JP4540742B2 - 原子層成長装置および薄膜形成方法 - Google Patents
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Description
Deposition)ともいう)装置および薄膜形成方法に関するものである。
Plasma))、ECR(電子サイクロトロン共鳴プラズマ(Electron-Cyclotron Resonance Plasma))など様々なものが適用可能と考えられる。
棒状のアンテナ本体が誘電体で被覆されて形成された複数のアンテナ素子が平行に配設され、酸化ガスを用いてプラズマを発生するアンテナアレイと、
前記基板が載置される基板ステージであって、この基板ステージの上面に対して垂直方向に移動可能な基板ステージが配設された成膜容器と、
基板上に所定の膜を形成する時に、前記成膜容器の第1の側壁に形成された供給孔から前記成膜容器内の成膜室に、前記基板ステージに向けて原料ガスおよび酸化ガスを交互に供給するガス供給部と、
前記成膜容器の前記成膜室に交互に供給された原料ガスおよび酸化ガスを、前記第1の側壁と対向する第2の側壁に設けられた排気孔から排気する第1排気部と、を備える。
前記アンテナアレイは、前記複数のアンテナ素子のうち隣接するアンテナ素子同士の給電位置がアンテナ素子のお互いに対向する端部に設けられ、かつ、前記複数のアンテナ素子の前記給電位置が共通の電力源から給電を受けるように構成され、さらに、前記アンテナアレイは、前記基板ステージ上に前記基板が載置される位置よりも、前記供給孔から前記基板ステージに向けて供給される酸化ガスのガス流方向の上流側の空間に配設される。
前記ガス供給部が酸化ガスを供給するとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室内の底面との間の隙間であって、前記真空容器の室内を前記成膜室と、第2排気部と接続され前記成膜室の下方向に設けられた真空室とを連通する隙間を閉塞するストッパー部材が、前記成膜室の底面に設けられる。
前記ストッパー部材は、前記真空室が真空引きされ、かつ、移動可能な前記基板ステージの縁に設けられた段差が前記ストッパー部材と当接することにより前記隙間を閉塞するように構成される。
棒状のアンテナ本体が誘電体で被覆されて形成された複数のアンテナ素子が平行に配設され、窒化ガスを用いてプラズマを発生するアンテナアレイと、
前記基板が載置される基板ステージであって、この基板ステージの上面に対して垂直方向に移動可能な基板ステージが配設された成膜容器と、
基板上に所定の膜を形成する時に、前記成膜容器の第1の側壁に形成された供給孔から前記成膜容器内の成膜室に、前記基板ステージに向けて原料ガスおよび窒化ガスを交互に供給するガス供給部と、
前記成膜容器の前記成膜室に交互に供給された原料ガスおよび窒化ガスを、前記第1の側壁と対向する第2の側壁に設けられた排気孔から排気する第1排気部と、を備える。
前記アンテナアレイは、前記複数のアンテナ素子のうち隣接するアンテナ素子同士の給電位置がアンテナ素子のお互いに対向する端部に設けられ、かつ、前記複数のアンテナ素子の前記給電位置が共通の電力源から給電を受けるように構成され、さらに、前記アンテナアレイは、前記基板ステージ上に前記基板が載置される位置よりも、前記供給孔から前記基板ステージに向けて供給される窒化ガスのガス流方向の上流側の空間に配設される。
前記ガス供給部が窒化ガスを供給するとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室内の底面との間の隙間であって、前記真空容器の室内を前記成膜室と、第2排気部と接続され前記成膜室の下方向に設けられた真空室とを連通する隙間を閉塞するストッパー部材が、前記成膜室の底面に設けられる。
前記ストッパー部材は、前記真空室が真空引きされ、かつ、移動可能な前記基板ステージの縁に設けられた段差が前記ストッパー部材と当接することにより前記隙間を閉塞するように構成される。
前記アンテナアレイは、棒状のアンテナ本体が誘電体で被覆されて形成された複数のアンテナ素子が平行に配設され、前記複数のアンテナ素子のうち隣接するアンテナ素子同士の給電位置がアンテナ素子のお互いに対向する端部に設けられ、前記複数のアンテナ素子は共通の電力源から前記給電位置で給電を受けるように構成され、
