing the same.

近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント基板の需要が伸びているが、中でも、フレキシブル積層板(フレキシブルプリント配線板(FPC)等とも称する)の需要が特に伸びている。フレキシブル積層板は、絶縁性フィルム上に金属箔からなる回路が形成された構造を有している。   In recent years, the demand for various printed circuit boards has increased with the reduction in weight, size and density of electronic products, and in particular, the demand for flexible laminates (also referred to as flexible printed wiring boards (FPC), etc.) has increased. ing. The flexible laminate has a structure in which a circuit made of a metal foil is formed on an insulating film.

上記フレキシブル積層板は、一般に、各種絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱・圧着することにより貼りあわせる方法により製造される。上記絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム等が好ましく用いられている。上記接着材料としては、エポキシ系、アクリル系等の熱硬化性接着剤が一般的に用いられている(これら熱硬化性接着剤を用いたFPCを以下、三層FPCともいう)。   The flexible laminate is generally formed of various insulating materials, and a flexible insulating film is used as a substrate, and a metal foil is bonded to the surface of the substrate by heating and pressure bonding via various adhesive materials. Manufactured by. A polyimide film or the like is preferably used as the insulating film. As the adhesive material, a thermosetting adhesive such as epoxy or acrylic is generally used (FPC using these thermosetting adhesives is hereinafter also referred to as three-layer FPC).

熱硬化性接着剤は比較的低温での接着が可能であるという利点がある。しかし今後、耐熱性、屈曲性、電気的信頼性といった要求特性が厳しくなるに従い、熱硬化性接着剤を用いた三層FPCでは対応が困難になると考えられる。これに対し、絶縁性フィルムに直接金属層を設けたり、接着層に熱可塑性ポリイミドを使用したFPC(以下、二層FPCともいう)が提案されている。この二層FPCは、三層FPCより優れた特性を有し、今後需要が伸びていくことが期待される。   Thermosetting adhesives have the advantage that they can be bonded at relatively low temperatures. However, in the future, as required characteristics such as heat resistance, flexibility, and electrical reliability become stricter, it is considered that it is difficult to cope with a three-layer FPC using a thermosetting adhesive. On the other hand, an FPC (hereinafter also referred to as a two-layer FPC) in which a metal layer is directly provided on an insulating film or a thermoplastic polyimide is used for an adhesive layer has been proposed. This two-layer FPC has characteristics superior to those of the three-layer FPC, and demand is expected to increase in the future.

二層FPCに用いるフレキシブル金属張積層板の作製方法としては、金属箔上にポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を流延、塗布した後イミド化するキャスト法、スパッタ、メッキによりポリイミドフィルム上に直接金属層を設けるメタライジング法、熱可塑性ポリイミドを介してポリイミドフィルムと金属箔とを貼り合わせるラミネート法が挙げられる。この中で、ラミネート法は、対応できる金属箔の厚み範囲がキャスト法よりも広く、装置コストがメタライジング法よりも低いという点で優れている。ラミネートを行う装置としては、ロール状の材料を繰り出しながら連続的にラミネートする熱ロールラミネート装置またはダブルベルトプレス装置等が用いられている。上記の内、生産性の点から見れば、熱ロールラミネート法をより好ましく用いることができる。   As a method for producing a flexible metal-clad laminate for use in a two-layer FPC, a polyamic acid, which is a polyimide precursor, is cast on a metal foil, applied, and then casted directly onto a polyimide film by sputtering or plating. Examples thereof include a metallizing method for providing a metal layer and a laminating method for bonding a polyimide film and a metal foil through a thermoplastic polyimide. Among these, the lamination method is superior in that the thickness range of the metal foil that can be handled is wider than that of the casting method and the apparatus cost is lower than that of the metalizing method. As a device for laminating, a hot roll laminating device or a double belt press device for continuously laminating a roll-shaped material is used. Of these, the hot roll laminating method can be used more preferably from the viewpoint of productivity.

従来の三層FPCをラミネート法で作製する際、接着層に熱硬化性樹脂を用いていた為、ラミネート温度は200℃未満で行うことが可能であった(特許文献1参照)。これに対し、二層FPCは熱可塑性ポリイミドを接着層として用いるため、熱融着性を発現させるために200℃以上、場合によっては400℃近くの高温を加える必要がある。そのため、ラミネートされて得られたフレキシブル金属張積層板に残留歪みが発生し、エッチングして配線を形成する際、ならびに部品を実装するために半田リフローを行う際に寸法変化となって現れる。   When a conventional three-layer FPC was produced by a laminating method, a thermosetting resin was used for the adhesive layer, so that the laminating temperature could be less than 200 ° C. (see Patent Document 1). On the other hand, since the two-layer FPC uses thermoplastic polyimide as an adhesive layer, it is necessary to apply a high temperature of 200 ° C. or higher, and in some cases, close to 400 ° C., in order to develop heat-fusibility. Therefore, residual distortion occurs in the flexible metal-clad laminate obtained by laminating, and it appears as a dimensional change when wiring is formed by etching and when solder reflow is performed to mount components.

特にラミネート法は、ポリイミドフィルム上に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層を設ける際に、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を流延、塗布した後に連続的に加熱してイミド化を行い、金属箔を貼り合わせる際も連続的に加熱加圧を行うため、材料は張力がかけられた状態で加熱環境下に置かれることが多い。そのため、長手方向(以下、MD方向ともいう)と幅方向(以下、TD方向ともいう)で異なる熱応力が発生する。具体的には、張力のかかるMD方向には引張られる力が働き、逆にTD方向には縮む力が働く。その結果、フレキシブル積層板から金属箔をエッチングする際と、半田リフローを通して加熱する際にこの歪みが解放され、MD方向は収縮し、逆にTD方向は膨張してしまう。   In particular, in the laminating method, when an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide is provided on a polyimide film, the polyamic acid which is a precursor of the thermoplastic polyimide is cast and applied, and then continuously heated to imidize, Since the heating and pressurization is continuously performed when the metal foil is bonded, the material is often placed in a heating environment under tension. Therefore, different thermal stresses are generated in the longitudinal direction (hereinafter also referred to as MD direction) and in the width direction (hereinafter also referred to as TD direction). Specifically, a pulling force acts in the MD direction where tension is applied, and conversely, a shrinking force acts in the TD direction. As a result, when the metal foil is etched from the flexible laminate and when heated through solder reflow, this strain is released, the MD direction contracts, and conversely, the TD direction expands.

近年、電子機器の小型化、軽量化を達成するために、基板に設けられる配線は微細化が進んでおり、実装する部品も小型化、高密度化されたものが搭載される。そのため、微細な配線を形成した後の寸法変化が大きくなると、設計段階での部品搭載位置からずれて、部品と基板とが良好に接続されなくなるという問題が生じる。   In recent years, in order to achieve miniaturization and weight reduction of electronic devices, wiring provided on a substrate has been miniaturized, and components to be mounted are mounted with miniaturization and high density. For this reason, if the dimensional change after forming the fine wiring is increased, there is a problem that the component and the board are not well connected due to deviation from the component mounting position in the design stage.

そこで、ラミネート圧力の制御や、接着フィルムの張力制御により、寸法変化を抑える試みがなされている(特許文献2または3参照)。しかしながら、これらの手段により寸法変化は改善されるものの、まだ充分ではなく、更なる寸法変化の改善が求められている。
特開平9−199830号公報 特開2002−326308号公報 特開2002−326280号公報
Therefore, attempts have been made to suppress dimensional changes by controlling the laminating pressure or controlling the tension of the adhesive film (see Patent Document 2 or 3). However, although the dimensional change is improved by these means, it is not sufficient yet, and further improvement of the dimensional change is demanded.
JP-A-9-199830 JP 2002-326308 A JP 2002-326280 A

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、ラミネート法で作製した際に寸法変化の発生が抑制されたフレキシブル金属張積層板が得られる接着フィルム、及びそれに金属箔を貼り合わせて得られるフレキシブル金属張積層板、特にラミネート法で作製した際に寸法変化の発生とばらつきを抑制できるフレキシブル金属張積層板ならびにその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an adhesive film from which a flexible metal-clad laminate in which the occurrence of dimensional change is suppressed when produced by a laminating method, and a metal It is an object of the present invention to provide a flexible metal-clad laminate obtained by laminating foil, particularly a flexible metal-clad laminate capable of suppressing the occurrence and variation of dimensional changes when produced by a laminating method, and a method for producing the same.

本発明者らは、上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、コアフィルムとなる絶縁性フィルムの貯蔵弾性率低下開始温度、ならびに金属箔貼り合わせ温度における絶縁性フィルムの貯蔵弾性率の両方を適切に制御し、更に熱ラミネート条件を適切に制御することにより、得られるフレキシブル金属張積層板の寸法変化率ならびにそのばらつきを改善できることを独自に見出し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventors have appropriately determined both the storage elastic modulus decrease start temperature of the insulating film to be the core film and the storage elastic modulus of the insulating film at the metal foil bonding temperature. The inventors have independently found out that the dimensional change rate and the variation of the obtained flexible metal-clad laminate can be improved by controlling and further appropriately controlling the heat laminating conditions, and completed the present invention.

即ち本発明の第1は、絶縁性フィルムの少なくとも片面に接着層を設けた、フレキシブル金属張積層板用の接着フィルムであって、絶縁性フィルムの貯蔵弾性率低下開始温度が250℃以上、かつ金属箔貼り合わせ温度における絶縁性フィルムの貯蔵弾性率が0.01G〜1.0GPaであることを特徴とする、接着フィルムに関する。   That is, the first of the present invention is an adhesive film for a flexible metal-clad laminate in which an adhesive layer is provided on at least one surface of the insulating film, and the storage elastic modulus lowering start temperature of the insulating film is 250 ° C. or higher, and It is related with the adhesive film characterized by the storage elastic modulus of the insulating film in metal foil bonding temperature being 0.01 G-1.0 GPa.

好ましい実施態様は、接着層が熱可塑性ポリイミドを含有することを特徴とする、前記の接着フィルムに関する。   A preferred embodiment relates to the adhesive film as described above, wherein the adhesive layer contains a thermoplastic polyimide.

更に好ましい実施態様は、300℃以上の温度で金属箔と貼り合わせが可能であることを特徴とする、前記の接着フィルムに関する。   Furthermore, a preferable embodiment relates to the adhesive film described above, which can be bonded to a metal foil at a temperature of 300 ° C. or higher.

本発明の第2は、前記接着フィルムに、一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いて金属箔を貼り合わせることを特徴とする、フレキシブル金属張積層板の製造方法に関する。   A second aspect of the present invention relates to a method for producing a flexible metal-clad laminate, wherein a metal foil is bonded to the adhesive film using a hot roll laminator having a pair of metal rolls.

好ましい実施態様は、加熱ロールと金属箔との間に、厚み75μm以上のポリイミドフィルムを保護材料として配して、接着フィルムと金属箔を貼り合わせることを特徴とする、前記の製造方法に関する。   A preferred embodiment relates to the above production method, wherein a polyimide film having a thickness of 75 μm or more is disposed as a protective material between a heating roll and a metal foil, and the adhesive film and the metal foil are bonded together.

更に好ましい実施態様は、接着フィルムと金属箔とを貼り合わせた後、金属箔の外側に保護材料を配したままの状態で、加熱ロールに0.1秒以上接触させることを特徴とする、前記の製造方法に関する。   Further preferred embodiment is characterized in that after bonding the adhesive film and the metal foil, the protective material is placed on the outside of the metal foil, and the heating roll is brought into contact for 0.1 second or more. It relates to the manufacturing method.

更に好ましい実施態様は、接着フィルムと金属箔とを貼り合わせた後、金属箔の外側に保護材料を配したままの状態で、1〜10N/cmの張力下、(ラミネート温度−200℃)〜(ラミネート温度+100℃)の温度雰囲気中で後加熱処理を行うことを特徴とする、前記の製造方法に関する。   In a more preferred embodiment, after bonding the adhesive film and the metal foil, the protective material is still placed on the outside of the metal foil under a tension of 1 to 10 N / cm (lamination temperature -200 ° C.) The present invention relates to the above production method, wherein post-heating treatment is performed in a temperature atmosphere of (lamination temperature + 100 ° C.).

本発明の第3は、前記の製造方法により得られ、金属箔を除去する前後の寸法変化率、ならびに金属箔除去後に250℃、30分の熱処理を行う前後の寸法変化率の合計値が、MD方向、TD方向共に−0.05〜+0.05%の範囲にあることを特徴とする、フレキシブル金属張積層板に関する。   The third aspect of the present invention is the dimensional change rate before and after removing the metal foil, and the total value of the dimensional change rate before and after performing heat treatment at 250 ° C. for 30 minutes after removing the metal foil. The present invention relates to a flexible metal-clad laminate characterized by being in the range of -0.05 to + 0.05% in both the MD direction and the TD direction.

好ましい実施態様は、金属箔を除去する前後の寸法変化率、ならびに金属箔除去後に250℃、30分の熱処理を行う前後の寸法変化率の合計値の標準偏差をσとした時、MD方向、TD方向共に3σが0.02以下であることを特徴とする、前記のフレキシブル金属張積層板に関する。   A preferred embodiment is that when the standard deviation of the dimensional change rate before and after removing the metal foil and the total value of the dimensional change rate before and after performing heat treatment at 250 ° C. for 30 minutes after removing the metal foil is σ, The flexible metal-clad laminate is characterized in that 3σ is 0.02 or less in the TD direction.

本発明によりフレキシブル金属張積層板、特にラミネート法により製造されたフレキシブル金属張積層板の寸法安定性を改善することができる。具体的には、金属箔を除去する前後の寸法変化率、ならびに金属箔除去後に250℃、30分の熱処理を行う前後の寸法変化率、および寸法変化率のばらつきを小さくすることができ、従って、微細な配線を形成したFPC等にも好適に用いることが可能で、位置ずれ等の問題を改善できる。   According to the present invention, the dimensional stability of a flexible metal-clad laminate, particularly a flexible metal-clad laminate produced by a laminating method, can be improved. Specifically, the dimensional change rate before and after removing the metal foil, and the dimensional change rate before and after performing heat treatment at 250 ° C. for 30 minutes after the metal foil removal, and the variation in the dimensional change rate can be reduced. Further, it can be suitably used for an FPC or the like in which fine wiring is formed, and problems such as misalignment can be improved.

本発明の実施の一形態について、以下に説明する。   One embodiment of the present invention will be described below.

本発明に係る接着フィルムは、絶縁性フィルムの少なくとも片面に接着層を設けて成ることを特徴とする。   The adhesive film according to the present invention is characterized in that an adhesive layer is provided on at least one surface of the insulating film.

本発明において用いられる絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム、ポリエステルフィルム、液晶ポリマーフィルム、ナイロンフィルム、アラミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等、いかなるものを用いても良いが耐熱性、絶縁特性の点からポリイミドフィルムを用いることが好ましい。   As the insulating film used in the present invention, any film such as a polyimide film, a polyester film, a liquid crystal polymer film, a nylon film, an aramid film, and a polyamideimide film may be used, but a polyimide film from the viewpoint of heat resistance and insulating characteristics. Is preferably used.

以下、絶縁性フィルムとしてポリイミドフィルムを用いた場合について、その実施の形態の一例に基づき説明する。   Hereinafter, the case where a polyimide film is used as the insulating film will be described based on an example of the embodiment.

