JP4536942B2 - 高周波用集積回路及びこれを用いた高周波回路装置 - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、高周波帯、特に３０ＧHz以上のミリ波領域で動作する高周波用集積回路とこれを用いた高周波回路装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図２５は従来のＳＰ３Ｔ（Single Pole 3 Throw）スイッチＭＭＩＣ（Monolithic Microwave IC）チップの平面図である。
図２５において、３００はＳＰ３ＴスイッチのＭＭＩＣチップ、３０２はＧａＡｓ基板、３０４はスイッチング素子で模式的に記載している。３０６は接地パッド、３０８はＲＦ入力パッドで、ＲＦ入力端子３１０はＲＦ入力パッド３０８とこの両側に設けられた接地パッド３０６から構成されている。
【０００３】
３１２ａ、３１２ｂ、３１２ｃはＲＦ出力パッドで、ＲＦ出力端子３１４はＲＦ出力パッド３１２ａとこの両側に設けられた接地パッド３０６とにより、ＲＦ出力端子３１６はＲＦ出力パッド３１２ｂとこの両側に設けられた接地パッド３０６とにより、またＲＦ出力端子３１８はＲＦ出力パッド３１２ｃとこの両側に設けられた接地パッド３０６とによりそれぞれ構成されている。３２０は配線層である。
【０００４】
図２６はＳＰ３ＴスイッチのＭＭＩＣチップ３００のＲＦ入力端子３１０−ＲＦ出力端子３１４間（以下ａ−ｐａｔｈという）の通過特性を示すＳパラメータの測定状態を示す模式図である。
図２６において、３２２はＧ−Ｓ−Ｇ(Ground-Signal-Ground)構造のプローブヘッド、３２４はプローブである。
プローブヘッド３２２の先端のプローブ３２４は信号端子用のプローブを中央にし、これを挟んでその両側に接地用のプローブが配置されており、このプローブ３２４に整合するピッチで、ＭＭＩＣチップ３００のＲＦ入力端子３１０、及びＲＦ出力端子３１４、３１６，３１８のＧ−Ｓ−Ｇ(Ground-Signal-Ground)構造のパッドが形成されている。
【０００５】
図２６に示されるように、ＲＦ入力端子３１０−ＲＦ出力端子３１４間の通過特性を示すＳパラメータの測定には、二つのプローブヘッド３２２が使用され互いに対向して配置され、ＲＦ入力端子３１０とＲＦ出力端子３１４にプローブ３２４に接触させてＳパラメータを測定する。
図２７はＳＰ３ＴスイッチのＭＭＩＣチップ３００のＲＦ入力端子３１０−ＲＦ出力端子３１６間（以下、ｂ−ｐａｔｈという）の通過特性を示すＳパラメータの測定状態を示す模式図である。また図２８はＭＭＩＣチップ３００のＲＦ入力端子３１０−ＲＦ出力端子３１８間（以下、ｃ−ｐａｔｈという）の通過特性を示すＳパラメータの測定状態を示す模式図である。
【０００６】
図２７、図２８においては、ＲＦ入力端子２１０に接触するプローブヘッド３２２の位置・方向は変わらないが、ＲＦ出力端子３１６とＲＦ出力端子３１８に接触するプローブヘッド３２２はＲＦ出力端子３１４に接触していたプローブヘッド３２２と比べて、位置のみならず、その向きも変わっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
一般にＳＰ３Ｔスイッチの通過特性を示すＳパラメータを測定する場合、ａ−ｐａｔｈ、ｂ−ｐａｔｈ、およびｃ−ｐａｔｈ全てのＳパラメータを測定することが必要である。各々の測定に関して、ＲＦ入力端子３１０に接触するプローブヘッド３２２の位置及び向きは全て同じであるが、ＲＦ出力端子３１４、ＲＦ出力端子３１６、およびＲＦ出力端子３１８に接触するプローブヘッド３２２の位置及び向きは全て異なっている。
【０００８】
すなわち、ａ−ｐａｔｈの測定ではプローブヘッド３２２の位置は、図２６の左位置で右向き、ｂ−ｐａｔｈの測定ではプローブヘッド３２２の位置は、図２７の上位置で下向き、ｃ−ｐａｔｈの測定ではプローブヘッド３２２の位置は、図２８の下位置で上向きである。
【０００９】
このために、各ｐａｔｈの測定において、測定系の再構成と校正が必要となり、次のような問題点が生じている。
