JP4541597B2 - Semiconductor device - Google Patents

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  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本願発明は、平面視略矩形状を呈する基板の周縁に接続端子が形成された半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図6は、半導体素子2が搭載された平面視略矩形状の基板101と、半導体素子2を封止するようにして基板101上に形成された封止樹脂4とを備えた半導体装置100である。この半導体装置100は、たとえばリモコン機器などに用いられる光受信モジュールとして形成されており、基板101の上面101aには、半導体素子2として、受光素子21と、この受光素子21を制御するための制御回路素子22とが搭載されている。また、封止樹脂4は、受光素子21が感応しうる光に対して透光性を有する樹脂により形成され、その一部には、受光素子上に光を集光するためのレンズ部41が一体的に形成されている。
【0003】
また、この半導体装置100は、外部の回路基板などに接続される接続端子群5が基板101の周縁に形成されており、面実装に適した構成とされている。より詳細には、上記接続端子群5は、Vcc端子、GND端子、および出力端子の3つの接続端子5A,5B,5Cにより構成されており、これらの接続端子5A,5B,5Cは、上記基板101の一端縁101cに形成されている。各接続端子5A,5B,5Cは、基板101の厚み方向に延びるように形成され、かつ内面に導体被膜が形成された凹溝51と、この凹溝51の開口部分を囲むようにして、基板1の上面101aおよび下面101bにそれぞれ形成された端子パッド31および端子パッド32とを有している。
【0004】
この半導体装置100を外部の回路基板に実装する場合、半導体装置100は、たとえば、上記基板101の裏面101bを下に向けて、外部の回路基板上に半田付けされる。この実装は、いわゆるリフローソルダリングの手法を採用することによって効率的に行なわれる。この方法では、まず、外部の回路基板上に形成された実装パッドに半田ペーストを塗布する。次いで、半導体装置100を、各接続端子5が各実装パッドに対応するようにして、外部の回路基板上に載置する。この載置工程は、たとえば公知のチップマウンターなどを用いることにより、自動化されうる。そして、半田ペーストをリフロー炉内で溶融させた後、これを冷却・固化する。このとき、各接続端子5A,5B,5Cの凹溝51と外部の回路基板上の実装パッドとの間には、半田フィレットが形成され、これにより、半導体装置100が外部の回路基板上に強固に固定される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年においては、半導体装置100の小型化が要望されており、これにより、上記接続端子5A,5B,5Cが形成されている基板101の面を外観から識別するのが困難となっている。したがって、上記載置工程において、上記従来の半導体装置100が、外部の回路基板に対して誤った回転姿勢で載置されることがあった。このような場合、半導体装置100の接続端子5A,5B,5Cが外部の回路基板の各実装パッド上に載らないため、これらを互いに半田付けすることができなくなり、半導体装置100が正常に動作しない。
【0006】
本願発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、外部の回路基板に対して誤った回転姿勢で実装されるのを防止することができる半導体装置を提供することをその課題とする。
【0007】
【発明の開示】
上記課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。
【0008】
すなわち、本願発明により提供される封止樹脂型半導体装置は、第1側面と、この第1側面と対向する第2側面とを有する平面視略矩形状の基板であって、上記第1側面の上位部分を形成する第1の端縁および上記第2側面の上位部分を形成する第2の端縁とを有する第1基板層と、上記第1基板層の下面側に積層され、上記第1側面の下位部分を形成する第3の端縁および上記第2側面の下位部分を形成する第4の端縁とを有し、上記第1基板層と同一の平面視形状を有する第2基板層と、を含む基板、上記第1基板層の上面側に封止樹脂で封止されて搭載された半導体素子、上記基板の第1側面側に設けられ、接続対象に接続される第1接続端子群、および、上記基板の第2側面側に設けられ、接続対象に接続される第2接続端子群、を備えており、上記第1接続端子群と上記第2接続端子群とは平面視において上記基板の中心に対して点対称に配置されており、かつ、上記第1接続端子群および第2接続端子群における互いに点対称の関係にある接続端子どうしは、上記第1基板層および上記第2基板層の表面裏面のいずれか一方または双方に形成され、互いに電気的に絶縁された配線パターンにより電気的に導通させられていることを特徴としている。
【0011】
好ましい実施の形態においてはさらに、上記半導体素子は、受光素子と、この受光素子のための制御回路素子とを含んでいるとともに、上記封止樹脂は、上記受光素子が感応しうる光に対して透光性を有しており、かつ、上記第1接続端子群および第2接続端子群を形成する接続端子は、それぞれ、互いに点対称の関係にあるGND端子、Vcc端子および出力端子を含んでいる構成とすることができる。
【0012】
本願発明においては、上記半導体装置は、たとえば上記基板の下面が下に向くように外部の回路基板に実装される。このとき、上記半導体装置は、上記第1接続端子群および第2接続端子群における互いに点対称の関係にある接続端子どうしが電気的に導通させられているので、外部の回路基板に形成された所定の実装パッド群に対して、第1接続端子群および第2接続端子群のいずれか一方が導通していれば、正常に作動することができる。したがって、上記半導体装置は、正常に作動しうる状態から180度回転した状態で実装されても、正常に作動する。その結果、半導体装置Aが外部の回路基板に対して誤った回転姿勢で実装されるのを抑制することができる。