本発明に用いられるポリイミドフィルムはポリアミド酸を前駆体として用いて製造される。ポリアミド酸の製造方法としては公知のあらゆる方法を用いることができ、通常、芳香族酸二無水物と芳香族ジアミンを、実質的等モル量を有機溶媒中に溶解させて、得られたポリアミド酸有機溶媒溶液を、制御された温度条件下で、上記酸二無水物とジアミンの重合が完了するまで攪拌することによって製造される。これらのポリアミド酸溶液は通常5〜35wt%、好ましくは10〜30wt%の濃度で得られる。この範囲の濃度である場合に適当な分子量と溶液粘度を得る。   The polyimide film used in the present invention is manufactured using polyamic acid as a precursor. Any known method can be used as a method for producing the polyamic acid. Usually, the polyamic acid obtained by dissolving a substantially equimolar amount of an aromatic dianhydride and an aromatic diamine in an organic solvent is obtained. The organic solvent solution is produced by stirring under controlled temperature conditions until the polymerization of the acid dianhydride and the diamine is completed. These polyamic acid solutions are usually obtained at a concentration of 5 to 35 wt%, preferably 10 to 30 wt%. When the concentration is in this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity are obtained.

重合方法としてはあらゆる公知の方法およびそれらを組み合わせた方法を用いることができる。ポリアミド酸の重合における重合方法の特徴はそのモノマーの添加順序にあり、このモノマー添加順序を制御することにより得られるポリイミドの諸物性を制御することができる。従い、本発明においてポリアミド酸の重合にはいかなるモノマーの添加方法を用いても良い。代表的な重合方法として次のような方法が挙げられる。すなわち、
1)芳香族ジアミンを有機極性溶媒中に溶解し、これと実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させて重合する方法。
2)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過小モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端に酸無水物基を有するプレポリマーを得る。続いて、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
3)芳香族テトラカルボン酸二無水物とこれに対し過剰モル量の芳香族ジアミン化合物とを有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基を有するプレポリマーを得る。続いてここに芳香族ジアミン化合物を追加添加後、全工程において芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物が実質的に等モルとなるように芳香族テトラカルボン酸二無水物を用いて重合する方法。
4)芳香族テトラカルボン酸二無水物を有機極性溶媒中に溶解及び/または分散させた後、実質的に等モルとなるように芳香族ジアミン化合物を用いて重合させる方法。
5)実質的に等モルの芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンの混合物を有機極性溶媒中で反応させて重合する方法。
などのような方法である。これら方法を単独で用いても良いし、部分的に組み合わせて用いることもできる。
As the polymerization method, any known method and a combination thereof can be used. The characteristic of the polymerization method in the polymerization of polyamic acid is the order of addition of the monomers, and the physical properties of the polyimide obtained can be controlled by controlling the order of addition of the monomers. Therefore, in the present invention, any method of adding monomers may be used for the polymerization of polyamic acid. The following method is mentioned as a typical polymerization method. That is,
1) A method in which an aromatic diamine is dissolved in an organic polar solvent and this is reacted with a substantially equimolar amount of an aromatic tetracarboxylic dianhydride for polymerization.
2) An aromatic tetracarboxylic dianhydride is reacted with a small molar amount of an aromatic diamine compound in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having acid anhydride groups at both ends. Then, the method of superposing | polymerizing using an aromatic diamine compound so that an aromatic tetracarboxylic dianhydride and an aromatic diamine compound may become substantially equimolar in all the processes.
3) An aromatic tetracarboxylic dianhydride and an excess molar amount of the aromatic diamine compound are reacted in an organic polar solvent to obtain a prepolymer having amino groups at both ends. Subsequently, after adding an aromatic diamine compound here, using the aromatic tetracarboxylic dianhydride so that the aromatic tetracarboxylic dianhydride and the aromatic diamine compound are substantially equimolar in all steps. How to polymerize.
4) A method in which an aromatic tetracarboxylic dianhydride is dissolved and / or dispersed in an organic polar solvent and then polymerized using an aromatic diamine compound so as to be substantially equimolar.
5) A method of polymerizing by reacting a substantially equimolar mixture of aromatic tetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine in an organic polar solvent.
And so on. These methods may be used singly or in combination.

本発明において、上記のいかなる重合方法を用いて得られたポリアミド酸を用いても良く、重合方法は特に限定されるのもではない。   In the present invention, the polyamic acid obtained by using any of the above polymerization methods may be used, and the polymerization method is not particularly limited.

本発明において、パラフェニレンジアミンや置換ベンジジンに代表される剛直構造を有するジアミン成分を用いてプレポリマーを得る重合方法を用いることも好ましい。本方法を用いることにより、弾性率が高く、吸湿膨張係数が小さいポリイミドフィルムが得やすくなる傾向にある。本方法においてプレポリマー調製時に用いる剛直構造を有するジアミンと酸二無水物のモル比は100:70〜100:99もしくは70:100〜99:100、さらには100:75〜100:90もしくは75:100〜90:100が好ましい。この比が上記範囲を下回ると弾性率および吸湿膨張係数の改善効果が得られにくく、上記範囲を上回ると線膨張係数が小さくなりすぎたり、引張伸びが小さくなるなどの弊害が生じることがある。   In the present invention, it is also preferable to use a polymerization method for obtaining a prepolymer using a diamine component having a rigid structure typified by paraphenylenediamine or substituted benzidine. By using this method, a polyimide film having a high elastic modulus and a small hygroscopic expansion coefficient tends to be easily obtained. The molar ratio of the diamine having a rigid structure and the acid dianhydride used in preparing the prepolymer in the present method is 100: 70 to 100: 99 or 70: 100 to 99: 100, and further 100: 75 to 100: 90 or 75: 100-90: 100 is preferable. When this ratio is less than the above range, it is difficult to obtain the effect of improving the elastic modulus and the hygroscopic expansion coefficient, and when it exceeds the above range, there are cases where the linear expansion coefficient becomes too small or the tensile elongation becomes small.

ここで、本発明にかかるポリアミック酸組成物に用いられる材料について説明する。   Here, the material used for the polyamic acid composition concerning this invention is demonstrated.

本発明において用いうる適当な酸二無水物は、ピロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−オキシフタル酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビスフェノールAビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)及びそれらの類似物を含み、これらを単独または、任意の割合の混合物が好ましく用い得る。   Suitable acid dianhydrides that can be used in the present invention are pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic acid. Dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetra Carboxylic dianhydride, 4,4′-oxyphthalic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride , Bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) Ethane dianhydride, bi (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, oxydiphthalic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, including p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride), ethylene bis (trimellitic acid monoester acid anhydride), bisphenol A bis (trimellitic acid monoester acid anhydride) and the like, these Can be preferably used alone or in any desired mixture.

また、ピロメリット酸二無水物を用いる場合、好ましい使用量は40〜100mol%、更に好ましくは45〜100mol%、特に好ましくは50〜100mol%である。ピロメリット酸二無水物をこの範囲で用いることによりガラス転移温度および熱時の貯蔵弾性率を使用または製膜に好適な範囲に保ちやすくなる。   Moreover, when using pyromellitic dianhydride, the preferable usage-amount is 40-100 mol%, More preferably, it is 45-100 mol%, Most preferably, it is 50-100 mol%. By using pyromellitic dianhydride in this range, the glass transition temperature and the storage elastic modulus at the time of heating can be easily maintained in a range suitable for use or film formation.

本発明にかかるポリイミド前駆体ポリアミド酸組成物において使用し得る適当なジアミンとしては、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン、3,3’−ジクロロベンジジン、3,3‘−ジメチルベンジジン、2,2’−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、2,2’−ジメトキシベンジジン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−オキシジアニリン、3,3’−オキシジアニリン、3,4’−オキシジアニリン、1,5−ジアミノナフタレン、4,4’−ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルシラン、4,4’−ジアミノジフェニルエチルホスフィンオキシド、4,4’−ジアミノジフェニルN−メチルアミン、4,4’−ジアミノジフェニル N−フェニルアミン、1,4−ジアミノベンゼン(p−フェニレンジアミン)、1,3−ジアミノベンゼン、1,2−ジアミノベンゼン、ビス{4−(4−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、ビス{4−(3−アミノフェノキシ)フェニル}スルホン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン及びそれらの類似物などが挙げられる。   Suitable diamines that can be used in the polyimide precursor polyamic acid composition according to the present invention include 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenylmethane, benzidine, 3,3′-dichlorobenzidine, 3, 3'-dimethylbenzidine, 2,2'-dimethylbenzidine, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxybenzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 4, 4'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-oxydianiline, 3,3'-oxydianiline, 3,4'-oxydianiline, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenyldiethylsilane 4,4'-diaminodiphenylsilane, 4,4'-diaminodiphenyl Tylphosphine oxide, 4,4′-diaminodiphenyl N-methylamine, 4,4′-diaminodiphenyl N-phenylamine, 1,4-diaminobenzene (p-phenylenediamine), 1,3-diaminobenzene, 1, 2-diaminobenzene, bis {4- (4-aminophenoxy) phenyl} sulfone, bis {4- (3-aminophenoxy) phenyl} sulfone, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4 '-Bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 3,3′-diaminobenzophenone, 4,4′-diamy Benzophenone and their analogs thereof.

本発明において用いられるポリイミドフィルムは、上記の範囲の中で所望の特性を有するフィルムとなるように適宜芳香族酸二無水物および芳香族ジアミンの種類、配合比を決定して用いることにより得ることができる。   The polyimide film used in the present invention is obtained by appropriately determining the type and blending ratio of the aromatic dianhydride and aromatic diamine so as to be a film having desired characteristics within the above range. Can do.

ポリアミド酸を合成するための好ましい溶媒は、ポリアミド酸を溶解する溶媒であればいかなるものも用いることができるが、アミド系溶媒すなわちN,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどであり、N,N−ジメチルフォルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドが特に好ましく用い得る。   As the preferred solvent for synthesizing the polyamic acid, any solvent can be used as long as it dissolves the polyamic acid. However, amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N- Examples thereof include methyl-2-pyrrolidone, and N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide can be particularly preferably used.

また、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等のフィルムの諸特性を改善する目的でフィラーを添加することもできる。フィラーとしてはいかなるものを用いても良いが、好ましい例としてはシリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母などが挙げられる。   In addition, a filler can be added for the purpose of improving various film properties such as slidability, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop stiffness. Any filler may be used, but preferred examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica and the like.

フィラーの粒子径は改質すべきフィルム特性と添加するフィラーの種類によって決定されるため、特に限定されるものではないが、一般的には平均粒径が0.05〜100μm、好ましくは0.1〜75μm、更に好ましくは0.1〜50μm、特に好ましくは0.1〜25μmである。粒子径がこの範囲を下回ると改質効果が現れにくくなり、この範囲を上回ると表面性を大きく損なったり、機械的特性が大きく低下したりする可能性がある。また、フィラーの添加部数についても改質すべきフィルム特性やフィラー粒子径などにより決定されるため特に限定されるものではない。一般的にフィラーの添加量はポリイミド100重量部に対して0.01〜100重量部、好ましくは0.01〜90重量部、更に好ましくは0.02〜80重量部である。フィラー添加量がこの範囲を下回るとフィラーによる改質効果が現れにくく、この範囲を上回るとフィルムの機械的特性が大きく損なわれる可能性がある。フィラーの添加は、
1.重合前または途中に重合反応液に添加する方法
2.重合完了後、3本ロールなどを用いてフィラーを混錬する方法
3.フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸有機溶媒溶液に混合する方法
などいかなる方法を用いてもよいが、フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合する方法、特に製膜直前に混合する方法が製造ラインのフィラーによる汚染が最も少なくすむため、好ましい。フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合溶媒と同じ溶媒を用いるのが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状態を安定化させるために分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさない範囲内で用いることもできる。
The particle size of the filler is not particularly limited because it is determined by the film characteristics to be modified and the kind of filler to be added, but generally the average particle size is 0.05 to 100 μm, preferably 0.1. It is -75 micrometers, More preferably, it is 0.1-50 micrometers, Most preferably, it is 0.1-25 micrometers. If the particle size is below this range, the modification effect is less likely to appear. If the particle size is above this range, the surface properties may be greatly impaired or the mechanical properties may be greatly deteriorated. Further, the number of added parts of the filler is not particularly limited because it is determined by the film properties to be modified, the filler particle diameter, and the like. Generally, the addition amount of the filler is 0.01 to 100 parts by weight, preferably 0.01 to 90 parts by weight, and more preferably 0.02 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyimide. If the amount of filler added is less than this range, the effect of modification by the filler hardly appears, and if it exceeds this range, the mechanical properties of the film may be greatly impaired. Addition of filler
1. 1. A method of adding to a polymerization reaction solution before or during polymerization 2. A method of kneading fillers using three rolls after the completion of polymerization. Any method such as preparing a dispersion containing filler and mixing it with a polyamic acid organic solvent solution may be used, but a method of mixing a dispersion containing filler with a polyamic acid solution, particularly immediately before film formation. This method is preferable because the contamination by the filler in the production line is minimized. When preparing a dispersion containing a filler, it is preferable to use the same solvent as the polymerization solvent for the polyamic acid. Further, in order to disperse the filler satisfactorily and stabilize the dispersion state, a dispersant, a thickener and the like can be used within a range not affecting the film physical properties.

これらポリアミック酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法については従来公知の方法を用いることができる。この方法には熱イミド化法と化学イミド化法が挙げられ、どちらの方法を用いてフィルムを製造してもかまわないが、化学イミド化法によるイミド化の方が本発明に好適に用いられる諸特性を有したポリイミドフィルムを得やすい傾向にある。   A conventionally well-known method can be used about the method of manufacturing a polyimide film from these polyamic acid solutions. This method includes a thermal imidization method and a chemical imidization method, and either method may be used to produce a film, but the imidization by the chemical imidation method is more preferably used in the present invention. It tends to be easy to obtain a polyimide film having various characteristics.

また、本発明において特に好ましいポリイミドフィルムの製造工程は、
a)有機溶剤中で芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させてポリアミック酸溶液を得る工程、
b)上記ポリアミック酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、
c)支持体上で加熱した後、支持体からゲルフィルムを引き剥がす工程、
d)更に加熱して、残ったアミック酸をイミド化し、かつ乾燥させる工程、
を含むことが好ましい。
In addition, the production process of the polyimide film particularly preferable in the present invention is as follows.
a) a step of reacting an aromatic diamine and an aromatic tetracarboxylic dianhydride in an organic solvent to obtain a polyamic acid solution;
b) casting a film-forming dope containing the polyamic acid solution on a support;
c) a step of peeling the gel film from the support after heating on the support;
d) further heating to imidize and dry the remaining amic acid,
It is preferable to contain.

上記工程において無水酢酸等の酸無水物に代表される脱水剤と、イソキノリン、β−ピコリン、ピリジン等の第三級アミン類等に代表されるイミド化触媒とを含む硬化剤を用いても良い。   In the above step, a curing agent containing a dehydrating agent typified by an acid anhydride such as acetic anhydride and an imidation catalyst typified by a tertiary amine such as isoquinoline, β-picoline or pyridine may be used. .

以下、本発明の好ましい一形態、化学イミド法を一例にとり、ポリイミドフィルムの製造工程を説明する。ただし、本発明は以下の例により限定されるものではない。製膜条件や加熱条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ等により、変動し得る。   Hereafter, the manufacturing process of a polyimide film is demonstrated taking the preferable one form of this invention and a chemical imide method as an example. However, the present invention is not limited to the following examples. The film forming conditions and heating conditions can vary depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, and the like.