（１）Ｗ帯用のプローブヘッドは極めて高価（約１００万円／個）かつ損耗しやすく、寿命となる接触回数は１０万回〜１００万回で、接触１回当たり１〜１０円の損耗が発生する。各ｐａｔｈの変更の度に校正が必要となり、各校正に際して最低６回の接触が必要となる。このためにプローブヘッドの向きを変えることを繰り返すと急速にプローブヘッドが損耗する。
【００１０】
（２）測定器や校正基準器は概ね左右から測定する構造であるので、ベンド・パス、すなわち、ｂ−ｐａｔｈおよびｃ−ｐａｔｈの場合、接続が複雑になり、測定精度が低下する。
（３）プローブヘッドの向きの変更はプローバ上のマニピュレータの変更により行われるが、この変更作業は難しい手作業を伴うので、しばしばプローブヘッドを落としたり、プローブヘッド先端のプローブを他の部材に接触させるなど不測の事態が起きがちで、高価なプローブヘッドに損傷を与えることが多い。
【００１１】
この発明は上記のような問題点を解消することを目的としてなされたもので、第１の目的は、高周波特性評価が容易に、精度高く、短時間で、かつ低コストで実施可能な高周波用集積回路を提供することで、第２の目的はこの様な高周波用集積回路を使用した安価で信頼性の高い高周波回路装置を提供することである。
【００１２】
なお、特開平９−１４８５０号公報には、テストが容易にできるパッド配置について記載されているが、リード・オン・チップ構造に適したパッドの効率的配置に関するもので、信号パッドと接地パッドとを一組とした構成の信号の入出力ポートにおいて、この信号パッドと接地パッドの配列方向を、各入出力ポートについて互いに並行するように配置することは記載されていない。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る高周波用集積回路は、半導体基板と、この半導体基板に配設され、複数の信号端子を有する第１の回路要素と、半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第１の信号パッドとこの第１の信号パッドに隣接した接地用パッドとを有する第１の接続ポートと、半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第２の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して第２の信号パッドに隣接した接地パッドを有する第２の接続ポートと、半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第３の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して第３の出力信号パッドに隣接した接地パッドを有する第３の接続ポートと、を備えたもので、高周波特性評価を容易に、精度高く、短時間で、実施可能である。
【００１４】
さらに、半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第４の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して第４の出力信号パッドに隣接した接地パッドを有する第４の接続ポートをさらに備えるとともに第１の接続ポートと第４の接続ポートとが第１の回路要素を介して互いに対向して配設されたもので、高周波特性評価を容易に、精度高く、短時間で、実施することが出来る。
【００１５】
またさらに、第２及び第３の接続ポートの少なくとも一方が、半導体基板の周縁に近接した信号パッドとこの信号パッドより基板内側に配設された接地用パッドとを備えたもので、半導体基板の面積を小さくでき、信号線の接続に際してはボンディングワイヤを短くできる。
【００１６】
さらに、第２及び第３の接続ポートそれぞれの信号パッドと接地用パッドとの並び方向のパッド中軸線が少なくともパッド幅を越える間隔を有したもので、ウエハ上の配置でパッド相互の干渉が無いので、半導体基板をよりコンパクトにすることができる。
【００１７】
またさらに、第２及び第３の接続ポートの少なくとも一方が、半導体基板の周縁に近接した接地用パッドとこの接地用パッドより基板内側に配設された信号パッドを備えるとともにこの信号パッドと接続され、この信号パッドより半導体基板の周縁に近接した位置に配設された第２の信号パッドを備えたもので、信号線の接続に際してはボンディングワイヤを短くできる。