【0013】
また、好ましい実施の形態においては、上記基板(第1基板層および第2基板層)は、平面視における縦方向寸法と横方向寸法とが異なるように形成されている。
【0014】
このような構成によれば、半導体装置の縦方向および横方向を、その外観から容易に識別することができる。したがって、上記半導体装置を外部の回路基板に実装する際に、上記半導体装置は、縦方向と横方向とが間違えられた状態で実装されることはない。すなわち、上記半導体装置は、正常に作動しうる状態から90度回転した状態で実装されることがない。その結果、半導体装置が外部の回路基板に対して誤った回転姿勢で実装されるのを確実に防止することができる。
【0015】
さらに、好ましい実施の形態においては、上記第1接続端子群を形成する接続端子および上記第2接続端子群を形成する接続端子は、それぞれ、上記基板の厚み方向に延びるように形成され、かつ内面に導体被膜が形成された凹溝を含んで形成されている。
【0016】
このような構成によれば、上記半導体装置を外部の回路基板に半田付けする際に、半田が上記凹溝内に入り込むので、上記半導体装置と半田との接触面積が大きくなり、上記半導体装置を強固に固定することができる。
【0017】
本願発明のその他の特徴および利点については、以下に行う発明の実施の形態の説明から、より明らかになるであろう。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本願発明の好ましい実施の形態について、図面を参照して具体的に説明する。
【0019】
図1は、本願発明に係る半導体装置の一例を示す概略斜視図、図2は、図1における基板を構成する一の基板層を示す平面図、図3は、図1における基板を構成する他の基板層を示す平面図、図4は、図1のIV−IV線に沿う断面図である。なお、これらの図において、従来例を示す図6に表された部材、部分等と同等のものにはそれぞれ同一の符号を付してある。
【0020】
図1に表れているように、この半導体装置Aは、基板1と、この基板1に搭載された半導体素子2と、半導体素子2を封止するようにして基板1上に形成された封止樹脂4とを具備して構成されている。この半導体装置Aは、たとえばリモコン機器などに用いられる光受信モジュールとして形成されたものであり、上記基板1の上面1aには、半導体素子2として、受光素子21と、この受光素子21のための制御回路素子22とが搭載されている。また、この半導体装置Aにおいては、外部の回路基板などに対して接続される接続端子として、Vcc端子、GND端子、および出力端子の3種類の接続端子が設けられている。
【0021】
上記基板1は、図1に示すように、平面視略矩形状に形成されており、互いに対向する第1の端縁1cおよび第2の端縁1dを有している。また、上記基板1は、本実施形態では、平面視における縦方向寸法と横方向寸法が異なるように形成されている。上記第1の端縁1cには、3つの接続端子5A,5B,5Cからなる第1接続端子群5が形成されており、上記第2の端縁1dには、3つの接続端子6A,6B,6Cからなる第2接続端子群6が形成されている。第1接続端子群5と第2接続端子群6とは、基板1の中心に対して点対称に配置されている。具体的には、接続端子5Aと接続端子6A、接続端子5Bと接続端子6B、そして接続端子5Cと接続端子6Cとが、それぞれ、互いに点対称の関係にある。接続端子5A(接続端子6A)、接続端子5B(接続端子6B)、および接続端子5C(接続端子6C)は、それぞれ、上記Vcc端子、GND端子、および出力端子のうちの1つに相当し、互いに点対称の関係にある接続端子どうしが、電気的に導通させられている。
【0022】
上記各接続端子5A,5B,5C,6A,6B,6Cは、図1に示すように、上記基板の厚み方向に延びるように形成され、かつ内面に導体被膜3(図4参照)が形成された凹溝51と、この凹溝51の開口部分を囲むようにして、基板1の上面1aおよび下面1bにそれぞれ形成された端子パッド31および端子パッド32とを有している。上記凹溝51は、たとえば、半導体装置Aの製造過程において、上記基板1となる基板エリアが複数設けられた原基板に対してスルーホールを貫通形成し、このスルーホールの内面に対して導体被膜3を形成した後、このスルーホールに沿って切断することによって形成される。このような場合、凹溝51は、略半円筒内面状あるいは略四半円筒内面状に形成される。なお、凹溝51上の導体被膜3は、図4に示すように、上記端子パッド31および端子パッド32と導通するように形成される。この導体被膜3の材質は、たとえば銅であり、その形成には、たとえば無電解メッキ法が用いられる。
【0023】
一方、上記端子パッド31(端子パッド32)は、基板1の上面1a(下面1b)に対して導体被膜を形成し、これをエッチングすることにより形成される。なお、基板1の上面1aには、図1に示すように、上記半導体素子2と接続端子5A,5B,5Cとを連絡する所定の導体パターンPが形成され、端子パッド31は、この導体パターンPを形成する際に同時に形成される。また、端子パッド31および端子パッド32の表面と、上記凹溝51上の導体被膜3の表面には、図4に示すように、Auメッキ層33が形成されており、これにより、この半導体装置Aを外部の回路基板などに対して良好に半田付けできる。なお、上記基板1の上面1aは、上記導体パターンPが外部に露出しないように、上記端子パッド31を除く領域がグリーンレジストなどの絶縁層(図示略)で覆われている。
【0024】
ところで、上述した、互いに点対称の関係にある接続端子どうし(接続端子5Aと接続端子6A、並びに接続端子5Bと接続端子6B、ないし接続端子5Cと接続端子6C)の電気的導通は、上記基板1の厚み方向において互いに電気的に絶縁しつつ配置された導体層7を介して行なわれる。このような導体層7は、上記基板1を多層基板とし、各層の表裏面に対して、接続端子5Aと接続端子6Aとを導通させるための配線パターン7A、接続端子5Bと接続端子6Bとを導通させるための配線パターン7B、および接続端子5Cと接続端子6Cとを導通させるための配線パターン7Cを選択的に形成することによって達成される。