脱水剤及びイミド化触媒を低温でポリアミド酸溶液中に混合して製膜ドープを得る。引き続いてこの製膜ドープをガラス板、アルミ箔、エンドレスステンレスベルト、ステンレスドラムなどの支持体上にフィルム状にキャストし、支持体上で80℃〜200℃、好ましくは100℃〜180℃の温度領域で加熱することで脱水剤及びイミド化触媒を活性化することによって部分的に硬化及び/または乾燥した後支持体から剥離してポリアミック酸フィルム(以下、ゲルフィルムという)を得る。
ゲルフィルムは、ポリアミド酸からポリイミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性を有し、式(1)
(A−B)×100/B・・・・(1)
式(1)中、A,Bは以下のものを表す。
A:ゲルフィルムの重量
B:ゲルフィルムを450℃で20分間加熱した後の重量
から算出される揮発分含量は5〜500重量%の範囲、好ましくは5〜200重量%、より好ましくは5〜150重量%の範囲にある。この範囲のフィルムを用いることが好適であり、焼成過程でフィルム破断、乾燥ムラによるフィルムの色調ムラ、特性ばらつき等の不具合が起こることがある。
A film forming dope is obtained by mixing a dehydrating agent and an imidization catalyst in a polyamic acid solution at a low temperature. Subsequently, this film-forming dope is cast into a film on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless steel belt, or a stainless drum, and the temperature on the support is 80 ° C. to 200 ° C., preferably 100 ° C. to 180 ° C. By heating in the region, the dehydrating agent and imidization catalyst are activated to partially cure and / or dry, and then peel from the support to obtain a polyamic acid film (hereinafter referred to as gel film).
The gel film is in the intermediate stage of curing from polyamic acid to polyimide, has self-supporting properties, and has the formula (1)
(AB) × 100 / B (1)
In formula (1), A and B represent the following.
A: Weight of gel film B: The volatile content calculated from the weight after heating the gel film at 450 ° C. for 20 minutes is in the range of 5 to 500% by weight, preferably 5 to 200% by weight, more preferably 5 to 5%. It is in the range of 150% by weight. It is preferable to use a film in this range, and problems such as film breakage, uneven film color due to drying unevenness, and characteristic variations may occur during the baking process.

脱水剤の好ましい量は、ポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して、0.5〜5モル、好ましくは1.0〜4モルである。また、イミド化触媒の好ましい量はポリアミド酸中のアミド酸ユニット1モルに対して、0.05〜3モル、好ましくは0.2〜2モルである。   The preferable amount of the dehydrating agent is 0.5 to 5 mol, preferably 1.0 to 4 mol, relative to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid. Moreover, the preferable quantity of an imidation catalyst is 0.05-3 mol with respect to 1 mol of amic acid units in a polyamic acid, Preferably it is 0.2-2 mol.

脱水剤及びイミド化触媒が上記範囲を下回ると化学的イミド化が不十分で、焼成途中で破断したり、機械的強度が低下したりすることがある。また、これらの量が上記範囲を上回ると、イミド化の進行が早くなりすぎ、フィルム状にキャストすることが困難となることがあるため好ましくない。   If the dehydrating agent and the imidization catalyst are below the above ranges, chemical imidization may be insufficient, and may break during firing or mechanical strength may decrease. Moreover, when these amounts exceed the above range, the progress of imidization becomes too fast, and it may be difficult to cast into a film, which is not preferable.

前記ゲルフィルムの端部を固定して硬化時の収縮を回避して乾燥し、水、残留溶媒、残存転化剤及び触媒を除去し、そして残ったアミド酸を完全にイミド化して、本発明のポリイミドフィルムが得られる。   The end of the gel film is fixed to avoid shrinkage during curing, water, residual solvent, residual conversion agent and catalyst are removed, and the remaining amic acid is completely imidized to obtain the present invention. A polyimide film is obtained.

この時、最終的に400〜650℃の温度で5〜400秒加熱するのが好ましい。この温度より高い及び/または時間が長いと、フィルムの熱劣化が起こり問題が生じることがある。逆にこの温度より低い及び/または時間が短いと所定の効果が発現しないことがある。   At this time, it is preferable to finally heat at a temperature of 400 to 650 ° C. for 5 to 400 seconds. Above this temperature and / or for a long time, the film may suffer from thermal degradation and may cause problems. Conversely, if the temperature is lower than this temperature and / or the time is shorter, the predetermined effect may not be exhibited.

また、フィルム中に残留している内部応力を緩和させるためにフィルムを搬送するに必要最低限の張力下において加熱処理をすることもできる。この加熱処理はフィルム製造工程において行ってもよいし、また、別途この工程を設けても良い。加熱条件はフィルムの特性や用いる装置に応じて変動するため一概に決定することはできないが、一般的には200℃以上500℃以下、好ましくは250℃以上500℃以下、特に好ましくは300℃以上450℃以下の温度で、1〜300秒、好ましくは2〜250秒、特に好ましくは5〜200秒程度の熱処理により内部応力を緩和することができる。   Moreover, in order to relieve the internal stress remaining in the film, heat treatment can be performed under the minimum tension necessary for transporting the film. This heat treatment may be performed in the film manufacturing process, or may be provided separately. The heating conditions vary depending on the characteristics of the film and the apparatus used, and therefore cannot be determined in general. However, it is generally 200 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, preferably 250 ° C. or higher and 500 ° C. or lower, particularly preferably 300 ° C. or higher. The internal stress can be relaxed by heat treatment at a temperature of 450 ° C. or lower for 1 to 300 seconds, preferably 2 to 250 seconds, particularly preferably 5 to 200 seconds.

ポリイミドフィルムの諸特性の制御は、用いるモノマーの種類、重合時のモノマーの添加順序、選択するイミド化方法等により適宜制御することができるが、本発明において概ね以下の特性を有するように分子設計することが好ましい。
1.引張弾性率は4.0GPa以上、好ましくは4.5GPa以上、特に好ましくは5.0GPa以上
2.吸湿膨張係数は20ppm以下、好ましくは16ppm以下
3.線膨張係数は1〜20ppm、好ましくは5〜18ppm
特に本発明におけるポリイミドフィルムは、貯蔵弾性率低下開始温度を250℃以上、かつ金属箔貼り合わせ温度での貯蔵弾性率を0.01〜1.0GPaに制御することにより、銅箔除去後及び250℃、30分加熱後の寸法安定性に優れたフレキシブル金属張積層板を得ることが可能となる。
Control of various properties of the polyimide film can be appropriately controlled according to the type of monomer used, the order of addition of the monomers during polymerization, the imidization method to be selected, etc., but in the present invention, the molecular design generally has the following properties. It is preferable to do.
1. The tensile elastic modulus is 4.0 GPa or more, preferably 4.5 GPa or more, particularly preferably 5.0 GPa or more. 2. Hygroscopic expansion coefficient is 20 ppm or less, preferably 16 ppm or less. The linear expansion coefficient is 1-20 ppm, preferably 5-18 ppm
In particular, the polyimide film according to the present invention has a storage elastic modulus lowering start temperature of 250 ° C. or higher and a storage elastic modulus at a metal foil bonding temperature of 0.01 to 1.0 GPa, after removing the copper foil and 250 It becomes possible to obtain a flexible metal-clad laminate excellent in dimensional stability after heating at 30 ° C. for 30 minutes.

具体的には、貯蔵弾性率低下開始温度を有し、かつ金属箔貼り合わせ温度における貯蔵弾性率が0.01〜1.0GPaの範囲にあることにより、ラミネート法で特に顕著に発生するMD/TDの残留歪みを緩和させることができ、金属箔除去後ならびに加熱後の寸法変化の発生を抑えることが可能となる。ここでいう貯蔵弾性率低下開始温度とは、ポリイミドフィルムの貯蔵弾性率を測定した際の、貯蔵弾性率変曲点のことを示す。貯蔵弾性率変曲点は、動的粘弾性測定(DMA)により求めることが可能である。また、貯蔵弾性率低下開始温度を250℃以上とすることにより、加熱後、特に250℃、30分という高温加熱後の寸法変化の発生を抑制できる。   Specifically, MD /, which has a storage elastic modulus lowering start temperature and has a storage elastic modulus at a metal foil laminating temperature in the range of 0.01 to 1.0 GPa, is particularly prominently generated by the laminating method. Residual strain of TD can be alleviated, and the occurrence of dimensional change after removal of the metal foil and after heating can be suppressed. The storage elastic modulus decrease start temperature here indicates a storage elastic modulus inflection point when the storage elastic modulus of the polyimide film is measured. The storage modulus inflection point can be obtained by dynamic viscoelasticity measurement (DMA). Further, by setting the storage elastic modulus decrease start temperature to 250 ° C. or higher, it is possible to suppress the occurrence of dimensional change after heating, particularly after high temperature heating of 250 ° C. for 30 minutes.

コアであるポリイミドフィルムが貯蔵弾性率低下開始温度を有さない場合、もしくは金属箔貼り合わせ温度における貯蔵弾性率が上記範囲外である場合、ラミネート時に発生するMD/TDの残留歪みを十分に緩和させることができず、寸法変化の発生を抑制できないことがある。一方、貯蔵弾性率低下開始温度が250℃より低い場合、半田リフローもしくは半田ディップ工程時にコアであるポリイミドフィルムが軟化するため、寸法変化の発生を抑制できないことがある。   When the core polyimide film does not have a storage elastic modulus lowering start temperature, or when the storage elastic modulus at the metal foil bonding temperature is outside the above range, MD / TD residual strain generated during lamination is sufficiently relaxed It may not be possible to suppress the occurrence of dimensional changes. On the other hand, when the storage elastic modulus lowering start temperature is lower than 250 ° C., the polyimide film as the core is softened during the solder reflow or solder dipping process, so that the occurrence of dimensional change may not be suppressed.

即ち、貯蔵弾性率低下開始温度と、金属箔貼り合わせ温度における貯蔵弾性率の両方を適切に制御することにより、金属箔層のエッチングによる配線パターン形成工程ならびに半田リフローもしくは半田ディップ工程における寸法変化による不具合の発生を抑えることが可能となるのである。   That is, by appropriately controlling both the storage elastic modulus decrease start temperature and the storage elastic modulus at the metal foil laminating temperature, the wiring pattern forming process by etching the metal foil layer and the dimensional change in the solder reflow or solder dipping process. It is possible to suppress the occurrence of defects.

本発明において用いられる接着層は、アクリル系、エポキシ系、変性エポキシ系、フェノール系、ポリアミドイミド系、ポリイミド系いかなるものであっても良いが、耐熱性、絶縁信頼性、ラミネート加工性の面から熱可塑性ポリイミドを含有する接着層を用いることが好ましい。   The adhesive layer used in the present invention may be any of acrylic, epoxy, modified epoxy, phenol, polyamideimide, polyimide, but from the viewpoint of heat resistance, insulation reliability, and laminate processability. It is preferable to use an adhesive layer containing thermoplastic polyimide.

上記接着層に含有される熱可塑性ポリイミドとしては、熱可塑性ポリイミド、熱可塑性ポリアミドイミド、熱可塑性ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリエステルイミド等を好適に用いることができる。なお、本発明における熱可塑性ポリイミドとは、ガラス転移温度を有し、かつ、圧縮モード(プローブ径3mmφ、荷重5g)の熱機械分析測定(TMA)において、10〜400℃(昇温速度:10℃/min)の温度範囲で永久圧縮変形を起こすものをいう。   As the thermoplastic polyimide contained in the adhesive layer, thermoplastic polyimide, thermoplastic polyamideimide, thermoplastic polyetherimide, thermoplastic polyesterimide, and the like can be suitably used. The thermoplastic polyimide in the present invention has a glass transition temperature and is 10 to 400 ° C. (temperature increase rate: 10) in thermomechanical analysis (TMA) in compression mode (probe diameter 3 mmφ, load 5 g). That which causes permanent compression deformation in the temperature range of ° C / min).

また、耐熱性の面から、接着層のガラス転移温度(Tg)は高い方が好ましく、300℃以上で金属箔と貼り合わせることが可能である接着層を用いることが好ましい。ここでいう「金属箔と貼り合わせることが可能」な状態とは、熱により接着層の貯蔵弾性率が大きく低下し、熔融性を発現している状態のことをいう。具体的には、300℃以上における接着層の貯蔵弾性率が10GPa以下であることが好ましく、1GPa以下であることが更に好ましい。特に好ましくは、0.1GPa以下である。   Further, from the viewpoint of heat resistance, the adhesive layer preferably has a higher glass transition temperature (Tg), and it is preferable to use an adhesive layer that can be bonded to the metal foil at 300 ° C. or higher. The state “possible to be bonded to a metal foil” as used herein refers to a state in which the storage elastic modulus of the adhesive layer is greatly lowered by heat and expresses meltability. Specifically, the storage elastic modulus of the adhesive layer at 300 ° C. or higher is preferably 10 GPa or less, and more preferably 1 GPa or less. Especially preferably, it is 0.1 GPa or less.

ただし、接着層のTgを過度に上げると、ラミネート温度も非常に高くなってしまうため、既存の装置でのラミネートが不可能となってしまうことがある。既存の装置でラミネートが可能であり、かつ得られる金属張積層板の耐熱性を損なわないという点から考えると、本発明における熱可塑性ポリイミドは、150〜300℃の範囲にTgを有していることが好ましい。なお、Tgは動的粘弾性測定装置(DMA)により測定した貯蔵弾性率の変曲点の値により求めることができる。   However, if the Tg of the adhesive layer is excessively increased, the laminating temperature becomes very high, so that it may be impossible to perform lamination with an existing apparatus. The thermoplastic polyimide in the present invention has a Tg in the range of 150 to 300 ° C., considering that it can be laminated with existing equipment and does not impair the heat resistance of the resulting metal-clad laminate. It is preferable. In addition, Tg can be calculated | required from the value of the inflexion point of the storage elastic modulus measured with the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (DMA).

熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸についても、特に限定されるわけではなく、公知のあらゆるポリアミド酸を用いることができる。その製造に関しても、公知の原料や反応条件等を用いることができる(例えば、後述する実施例参照)。また、必要に応じて無機あるいは有機物のフィラーを添加しても良い。   The polyamic acid that is a precursor of the thermoplastic polyimide is not particularly limited, and any known polyamic acid can be used. Also for the production, known raw materials, reaction conditions, and the like can be used (for example, see Examples described later). Moreover, you may add an inorganic or organic filler as needed.

本発明に係るフレキシブル金属張積層板の製造に用いる接着フィルムは、上記絶縁性フィルムの少なくとも片面に接着層を設けることにより得られる。接着フィルムの製造方法としては、コアフィルムとなる絶縁性フィルムに接着層を形成する方法、又は接着層をシート状に成形し、これを上記コアフィルムに貼り合わせる方法等が好適に例示され得る。   The adhesive film used for manufacturing the flexible metal-clad laminate according to the present invention can be obtained by providing an adhesive layer on at least one surface of the insulating film. As a method for producing the adhesive film, a method of forming an adhesive layer on the insulating film to be the core film, a method of forming the adhesive layer into a sheet shape, and bonding the resultant to the core film can be suitably exemplified.