前記成膜容器は、前記基板が載置される基板ステージであって、記基板ステージの上面に対して垂直方向に移動可能な基板ステージが配設され、
前記成膜容器で基板上に薄膜を形成するとき、
成膜容器内の前記成膜室に、前記成膜室の第1の側壁から原料ガスを供給して基板上に原料ガス成分を吸着させるステップと、
前記成膜容器の前記成膜室の第1の側壁と対向する第2の側壁から、前記原料ガスを排気するステップと、
前記成膜容器内の成膜室に前記第1の側壁から、酸化ガスを基板ステージに載置した基板に向けて供給するとともに、前記アンテナアレイに給電することにより、前記酸化ガスを用いてプラズマを発生させて活性な酸素を生成し、この活性な酸素を基板の一方の端から他方の端に向けて流し、この活性な酸素を用いて基板に吸着された原料ガス成分を酸化させるステップと、
前記酸化ガスを前記成膜室の前記第2の側壁から排気するステップと、を有する。
前記酸化ガスが前記成膜室に供給されるとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室内の底面との間の隙間であって、前記真空容器の室内を前記成膜室と、前記成膜室の下方向に設けられた、第2排気部と接続された真空室とを連通する隙間は、前記真空室が真空引きされ、かつ、移動可能な前記基板ステージの縁に設けられた段差が前記成膜室の底面に設けられたストッパー部材と当接されることにより閉塞される。
前記アンテナアレイは、棒状のアンテナ本体が誘電体で被覆されて形成された複数のアンテナ素子が平行に配設され、前記複数のアンテナ素子のうち隣接するアンテナ素子同士の給電位置がアンテナ素子のお互いに対向する端部に設けられ、前記複数のアンテナ素子は共通の電力源から前記給電位置で給電を受けるように構成され、
前記成膜容器には、前記基板が載置される基板ステージであって、記基板ステージの上面に対して垂直方向に移動可能な基板ステージが配設され、
前記成膜容器で基板上に薄膜を形成するとき、
成膜容器内の前記成膜室に、前記成膜室の第1の側壁から原料ガスを供給して基板上に原料ガス成分を吸着させるステップと、
前記成膜容器の前記成膜室の第1の側壁と対向する第2の側壁から、前記原料ガスを排気するステップと、
前記成膜容器内の成膜室に前記第1の側壁から、窒化ガスを基板ステージに載置した基板に向けて供給するとともに、前記アンテナアレイに給電することにより、前記窒化ガスを用いてプラズマを発生させて活性な窒素を生成し、この活性な窒素を基板の一方の端から他方の端に向けて流し、この活性な窒素を用いて基板に吸着された原料ガス成分を窒化させるステップと、
前記窒化ガスを前記成膜室の前記第2の側壁から排気するステップと、を有する。
前記窒化ガスが前記成膜室に供給されるとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室内の底面との間の隙間であって、前記真空容器の室内を前記成膜室と、前記成膜室の下方向に設けられた、第2排気部と接続された真空室とを連通する隙間は、前記真空室が真空引きされ、かつ、移動可能な前記基板ステージの縁に設けられた段差が前記成膜室の底面に設けられたストッパー部材と当接されることにより閉塞される。
以下の説明は、縦370mm×横470mm角の基板42表面にアルミナ膜(Al2O3)を形成した場合の一例である。
以上、本発明の原子層成長装置および薄膜形成方法について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
12 成膜容器
14 ガス供給部
16,17 排気部
18a,18b 供給管
20a、20b 供給孔
22,23 排気管
24,25 排気孔
26,26a、26b アンテナ素子
28 アンテナアレイ
30 ヒータ
32 基板ステージ
34 高周波電力供給部
36 分配器
38,38a、38b インピーダンス整合器
39,39a、39b アンテナ本体
40,40a、40b 円筒部材
42 成膜対象基板(基板)
44 昇降機構
46 ヒータストッパ
48 成膜室
49 突出部
50 真空室
51 隙間
Claims (7)
- 基板上に薄膜を形成する原子層成長装置であって、