【００１８】
またさらに、接続ポートそれぞれが、半導体基板の周縁に近接した信号パッドと半導体基板の周縁に沿ってこの信号パッドに隣接した接地用パッドとを備えたもので、信号線の接続に際してはボンディングワイヤを短くできる。
【００１９】
またさらに、複数の信号端子を有する第２の回路要素が半導体基板にさらに配設され、第１の回路要素と直接に接続されるとともに、第２の回路要素に接続された第４の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して上記第４の信号パッドに隣接した接地パッドを有する第４の接続ポートが半導体基板にさらに配設されたもので、第２の回路要素を増やすことにより、高周波用集積回路の端子数を必要に応じて増加することができる。
【００２０】
またさらに、第１の回路素子をスイッチング素子、第１の接続ポートを信号入力ポートとし、残りの接続ポートを信号出力ポートとしたもので、高周波特性評価が容易で、精度高く、短時間で、かつ低コストで実施可能な、種々の端子数を有するスイッチング機能を有する高周波用集積回路を構成することができる。
【００２１】
また、この発明に係る高周波回路装置は、導電性の組付け基板と、この組付け基板上に配設され表面に信号線路が配設された誘電体基板と、組付け基板上に配設された請求項１ないし８のいずれか１項に記載の高周波用集積回路と、この高周波集積回路の接続ポートの信号パッドと誘電体基板の信号線路とを接続する接続導体と、を備えたもので、信頼性が高く、歩留まりが高くなる。
【００２２】
さらに、高周波用集積回路の半導体基板裏面を導電性の接着材で組付け基板と接着するとともに接続導体をボンディングワイヤとしたので簡単な構成で高周波回路装置を構成することができる。
【００２３】
またさらに、高周波用集積回路の接続ポートを組付け基板に対向させ、高周波用集積回路が誘電体基板を介して組付け基板上に配設された、高周波特性のばらつきが少ない高周波回路装置を構成することができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
図１はこの実施の形態１に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
図１において、１０はスイッチＭＭＩＣチップで、ＳＰ３Ｔ構成である。１２は半導体基板としての半絶縁性のＧａＡｓ基板、縦横２ｍｍ程度の大きさである。１４はＧａＡｓ基板内部に配設されたスイッチング素子で、図１では模式的に示されている。１６は第１の接続ポートとしてのＲＦ信号入力端子、１８はＲＦ信号入力パッド、２０はＲＦ信号入力パッド１８を中央に挟んで、ＧａＡｓ基板１２の辺に沿って配列した接地パッドである。ＲＦ信号入力端子１６はＲＦ信号入力パッド１８と接地パッド２０により構成される。
【００２５】
接地パッド２０は、通常隣接するスルーホール（図示せず）を介して裏面の接地導体に接続されているが、コプレーナライン型のＭＭＩＣでは表面のみで接地パッド同士の接続を行うこともある。
２２，２４，２６はそれぞれ第４，第２，第３の接続ポートとしてのＲＦ信号出力端子である。２８はＲＦ信号出力パッドで、２８ａはＲＦ信号出力端子２２のＲＦ信号出力パッド、２８ｂはＲＦ信号出力端子２４のＲＦ信号出力パッド、２８ｃはＲＦ信号出力端子２６のＲＦ信号出力パッドである。ＲＦ信号出力パッド２８ａ、２８ｂ、２８ｃそれぞれを中央に挟んで、その両側に接地パッド２０が配設されている。従って、ＲＦ信号入力端子１６、ＲＦ信号出力端子２２，２４，２６はそれぞれG-S-Gパッド構成をなしている。
【００２６】
さらにＲＦ信号出力端子２２，２４，２６のそれぞれのＲＦ信号出力パッド２８ａ、２８ｂ、２８ｃとそれに隣接する接地パッド２０の配列の方向が、ＲＦ信号入力端子におけるＲＦ信号入力パッド１８と接地パッド２０との配列の方向に並行している。
これらのパッドは８０μｍ〜１５０μｍ角で、ＲＦ信号入力パッド１８やＲＦ信号出力パッド２８ａ、２８ｂ、２８ｃと接地パッドの間隔は１００μｍ〜２００μｍ程度である。またこれらのパッドはＡｕメッキで形成されている。