このうち、前者の方法を採る場合、接着剤溶液をコアフィルムに流延、塗布する方法については特に限定されず、ダイコーター、リバースコーター、ブレードコーター等、既存の方法を使用することができる。ただし、接着層に熱可塑性ポリイミドが含有される場合、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を完全にイミド化してしまうと、有機溶媒への溶解性が低下する場合があることから、コアフィルム上に上記接着層を設けることが困難となることがある。従って、上記観点から、熱可塑性ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸を含有する溶液を調製して、これをコアフィルムに塗布し、次いでイミド化する手順を採った方がより好ましい。この時のイミド化の方法としては、熱キュア法若しくはケミカルキュア法のどちらも用いることができる。   Among these, when the former method is adopted, the method of casting and applying the adhesive solution to the core film is not particularly limited, and existing methods such as a die coater, a reverse coater, and a blade coater can be used. However, when thermoplastic polyimide is contained in the adhesive layer, if the polyamic acid that is the precursor of the thermoplastic polyimide is completely imidized, the solubility in an organic solvent may decrease, so the core film It may be difficult to provide the adhesive layer thereon. Therefore, from the above viewpoint, it is more preferable to prepare a solution containing polyamic acid which is a precursor of thermoplastic polyimide, apply this to the core film, and then imidize. As the imidization method at this time, either a thermal cure method or a chemical cure method can be used.

いずれのイミド化手順を採る場合も、イミド化を効率良く進めるために加熱を行うが、その時の温度は、(熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度−100℃)〜(ガラス転移温度+200℃)の範囲内に設定することが好ましく、(熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度−50℃)〜(ガラス転移温度+150℃)の範囲内に設定することがより好ましい。熱キュアの温度は高い方がイミド化が起こりやすいため、キュア速度を速くすることができ、生産性の面で好ましい。但し、高すぎると熱可塑性ポリイミドが熱分解を起こす可能性がある。一方、熱キュアの温度が低すぎると、ケミカルキュアでもイミド化が進みにくく、キュア工程に要する時間が長くなってしまう。   Regardless of which imidation procedure is employed, heating is performed in order to promote imidization efficiently, and the temperature at that time ranges from (glass transition temperature of thermoplastic polyimide−100 ° C.) to (glass transition temperature + 200 ° C.). It is preferable to set within the range of (Glass transition temperature of thermoplastic polyimide−50 ° C.) to (Glass transition temperature + 150 ° C.). The higher the temperature of the heat curing, the easier the imidization occurs, so the curing speed can be increased, which is preferable in terms of productivity. However, if it is too high, the thermoplastic polyimide may cause thermal decomposition. On the other hand, if the temperature of the heat curing is too low, imidization is difficult to proceed even with chemical curing, and the time required for the curing process becomes long.

イミド化時間に関しては、実質的にイミド化および乾燥が完結するに十分な時間を取ればよく、一義的に限定されるものではないが、一般的には1〜600秒程度の範囲で適宜設定される。また、接着層の熔融流動性を改善する目的で、意図的にイミド化率を低くする及び/又は溶媒を残留させることもできる。   As for the imidization time, it suffices to take a sufficient time for the imidization and drying to be substantially completed, and although it is not uniquely limited, generally it is appropriately set within a range of about 1 to 600 seconds. Is done. Moreover, in order to improve the melt fluidity of the adhesive layer, it is possible to intentionally lower the imidization rate and / or leave the solvent.

イミド化する際にかける張力としては、1kg/m〜15kg/mの範囲内とすることが好ましく、5kg/m〜10kg/mの範囲内とすることが特に好ましい。張力が上記範囲より小さい場合、フィルム搬送時にたるみや蛇行が生じ、巻取り時にシワが入ったり、均一に巻き取れない等の問題が生じる可能性がある。逆に上記範囲よりも大きい場合、強い張力がかかった状態で高温加熱されるため、得られるフレキシブル金属張積層板の寸法特性が悪化することがある。   The tension applied during imidization is preferably in the range of 1 kg / m to 15 kg / m, and particularly preferably in the range of 5 kg / m to 10 kg / m. If the tension is smaller than the above range, sagging or meandering may occur during film conveyance, which may cause problems such as wrinkling during winding or inability to uniformly wind. On the other hand, when it is larger than the above range, since it is heated at a high temperature in a state where a strong tension is applied, the dimensional characteristics of the obtained flexible metal-clad laminate may be deteriorated.

また、接着層には、用途に応じて、例えば、フィラーのような他の材料を含んでもよい。また、必要に応じて、接着層を設ける前にコロナ処理、プラズマ処理、カップリング処理等の各種表面処理をコアフィルム表面に施しても良い。接着フィルム各層(コア絶縁性フィルム層、接着層)の厚み構成については、用途に応じた総厚みになるように適宜調整すれば良い。   In addition, the adhesive layer may include other materials such as a filler, depending on the application. In addition, if necessary, various surface treatments such as corona treatment, plasma treatment, and coupling treatment may be performed on the surface of the core film before providing the adhesive layer. What is necessary is just to adjust suitably about the thickness structure of each layer (core insulating film layer, adhesive layer) of an adhesive film so that it may become the total thickness according to a use.

本発明において使用する金属箔としては特に限定されるものではないが、電子機器・電気機器用途に本発明のフレキシブル金属張積層板を用いる場合には、例えば、銅若しくは銅合金、ステンレス鋼若しくはその合金、ニッケル若しくはニッケル合金(42合金も含む)、アルミニウム若しくはアルミニウム合金からなる箔を挙げることができる。一般的なフレキシブル金属張積層板では、圧延銅箔、電解銅箔といった銅箔が多用されるが、本発明においても好ましく用いることができる。なお、これらの金属箔の表面には、防錆層や耐熱層あるいは接着層が塗布されていてもよい。   The metal foil used in the present invention is not particularly limited, but when the flexible metal-clad laminate of the present invention is used for electronic equipment / electric equipment, for example, copper or copper alloy, stainless steel or its Examples include foils made of alloys, nickel, nickel alloys (including 42 alloys), aluminum, or aluminum alloys. In general flexible metal-clad laminates, copper foil such as rolled copper foil and electrolytic copper foil is frequently used, but it can also be preferably used in the present invention. In addition, the antirust layer, the heat-resistant layer, or the contact bonding layer may be apply | coated to the surface of these metal foil.

本発明において、上記金属箔の厚みについては特に限定されるものではなく、その用途に応じて、十分な機能が発揮できる厚みであればよいが、一例をあげて説明すると、一般的には1〜35μm、さらには2〜25μm、特には3〜18μmが好ましい。金属箔の厚みがこの範囲を下回ると異方導電性フィルム等を用いた種々基板等への実装時に接続不良または接続信頼性の低下をきたしやすく、また、上記範囲を上回ると微細配線を形成させることが難しくなる傾向にある。また、この金属箔は厚めのものを用いてラミネートし、その後エッチング等公知の方法により薄くして用いることもできる。   In the present invention, the thickness of the metal foil is not particularly limited, and may be any thickness that can exhibit a sufficient function depending on the application. It is preferably -35 µm, more preferably 2-25 µm, particularly 3-18 µm. If the thickness of the metal foil is less than this range, connection failure or connection reliability is liable to decrease when mounted on various substrates using an anisotropic conductive film, etc., and if it exceeds the above range, fine wiring is formed. Tend to be difficult. The metal foil can be laminated using a thicker one, and then thinned by a known method such as etching.

本発明における接着層を介して金属箔とポリイミドフィルムを貼り合わせるには、例えば、一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置或いはダブルベルトプレス(DBP)による連続処理を用いることができる。中でも、装置構成が単純であり保守コストの面で有利であるという点から、一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いることが好ましい。ここでいう「一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置」とは、材料を加熱加圧するための金属ロールを有している装置であればよく、その具体的な装置構成は特に限定されるものではない。   In order to bond the metal foil and the polyimide film through the adhesive layer in the present invention, for example, a hot roll laminating apparatus having a pair of metal rolls or a continuous treatment by a double belt press (DBP) can be used. Among these, it is preferable to use a hot roll laminating apparatus having a pair of metal rolls because the apparatus configuration is simple and advantageous in terms of maintenance cost. The “heat roll laminating apparatus having a pair of metal rolls” herein may be an apparatus having a metal roll for heating and pressurizing a material, and the specific apparatus configuration is particularly limited. It is not a thing.

上記熱ラミネートを実施する手段の具体的な構成は特に限定されるものではないが、得られる積層板の外観を良好なものとするために、加圧面と金属箔との間に保護材料を配置することが好ましい。保護材料としては、熱ラミネート工程の加熱温度に耐えうるものであれば特に限定されず、非熱可塑性ポリイミドフィルム等の耐熱性プラスチック、銅箔、アルミニウム箔、SUS箔等の金属箔等を好適に用いることができる。中でも、耐熱性、再使用等のバランスが優れる点から、ポリイミドフィルム、特に非熱可塑性ポリイミドフィルムがより好ましく用いられる。また、厚みが薄いとラミネート時の緩衝ならびに保護の役目を十分に果たさなくなるため、非熱可塑性ポリイミドフィルムの厚みは75μm以上であることが好ましい。   The specific configuration of the means for carrying out the thermal lamination is not particularly limited, but a protective material is disposed between the pressing surface and the metal foil in order to improve the appearance of the resulting laminate. It is preferable to do. The protective material is not particularly limited as long as it can withstand the heating temperature in the heat laminating process, and preferably a heat-resistant plastic such as a non-thermoplastic polyimide film, a metal foil such as a copper foil, an aluminum foil, or a SUS foil. Can be used. Among these, a polyimide film, particularly a non-thermoplastic polyimide film, is more preferably used from the viewpoint of excellent balance between heat resistance and reuse. In addition, if the thickness is thin, the function of buffering and protecting at the time of lamination will not be sufficiently fulfilled, so the thickness of the non-thermoplastic polyimide film is preferably 75 μm or more.

また、この保護材料は必ずしも1層である必要はなく、異なる特性を有する2層以上の多層構造でも良い。   Further, the protective material does not necessarily have to be a single layer, and may have a multilayer structure of two or more layers having different characteristics.

また、ラミネート温度が高温の場合、保護材料をそのままラミネートに用いると、急激な熱膨張により、得られるフレキシブル金属張積層板の外観や寸法安定性を悪化させることがある。従って、ラミネート前に保護材料に予備加熱を施した方が好ましい。予備加熱の手段としては、保護材料を加熱ロールに抱かせるなどして接触させる方法が挙げられる。接触時間としては1秒以上が好ましく、更に好ましくは10秒以上接触させることが好ましい。保護材料の予備加熱を行うことにより、ラミネートする際には保護材料の熱膨張が終了しているため、フレキシブル金属張積層板の外観や寸法特性に影響を与えることが抑制される。接触時間が上記よりも短い場合、保護材料の熱膨張が終了しないままラミネートが行われるため、ラミネート時に保護材料の急激な熱膨張が起こり、得られるフレキシブル金属張積層板の外観や寸法特性が悪化することがある。保護材料を加熱ロールに抱かせる距離については特に限定されず、加熱ロールの径と上記接触時間から適宜調整すれば良い。   Further, when the laminate temperature is high, if the protective material is used as it is for the laminate, the appearance and dimensional stability of the obtained flexible metal-clad laminate may be deteriorated due to rapid thermal expansion. Therefore, it is preferable to preheat the protective material before lamination. Examples of the preheating means include a method of bringing a protective material into contact with a heating roll. The contact time is preferably 1 second or longer, more preferably 10 seconds or longer. By preheating the protective material, since the thermal expansion of the protective material is completed when laminating, the appearance and dimensional characteristics of the flexible metal-clad laminate are suppressed. When the contact time is shorter than the above, since the lamination is performed without the thermal expansion of the protective material, the thermal expansion of the protective material occurs during the lamination, and the appearance and dimensional characteristics of the resulting flexible metal-clad laminate are deteriorated. There are things to do. The distance at which the protective material is held on the heating roll is not particularly limited, and may be appropriately adjusted from the diameter of the heating roll and the contact time.

接着フィルムの接着層に熱可塑性ポリイミドが含有される場合、ラミネート温度が必然的に高くなるため、ラミネート直後のフレキシブル金属張積層板の温度と室温との差は大きくなる。そのため、ラミネート後すぐに保護材料を剥離すると、保護材料で保持されていない状態でフレキシブル金属張積層板が急冷されて急激な収縮を起こし、外観ならびに寸法特性が悪化することがある。従って、ラミネート後はフレキシブル金属張積層板に保護材料を密着させて固定したまま冷却し、ある程度フレキシブル金属張積層板の温度が低下した時点で保護材料を剥離するようにした方が好ましい。保護材料をフレキシブル金属張積層板から剥離するタイミングは、フレキシブル金属張積層板の温度が接着層のガラス転移温度+50℃以下となった時点が好ましく、接着層のガラス転移温度+20℃以下となった時点がより好ましい。上記温度まで低下する前に保護材料を剥離すると、外観や寸法特性が悪化することがある。   When thermoplastic polyimide is contained in the adhesive layer of the adhesive film, the laminating temperature is inevitably high, so that the difference between the temperature of the flexible metal-clad laminate immediately after laminating and room temperature becomes large. Therefore, if the protective material is peeled off immediately after lamination, the flexible metal-clad laminate is rapidly cooled without being held by the protective material, causing rapid contraction, and the appearance and dimensional characteristics may be deteriorated. Therefore, after lamination, it is preferable to cool the flexible metal-clad laminate with the protective material adhered and fixed, and to peel off the protective material when the temperature of the flexible metal-clad laminate is lowered to some extent. The timing at which the protective material is peeled off from the flexible metal-clad laminate is preferably when the temperature of the flexible metal-clad laminate is equal to or lower than the glass transition temperature of the adhesive layer + 50 ° C., and is lower than the glass transition temperature of the adhesive layer + 20 ° C. Time points are more preferred. If the protective material is peeled before the temperature is lowered, the appearance and dimensional characteristics may be deteriorated.

上記熱ラミネート手段における被積層材料の加熱方式は特に限定されるものではなく、例えば、熱循環方式、熱風加熱方式、誘導加熱方式等、所定の温度で加熱し得る従来公知の方式を採用した加熱手段を用いることができる。同様に、上記熱ラミネート手段における被積層材料の加圧方式も特に限定されるものではなく、例えば、油圧方式、空気圧方式、ギャップ間圧力方式等、所定の圧力を加えることができる従来公知の方式を採用した加圧手段を用いることができる。   The heating method of the material to be laminated in the heat laminating means is not particularly limited. For example, heating using a conventionally known method capable of heating at a predetermined temperature, such as a heat circulation method, a hot air heating method, an induction heating method, or the like. Means can be used. Similarly, the pressurization method of the material to be laminated in the heat laminating means is not particularly limited, and a conventionally known method capable of applying a predetermined pressure such as a hydraulic method, a pneumatic method, a gap pressure method, etc. The pressurizing means adopting can be used.

上記熱ラミネート工程における加熱温度、すなわちラミネート温度は、接着フィルムのTg+50℃以上の温度であることが好ましく、接着フィルムのTg+100℃以上がより好ましい。Tg+50℃以上の温度であれば、接着フィルムと金属箔とを良好に熱ラミネートすることができる。またTg+100℃以上であれば、ラミネート速度を上昇させてその生産性をより向上させることができる。   The heating temperature in the heat laminating step, that is, the laminating temperature is preferably a temperature of Tg + 50 ° C. or higher of the adhesive film, and more preferably Tg + 100 ° C. of the adhesive film. If it is Tg + 50 degreeC or more temperature, an adhesive film and metal foil can be heat-laminated favorably. Moreover, if it is Tg + 100 degreeC or more, the lamination speed | rate can be raised and the productivity can be improved more.