棒状のアンテナ本体が誘電体で被覆されて形成された複数のアンテナ素子が平行に配設され、酸化ガスを用いてプラズマを発生するアンテナアレイと、
前記基板が載置される基板ステージであって、この基板ステージの上面に対して垂直方向に移動可能な基板ステージが配設された成膜容器と、
基板上に所定の膜を形成する時に、前記成膜容器の第1の側壁に形成された供給孔から前記成膜容器内の成膜室に、前記基板ステージに向けて原料ガスおよび酸化ガスを交互に供給するガス供給部と、
前記成膜容器の前記成膜室に交互に供給された原料ガスおよび酸化ガスを、前記第1の側壁と対向する第2の側壁に設けられた排気孔から排気する第1排気部と、を備え、
前記アンテナアレイは、前記複数のアンテナ素子のうち隣接するアンテナ素子同士の給電位置がアンテナ素子のお互いに対向する端部に設けられ、かつ、前記複数のアンテナ素子の前記給電位置が共通の電力源から給電を受けるように構成され、さらに、前記アンテナアレイは、前記基板ステージ上に前記基板が載置される位置よりも、前記供給孔から前記基板ステージに向けて供給される酸化ガスのガス流方向の上流側の空間に配設され、
前記ガス供給部が酸化ガスを供給するとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室内の底面との間の隙間であって、前記真空容器の室内を前記成膜室と、第2排気部と接続され前記成膜室の下方向に設けられた真空室とを連通する隙間を閉塞するストッパー部材が、前記成膜室の底面に設けられ、
前記ストッパー部材は、前記真空室が真空引きされ、かつ、移動可能な前記基板ステージの縁に設けられた段差が前記ストッパー部材と当接することにより前記隙間を閉塞するように構成される、ことを特徴とする原子層成長装置。 - 基板上に薄膜を形成する原子層成長装置であって、
棒状のアンテナ本体が誘電体で被覆されて形成された複数のアンテナ素子が平行に配設され、窒化ガスを用いてプラズマを発生するアンテナアレイと、
前記基板が載置される基板ステージであって、この基板ステージの上面に対して垂直方向に移動可能な基板ステージが配設された成膜容器と、
基板上に所定の膜を形成する時に、前記成膜容器の第1の側壁に形成された供給孔から前記成膜容器内の成膜室に、前記基板ステージに向けて原料ガスおよび窒化ガスを交互に供給するガス供給部と、
前記成膜容器の前記成膜室に交互に供給された原料ガスおよび窒化ガスを、前記第1の側壁と対向する第2の側壁に設けられた排気孔から排気する第1排気部と、を備え、
前記アンテナアレイは、前記複数のアンテナ素子のうち隣接するアンテナ素子同士の給電位置がアンテナ素子のお互いに対向する端部に設けられ、かつ、前記複数のアンテナ素子の前記給電位置が共通の電力源から給電を受けるように構成され、さらに、前記アンテナアレイは、前記基板ステージ上に前記基板が載置される位置よりも、前記供給孔から前記基板ステージに向けて供給される窒化ガスのガス流方向の上流側の空間に配設され、
前記ガス供給部が窒化ガスを供給するとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室内の底面との間の隙間であって、前記真空容器の室内を前記成膜室と、第2排気部と接続され前記成膜室の下方向に設けられた真空室とを連通する隙間を閉塞するストッパー部材が、前記成膜室の底面に設けられ、
前記ストッパー部材は、前記真空室が真空引きされ、かつ、移動可能な前記基板ステージの縁に設けられた段差が前記ストッパー部材と当接することにより前記隙間を閉塞するように構成される、ことを特徴とする原子層成長装置。 - 前記ガス供給部が酸化ガスまたは窒化ガスを供給するとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室の底面と、前記ストッパー部材の上面とは、面一になっている、請求項1または2に記載の原子層成長装置。
- 前記複数のアンテナ素子の各々は、前記基板ステージの面と平行な方向に配置され、前記複数のアンテナ素子の配列方向は、前記基板ステージの面と平行な方向であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の原子層成長装置。