【００２７】
３０は信号線路である配線層で、Ａｕメッキや蒸着などで形成される。
ＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２２の経路やＲＦ信号出力端子２４−ＲＦ信号出力端子２６の経路は高周波信号が伝搬する主線路で、ＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２２の経路はスイッチング素子１４を介して直線的な経路を構成し、ＲＦ信号出力端子２４−ＲＦ信号出力端子２６の経路は、スイッチング素子１４を介してＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２２の経路に対して直交する直線的な経路を構成している。
【００２８】
このためＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２２の経路はストレート・パスとなり、ＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２４の経路およびＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２６の経路はベンド・パスとなっている。
図２、図３，及び図４はＭＭＩＣチップ１０の通過特性の指標となるＳパラメータの測定状態を示す模式図である。この測定は通常オン・ウエハの状態で行われる。
【００２９】
図２、図３，及び図４において、３２はプローブヘッドである。３４はプローブで、３４ａは信号用プローブ、３４ｂは接地用プローブである。プローブヘッド３２はＧ−Ｓ−Ｇ(Ground-Signal-Ground)構造で、信号用プローブ３４ａと接地用プローブ３４ｂの配置はＲＦ信号入力端子１６、ＲＦ信号出力端子２２、２４，２６の信号用パッドと接地用パッドとの配置に対応している。
【００３０】
図２において、プローブヘッド３２はＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２２間（以下ａ−ｐａｔｈという）の通過特性を示すＳパラメータの測定での配置の状態である。
ａ−ｐａｔｈはストレート・パス測定であるので、ＲＦ信号入力端子１６のＲＦ信号入力パッド１８と接地パッド２０との配列の方向とＲＦ信号出力端子２２のＲＦ信号出力パッド２８ａと接地パッド２０との配列の方向とは並行しているから、プローブヘッド３２をＲＦ信号入力端子１６とＲＦ信号出力端子２２上に互いに対向させて配置し、Ｓパラメータの測定を行う。
【００３１】
図３において、プローブヘッド３２は、ＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２４間（以下ｂ−ｐａｔｈという）の通過特性を示すＳパラメータの測定での配置の状態である。
ｂ−ｐａｔｈはベンド・パス測定であるが、ＲＦ信号入力端子１６のＲＦ信号入力パッド１８と接地パッド２０との配列の方向とＲＦ信号出力端子２４のＲＦ信号出力パッド２８ｂと接地パッド２０との配列の方向とは並行しているので、ＲＦ信号出力端子２４側のプローブヘッド３２の向きを変更する必要はなく、単に位置の調整を行うのみで、ｂ−ｐａｔｈのＳパラメータの測定を行なうことができる。
【００３２】
図４において、プローブヘッド３２は、ＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号出力端子２６間（以下ｃ−ｐａｔｈという）の通過特性を示すＳパラメータの測定での配置の状態である。
ｃ−ｐａｔｈにおいてもｂ−ｐａｔｈと同様にＲＦ信号出力端子２６側のプローブヘッド３２の向きを変更する必要はなく、単に位置の調整を行なうのみで、Ｓパラメータの測定を行なうことができる。
【００３３】
通常、ＲＦ信号出力端子２２、２４，２６の間隔は１ｍｍ〜３ｍｍ程度で、マニピュレータの可動範囲が±１０ｍｍ程度はあるので、ＲＦ信号出力端子２２、２４，２６の位置への移動は、プローブヘッド３２の位置調整を行うだけで可能である。