上記熱ラミネート工程におけるラミネート速度は、0.5m/分以上であることが好ましく、1.0m/分以上であることがより好ましい。0.5m/分以上であれば十分な熱ラミネートが可能になり、1.0m/分以上であれば生産性をより一層向上することができる。   The laminating speed in the thermal laminating step is preferably 0.5 m / min or more, and more preferably 1.0 m / min or more. If it is 0.5 m / min or more, sufficient thermal lamination is possible, and if it is 1.0 m / min or more, productivity can be further improved.

上記熱ラミネート工程における圧力、すなわちラミネート圧力は、高ければ高いほどラミネート温度を低く、かつラミネート速度を速くすることができる利点があるが、一般にラミネート圧力が高すぎると得られるフレキシブル金属張積層板の寸法特性が悪化する傾向がある。また、逆にラミネート圧力が低すぎると得られるフレキシブル金属張積層板の金属箔の接着強度が低くなる。そのためラミネート圧力は、49〜490N/cm(5〜50kgf/cm)の範囲内であることが好ましく、98〜294N/cm(10〜30kgf/cm)の範囲内であることがより好ましい。この範囲内であれば、ラミネート温度、ラミネート速度およびラミネート圧力の三条件を良好なものにすることができ、生産性をより一層向上することができる。   The higher the pressure in the thermal laminating process, that is, the laminating pressure, there is an advantage that the laminating temperature can be lowered and the laminating speed can be increased, but generally the flexible metal-clad laminate obtained when the laminating pressure is too high. Dimensional characteristics tend to deteriorate. Conversely, if the laminating pressure is too low, the adhesive strength of the metal foil of the flexible metal-clad laminate obtained is lowered. Therefore, the laminating pressure is preferably in the range of 49 to 490 N / cm (5 to 50 kgf / cm), and more preferably in the range of 98 to 294 N / cm (10 to 30 kgf / cm). Within this range, the three conditions of the lamination temperature, the lamination speed and the lamination pressure can be made favorable, and the productivity can be further improved.

また、ラミネート時のポリイミドフィルム張力は、0.01〜2N/cm、さらには0.02〜1.5N/cm、特には0.05〜1.0N/cmが好ましい。張力がこの範囲を下回ると外観の良好なフレキシブル金属張積層板を得ることが困難となる場合があり、またこの範囲を上回ると寸法安定性が劣る傾向にある。   The polyimide film tension during lamination is preferably 0.01 to 2 N / cm, more preferably 0.02 to 1.5 N / cm, and particularly preferably 0.05 to 1.0 N / cm. If the tension is below this range, it may be difficult to obtain a flexible metal-clad laminate with good appearance, and if it exceeds this range, the dimensional stability tends to be inferior.

接着フィルムの接着層に熱可塑性ポリイミドが含有される場合、ラミネート温度が必然的に高くなるため、ラミネート直後のフレキシブル金属張積層板も非常に高温となっている。従って、ラミネート直後のフレキシブル金属張積層板は張力に由来する熱応力が発生しやすい。そのため、ラミネート直後のフレキシブル金属張積層板は、保護材料を配したままの状態で加熱ロールに抱かせるなどして接触させ、張力の影響を受けないようにした状態である程度徐冷すると同時に熱ラミネート時に発生した残留歪みを緩和させ、その後加熱ロールから離すようにした方が好ましい。加熱ロールへの接触時間は0.1秒以上が好ましく、より好ましくは0.2秒以上、0.5秒以上が特に好ましい。接触時間が上記範囲より短い場合、フレキシブル金属張積層板の温度がほとんど低下せず、張力の影響を受けて寸法特性が悪化することがある。抱かせる時間はなるべく長い方が好ましいがロール径及びラミネート速度に依存する為、生産性、設備仕様との兼ね合いで当業者が選択しうる範囲で調整する。   When thermoplastic polyimide is contained in the adhesive layer of the adhesive film, the laminating temperature is inevitably high, so the flexible metal-clad laminate immediately after laminating is also very hot. Therefore, the flexible metal-clad laminate immediately after lamination tends to generate thermal stress due to tension. Therefore, the flexible metal-clad laminate immediately after lamination is brought into contact with a heating roll while the protective material is still placed, etc., and is gradually cooled to a certain extent in a state where it is not affected by tension, and at the same time heat laminated It is preferable to relieve the residual strain that is sometimes generated and then separate it from the heating roll. The contact time with the heating roll is preferably 0.1 seconds or more, more preferably 0.2 seconds or more, and particularly preferably 0.5 seconds or more. When the contact time is shorter than the above range, the temperature of the flexible metal-clad laminate is hardly lowered, and the dimensional characteristics may deteriorate due to the influence of tension. The holding time is preferably as long as possible. However, since it depends on the roll diameter and the laminating speed, it is adjusted within a range that can be selected by those skilled in the art in consideration of productivity and equipment specifications.

また、ラミネート後に加熱ロールに接触させて徐冷を行ったとしても、依然としてフレキシブル金属張積層板と室温との差は大きく、また、残留歪みを緩和しきれていないことがあるため、フレキシブル金属張積層板の外観または寸法特性に問題が生じることがある。そのため、加熱ロールに接触させて徐冷した後のフレキシブル金属張積層板は、保護材料を配したままの状態で後加熱工程を通した方が好ましい。この際の張力は1〜10N/cmの範囲とすることが好ましい。また、後加熱の雰囲気温度は(ラミネート温度−200℃)〜(ラミネート温度+100℃)の範囲とすることが好ましい。ここでいう「雰囲気温度」とは、フレキシブル金属張積層板の両面に密着させている保護材料の外表面温度をいう。実際のフレキシブル金属張積層板の温度は、保護材料の厚みによって多少変化するが、保護材料表面の温度を上記範囲内にすれば、後加熱の効果を発現させることが可能である。保護材料の外表面温度測定は、熱電対や温度計などを用いて行うことができる。   In addition, even if it is gradually cooled by bringing it into contact with a heating roll after lamination, the difference between the flexible metal-clad laminate and the room temperature is still large, and the residual strain may not be alleviated. Problems may arise in the appearance or dimensional characteristics of the laminate. Therefore, the flexible metal-clad laminate after being brought into contact with a heating roll and gradually cooled is preferably passed through a post-heating step with the protective material still disposed. The tension at this time is preferably in the range of 1 to 10 N / cm. Moreover, it is preferable to make the atmospheric temperature of post-heating into the range of (lamination temperature -200 degreeC)-(lamination temperature +100 degreeC). The “atmosphere temperature” here refers to the outer surface temperature of the protective material in close contact with both surfaces of the flexible metal-clad laminate. The actual temperature of the flexible metal-clad laminate varies somewhat depending on the thickness of the protective material, but if the temperature of the surface of the protective material is within the above range, the effect of post-heating can be exhibited. The outer surface temperature of the protective material can be measured using a thermocouple or a thermometer.

張力が上記範囲よりも小さい場合、搬送時にたるみ等が生じるため、外観の良好なフレキシブル金属張積層板を得ることが困難となる場合がある。逆に上記範囲よりも大きい場合、加熱されながら強い張力がかかるため、得られるフレキシブル金属張積層板の寸法安定性が悪化する場合がある。一方、後加熱の温度が上記範囲外となる場合、後加熱の効果が十分に発現されず、フレキシブル金属張積層板の外観または寸法特性が向上しない、もしくは悪化することがある。   When the tension is smaller than the above range, sagging or the like occurs during conveyance, and it may be difficult to obtain a flexible metal-clad laminate having a good appearance. Conversely, when it is larger than the above range, since a strong tension is applied while being heated, the dimensional stability of the obtained flexible metal-clad laminate may be deteriorated. On the other hand, when the post-heating temperature is out of the above range, the effect of post-heating may not be sufficiently exhibited, and the appearance or dimensional characteristics of the flexible metal-clad laminate may not be improved or deteriorated.

後加熱工程の加熱方式は特に限定されず、幅方向に温度制御できるヒーター方式や、加熱ロール方式、加熱オーブン方式等が挙げられる。上記ヒーターは所定の温度に調整できるものならば特に制限はなく、遠赤ヒーターであっても近赤ヒーターであっても使用できる。各加熱方式における設定温度については、熱源と積層板との距離、設置間隔等により適宜調整するが、後加熱工程の雰囲気温度が前記範囲内となるようにする。   The heating method in the post-heating step is not particularly limited, and examples thereof include a heater method capable of controlling the temperature in the width direction, a heating roll method, and a heating oven method. The heater is not particularly limited as long as it can be adjusted to a predetermined temperature, and can be a far red heater or a near red heater. The set temperature in each heating method is appropriately adjusted depending on the distance between the heat source and the laminate, the installation interval, and the like, but the ambient temperature in the post-heating step is within the above range.

本発明にかかるフレキシブル金属張積層板を得るためには、連続的に被積層材料を加熱しながら圧着する熱ラミネート装置を用いることが好ましいが、この熱ラミネート装置では、熱ラミネート手段の前段に、被積層材料を繰り出す被積層材料繰出手段を設けてもよいし、熱ラミネート手段の後段に、被積層材料を巻き取る被積層材料巻取手段を設けてもよい。これらの手段を設けることで、上記熱ラミネート装置の生産性をより一層向上させることができる。上記被積層材料繰出手段および被積層材料巻取手段の具体的な構成は特に限定されるものではなく、例えば、接着フィルムや金属箔、あるいは得られる積層板を巻き取ることのできる公知のロール状巻取機等を挙げることができる。   In order to obtain the flexible metal-clad laminate according to the present invention, it is preferable to use a thermal laminating apparatus that continuously press-bonds the material to be laminated while heating, but in this thermal laminating apparatus, before the thermal laminating means, A laminated material feeding means for feeding the laminated material may be provided, or a laminated material winding means for winding the laminated material may be provided after the thermal laminating means. By providing these means, the productivity of the thermal laminating apparatus can be further improved. The specific configuration of the laminated material feeding means and the laminated material winding means is not particularly limited. For example, a known roll shape capable of winding an adhesive film, a metal foil, or a laminated sheet to be obtained. A winder etc. can be mentioned.

さらに、保護材料を巻き取ったり繰り出したりする保護材料巻取手段や保護材料繰出手段を設けると、より好ましい。これら保護材料巻取手段・保護材料繰出手段を備えていれば、熱ラミネート工程で、一度使用された保護材料を巻き取って繰り出し側に再度設置することで、保護材料を再使用することができる。また、保護材料を巻き取る際に、保護材料の両端部を揃えるために、端部位置検出手段および巻取位置修正手段を設けてもよい。これによって、精度よく保護材料の端部を揃えて巻き取ることができるので、再使用の効率を高めることができる。なお、これら保護材料巻取手段、保護材料繰出手段、端部位置検出手段および巻取位置修正手段の具体的な構成は特に限定されるものではなく、従来公知の各種装置を用いることができる。   Furthermore, it is more preferable to provide a protective material winding means and a protective material feeding means for winding and feeding the protective material. If these protective material take-up means and protective material feeding means are provided, the protective material can be reused by winding the protective material once used in the thermal laminating step and installing it again on the pay-out side. . Further, when winding the protective material, end position detecting means and winding position correcting means may be provided in order to align both ends of the protective material. As a result, the end portions of the protective material can be aligned and wound with high accuracy, so that the efficiency of reuse can be increased. The specific configurations of the protective material winding means, the protective material feeding means, the end position detecting means, and the winding position correcting means are not particularly limited, and various conventionally known devices can be used.

本発明にかかる製造方法により得られるフレキシブル金属張積層板においては、金属箔を除去する前後の寸法変化率、ならびに金属箔除去後に250℃、30分の加熱を行う前後の寸法変化率の合計値が、MD方向、TD方向共に−0.05〜+0.05の範囲にあることが非常に好ましい。更には、金属箔を除去する前後の寸法変化率、ならびに金属箔除去後に250℃、30分の熱処理を行う前後の寸法変化率の合計値の標準偏差をσとした時、MD方向、TD方向共に3σが0.02以下となることが非常に好ましい。金属箔除去前後の寸法変化率は、エッチング工程前のフレキシブル金属張積層板における所定の寸法およびエッチング工程後の所定の寸法の差分と、上記エッチング工程前の所定の寸法との比で表される。加熱前後の寸法変化率は、エッチング工程後のフレキシブル金属張積層板における所定の寸法および加熱工程後の所定の寸法の差分と、上記加熱工程前の所定の寸法との比で表される。   In the flexible metal-clad laminate obtained by the manufacturing method according to the present invention, the dimensional change rate before and after removing the metal foil, and the total value of the dimensional change rate before and after heating at 250 ° C. for 30 minutes after removing the metal foil. Is very preferably in the range of −0.05 to +0.05 in both the MD direction and the TD direction. Further, when the standard deviation of the dimensional change rate before and after removing the metal foil and the total value of the dimensional change rate before and after performing heat treatment at 250 ° C. for 30 minutes after removing the metal foil is σ, MD direction, TD direction In both cases, it is very preferable that 3σ is 0.02 or less. The rate of dimensional change before and after removal of the metal foil is expressed as a ratio between a difference between a predetermined dimension in the flexible metal-clad laminate before the etching process and a predetermined dimension after the etching process and a predetermined dimension before the etching process. . The dimensional change rate before and after heating is represented by a ratio between a difference between a predetermined dimension in the flexible metal-clad laminate after the etching process and a predetermined dimension after the heating process and a predetermined dimension before the heating process.

寸法変化率が上記範囲内から外れると、フレキシブル金属張積層板において、部品実装時の不良率が高くなる傾向にある。また、寸法変化率の3σが上記範囲から外れると、製品ロットごとのばらつきが大きくなり、同様に部品実装時の不良率が高くなる傾向にある。   If the dimensional change rate is out of the above range, the flexible metal-clad laminate tends to have a high defect rate during component mounting. Further, when 3σ of the dimensional change rate is out of the above range, the variation for each product lot increases, and similarly, the defect rate at the time of component mounting tends to increase.

上記寸法変化率の測定方法は特に限定されるものではなく、フレキシブル金属張積層板において、エッチングまたは加熱工程の前後に生じる寸法の増減を測定できる方法であれば、従来公知のどのような方法でも用いることができる。   The method for measuring the dimensional change rate is not particularly limited, and any method known in the art can be used as long as it can measure the increase or decrease in dimensions that occurs before and after the etching or heating process in the flexible metal-clad laminate. Can be used.

ここで、寸法変化率の測定は、MD方向、TD方向の双方について測定することが必須となる。連続的にイミド化ならびにラミネートする場合、MD方向およびTD方向では張力のかかり方が異なるため、熱膨張・収縮の度合いに差が現れ、寸法変化率も異なる。したがって、寸法変化率の小さい材料では、MD方向およびTD方向の双方ともに変化率が小さいことが要求される。本発明においては、フレキシブル金属張積層板の、金属箔を除去する前後の寸法変化率、ならびに金属箔除去後に250℃、30分の加熱を行う前後の寸法変化率の合計値が、MD方向、TD方向共に−0.05〜+0.05の範囲にあることが非常に好ましい。更に、3σがMD方向、TD方向共に0.02以下となることが非常に好ましい。   Here, it is essential to measure the dimensional change rate in both the MD direction and the TD direction. When imidizing and laminating continuously, the tension is different in the MD direction and the TD direction, so a difference appears in the degree of thermal expansion / contraction and the dimensional change rate is also different. Therefore, a material having a small dimensional change rate is required to have a low change rate in both the MD direction and the TD direction. In the present invention, the dimensional change rate before and after removing the metal foil of the flexible metal-clad laminate, and the total value of the dimensional change rate before and after heating at 250 ° C. for 30 minutes after removing the metal foil are MD direction, It is very preferable that the TD direction is in the range of -0.05 to +0.05. Furthermore, it is very preferable that 3σ is 0.02 or less in both the MD direction and the TD direction.