- 前記複数のアンテナ素子の各々は、前記基板ステージの面と平行な方向に配置され、前記複数のアンテナ素子の配列方向は、前記基板ステージの面と垂直な方向である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の原子層成長装置。
- アンテナアレイを用いて、成膜容器内の成膜室で基板上に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、
前記アンテナアレイは、棒状のアンテナ本体が誘電体で被覆されて形成された複数のアンテナ素子が平行に配設され、前記複数のアンテナ素子のうち隣接するアンテナ素子同士の給電位置がアンテナ素子のお互いに対向する端部に設けられ、前記複数のアンテナ素子は共通の電力源から前記給電位置で給電を受けるように構成され、
前記成膜容器には、前記基板が載置される基板ステージであって、記基板ステージの上面に対して垂直方向に移動可能な基板ステージが配設され、
前記成膜容器で基板上に薄膜を形成するとき、
成膜容器内の前記成膜室に、前記成膜室の第1の側壁から原料ガスを供給して基板上に原料ガス成分を吸着させるステップと、
前記成膜容器の前記成膜室の第1の側壁と対向する第2の側壁から、前記原料ガスを排気するステップと、
前記成膜容器内の成膜室に前記第1の側壁から、酸化ガスを基板ステージに載置した基板に向けて供給するとともに、前記アンテナアレイに給電することにより、前記酸化ガスを用いてプラズマを発生させて活性な酸素を生成し、この活性な酸素を基板の一方の端から他方の端に向けて流し、この活性な酸素を用いて基板に吸着された原料ガス成分を酸化させるステップと、
前記酸化ガスを前記成膜室の前記第2の側壁から排気するステップと、を有し、
前記酸化ガスが前記成膜室に供給されるとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室内の底面との間の隙間であって、前記真空容器の室内を前記成膜室と、前記成膜室の下方向に設けられた、第2排気部と接続された真空室とを連通する隙間は、前記真空室が真空引きされ、かつ、移動可能な前記基板ステージの縁に設けられた段差が前記成膜室の底面に設けられたストッパー部材と当接されることにより閉塞される、ことを特徴とする薄膜形成方法。 - アンテナアレイを用いて、成膜容器内の成膜室で基板上に薄膜を形成する薄膜形成方法であって、
前記アンテナアレイは、棒状のアンテナ本体が誘電体で被覆されて形成された複数のアンテナ素子が平行に配設され、前記複数のアンテナ素子のうち隣接するアンテナ素子同士の給電位置がアンテナ素子のお互いに対向する端部に設けられ、前記複数のアンテナ素子は共通の電力源から前記給電位置で給電を受けるように構成され、
前記成膜容器には、前記基板が載置される基板ステージであって、記基板ステージの上面に対して垂直方向に移動可能な基板ステージが配設され、
前記成膜容器で基板上に薄膜を形成するとき、
成膜容器内の前記成膜室に、前記成膜室の第1の側壁から原料ガスを供給して基板上に原料ガス成分を吸着させるステップと、
前記成膜容器の前記成膜室の第1の側壁と対向する第2の側壁から、前記原料ガスを排気するステップと、
前記成膜容器内の成膜室に前記第1の側壁から、窒化ガスを基板ステージに載置した基板に向けて供給するとともに、前記アンテナアレイに給電することにより、前記窒化ガスを用いてプラズマを発生させて活性な窒素を生成し、この活性な窒素を基板の一方の端から他方の端に向けて流し、この活性な窒素を用いて基板に吸着された原料ガス成分を窒化させるステップと、
前記窒化ガスを前記成膜室の前記第2の側壁から排気するステップと、を有し、
前記窒化ガスが前記成膜室に供給されるとき、前記基板ステージの上面と前記成膜室内の底面との間の隙間であって、前記真空容器の室内を前記成膜室と、前記成膜室の下方向に設けられた、第2排気部と接続された真空室とを連通する隙間は、前記真空室が真空引きされ、かつ、移動可能な前記基板ステージの縁に設けられた段差が前記成膜室の底面に設けられたストッパー部材と当接されることにより閉塞される、ことを特徴とする薄膜形成方法。
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