【0025】
具体的には、本実施形態では、上記基板1は、図1および図4に示すように、ガラスエポキシなどの樹脂により形成された3枚の基板層11A,11B,11Cを積層してなり、これらは互いに絶縁性を有する接着剤9などにより互いに貼り付けられている。なお、基板層11A、基板層11B、および基板層11Cは、それぞれ、基板1の上層、中間層、および下層をなしている。
【0026】
上記配線パターン7Aは、図2において破線で示すように、上記基板層11Aの裏面に形成されている。配線パターン7Aは、上記接続端子5Aの一部をなす切欠き部50Aと接続端子6Aの一部をなす切欠き部60Aとの間に延びるように帯状に形成されており、かつ、接続端子5Aおよび接続端子6Aの導体被膜3と導通するように形成されている。
【0027】
上記配線パターン7Bは、図3において実線で示すように、上記基板層11Bの上面11Baに形成されている。配線パターン7Bは、上記接続端子5Bの一部をなす切欠き部50Bと接続端子6Bの一部をなす切欠き部60Bとの間に延びるように帯状に形成されており、かつ、図4に示すように、接続端子5Bおよび接続端子6Bの導体被膜3と導通するように形成されている。なお、上述したように、基板層11A,11Bは、絶縁性を有する接着材9により貼り付けられているので、配線パターン7Bは、配線パターン7Aに対して絶縁された状態となる。
【0028】
上記配線パターン7Cは、図3において破線で示すように、上記基板層11Bの裏面に形成されている。配線パターン7Cは、上記接続端子5Cの一部をなす切欠き部50Cと接続端子6Cの一部をなす切欠き部60Cとの間に延びるように帯状に形成されており、かつ、接続端子5Cおよび接続端子6Cの導体被膜3と導通するように形成されている。
【0029】
すなわち、上記基板層11Aは、図2に示すように、上面11Aaに上記所定の導体パターンPと上記端子パッド31とが形成され、裏面に上記配線パターン7Aが形成されることによって構成されている。上記基板層11Bは、図3に示すように、上面11Baに上記配線パターン7Bが形成され、裏面に上記配線パターン7Cが形成されることによって構成されている。また、上記基板層11Cの上面には、配線パターンが形成されておらず、基板層11Cの裏面には、上記端子パッド32が形成されている。なお、上記導体パターンPと上記端子パッド31は、従来例におけるものと同等のものとされており、これにより、本実施形態では、上記基板層11Aの上面11Aaを上記従来の半導体装置100における基板101の上面101aと同様に形成することができる。すなわち、上記従来の基板101の上面101aに対して設計変更を行う必要なく、上記基板1の上面1aを形成することができる。
【0030】
このようにして、上記基板層11A,11B,11Cにより基板1を形成することによって、上記配線パターン7A,7B,7Cは、基板1の厚み方向に互いに電気的に絶縁されつつ、互いに点対称の関係にある接続端子どうしを電気的に導通するように形成される。
【0031】
なお、本実施形態では、上記基板1は、3層基板とされているが、上記基板層11Bの裏面に対して、上記配線パターン7Cに加えて上記端子パッド32を形成した上、たとえばグリーンレジストなどにより絶縁層を形成することによって、基板1を、上記基板層11Cが含まれていない2層基板とすることもできる。
【0032】
上記発光素子21は、たとえば、PINフォトダイオードなどからなり、図1に示すように、上記所定の導体パターンPの各所に形成されたパッド部Pdに対してワイヤWを介して接続されている。
【0033】
上記制御回路素子22は、受光素子21による受信動作を制御するためのものであり、図1に示すように、パッド部Pdあるいは受光素子21に対してワイヤを介して接続されている。
【0034】
上記封止樹脂4は、たとえば顔料を含んだエポキシ樹脂など、上記受光素子が感応しうる光に対して透光性を有する樹脂により、トランスファーモールド法などの手法により形成される。この封止樹脂4は、上記受光素子21および制御回路素子22を封止するように形成されており、かつ、その一部には、受光素子21上に光を集光するためのレンズ部41が一体的に形成されている。
【0035】
次に、上記構成を有する半導体装置Aの作用を説明する。
【0036】
上記半導体装置Aは、上記第1接続端子群5と上記第2接続端子群6とが、上記基板1の中心に対して点対称に配置されている。すなわち、接続端子5Aと接続端子6A、並びに接続端子5Bと接続端子6B、ないし接続端子5Cと接続端子6Cは、それぞれ、基板1の中心に対して互いに点対称に配置されている。また、接続端子5Aと接続端子6A、並びに接続端子5Bと接続端子6B、ないし接続端子5Cと接続端子6Cは、それぞれ、電気的に導通させられている。したがって、半導体装置Aを、上記基板1の裏面1bが下に向くようにして外部の回路基板に実装する場合、外部の回路基板表面に形成された実装パッドに対して、第1接続端子群5および第2接続端子群6のいずれか一方の接続端子が当接するような回転姿勢をとるように半導体装置Aを載置すれば、半導体装置Aと外部の回路基板との接続を達成することができる。すなわち、半導体装置Aは、正常に作動しうる所定の回転姿勢に対して180度回転した姿勢で実装されても、正常に作動する。したがって、半導体装置Aが外部の回路基板に対して誤った回転姿勢で実装されるのを抑制することができる。
【0037】
また、上記半導体装置Aにおいては、上記基板1は、平面視における縦方向寸法と横方向寸法とが異なるように形成されている。したがって、半導体装置Aの縦方向および横方向を、その外観から容易に判別することができる。その結果、半導体装置Aは、上記所定の回転姿勢に対して90度回転した姿勢で実装されることがない。
【0038】
したがって、半導体装置Aが外部の回路基板に対して誤った回転姿勢で実装されるのを確実に防止することができる。
【0039】