従って、ＲＦ信号出力端子のＲＦ信号出力パッドとそれに隣接する接地パッドの配列の方向がＲＦ信号入力端子におけるＲＦ信号入力パッドと接地パッドとの配列の方向に並行していないものがあった従来構造のＭＭＩＣチップでは、その都度測定系の再構築と再校正に多大の時間を費やしていたが、この実施の形態のＭＭＩＣチップにおいては、プローブヘッドの取付け変更の手作業が無く、すべての経路に対して同一の測定系と同一の校正で評価ができる。
【００３４】
このために、プローブヘッドの接触回数が減り、その損耗の程度を少なくすることができ、測定のコストを少なくすることができ、安価なＭＭＩＣを得ることができる。また、全ての経路で同一の校正で評価ができるために、測定精度のばらつきが少なくなり、高周波特性のばらつきが少なく、均一な特性を有するＭＭＩＣを得ることができる。さらに、プローブヘッドの取付け変更作業が少なくなり、高価なプローブヘッドに損傷を与える機会が減り、安価なＭＭＩＣを得ることができる。
【００３５】
さらに測定が容易に行うことができ、作業に要する時間も短縮され、結果的に安価なＭＭＩＣを得ることができる。
【００３６】
図５は実施の形態１にかかるＭＭＩＣチップを実装した高周波回路装置、例えばモジュールやパッケージ、の内部の一部を示す部分平面図である。
なお、パッケージとは概ね単機能のＭＭＩＣチップ一個を封入して使用する比較的小型のものであり、モジュールとは概ね複数個の、ＭＭＩＣチップやコンデンサその他の回路部品を封入して使用する比較的大型のものであるが、パッケージに複数の半導体チップを封入して使用する場合もあり、ＭＭＩＣ一個からなるモジュールもあるので、両者の差異はあまり厳密ではない。従って以下ではモジュールという言葉を使用して、モジュールとかパッケージを意味することとする。
【００３７】
図５において、３８はモジュール、４０は組付け基板としての金属ベースで、モジュールのベースである。金属ベース４０は接地されている。ここでは金属製のベースを使用したが、アルミナなどを使用した導電性のセラミックでもよい。ＭＭＩＣチップ１０はこの金属ベース４０にＡｕＳｎや接着材で固着される。４２は誘電体基板としてのＭＩＣ基板でアルミナなどの誘電体で形成されている。ＭＩＣ基板４２は金属ベース４０に導電性の接着材で固着されている。４４はＭＩＣ基板４２の表面に配設された配線層で、Ａｕにより形成されている。誘電体基板４２，配線層４４は、誘電体基板４２の裏面の接地層と併せてマイクロストリップ線路４６を構成している。
【００３８】
４８は接続導体としてのボンディングワイヤで、マイクロストリップ線路４６の配線層４４とＲＦ信号入力パッド１８またはＲＦ信号出力パッド２８とを接続している。
例えばモジュール３８は次のように動作する。
マイクロストリップ線路４６を伝搬してきた高周波信号ＲＦはボンディングワイヤ４８を介してＲＦ信号入力端子１６に供給され、スイッチング素子１４により適宜にＲＦ信号出力端子２２，２４，２６に切り替えられ、またボンディングワイヤ４８を介してマイクロストリップ線路４６に供給され、伝搬される。
【００３９】
このモジュール３８は、ＭＭＩＣチップ１０がウエハ段階で高周波特性を精度よく測定でき、選定することができるので、高周波特性のばらつきの少ない製品として供給することが出来る。またボンディングワイヤを使用しているので構造が簡単で容易に製造することができる。
【００４０】
図６はこの実施の形態のモジュールに使用するフリップチップ実装基板の部分平面図である。
図６において、５０は誘電体基板としてのフリップ実装基板である。５２は基板本体で、アルミナなどが使用される。５４はフリップチップ実装用のバンプである。５４ａは信号線用バンプ、５４ｂは接地用バンプである。５６は接地用のスルーホール、５８は信号の配線層である。スルーホール５６に接続された接地用バンプ５４ｂは、スルーホール５６を介して裏面の接地導体に接続される。配線層５８は信号線用バンプ５４ａと接続されている。またコプレーナライン型基板では表面のみで接地バンプ同士の接続を行う場合がある。
【００４１】
これらの信号線用バンプ５４ａと接地用バンプ５４ｂの配置及び並び方向は、この上に載置されるＭＭＩＣチップのＲＦ信号入力端子１６のＲＦ信号入力パッド１８、ＲＦ信号出力端子２２，２４，２６のＲＦ信号出力パッドや接地パッド２０の配置および並び方向に対応している。