なお、寸法変化率を測定する際のエッチング工程の具体的な条件は特に限定されるものではない。すなわち、金属箔の種類や形成されるパターン配線の形状等に応じてエッチング条件は異なるので、本発明において寸法変化率を測定する際のエッチング工程の条件は従来公知のどのような条件であってもよい。同様に、加熱工程においても、250℃で30分間加熱がなされれば良く、具体的な条件は特に限定されない。   In addition, the specific conditions of the etching process at the time of measuring a dimensional change rate are not specifically limited. That is, since the etching conditions differ depending on the type of metal foil and the shape of the pattern wiring to be formed, the etching process conditions for measuring the dimensional change rate in the present invention are any conventionally known conditions. Also good. Similarly, in the heating process, it is sufficient that heating is performed at 250 ° C. for 30 minutes, and specific conditions are not particularly limited.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these Examples.

なお、合成例、実施例及び比較例におけるポリイミドフィルムの引張弾性率、線膨張係数、貯蔵弾性率および貯蔵弾性率低下開始点、熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度、フレキシブル積層板の寸法変化率、金属箔引き剥し強度の評価法は次の通りである。   In addition, the tensile elastic modulus, linear expansion coefficient, storage elastic modulus and storage elastic modulus lowering start point of thermoplastic film, glass transition temperature of thermoplastic polyimide, dimensional change rate of flexible laminate, metal in synthesis examples, examples and comparative examples The evaluation method of the foil peel strength is as follows.

(引張弾性率)
引張弾性率の測定はASTM D882に準じて行った。
(Tensile modulus)
The measurement of the tensile elastic modulus was performed according to ASTM D882.

(線膨張係数)
50〜200℃の線膨張係数の測定は、セイコー電子(株)社製TMA120Cを用いて(サンプルサイズ 幅3mm、長さ10mm)、荷重3gで10℃/minで10℃〜400℃まで一旦昇温させた後、10℃まで冷却し、さらに10℃/minで昇温させて、2回目の昇温時の50℃及び200℃における熱膨張率から平均値として計算した。
(Linear expansion coefficient)
The linear expansion coefficient at 50 to 200 ° C. was measured by using TMA120C manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd. (sample size: 3 mm width, 10 mm length), and the temperature was temporarily increased from 10 ° C. to 400 ° C. at a load of 3 g at 10 ° C./min. After heating, it was cooled to 10 ° C., further heated at 10 ° C./min, and calculated as an average value from the thermal expansion coefficients at 50 ° C. and 200 ° C. during the second temperature increase.

(貯蔵弾性率測定)
セイコー電子(株)社製DMS200を用いて(サンプルサイズ 巾9mm、長さ40mm)、周波数1、5、10Hzで昇温速度3℃/minで20〜400℃の温度範囲で測定し、貯蔵弾性率低下開始点及び380℃での貯蔵弾性率を評価した。貯蔵弾性率低下開始は変曲点の温度とした。
(Storage elastic modulus measurement)
Using a DMS200 manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd. (sample size: width 9 mm, length 40 mm), measured at a frequency of 1, 5 and 10 Hz at a temperature rising rate of 3 ° C./min in a temperature range of 20 to 400 ° C., and storage elasticity The starting point of rate decrease and the storage elastic modulus at 380 ° C. were evaluated. The temperature at the inflection point was set as the onset of storage elastic modulus decrease.

(熱可塑性の判定)
セイコー電子(株)社製TMA120Cを用いて圧縮モード(プローブ径3mmφ)、荷重5gで10℃/minで10℃〜400℃まで一旦昇温させた後、10℃まで冷却し、永久圧縮変形の有無を判定した。
(Judgment of thermoplasticity)
Using TMA120C manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd., compression mode (probe diameter: 3 mmφ), 10 ° C / min at a load of 5 g, the temperature was once raised from 10 ° C to 400 ° C, cooled to 10 ° C, and subjected to permanent compression deformation The presence or absence was judged.

(ガラス転移温度)
熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度は、セイコー電子(株)社製DMS200により、昇温速度3℃/分にて、室温から400℃までの温度範囲で測定し、貯蔵弾性率の変曲点をガラス転移温度とした。
(Glass-transition temperature)
The glass transition temperature of the thermoplastic polyimide was measured in a temperature range from room temperature to 400 ° C. at a rate of temperature increase of 3 ° C./min using a DMS200 manufactured by Seiko Electronics Co., Ltd. The transition temperature was used.

(寸法変化率)
JIS C6481に基づいて、フレキシブル積層板に4つの穴を形成し、各穴のそれぞれの距離を測定した。次に、エッチング工程を実施してフレキシブル積層板から金属箔を除去した後に、20℃、60%RHの恒温室に24時間放置した。その後、エッチング工程前と同様に、上記4つの穴について、それぞれの距離を測定した。金属箔除去前における各穴の距離の測定値をD1とし、金属箔除去後における各穴の距離の測定値をD2として、次式により寸法変化率を求めた。
寸法変化率(%)={(D2−D1)/D1}×100
なお、上記寸法変化率は、MD方向及びTD方向の双方について測定した。
(Dimensional change rate)
Based on JIS C6481, four holes were formed in the flexible laminate, and the distance of each hole was measured. Next, after carrying out an etching process to remove the metal foil from the flexible laminate, it was left in a temperature-controlled room at 20 ° C. and 60% RH for 24 hours. Then, each distance was measured about the said four holes similarly to the etching process front. The measured value of the distance of each hole before metal foil removal was set to D1, and the measured value of the distance of each hole after metal foil removal was set to D2, and the dimensional change rate was calculated | required by following Formula.
Dimensional change rate (%) = {(D2-D1) / D1} × 100
In addition, the said dimensional change rate was measured about both MD direction and TD direction.

続いて、エッチング後の測定サンプルを250℃で30分加熱した後、20℃、60%RHの恒温室に24時間放置した。その後、上記4つの穴について、それぞれの距離を測定した。加熱後における各穴の距離の測定値をD3として、次式により加熱前後の寸法変化率を求めた。
寸法変化率(%)={(D3−D2)/D2}×100
なお、上記寸法変化率は、MD方向及びTD方向の双方について測定した。
Subsequently, the measurement sample after etching was heated at 250 ° C. for 30 minutes and then left in a constant temperature room at 20 ° C. and 60% RH for 24 hours. Then, each distance was measured about the said four holes. The measured value of the distance of each hole after heating was set to D3, and the dimensional change rate before and after heating was obtained by the following formula.
Dimensional change rate (%) = {(D3-D2) / D2} × 100
In addition, the said dimensional change rate was measured about both MD direction and TD direction.

(金属箔の引き剥がし強度:接着強度)
JIS C6471の「6.5 引きはがし強さ」に従って、サンプルを作製し、5mm幅の金属箔部分を、180度の剥離角度、50mm/分の条件で剥離し、その荷重を測定した。
(Stripping strength of metal foil: Adhesive strength)
A sample was prepared according to “6.5 Peel Strength” of JIS C6471, and a 5 mm wide metal foil part was peeled off at a peeling angle of 180 degrees and 50 mm / min, and the load was measured.

(合成例1)
容量2000mlのガラス製フラスコにDMFを780g、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)を115.6g加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、3,3’4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)を78.7g徐々に添加した。続いて、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMEG)を3.8g添加し、氷浴下で30分間撹拌した。2.0gのTMEGを20gのDMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しながら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が3000poiseに達したところで添加、撹拌をやめ、ポリアミド酸溶液を得た。
(Synthesis Example 1)
780 g of DMF and 115.6 g of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) were added to a glass flask having a capacity of 2000 ml, and 3,3′4 while stirring under a nitrogen atmosphere. , 4′-Biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) was gradually added. Subsequently, 3.8 g of ethylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) (TMEG) was added and stirred for 30 minutes in an ice bath. A solution in which 2.0 g of TMEG was dissolved in 20 g of DMF was separately prepared, and this was gradually added to the reaction solution while being careful of the viscosity and stirred. When the viscosity reached 3000 poise, addition and stirring were stopped to obtain a polyamic acid solution.

このポリアミド酸溶液を25μmPETフィルム(セラピールHP,東洋メタライジング社製)上に最終厚みが20μmとなるように流延し、120℃で5分間乾燥を行った。乾燥後の自己支持性フィルムをPETから剥離した後、金属製のピン枠に固定し、150℃で5分間、200℃で5分間、250℃で5分間、350℃で5分間乾燥を行い、単層シートを得た。この熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度は240℃であった。また、熱可塑性の判定において、圧縮永久変形が生じたため熱可塑性を有していることがわかった。   This polyamic acid solution was cast on a 25 μm PET film (Therapy HP, manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.) so as to have a final thickness of 20 μm, and dried at 120 ° C. for 5 minutes. After peeling off the dried self-supporting film from PET, it is fixed to a metal pin frame and dried at 150 ° C. for 5 minutes, 200 ° C. for 5 minutes, 250 ° C. for 5 minutes, 350 ° C. for 5 minutes, A single layer sheet was obtained. The glass transition temperature of this thermoplastic polyimide was 240 ° C. Further, in the determination of thermoplasticity, it was found that the thermoplastic has thermoplasticity due to the occurrence of permanent compression deformation.

(実施例1)
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)229kgにp−フェニレンジアミン(p−PDA)6.20kg、4,4’−オキシジアニリン(ODA)11.50kgを溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)を18.50kgを添加し溶解させ、さらにp−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMHQ)15.79kgを溶解させた。ここに更にピロメリット酸二無水物(PMDA)4.01kgを添加し1時間撹拌して完全に溶解させた。別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=1.0kg:14kg)を上記反応液に徐々に添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度19重量%、23℃での回転粘度が3400ポイズのポリアミド酸溶液を得た。
Example 1
After dissolving 6.20 kg of p-phenylenediamine (p-PDA) and 11.50 kg of 4,4′-oxydianiline (ODA) in 229 kg of N, N-dimethylformamide (DMF) cooled to 10 ° C., benzophenone tetra 18.50 kg of carboxylic acid dianhydride (BTDA) was added and dissolved, and 15.79 kg of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) (TMHQ) was further dissolved. To this, 4.01 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was further added and stirred for 1 hour to completely dissolve it. A separately prepared DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 1.0 kg: 14 kg) was gradually added to the reaction solution, and the addition was stopped when the viscosity reached about 3000 poise. Stirring was performed for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 19% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3400 poise.

このポリアミック酸溶液に、無水酢酸/イソキノリン/DMF(重量比18.90/7.17/18.93)からなる硬化剤をポリアミック酸溶液に対して重量比50%で連続的にミキサーで攪拌しTダイから押出してダイの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×100秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして(揮発分含量45重量%)テンタークリップに固定し、300℃×20秒、450℃×20秒、500℃×20秒で乾燥・イミド化させた後、プラズマ処理して17μmのポリイミドフィルムを得た。
貯蔵弾性率低下開始温度:265℃
380℃での貯蔵弾性率:0.3GPa
引張弾性率:6GPa
線膨張係数:17ppm
合成例1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、17μmの上記ポリイミドフィルムの両面に、熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが4μmとなるようにポリアミド酸を塗布した後、140℃で1分間加熱を行った。続いて、雰囲気温度390℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。線膨張係数は23ppmであった。得られた接着フィルムの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側にアピカル125NPI(鐘淵化学工業株式会社社製)を保護材料として、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、フレキシブル銅張積層板(FCCL)を作製した。このFCCLの特性を表1に示す。
In this polyamic acid solution, a curing agent composed of acetic anhydride / isoquinoline / DMF (weight ratio 18.90 / 7.17 / 18.93) was continuously stirred with a mixer at a weight ratio of 50% with respect to the polyamic acid solution. It was extruded from a T die and cast onto a stainless endless belt running 20 mm below the die. The resin film is heated at 130 ° C. for 100 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 45% by weight) and fixed to the tenter clip, 300 ° C. for 20 seconds, 450 ° C. × 20 After being dried and imidized at 500 ° C. for 20 seconds, plasma treatment was performed to obtain a 17 μm polyimide film.
Storage elastic modulus decrease start temperature: 265 ° C
Storage elastic modulus at 380 ° C .: 0.3 GPa
Tensile modulus: 6 GPa
Linear expansion coefficient: 17ppm
After diluting the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1 with DMF until the solid content concentration becomes 10% by weight, the final single-sided thickness of the thermoplastic polyimide layer (adhesive layer) is 4 μm on both sides of the 17 μm polyimide film. After applying the polyamic acid, heating was performed at 140 ° C. for 1 minute. Then, it passed through the far-infrared heater furnace with an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to carry out heating imidization to obtain an adhesive film. The linear expansion coefficient was 23 ppm. Polyimide using 18 μm rolled copper foil (BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy) on both sides of the obtained adhesive film and apical 125 NPI (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) on both sides of the copper foil as protective materials. Thermally laminating under the conditions of film tension 0.4N / cm, laminating temperature 380 ° C, laminating pressure 196N / cm (20kgf / cm), laminating speed 1.5m / min, flexible copper clad laminate (FCCL ) Was produced. Table 1 shows the characteristics of this FCCL.

(実施例2)
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)229kgに4,4’−オキシジアニリン(ODA)1.55kg、p−フェニレンジアミン(p−PDA)4.50kgを溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)を7.67kgを添加し溶解させ、さらにp−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMHQ)16.36kgを溶解させた。ここに更にピロメリット酸二無水物(PMDA)11.94kgを添加し1時間撹拌して完全に溶解させた。別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=1.04kg:14kg)を上記反応液に徐々に添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度19重量%、23℃での回転粘度が3200ポイズのポリアミド酸溶液を得た。
(Example 2)
After dissolving 1.55 kg of 4,4′-oxydianiline (ODA) and 4.50 kg of p-phenylenediamine (p-PDA) in 229 kg of N, N-dimethylformamide (DMF) cooled to 10 ° C., benzophenone tetra 7.67 kg of carboxylic dianhydride (BTDA) was added and dissolved, and further 16.36 kg of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) (TMHQ) was dissolved. To this, 11.94 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was further added and stirred for 1 hour to completely dissolve it. A separately prepared DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 1.04 kg: 14 kg) was gradually added to the reaction solution, and the addition was stopped when the viscosity reached about 3000 poise. Stirring was performed for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 19% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3200 poise.