もちろん、本願発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した事項の範囲内でのあらゆる設計変更はすべて本願発明の範囲に含まれる。
【0040】
たとえば、上記配線パターン7Aは、上記実施形態では、基板層11Aの裏面に形成されているが、図5に示すように、上記基板1の上面1aに形成されてもよい。
【0041】
また、たとえば、上記半導体装置Aは、上記実施形態では、3種類の接続端子を有する光受信モジュールとして形成されているが、さらに多くの種類の接続端子を有する半導体装置として形成することもできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願発明に係る半導体装置の一例を示す概略斜視図である。
【図2】図1における基板を構成する一の基板層を示す平面図である。
【図3】図1における基板を構成する他の基板層を示す平面図である。
【図4】図1のIV−IV線に沿う断面図である。
【図5】本願発明に係る半導体装置の一例を示す概略平面図である。
【図6】従来の半導体装置の一例を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
1 基板
1c 第1の端縁
1d 第2の端縁
2 半導体素子
3 導体被膜
4 封止樹脂
5 第1接続端子群
5A,5B,5C 第1接続端子群を形成する接続端子
6 第2接続端子群
6A,6B,6C 第2接続端子群を形成する接続端子
7 導体層
7A,7B,7C 配線パターン
21 受光素子
22 制御回路素子
51 凹溝
A 半導体装置
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor device in which connection terminals are formed on the periphery of a substrate having a substantially rectangular shape in plan view.
[0002]
[Prior art]
FIG. 6 shows a semiconductor device 100 including a substrate 101 having a substantially rectangular shape in plan view on which the semiconductor element 2 is mounted, and a sealing resin 4 formed on the substrate 101 so as to seal the semiconductor element 2. is there. The semiconductor device 100 is formed as an optical receiving module used for, for example, a remote control device. A light receiving element 21 as a semiconductor element 2 and a control for controlling the light receiving element 21 are formed on the upper surface 101 a of the substrate 101. A circuit element 22 is mounted. The sealing resin 4 is formed of a resin that is transparent to light to which the light receiving element 21 can respond, and a part of the sealing resin 4 includes a lens portion 41 for condensing light on the light receiving element. It is integrally formed.
[0003]
In addition, the semiconductor device 100 has a connection terminal group 5 connected to an external circuit board or the like formed on the periphery of the substrate 101, and has a configuration suitable for surface mounting. More specifically, the connection terminal group 5 includes three connection terminals 5A, 5B, and 5C, which are a Vcc terminal, a GND terminal, and an output terminal. These connection terminals 5A, 5B, and 5C are connected to the substrate. 101 is formed at one end edge 101 c of the substrate 101. Each of the connection terminals 5A, 5B, and 5C is formed so as to extend in the thickness direction of the substrate 101, and has a concave groove 51 having a conductor coating formed on the inner surface and an opening portion of the concave groove 51 so as to surround the substrate 1. A terminal pad 31 and a terminal pad 32 are formed on the upper surface 101a and the lower surface 101b, respectively.