【００４２】
図７はこの実施の形態のスイッチＭＭＩＣチップをフリップチップ実装したモジュールの一部透視部分平面図、図８は、図７のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ断面における断面図である。
図７及び図８において、６０はモジュールである。ＭＭＩＣチップは表面を下向けに、つまりＲＦ信号入力端子１６のＲＦ信号入力パッド１８、ＲＦ信号出力端子２２，２４，２６のＲＦ信号出力パッド２８がフリップ実装基板５０に対向するように配置され、ＲＦ信号入力パッド１８およびＲＦ信号出力パッド２８が対応したバンプ５４の上に載置され、接続導体としての接着材（図示せず）で接合される。
【００４３】
またバンプ５４を用いないフリップチップ実装を行う場合もある。
この様にフリップチップ実装を行なったモジュール６０においては、ボンディングワイヤを用いないので、ＲＦ信号入力端子１６のＲＦ信号入力パッド１８、ＲＦ信号出力端子２２，２４，２６のＲＦ信号出力パッドの配設位置が基板周縁から離れた基板の内側に形成されていても、インダクタンスが大きくならず、高周波特性に優れている。さらにこの故により設計の自由度が高くなり、特に回路部品の配置が電気的特性に影響する高周波用のモジュールにおいては、高い電気的特性を有する製品を提供することができる。
【００４４】
またワイヤボンディングでは、ボンディングワイヤの長さのばらつきによるインダクタンスのばらつきを生じることもあり、これに起因する周波数特性のばらつきが生じることもあるが、フリップチップ実装を行なったモジュール６０においては、この様なばらつきが少なくなり、製品の歩留まりが高くなり、延いては信頼性が高く安価なモジュールを提供することができる。
【００４５】
実施の形態２．
図９はこの実施の形態２に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
なお実施の形態１のスイッチＭＭＩＣチップと同じ符号は同一か相当のものを示す。これは以下の実施の形態の説明においても同様である。
図９において、６６はＭＭＩＣチップである。ＭＭＩＣチップ６６は実施の形態１のＭＭＩＣチップ１０と、ＲＦ信号入力端子１６、ＲＦ信号出力端子２２，２４，２６の配置を同じにしているが、ＭＭＩＣチップ１０のダイシングラインが主線路に対して並行しているのに対し、ＭＭＩＣチップ６６のダイシングラインは直交する主線路に対して約４５度傾いて形成されている。つまりＲＦ信号入力端子１６、ＲＦ信号出力端子２２，２４，２６が基板の隅部に位置している。
【００４６】
このために、ＭＭＩＣチップ６６はＭＭＩＣチップ１０に比べて、小さな基板面積でチップを構成することができる。
図１０はこの実施の形態２に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装した高周波回路装置、例えばモジュール、の内部の一部を示す部分平面図である。
６８はモジュールである。モジュール６８ではＲＦ信号入力端子１６に接続したマイクロストリップ線路４６とＲＦ信号出力端子２２，２４，２６に接続したマイクロストリップ線路４６とが並行に配置される場合には、ＲＦ信号出力端子２４，２６のＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃとマイクロストリップ線路４６を接続するボンディングワイヤが短くなる。このため高周波特性を高くすることができる。さらに全てのボンディングワイヤ４８の長さを同程度にすることができ、インダクタンスを揃えることができ、モジュールの高周波特性のばらつきを少なくすることができる。
【００４７】
実施の形態３．
図１１はこの実施の形態３に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。また図１２はこの実施の形態３に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装した高周波回路装置、例えばモジュール、の内部の一部を示す部分平面図である。
【００４８】