このポリアミック酸溶液に、無水酢酸/イソキノリン/DMF(重量比18.90/7.17/18.93)からなる硬化剤をポリアミック酸溶液に対して重量比50%で連続的にミキサーで攪拌しTダイから押出してダイの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×100秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして(揮発分含量45重量%)テンタークリップに固定し、300℃×20秒、450℃×20秒、500℃×20秒で乾燥・イミド化させた後、プラズマ処理して17μmのポリイミドフィルムを得た。
貯蔵弾性率低下開始温度:277℃
380℃での貯蔵弾性率:0.5GPa
引張弾性率: 5.3GPa
線膨張係数:17ppm
合成例1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、17μmの上記ポリイミドフィルムの両面に、熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが4μmとなるようにポリアミド酸を塗布した後、140℃で1分間加熱を行った。続いて、雰囲気温度390℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。線膨張係数は23ppmであった。得られた接着フィルムの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側にアピカル125NPI(鐘淵化学工業株式会社社製)を保護材料として、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、FCCLを作製した。このFCCLの特性を表1に示す。
In this polyamic acid solution, a curing agent composed of acetic anhydride / isoquinoline / DMF (weight ratio 18.90 / 7.17 / 18.93) was continuously stirred with a mixer at a weight ratio of 50% with respect to the polyamic acid solution. It was extruded from a T die and cast onto a stainless endless belt running 20 mm below the die. The resin film is heated at 130 ° C. for 100 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 45% by weight) and fixed to the tenter clip, 300 ° C. for 20 seconds, 450 ° C. × 20 After being dried and imidized at 500 ° C. for 20 seconds, plasma treatment was performed to obtain a 17 μm polyimide film.
Storage elastic modulus decrease start temperature: 277 ° C
Storage elastic modulus at 380 ° C .: 0.5 GPa
Tensile modulus: 5.3 GPa
Linear expansion coefficient: 17ppm
After diluting the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1 with DMF until the solid content concentration becomes 10% by weight, the final single-sided thickness of the thermoplastic polyimide layer (adhesive layer) is 4 μm on both sides of the 17 μm polyimide film. After applying the polyamic acid, heating was performed at 140 ° C. for 1 minute. Then, it passed through the far-infrared heater furnace with an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to carry out heating imidization to obtain an adhesive film. The linear expansion coefficient was 23 ppm. Polyimide using 18 μm rolled copper foil (BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy) on both sides of the obtained adhesive film and apical 125 NPI (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) on both sides of the copper foil as protective materials. FCCL was produced by continuous thermal lamination under the conditions of film tension of 0.4 N / cm, laminating temperature of 380 ° C., laminating pressure of 196 N / cm (20 kgf / cm), laminating speed of 1.5 m / min. Table 1 shows the characteristics of this FCCL.

参考例3;ポリイミドフィルムの製造)
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)234kgにp−フェニレンジアミン(p−PDA)4.08kgを溶解した後、ピロメリット酸二無水物(PMDA)4.12kgを添加し1時間撹拌して完全に溶解させた。さらに2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)を15.50kg溶解させた後、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMHQ)10.38kgを溶解させた。ここに更にピロメリット酸二無水物(PMDA)6.76kgを添加し1時間撹拌して完全に溶解させた。別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=0.65kg:9kg)を上記反応液に徐々に添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度19重量%、23℃での回転粘度が3200ポイズのポリアミド酸溶液を得た。
( Reference Example 3; Production of polyimide film)
After dissolving 4.08 kg of p-phenylenediamine (p-PDA) in 234 kg of N, N-dimethylformamide (DMF) cooled to 10 ° C., 4.12 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was added for 1 hour. Stir to dissolve completely. Further, 15.50 kg of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) was dissolved, and then p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) (TMHQ) 10.38 kg. Was dissolved. Further, 6.76 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was added thereto and stirred for 1 hour to completely dissolve. A separately prepared DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 0.65 kg: 9 kg) was gradually added to the reaction solution, and the addition was stopped when the viscosity reached about 3000 poise. Stirring was performed for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 19% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3200 poise.

このポリアミック酸溶液に、無水酢酸/イソキノリン/DMF(重量比18.90/7.17/18.93)からなる硬化剤をポリアミック酸溶液に対して重量比50%で連続的にミキサーで攪拌しTダイから押出してダイの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×100秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして(揮発分含量45重量%)テンタークリップに固定し、300℃×20秒、450℃×20秒、500℃×20秒で乾燥・イミド化させた後、プラズマ処理して17μmのポリイミドフィルムを得た。
貯蔵弾性率低下開始温度:285℃
380℃での貯蔵弾性率:0.7GPa
引張弾性率:4.5GPa
線膨張係数:19ppm
合成例1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、17μmの上記ポリイミドフィルムの両面に、熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが3μmとなるようにポリアミド酸を塗布した後、140℃で1分間加熱を行った。続いて、雰囲気温度390℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。線膨張係数は24ppmであった。得られた接着フィルムの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側にアピカル125NPI(鐘淵化学工業株式会社社製)を保護材料として、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、FCCLを作製した。このFCCLの特性を表1に示す。
In this polyamic acid solution, a curing agent composed of acetic anhydride / isoquinoline / DMF (weight ratio 18.90 / 7.17 / 18.93) was continuously stirred with a mixer at a weight ratio of 50% with respect to the polyamic acid solution. It was extruded from a T die and cast onto a stainless endless belt running 20 mm below the die. The resin film is heated at 130 ° C. for 100 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 45% by weight) and fixed to the tenter clip, 300 ° C. for 20 seconds, 450 ° C. × 20 After being dried and imidized at 500 ° C. for 20 seconds, plasma treatment was performed to obtain a 17 μm polyimide film.
Storage elastic modulus decrease start temperature: 285 ° C
Storage elastic modulus at 380 ° C .: 0.7 GPa
Tensile modulus: 4.5 GPa
Linear expansion coefficient: 19ppm
After diluting the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1 with DMF until the solid content concentration becomes 10% by weight, the final single-sided thickness of the thermoplastic polyimide layer (adhesive layer) is 3 μm on both sides of the 17 μm polyimide film. After applying the polyamic acid, heating was performed at 140 ° C. for 1 minute. Then, it passed through the far-infrared heater furnace with an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to carry out heating imidization to obtain an adhesive film. The linear expansion coefficient was 24 ppm. Polyimide using 18 μm rolled copper foil (BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy) on both sides of the obtained adhesive film and apical 125 NPI (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) on both sides of the copper foil as protective materials. FCCL was produced by continuous thermal lamination under the conditions of film tension of 0.4 N / cm, laminating temperature of 380 ° C., laminating pressure of 196 N / cm (20 kgf / cm), laminating speed of 1.5 m / min. Table 1 shows the characteristics of this FCCL.

(実施例4)
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)233kgにp−フェニレンジアミン(p−PDA)3.09kgを溶解した後、ピロメリット酸二無水物(PMDA)5.98kgを添加し1時間撹拌して完全に溶解させた。さらに4,4’−オキシジアニリン(ODA)17.17kg溶解させた後、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMHQ)15.72kgを溶解させた。ここにBTDAを11.05kg加え溶解させ、更にピロメリット酸二無水物(PMDA)3.19kgを添加し1時間撹拌して完全に溶解させた。別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=0.80kg:10kg)を上記反応液に徐々に添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度19重量%、23℃での回転粘度が3500ポイズのポリアミド酸溶液を得た。
Example 4
After dissolving 3.09 kg of p-phenylenediamine (p-PDA) in 233 kg of N, N-dimethylformamide (DMF) cooled to 10 ° C., 5.98 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was added for 1 hour. Stir to dissolve completely. Further, after 17.17 kg of 4,4′-oxydianiline (ODA) was dissolved, 15.72 kg of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) (TMHQ) was dissolved. Here, 11.05 kg of BTDA was added and dissolved, and 3.19 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was further added and stirred for 1 hour to completely dissolve. A separately prepared DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 0.80 kg: 10 kg) was gradually added to the reaction solution, and the addition was stopped when the viscosity reached about 3000 poise. Stirring was performed for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 19% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3500 poise.

このポリアミック酸溶液に、無水酢酸/イソキノリン/DMF(重量比18.90/7.17/18.93)からなる硬化剤をポリアミック酸溶液に対して重量比50%で連続的にミキサーで攪拌しTダイから押出してダイの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×100秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして(揮発分含量45重量%)テンタークリップに固定し、300℃×20秒、450℃×20秒、500℃×20秒で乾燥・イミド化させた後、プラズマ処理して17μmのポリイミドフィルムを得た。
貯蔵弾性率低下開始温度:252℃
380℃での貯蔵弾性率:0.2GPa
引張弾性率:6.5GPa
線膨張係数:12ppm
合成例1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、17μmの上記ポリイミドフィルムの両面に、熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが4.5μmとなるようにポリアミド酸を塗布した後、140℃で1分間加熱を行った。続いて、雰囲気温度390℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。線膨張係数は22ppmであった。得られた接着フィルムの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側にアピカル125NPI(鐘淵化学工業株式会社社製)を保護材料として、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、FCCLを作製した。このFCCLの特性を表1に示す。
In this polyamic acid solution, a curing agent composed of acetic anhydride / isoquinoline / DMF (weight ratio 18.90 / 7.17 / 18.93) was continuously stirred with a mixer at a weight ratio of 50% with respect to the polyamic acid solution. It was extruded from a T die and cast onto a stainless endless belt running 20 mm below the die. The resin film is heated at 130 ° C. for 100 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 45% by weight) and fixed to the tenter clip, 300 ° C. for 20 seconds, 450 ° C. × 20 After being dried and imidized at 500 ° C. for 20 seconds, plasma treatment was performed to obtain a 17 μm polyimide film.
Storage elastic modulus decrease start temperature: 252 ° C
Storage elastic modulus at 380 ° C .: 0.2 GPa
Tensile modulus: 6.5 GPa
Linear expansion coefficient: 12ppm
After diluting the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1 with DMF to a solid content concentration of 10% by weight, the final single-sided thickness of the thermoplastic polyimide layer (adhesive layer) is 4. on both sides of the 17 μm polyimide film. After applying polyamic acid so as to be 5 μm, heating was performed at 140 ° C. for 1 minute. Then, it passed through the far-infrared heater furnace with an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to carry out heating imidization to obtain an adhesive film. The linear expansion coefficient was 22 ppm. Polyimide using 18 μm rolled copper foil (BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy) on both sides of the obtained adhesive film and apical 125 NPI (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) on both sides of the copper foil as protective materials. FCCL was produced by continuous thermal lamination under the conditions of film tension of 0.4 N / cm, laminating temperature of 380 ° C., laminating pressure of 196 N / cm (20 kgf / cm), laminating speed of 1.5 m / min. Table 1 shows the characteristics of this FCCL.

(比較例1)
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)235kgにp−PDAを5.96kg溶解させた後、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMHQ)15.15kgを溶解させた。ここにさらにベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)6.75kg加え完全溶解させた。さらに4,4’−オキシジアニリン(ODA)8.82kg加え溶解させた後、さらに2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン(BAPP)を4.52kg溶解させた。ここにBTDAを11.00kgを溶解させ、さらにPMDA4.79kgを添加し1時間撹拌して完全に溶解させた。別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=0.72kg:9kg)を上記反応液に徐々に添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度19重量%、23℃での回転粘度が3200ポイズのポリアミド酸溶液を得た。
(Comparative Example 1)
After dissolving 5.96 kg of p-PDA in 235 kg of N, N-dimethylformamide (DMF) cooled to 10 ° C., 15.15 kg of p-phenylenebis (trimellitic acid monoester anhydride) (TMHQ) is dissolved. I let you. Further, 6.75 kg of benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) was added and completely dissolved. Further, after 8.82 kg of 4,4′-oxydianiline (ODA) was added and dissolved, 4.52 kg of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP) was further dissolved. Here, 11.00 kg of BTDA was dissolved, and further 4.79 kg of PMDA was added and stirred for 1 hour to completely dissolve. A separately prepared DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 0.72 kg: 9 kg) was gradually added to the reaction solution, and the addition was stopped when the viscosity reached about 3000 poise. Stirring was performed for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 19% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3200 poise.

このポリアミック酸溶液に、無水酢酸/イソキノリン/DMF(重量比18.90/7.17/18.93)からなる硬化剤をポリアミック酸溶液に対して重量比50%で連続的にミキサーで攪拌しTダイから押出してダイの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×100秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして(揮発分含量45重量%)テンタークリップに固定し、300℃×20秒、450℃×20秒、500℃×20秒で乾燥・イミド化させた後、プラズマ処理して17μmのポリイミドフィルムを得た。
貯蔵弾性率低下開始温度:233℃
380℃での貯蔵弾性率:0.2GPa
引張弾性率:5.6GPa
線膨張係数:20ppm
合成例1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、17μmの上記ポリイミドフィルムの両面に、熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが2.5μmとなるようにポリアミド酸を塗布した後、140℃で1分間加熱を行った。続いて、雰囲気温度390℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。線膨張係数は23ppmであった。得られた接着フィルムの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側にアピカル125NPI(鐘淵化学工業株式会社社製)を保護材料として、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、FCCLを作製した。このFCCLの特性を表1に示す。
In this polyamic acid solution, a curing agent composed of acetic anhydride / isoquinoline / DMF (weight ratio 18.90 / 7.17 / 18.93) was continuously stirred with a mixer at a weight ratio of 50% with respect to the polyamic acid solution. It was extruded from a T die and cast onto a stainless endless belt running 20 mm below the die. The resin film is heated at 130 ° C. for 100 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 45% by weight) and fixed to the tenter clip, 300 ° C. for 20 seconds, 450 ° C. × 20 After being dried and imidized at 500 ° C. for 20 seconds, plasma treatment was performed to obtain a 17 μm polyimide film.
Storage elastic modulus decrease start temperature: 233 ° C
Storage elastic modulus at 380 ° C .: 0.2 GPa
Tensile modulus: 5.6 GPa
Linear expansion coefficient: 20ppm
After diluting the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1 with DMF until the solid content concentration becomes 10% by weight, the final thickness of one side of the thermoplastic polyimide layer (adhesive layer) on both sides of the 17 μm polyimide film is 2. After applying polyamic acid so as to be 5 μm, heating was performed at 140 ° C. for 1 minute. Then, it passed through the far-infrared heater furnace with an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to carry out heating imidization to obtain an adhesive film. The linear expansion coefficient was 23 ppm. Polyimide using 18 μm rolled copper foil (BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy) on both sides of the obtained adhesive film and apical 125 NPI (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) on both sides of the copper foil as protective materials. FCCL was produced by continuous thermal lamination under the conditions of film tension of 0.4 N / cm, laminating temperature of 380 ° C., laminating pressure of 196 N / cm (20 kgf / cm), laminating speed of 1.5 m / min. Table 1 shows the characteristics of this FCCL.

(比較例2)
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)234kgにp−PDA7.23kg添加し溶解させPMDA13.37kg添加し完全溶解させた。さらにBAPP1.83kg溶解させ、TMHQ7.66kg加え完全溶解させた。ここにさらにBTDA9.70kg添加し1時間撹拌して完全溶解させた。別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=0.73kg:9kg)を上記反応液に徐々に添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度19重量%、23℃での回転粘度が3300ポイズのポリアミド酸溶液を得た。
(Comparative Example 2)
To 234 kg of N, N-dimethylformamide (DMF) cooled to 10 ° C., 7.23 kg of p-PDA was added and dissolved, and 13.37 kg of PMDA was added and completely dissolved. Further, 1.83 kg of BAPP was dissolved, and 7.66 kg of TMHQ was added and completely dissolved. Further, 9.70 kg of BTDA was added thereto and stirred for 1 hour to completely dissolve. A separately prepared DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 0.73 kg: 9 kg) was gradually added to the reaction solution, and the addition was stopped when the viscosity reached about 3000 poise. Stirring was performed for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 19% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3300 poise.