[0004]
When the semiconductor device 100 is mounted on an external circuit board, the semiconductor device 100 is soldered onto the external circuit board, for example, with the back surface 101b of the substrate 101 facing down. This mounting is efficiently performed by adopting a so-called reflow soldering technique. In this method, first, a solder paste is applied to a mounting pad formed on an external circuit board. Next, the semiconductor device 100 is mounted on an external circuit board such that each connection terminal 5 corresponds to each mounting pad. This mounting process can be automated by using, for example, a known chip mounter. Then, after the solder paste is melted in a reflow furnace, it is cooled and solidified. At this time, a solder fillet is formed between the concave groove 51 of each of the connection terminals 5A, 5B, and 5C and the mounting pad on the external circuit board, whereby the semiconductor device 100 is firmly formed on the external circuit board. Fixed to.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in recent years, there has been a demand for downsizing of the semiconductor device 100, which makes it difficult to identify the surface of the substrate 101 on which the connection terminals 5A, 5B, and 5C are formed from the appearance. . Therefore, in the above placement process, the conventional semiconductor device 100 may be placed in an incorrect rotational posture with respect to the external circuit board. In such a case, since the connection terminals 5A, 5B, and 5C of the semiconductor device 100 are not placed on the respective mounting pads of the external circuit board, they cannot be soldered to each other, and the semiconductor device 100 does not operate normally. .
[0006]
The present invention has been conceived under the circumstances described above, and is to provide a semiconductor device capable of preventing an external circuit board from being mounted in an incorrect rotational posture. Let it be an issue.
[0007]
DISCLOSURE OF THE INVENTION
In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical means.
[0008]
That is, the sealing resin type semiconductor device provided by the present invention is a substrate having a substantially rectangular shape in a plan view having a first side surface and a second side surface facing the first side surface, a first substrate layer that the second having a and edges to form the top portion of the first edge and the second side forming the upper part, is laminated on the lower surface of the first substrate layer , the third edge Oyo and a fourth edge forming a lower portion of the beauty the second aspect, the same plan view shape as the first substrate layer to form a lower portion of the first side surface A semiconductor element mounted on the upper surface side of the first substrate layer and sealed with a sealing resin, provided on the first side surface side of the substrate, and connected to a connection target A first connection terminal group, and a second connection terminal group provided on the second side surface side of the substrate and connected to a connection target. The first connection terminal group and the second connection terminal group are arranged symmetrically with respect to the center of the substrate in plan view, and the first connection terminal group and the second connection terminal group The connection terminals having a point-symmetric relationship with each other are electrically formed by wiring patterns formed on one or both of the front surface and the back surface of the first substrate layer and the second substrate layer and electrically insulated from each other. It is characterized in that it is made conductive.
[0011]
In a preferred embodiment, the semiconductor element further includes a light receiving element and a control circuit element for the light receiving element, and the sealing resin is sensitive to light to which the light receiving element is sensitive. The connection terminals that are translucent and that form the first connection terminal group and the second connection terminal group include a GND terminal, a Vcc terminal, and an output terminal that are point-symmetric with each other. It can be set as a structure.
[0012]
In the present invention, the semiconductor device is mounted on an external circuit board, for example, such that the lower surface of the board faces downward. At this time, the semiconductor device is formed on an external circuit board because the connection terminals in the first connection terminal group and the second connection terminal group that are in point symmetry with each other are electrically connected to each other. If either one of the first connection terminal group and the second connection terminal group is electrically connected to the predetermined mounting pad group, it can operate normally. Therefore, the semiconductor device operates normally even when mounted in a state rotated 180 degrees from a state where it can operate normally. As a result, it is possible to prevent the semiconductor device A from being mounted in an incorrect rotation posture with respect to the external circuit board.
[0013]
Moreover, in preferable embodiment, the said board | substrate (1st board | substrate layer and 2nd board | substrate layer) is formed so that the vertical direction dimension and horizontal direction dimension in planar view may differ.
[0014]
According to such a configuration, the vertical direction and the horizontal direction of the semiconductor device can be easily identified from the appearance. Therefore, when the semiconductor device is mounted on an external circuit board, the semiconductor device is not mounted in a state where the vertical direction and the horizontal direction are mistaken. That is, the semiconductor device is not mounted in a state rotated 90 degrees from a state where it can operate normally. As a result, it is possible to reliably prevent the semiconductor device from being mounted on the external circuit board in an incorrect rotation posture.
[0015]
Furthermore, in a preferred embodiment, the connection terminals forming the first connection terminal group and the connection terminals forming the second connection terminal group are each formed so as to extend in the thickness direction of the substrate, and the inner surface. Is formed including a concave groove in which a conductor film is formed.
[0016]
According to such a configuration, when the semiconductor device is soldered to an external circuit board, the solder enters the concave groove, so that the contact area between the semiconductor device and the solder increases, and the semiconductor device is It can be firmly fixed.
[0017]
Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of embodiments of the invention.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
[0019]
1 is a schematic perspective view showing an example of a semiconductor device according to the present invention, FIG. 2 is a plan view showing one substrate layer constituting the substrate in FIG. 1, and FIG. 3 is another view showing the substrate in FIG. FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG. Note that, in these drawings, the same reference numerals are given to the equivalent parts, parts, and the like shown in FIG. 6 showing the conventional example.