図１１において、７０はＭＭＩＣチップである。ＭＭＩＣチップ７０は実施の形態１のＭＭＩＣチップ１０と、ＲＦ信号入力端子１６、ＲＦ信号出力端子２２，２４，２６の配置を同じにしているが、ＭＭＩＣチップ１０が主線路に平行な辺を持つ四辺形であるのに対し、ＭＭＩＣチップ７０はＲＦ信号出力端子２２、２４，２６のＲＦ信号出力パッド２８ａ、２８ｂ、２８ｃがともに基板の周縁に近接するように、基板形状を凸状にしてＲＦ信号出力端子２２を凸状の突出部の上辺に配置し、ＲＦ信号出力端子２４，２６は突出部の両側の下辺に沿って隣接させたものである。
【００４９】
図１２において、７２はモジュールである。このモジュール７２に示されるようにＲＦ信号出力端子２２，２４，２６のＲＦ信号出力パッド２８ａ、２８ｂ、２８ｃがすべて基板の周縁に近接しているので、ＲＦ信号出力パッド２８ａ、２８ｂ、２８ｃとマイクロストリップ線路４６とを接続するボンディングワイヤ４８が短くなる。このため高周波特性が向上する。さらに全てのボンディングワイヤ４８の長さを同程度にすることができ、インダクタンスを揃えることができる。従ってモジュールの高周波特性のばらつきを少なくすることができる。
【００５０】
図１３はこの実施の形態に係るＭＭＩＣチップ７０のウエハにおける配列を示す模式図である。
図１２においてＭＭＩＣチップ７０の凸状の突出部の上辺の長さをｗ1、その両側の下辺の長さをｗ2、ｗ3とすると、例えばｗ2＝ｗ3とし、ｗ1＝２×ｗ2としておくと、図１３に示されるように突出部を隣接させるようにして、ＭＭＩＣチップ７０をウエハに配列することができる。この様に配列することにより、ＭＭＩＣチップ７０の面積を小さくかつ効率的に裁断することができる。
【００５１】
なお、このチップ形状では通常のダイシングソーを使用したチップ分離は困難であるが、レーザカットやエッチカットなどの方法を用いることにより、チップ分離が容易に行うことができる。
【００５２】
実施の形態４．
図１４は実施の形態４に係るスイッチＭＭＩＣのウエハの部分平面図である。また図１５は実施の形態４に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装した高周波回路装置、例えばモジュール、の内部の一部を示す部分平面図である。
図１４において、７６はスイッチＭＭＩＣ、７８はスイッチＭＭＩＣ７６を配置したウエハ、８０はダイシングラインである。
【００５３】
スイッチＭＭＩＣ７６では、高周波信号が伝搬する線路である主線路の両端に位置するＲＦ信号入力端子１６及びＲＦ信号出力端子２２は、ＲＦ信号入力パッド１８と接地パッド２０との配列の方向がＧａＡｓ基板１２の周縁に並行しているので、Ｇ−Ｓ−Ｇ構造をなす。
しかし、ＲＦ信号出力端子２４−ＲＦ信号出力端子２６の経路の端部をなすＲＦ信号出力端子２４とＲＦ信号出力端子２６は、ＲＦ信号出力パッド２８ｂ，２８ｃと接地パッド２０との配列の方向がＧａＡｓ基板１２の周縁に直交している。
【００５４】
このため、ＲＦ信号出力パッド２８ｂ，２８ｃの両側に隣接した接地パッド２０を残すと、ＲＦ信号出力パッド２８ｂ，２８ｃとマイクロストリップ線路４６とを接続するボンディングワイヤ４８がＧａＡｓ基板１２の周縁に近接した方の接地パッド２０を越えて長く延びる。そこで一方の接地パッド２０をＧａＡｓ基板１２の周縁より外側に配置し、ダイシングライン８０上に配置したものである。
【００５５】
このようにすることにより、チップ分離したＭＭＩＣチップのＲＦ信号出力端子２４とＲＦ信号出力端子２６はＲＦ信号出力パッド２８ｂ，２８ｃがＧａＡｓ基板１２の周縁に近接し、一つ残った接地パッド２０がＲＦ信号出力パッド２８ｂ，２８ｃよりも基板内部側に、配設されることになる。またＲＦ信号出力端子２４−ＲＦ信号出力端子２６の経路に沿う方向の基板長さが短くなり、ＭＭＩＣチップ７６のＧａＡｓ基板１２の面積を小型化することができる。
【００５６】
図１５において、８４はモジュールである。モジュール８４ではＲＦ信号入力端子１６のＲＦ信号入力パッド１８及びＲＦ信号出力端子２２、２４、２６のＲＦ信号出力パッド２８ａ、２８ｂ，２８ｃはすべてＧａＡｓ基板１２の周縁に近接して配設されているので、ＲＦ信号入力パッド１８、ＲＦ信号出力パッド２８ａ、２８ｂ，２８ｃそれぞれとマイクロストリップ線路４６とを接続するボンディングワイヤ４８が短くなるとともに長さを揃えることができる。従って高周波特性が向上し、モジュールの高周波特性のばらつきも少なくすることができる。