このポリアミック酸溶液に、無水酢酸/イソキノリン/DMF(重量比18.90/7.17/18.93)からなる硬化剤をポリアミック酸溶液に対して重量比50%で連続的にミキサーで攪拌しTダイから押出してダイの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×100秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして(揮発分含量45重量%)テンタークリップに固定し、300℃×20秒、450℃×20秒、500℃×20秒で乾燥・イミド化させた後、プラズマ処理して17μmのポリイミドフィルムを得た。
貯蔵弾性率低下開始温度:265℃
380℃での貯蔵弾性率:2GPa
引張弾性率:7GPa
線膨張係数:7ppm
合成例1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、17μmの上記ポリイミドフィルムの両面に、熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが5μmとなるようにポリアミド酸を塗布した後、140℃で1分間加熱を行った。続いて、雰囲気温度390℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。線膨張係数は21ppmであった。得られた接着フィルムの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側にアピカル125NPI(鐘淵化学工業株式会社社製)を保護材料として、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、FCCLを作製した。このFCCLの特性を表1に示す。
In this polyamic acid solution, a curing agent composed of acetic anhydride / isoquinoline / DMF (weight ratio 18.90 / 7.17 / 18.93) was continuously stirred with a mixer at a weight ratio of 50% with respect to the polyamic acid solution. It was extruded from a T die and cast onto a stainless endless belt running 20 mm below the die. The resin film is heated at 130 ° C. for 100 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 45% by weight) and fixed to the tenter clip, 300 ° C. for 20 seconds, 450 ° C. × 20 After being dried and imidized at 500 ° C. for 20 seconds, plasma treatment was performed to obtain a 17 μm polyimide film.
Storage elastic modulus decrease start temperature: 265 ° C
Storage elastic modulus at 380 ° C .: 2 GPa
Tensile modulus: 7 GPa
Linear expansion coefficient: 7ppm
After diluting the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1 with DMF to a solid content concentration of 10% by weight, the final thickness of one side of the thermoplastic polyimide layer (adhesive layer) is 5 μm on both sides of the 17 μm polyimide film. After applying the polyamic acid, heating was performed at 140 ° C. for 1 minute. Then, it passed through the far-infrared heater furnace with an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to carry out heating imidization to obtain an adhesive film. The linear expansion coefficient was 21 ppm. Polyimide using 18 μm rolled copper foil (BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy) on both sides of the obtained adhesive film and apical 125 NPI (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) on both sides of the copper foil as protective materials. FCCL was produced by continuous thermal lamination under the conditions of film tension of 0.4 N / cm, laminating temperature of 380 ° C., laminating pressure of 196 N / cm (20 kgf / cm), laminating speed of 1.5 m / min. Table 1 shows the characteristics of this FCCL.

(比較例3)
10℃に冷却したN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)232kgに4,4’−オキシジアニリン(ODA)13.35kg、p−フェニレンジアミン(p−PDA)7.21kgを溶解した後、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)を12.89kgを添加し溶解させ、さらにp−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)(TMHQ)6.11kgを溶解させた。ここに更にピロメリット酸二無水物(PMDA)16.58kgを添加し1時間撹拌して完全に溶解させた。別途調製しておいたPMDAのDMF溶液(PMDA:DMF=0.87kg:11kg)を上記反応液に徐々に添加し、粘度が3000ポイズ程度に達したところで添加を止めた。1時間撹拌を行って固形分濃度19重量%、23℃での回転粘度が3400ポイズのポリアミド酸溶液を得た。
(Comparative Example 3)
After dissolving 13.4 kg of 4,4′-oxydianiline (ODA) and 7.21 kg of p-phenylenediamine (p-PDA) in 232 kg of N, N-dimethylformamide (DMF) cooled to 10 ° C., benzophenone tetra Carboxylic dianhydride (BTDA) was added and dissolved in 12.89 kg, and p-phenylenebis (trimellitic acid monoester acid anhydride) (TMHQ) in 6.11 kg was dissolved. Further, 16.58 kg of pyromellitic dianhydride (PMDA) was added thereto and stirred for 1 hour to completely dissolve. A separately prepared DMF solution of PMDA (PMDA: DMF = 0.87 kg: 11 kg) was gradually added to the reaction solution, and the addition was stopped when the viscosity reached about 3000 poise. Stirring was performed for 1 hour to obtain a polyamic acid solution having a solid content of 19% by weight and a rotational viscosity at 23 ° C. of 3400 poise.

このポリアミック酸溶液に、無水酢酸/イソキノリン/DMF(重量比18.90/7.17/18.93)からなる硬化剤をポリアミック酸溶液に対して重量比50%で連続的にミキサーで攪拌しTダイから押出してダイの下20mmを走行しているステンレス製のエンドレスベルト上に流延した。この樹脂膜を130℃×100秒で加熱した後エンドレスベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして(揮発分含量45重量%)テンタークリップに固定し、300℃×20秒、450℃×20秒、500℃×20秒で乾燥・イミド化させた後、プラズマ処理して17μmのポリイミドフィルムを得た。
貯蔵弾性率低下開始温度:312℃
380℃での貯蔵弾性率:1.5GPa
引張弾性率: 6.1GPa
線膨張係数:15ppm
合成例1で得られたポリアミド酸溶液を固形分濃度10重量%になるまでDMFで希釈した後、17μmの上記ポリイミドフィルムの両面に、熱可塑性ポリイミド層(接着層)の最終片面厚みが4μmとなるようにポリアミド酸を塗布した後、140℃で1分間加熱を行った。続いて、雰囲気温度390℃の遠赤外線ヒーター炉の中を20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。線膨張係数は23ppmであった。得られた接着フィルムの両側に18μm圧延銅箔(BHY−22B−T,ジャパンエナジー社製)を、さらに銅箔の両側にアピカル125NPI(鐘淵化学工業株式会社社製)を保護材料として、ポリイミドフィルムの張力0.4N/cm、ラミネート温度380℃、ラミネート圧力196N/cm(20kgf/cm)、ラミネート速度1.5m/分の条件で連続的に熱ラミネートを行い、FCCLを作製した。このFCCLの特性を表1に示す。
In this polyamic acid solution, a curing agent composed of acetic anhydride / isoquinoline / DMF (weight ratio 18.90 / 7.17 / 18.93) was continuously stirred with a mixer at a weight ratio of 50% with respect to the polyamic acid solution. It was extruded from a T die and cast onto a stainless endless belt running 20 mm below the die. The resin film is heated at 130 ° C. for 100 seconds, and then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 45% by weight) and fixed to the tenter clip, 300 ° C. for 20 seconds, 450 ° C. × 20 After being dried and imidized at 500 ° C. for 20 seconds, plasma treatment was performed to obtain a 17 μm polyimide film.
Storage elastic modulus decrease start temperature: 312 ° C
Storage elastic modulus at 380 ° C .: 1.5 GPa
Tensile modulus: 6.1 GPa
Linear expansion coefficient: 15ppm
After diluting the polyamic acid solution obtained in Synthesis Example 1 with DMF until the solid content concentration becomes 10% by weight, the final single-sided thickness of the thermoplastic polyimide layer (adhesive layer) is 4 μm on both sides of the 17 μm polyimide film. After applying the polyamic acid, heating was performed at 140 ° C. for 1 minute. Then, it passed through the far-infrared heater furnace with an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to carry out heating imidization to obtain an adhesive film. The linear expansion coefficient was 23 ppm. Polyimide using 18 μm rolled copper foil (BHY-22B-T, manufactured by Japan Energy) on both sides of the obtained adhesive film and apical 125 NPI (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.) on both sides of the copper foil as protective materials. FCCL was produced by continuous thermal lamination under the conditions of film tension of 0.4 N / cm, laminating temperature of 380 ° C., laminating pressure of 196 N / cm (20 kgf / cm), laminating speed of 1.5 m / min. Table 1 shows the characteristics of this FCCL.

Figure 0004551094
Figure 0004551094

比較例1〜比較例3に示すように、コアフィルムの特性が規定範囲外である場合は、熱ラミネート法では得られるフレキシブル金属張積層板の寸法変化ならびにそのばらつきが大きい結果となった。   As shown in Comparative Examples 1 to 3, when the properties of the core film were out of the specified range, the thermal laminate method resulted in large dimensional changes and variations in the flexible metal-clad laminate.

これに対し、全ての特性が所定範囲内となっている実施例1〜4では寸法変化の発生ならびに寸法変化のばらつきが抑制され、接着性の低下も見られなかった。   On the other hand, in Examples 1 to 4 in which all the characteristics are within the predetermined range, the occurrence of the dimensional change and the variation in the dimensional change were suppressed, and the adhesiveness was not deteriorated.

Claims (9)

絶縁性フィルムの少なくとも片面に接着層を設けた、フレキシブル金属張積層板用の接着フィルムであって、絶縁性フィルムの貯蔵弾性率低下開始温度が250℃以上、かつ金属箔貼り合わせ温度における絶縁性フィルムの貯蔵弾性率が0.01G〜1.0GPaであり、
上記絶縁性フィルムは、少なくともピロメリット酸二無水物および4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を含む酸二無水物と、少なくともp−フェニレンジアミンおよび4,4’−オキシジアニリンを含むジアミンとを用いて得られるポリイミドフィルムであることを特徴とする、接着フィルム。
An adhesive film for a flexible metal-clad laminate in which an adhesive layer is provided on at least one surface of the insulating film, the insulating film having a storage elastic modulus lowering start temperature of 250 ° C. or higher, and an insulating property at a metal foil bonding temperature storage modulus of the film is Ri 0.01G~1.0GPa der,
The insulating film includes an acid dianhydride including at least pyromellitic dianhydride and 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and at least p-phenylenediamine and 4,4′-oxydianiline. An adhesive film, which is a polyimide film obtained using diamine .
接着層が熱可塑性ポリイミドを含有することを特徴とする、請求項1記載の接着フィルム。   The adhesive film according to claim 1, wherein the adhesive layer contains a thermoplastic polyimide. 300℃以上の温度で金属箔と貼り合わせが可能であることを特徴とする、請求項1または2記載の接着フィルム。   The adhesive film according to claim 1, wherein the adhesive film can be bonded to the metal foil at a temperature of 300 ° C. or higher. 請求項1乃至3記載の接着フィルムに、一対以上の金属ロールを有する熱ロールラミネート装置を用いて金属箔を貼り合わせることを特徴とする、フレキシブル金属張積層板の製造方法。   A method for producing a flexible metal-clad laminate, comprising attaching a metal foil to the adhesive film according to claim 1 using a hot roll laminating apparatus having a pair of metal rolls. 加熱ロールと金属箔との間に、厚み75μm以上のポリイミドフィルムを保護材料として配して、接着フィルムと金属箔を貼り合わせることを特徴とする、請求項4記載のフレキシブル金属張積層板の製造方法。   5. A flexible metal-clad laminate according to claim 4, wherein a polyimide film having a thickness of 75 μm or more is disposed as a protective material between the heating roll and the metal foil, and the adhesive film and the metal foil are bonded together. Method. 接着フィルムと金属箔とを貼り合わせた後、金属箔の外側に保護材料を配したままの状態で、加熱ロールに0.1秒以上接触させることを特徴とする、請求項5記載のフレキシブル金属張積層板の製造方法。   6. The flexible metal according to claim 5, wherein after bonding the adhesive film and the metal foil, the heating metal is brought into contact with the heating roll for 0.1 second or more in a state where the protective material is disposed on the outside of the metal foil. A method for producing a tension laminate. 接着フィルムと金属箔とを貼り合わせた後、金属箔の外側に保護材料を配したままの状態で、1〜10N/cmの張力下、(ラミネート温度−200℃)〜(ラミネート温度+100℃)の温度雰囲気中で後加熱処理を行うことを特徴とする、請求項5または6記載のフレキシブル金属張積層板の製造方法。   After laminating the adhesive film and the metal foil, with the protective material remaining on the outside of the metal foil, under a tension of 1 to 10 N / cm, (lamination temperature -200 ° C.) to (lamination temperature + 100 ° C.) The method for producing a flexible metal-clad laminate according to claim 5 or 6, wherein post-heating treatment is performed in a temperature atmosphere of the following. 請求項4乃至7のいずれかの製造方法により得られるフレキシブル金属張積層板であって、金属箔を除去する前後の寸法変化率、ならびに金属箔除去後に250℃、30分の熱処理を行う前後の寸法変化率の合計値が、MD方向、TD方向共に−0.05〜+0.05%の範囲にあることを特徴とする、フレキシブル金属張積層板。   A flexible metal-clad laminate obtained by the manufacturing method according to any one of claims 4 to 7, wherein the rate of dimensional change before and after removing the metal foil, and before and after heat treatment at 250 ° C for 30 minutes after removing the metal foil A flexible metal-clad laminate having a total dimensional change rate in the range of -0.05 to + 0.05% in both the MD and TD directions. 金属箔を除去する前後の寸法変化率、ならびに金属箔除去後に250℃、30分の熱処理を行う前後の寸法変化率の合計値の標準偏差をσとした時、MD方向、TD方向共に3σが0.02以下であることを特徴とする、請求項8記載のフレキシブル金属張積層板。   When the standard deviation of the dimensional change rate before and after removing the metal foil and the total value of the dimensional change rate before and after performing heat treatment at 250 ° C. for 30 minutes after removing the metal foil is σ, 3σ in both the MD direction and the TD direction is 3σ. The flexible metal-clad laminate according to claim 8, wherein the flexible metal-clad laminate is 0.02 or less.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090155610A1 (en) * 2005-09-05 2009-06-18 Hisayasu Kaneshiro Heat-resistant adhesive sheet
JP5139631B2 (en) * 2005-09-27 2013-02-06 株式会社カネカ Polyimide film and metal-clad laminate
JP4852287B2 (en) * 2005-09-29 2012-01-11 株式会社カネカ Aromatic polyimide film
JP2007098905A (en) * 2005-10-07 2007-04-19 Toyobo Co Ltd Multilayered polyimide film
JP4805412B2 (en) * 2008-09-18 2011-11-02 古河電気工業株式会社 Metal-clad laminate, circuit board and electronic component
CN102712187B (en) * 2010-01-18 2016-03-30 株式会社钟化 Multilayer polyimide film and use have the flexible metal foil laminated plates of this multilayer polyimide film
JP5421138B2 (en) * 2010-01-25 2014-02-19 シーアイ化成株式会社 Sealing film for solar cell module and manufacturing method thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001270035A (en) * 2000-03-28 2001-10-02 Ube Ind Ltd Flexible metal foil laminate
JP2002192615A (en) * 2000-12-27 2002-07-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Laminated sheet manufacturing method
JP2002316386A (en) * 2001-04-20 2002-10-29 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Copper-clad laminate and its production method
JP2002326280A (en) * 2001-04-27 2002-11-12 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Method for producing heat resistant flexible laminated plate

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3039854B2 (en) * 1990-11-30 2000-05-08 宇部興産株式会社 Heat resistant resin adhesive sheet and substrate
JPH091723A (en) * 1995-04-17 1997-01-07 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Heat resisting bonding sheet
JPH10235784A (en) * 1997-02-28 1998-09-08 Shin Etsu Chem Co Ltd Manufacture of polyimide flexible printing circuit and cover lay film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001270035A (en) * 2000-03-28 2001-10-02 Ube Ind Ltd Flexible metal foil laminate
JP2002192615A (en) * 2000-12-27 2002-07-10 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Laminated sheet manufacturing method
JP2002316386A (en) * 2001-04-20 2002-10-29 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Copper-clad laminate and its production method
JP2002326280A (en) * 2001-04-27 2002-11-12 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Method for producing heat resistant flexible laminated plate

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