[0020]
As shown in FIG. 1, the semiconductor device A includes a substrate 1, a semiconductor element 2 mounted on the substrate 1, and a sealing formed on the substrate 1 so as to seal the semiconductor element 2. The resin 4 is provided. The semiconductor device A is formed as an optical receiver module used for remote control equipment, for example. The semiconductor device A has a light receiving element 21 as a semiconductor element 2 on the upper surface 1a of the substrate 1 and a light receiving element 21 for the light receiving element 21. A control circuit element 22 is mounted. In the semiconductor device A, three types of connection terminals, a Vcc terminal, a GND terminal, and an output terminal, are provided as connection terminals connected to an external circuit board or the like.
[0021]
As shown in FIG. 1, the substrate 1 is formed in a substantially rectangular shape in plan view, and has a first end edge 1c and a second end edge 1d facing each other. Moreover, the said board | substrate 1 is formed so that the vertical dimension and horizontal dimension in planar view may differ in this embodiment. A first connection terminal group 5 including three connection terminals 5A, 5B, and 5C is formed on the first edge 1c, and three connection terminals 6A and 6B are formed on the second edge 1d. , 6C, a second connection terminal group 6 is formed. The first connection terminal group 5 and the second connection terminal group 6 are arranged point-symmetrically with respect to the center of the substrate 1. Specifically, the connection terminal 5A and the connection terminal 6A, the connection terminal 5B and the connection terminal 6B, and the connection terminal 5C and the connection terminal 6C are in a point-symmetric relationship with each other. The connection terminal 5A (connection terminal 6A), the connection terminal 5B (connection terminal 6B), and the connection terminal 5C (connection terminal 6C) correspond to one of the Vcc terminal, the GND terminal, and the output terminal, respectively. The connection terminals that are point-symmetric with each other are electrically connected.
[0022]
As shown in FIG. 1, each of the connection terminals 5A, 5B, 5C, 6A, 6B, 6C is formed so as to extend in the thickness direction of the substrate, and the conductor coating 3 (see FIG. 4) is formed on the inner surface. And a terminal pad 31 and a terminal pad 32 respectively formed on the upper surface 1a and the lower surface 1b of the substrate 1 so as to surround the opening of the concave groove 51. For example, in the manufacturing process of the semiconductor device A, the concave groove 51 is formed by penetrating a through hole with respect to an original substrate provided with a plurality of substrate areas to be the substrate 1, and a conductor coating on the inner surface of the through hole. 3 is formed and then cut along this through hole. In such a case, the concave groove 51 is formed in a substantially semi-cylindrical inner surface shape or a substantially quarter-cylindrical inner surface shape. The conductor coating 3 on the concave groove 51 is formed so as to be electrically connected to the terminal pad 31 and the terminal pad 32 as shown in FIG. The material of the conductor film 3 is, for example, copper, and for example, an electroless plating method is used for the formation.
[0023]
On the other hand, the terminal pad 31 (terminal pad 32) is formed by forming a conductor film on the upper surface 1a (lower surface 1b) of the substrate 1 and etching it. As shown in FIG. 1, a predetermined conductor pattern P that connects the semiconductor element 2 and the connection terminals 5A, 5B, and 5C is formed on the upper surface 1a of the substrate 1, and the terminal pad 31 is formed of the conductor pattern. It is formed simultaneously with the formation of P. Further, as shown in FIG. 4, an Au plating layer 33 is formed on the surface of the terminal pad 31 and the terminal pad 32 and the surface of the conductor coating 3 on the concave groove 51, whereby this semiconductor device is formed. A can be soldered well to an external circuit board or the like. The upper surface 1a of the substrate 1 is covered with an insulating layer (not shown) such as a green resist so that the conductor pattern P is not exposed to the outside.
[0024]
By the way, the electrical continuity between the connection terminals (the connection terminal 5A and the connection terminal 6A, and the connection terminal 5B and the connection terminal 6B, or the connection terminal 5C and the connection terminal 6C) which are in a point-symmetric relationship with each other, is described above. This is carried out via a conductor layer 7 which is arranged while being electrically insulated from each other in the thickness direction. Such a conductor layer 7 includes the substrate 1 as a multilayer substrate, and a wiring pattern 7A, a connection terminal 5B, and a connection terminal 6B for electrically connecting the connection terminal 5A and the connection terminal 6A to the front and back surfaces of each layer. This is achieved by selectively forming a wiring pattern 7B for electrical connection and a wiring pattern 7C for electrical connection between the connection terminal 5C and the connection terminal 6C.
[0025]
Specifically, in the present embodiment, the substrate 1 is formed by laminating three substrate layers 11A, 11B, and 11C formed of a resin such as glass epoxy as shown in FIGS. These are attached to each other by an adhesive 9 having insulating properties. The substrate layer 11A, the substrate layer 11B, and the substrate layer 11C constitute an upper layer, an intermediate layer, and a lower layer of the substrate 1, respectively.
[0026]
The wiring pattern 7A is formed on the back surface of the substrate layer 11A as indicated by a broken line in FIG. The wiring pattern 7A is formed in a strip shape so as to extend between the cutout portion 50A forming a part of the connection terminal 5A and the cutout portion 60A forming a part of the connection terminal 6A, and the connection terminal 5A. And it is formed so as to be electrically connected to the conductor coating 3 of the connection terminal 6A.
[0027]
The wiring pattern 7B is formed on the upper surface 11Ba of the substrate layer 11B as shown by a solid line in FIG. The wiring pattern 7B is formed in a strip shape so as to extend between the cutout portion 50B forming a part of the connection terminal 5B and the cutout portion 60B forming a part of the connection terminal 6B. As shown, it is formed to be electrically connected to the conductor coating 3 of the connection terminal 5B and the connection terminal 6B. As described above, since the substrate layers 11A and 11B are attached by the insulating adhesive 9, the wiring pattern 7B is insulated from the wiring pattern 7A.
[0028]
The wiring pattern 7C is formed on the back surface of the substrate layer 11B as indicated by a broken line in FIG. The wiring pattern 7C is formed in a band shape so as to extend between the cutout portion 50C forming part of the connection terminal 5C and the cutout portion 60C forming part of the connection terminal 6C, and the connection terminal 5C. And it is formed so as to be electrically connected to the conductor coating 3 of the connection terminal 6C.
[0029]
That is, as shown in FIG. 2, the substrate layer 11A is configured by forming the predetermined conductor pattern P and the terminal pad 31 on the upper surface 11Aa and forming the wiring pattern 7A on the back surface. . As shown in FIG. 3, the substrate layer 11B is configured by forming the wiring pattern 7B on the upper surface 11Ba and forming the wiring pattern 7C on the back surface. Further, no wiring pattern is formed on the upper surface of the substrate layer 11C, and the terminal pads 32 are formed on the back surface of the substrate layer 11C. The conductor pattern P and the terminal pad 31 are the same as those in the conventional example. Accordingly, in this embodiment, the upper surface 11Aa of the substrate layer 11A is the substrate in the conventional semiconductor device 100. It can be formed in the same manner as the upper surface 101a of the 101. That is, the upper surface 1a of the substrate 1 can be formed without having to change the design of the upper surface 101a of the conventional substrate 101.
[0030]
Thus, by forming the substrate 1 with the substrate layers 11A, 11B, and 11C, the wiring patterns 7A, 7B, and 7C are point-symmetric with each other while being electrically insulated from each other in the thickness direction of the substrate 1. It forms so that the connection terminal in a relationship may electrically conduct.
[0031]
In the present embodiment, the substrate 1 is a three-layer substrate, but the terminal pad 32 is formed on the back surface of the substrate layer 11B in addition to the wiring pattern 7C. By forming an insulating layer by, for example, the substrate 1 can be a two-layer substrate that does not include the substrate layer 11C.
[0032]
The light emitting element 21 is composed of, for example, a PIN photodiode and the like, and is connected to a pad portion Pd formed in various places of the predetermined conductor pattern P via a wire W as shown in FIG.
[0033]
The control circuit element 22 is for controlling the receiving operation by the light receiving element 21, and is connected to the pad portion Pd or the light receiving element 21 via a wire as shown in FIG.
[0034]
The sealing resin 4 is formed by a technique such as a transfer molding method using a resin having a light-transmitting property with respect to light to which the light receiving element can respond, such as an epoxy resin containing a pigment. The sealing resin 4 is formed so as to seal the light receiving element 21 and the control circuit element 22, and a lens part 41 for condensing light on the light receiving element 21 is partly included in the sealing resin 4. Are integrally formed.
[0035]
Next, the operation of the semiconductor device A having the above configuration will be described.
[0036]
In the semiconductor device A, the first connection terminal group 5 and the second connection terminal group 6 are arranged point-symmetrically with respect to the center of the substrate 1. That is, the connection terminal 5A and the connection terminal 6A, and the connection terminal 5B and the connection terminal 6B, or the connection terminal 5C and the connection terminal 6C are arranged point-symmetrically with respect to the center of the substrate 1, respectively. Further, the connection terminal 5A and the connection terminal 6A, and the connection terminal 5B and the connection terminal 6B, or the connection terminal 5C and the connection terminal 6C are electrically connected. Therefore, when the semiconductor device A is mounted on an external circuit board with the back surface 1b of the substrate 1 facing down, the first connection terminal group 5 with respect to the mounting pads formed on the surface of the external circuit board. If the semiconductor device A is placed so that any one of the connection terminals of the second connection terminal group 6 is in contact with the semiconductor device A, the connection between the semiconductor device A and an external circuit board can be achieved. it can. That is, the semiconductor device A operates normally even when mounted in a posture rotated 180 degrees with respect to a predetermined rotational posture capable of operating normally. Therefore, it is possible to prevent the semiconductor device A from being mounted in an incorrect rotation posture with respect to the external circuit board.
[0037]
In the semiconductor device A, the substrate 1 is formed so that the vertical dimension and the horizontal dimension in plan view are different. Therefore, the vertical direction and the horizontal direction of the semiconductor device A can be easily determined from the appearance. As a result, the semiconductor device A is not mounted in a posture rotated 90 degrees with respect to the predetermined rotation posture.
[0038]
Therefore, it is possible to reliably prevent the semiconductor device A from being mounted in an incorrect rotational posture with respect to the external circuit board.
[0039]
Of course, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and all design changes within the scope of the matters described in the claims are included in the scope of the present invention.
[0040]
For example, although the wiring pattern 7A is formed on the back surface of the substrate layer 11A in the embodiment, it may be formed on the upper surface 1a of the substrate 1 as shown in FIG.
[0041]
Further, for example, in the above embodiment, the semiconductor device A is formed as an optical receiving module having three types of connection terminals, but may be formed as a semiconductor device having more types of connection terminals.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing an example of a semiconductor device according to the present invention.
2 is a plan view showing one substrate layer constituting the substrate in FIG. 1. FIG.
3 is a plan view showing another substrate layer constituting the substrate in FIG. 1. FIG.
4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV in FIG.
FIG. 5 is a schematic plan view showing an example of a semiconductor device according to the present invention.
FIG. 6 is a schematic perspective view showing an example of a conventional semiconductor device.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate 1c 1st edge 1d 2nd edge 2 Semiconductor element 3 Conductive film 4 Sealing resin 5 1st connection terminal group 5A, 5B, 5C Connection terminal 6 which forms 1st connection terminal group 6 2nd connection terminal Group 6A, 6B, 6C Connection terminal 7 forming second connection terminal group 7 Conductor layers 7A, 7B, 7C Wiring pattern 21 Light receiving element 22 Control circuit element 51 Concave groove A Semiconductor device

Claims (4)

第1側面と、この第1側面と対向する第2側面とを有する平面視略矩形状の基板であって、上記第1側面の上位部分を形成する第1の端縁および上記第2側面の上位部分を形成する第2の端縁とを有する第1基板層と、上記第1基板層の下面側に積層され、上記第1側面の下位部分を形成する第3の端縁および上記第2側面の下位部分を形成する第4の端縁とを有し、上記第1基板層と同一の平面視形状を有する第2基板層と、を含む基板、
上記第1基板層の上面側に封止樹脂で封止されて搭載された半導体素子、
上記基板の第1側面側に設けられ、接続対象に接続される第1接続端子群、および、
上記基板の第2側面側に設けられ、接続対象に接続される第2接続端子群、を備えており、
上記第1接続端子群と上記第2接続端子群とは平面視において上記基板の中心に対して点対称に配置されており、かつ、上記第1接続端子群および第2接続端子群における互いに点対称の関係にある接続端子どうしは、上記第1基板層および上記第2基板層の表面裏面のいずれか一方または双方に形成され、互いに電気的に絶縁された配線パターンにより電気的に導通させられていることを特徴とする、半導体装置。
A first side surface, a generally rectangular plan view shape of the substrate and a second side surface opposite to the first side surface, the first edge and the second to form the upper portion of the first side surface a first substrate layer that having a second edge forming the upper portion of the side surface, is laminated on the lower surface of the first substrate layer, a third edge forming a lower portion of the first side surface and the fourth and a end edge that forms the lower portion of the second side, the substrate and a second substrate layer having the same plan view shape as the first substrate layer,
A semiconductor element mounted and sealed with a sealing resin on the upper surface side of the first substrate layer;
A first connection terminal group provided on the first side surface of the substrate and connected to a connection target; and
A second connection terminal group provided on the second side surface of the substrate and connected to a connection target;
The first connection terminal group and the second connection terminal group are arranged point-symmetrically with respect to the center of the substrate in plan view, and are mutually pointed in the first connection terminal group and the second connection terminal group. The symmetrical connection terminals are electrically connected by wiring patterns formed on one or both of the front and back surfaces of the first substrate layer and the second substrate layer and electrically insulated from each other. A semiconductor device.
上記第1接続端子群を形成する接続端子および上記第2接続端子群を形成する接続端子は、それぞれ、上記基板の厚み方向に延びるように形成され、かつ内面に導体被膜が形成された凹溝を含んで形成されている、請求項1に記載の半導体装置。  The connection terminals forming the first connection terminal group and the connection terminals forming the second connection terminal group are each formed so as to extend in the thickness direction of the substrate, and a concave groove in which a conductor film is formed on the inner surface. The semiconductor device according to claim 1, comprising: 上記第1基板層および第2基板層は、平面視における縦方向寸法と横方向寸法とが異なるように形成されている、請求項1または2に記載の半導体装置。  The semiconductor device according to claim 1, wherein the first substrate layer and the second substrate layer are formed so that a vertical dimension and a horizontal dimension in plan view are different. 上記半導体素子は、受光素子と、この受光素子のための制御回路素子とを含んでいるとともに、上記封止樹脂は、上記受光素子が感応しうる光に対して透光性を有しており、かつ、上記第1接続端子群および第2接続端子群を形成する接続端子は、それぞれ、互いに点対称の関係にあるGND端子、Vcc端子および出力端子を含んでいる、請求項1ないし3のいずれかに記載の半導体装置。  The semiconductor element includes a light receiving element and a control circuit element for the light receiving element, and the sealing resin has translucency with respect to light that the light receiving element can respond to. The connection terminals forming the first connection terminal group and the second connection terminal group respectively include a GND terminal, a Vcc terminal, and an output terminal that are point-symmetric with respect to each other. The semiconductor device according to any one of the above.
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