【００５７】
実施の形態５．
図１６は実施の形態５に係るスイッチＭＭＩＣのウエハの部分平面図である。また図１７は実施の形態５に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装した高周波回路装置、例えばモジュール、の内部の一部を示す部分平面図である。
図１６において、８８はスイッチＭＭＩＣ、９０はスイッチＭＭＩＣ８８を配置したウエハである。図１７において９２はスイッチＭＭＩＣ８８を実装したモジュールである。
【００５８】
スイッチＭＭＩＣ８８は、実施の形態４のスイッチＭＭＩＣ７６と同様に、ＲＦ信号出力端子２４とＲＦ信号出力端子２６の一方の接地パッド２０をＧａＡｓ基板１２の周縁より外側に配置し、チップ分離した後はＲＦ信号出力端子２４とＲＦ信号出力端子２６はＲＦ信号出力パッド２８ｂ，２８ｃがＧａＡｓ基板１２の周縁に近接し、一つ残った接地パッド２０がＲＦ信号出力パッド２８ｂ，２８ｃよりも基板内部側に、配設される点では、同じである。
【００５９】
しかしＲＦ信号出力端子２４とＲＦ信号出力端子２６の配置の自由度を高め、ウエハ上で接地パッドの干渉を無くすために、ＲＦ信号出力端子２４のＲＦ信号出力パッド２８ｂと接地パッド２０との並びの並び方向のパッド中軸線とＲＦ信号出力端子２６のＲＦ信号出力パッド２８ｃと接地パッド２０との並びの並び方向のパッド中軸線との間隔をパッドの幅以上にずらしたものである。すなわち、図１６ではＲＦ信号出力端子２４のパッド中軸線とＲＦ信号出力端子２６のパッド中軸線とをSだけずらしている。
【００６０】
この様にウエハ上でのパッド配置の相互干渉を排除することにより、信号端子の位置の設定の自由度を高くすることができる。またダイシングラインの幅を自由に設定することができる。
【００６１】
実施の形態６．
図１８は実施の形態６に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。図１９は実施の形態６に係るスイッチＭＭＩＣの通過特性の指標となるＳパラメータの測定状態を示す模式図である。図２０は実施の形態６に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装した高周波回路装置、例えばモジュール、の内部の一部を示す部分平面図である。
【００６２】
図１８において、９６はスイッチＭＭＩＣ、９８は第２の信号パッドとしての接続パッド、１００は配線層である。
このスイッチＭＭＩＣ９６は実施の形態１のスイッチＭＭＩＣ１０に加えて、スイッチＭＭＩＣ１０のＲＦ信号出力端子２４のＲＦ信号出力パッド２８ｂとＲＦ信号出力端子２６のＲＦ信号出力パッド２８ｃに配線層１００を介してＧａＡｓ基板１２の周縁に近接する位置に接続パッド９８を配設したものである。
【００６３】
図１９は、ｂ−ｐａｔｈの通過特性を示す指標であるＳパラメータを測定している状態であるが、プローブヘッド３２は実施の形態１のスイッチＭＭＩＣ１０と同様にＲＦ信号入力端子１６とＲＦ信号出力端子２４のＲＦ信号出力パッド２８ｂと接地パッド２０にプローブを接触させて測定を行う。
【００６４】
図２０において１０４はスイッチＭＭＩＣ９６を実装したモジュールである。モジュール１０４では、ボンディングワイヤ４８はＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃではなく、ＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃに接続された接続パッド９８とマイクロストリップ線路４６とを接続している。接続パッド９８はＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃよりＧａＡｓ基板１２の周縁に近接して配置されているので、ボンディングワイヤ４８は短く設定でき、高周波特性が向上する。さらに全てのボンディングワイヤ４８の長さを同程度にすることができ、インダクタンスを揃えることができる。従ってモジュールの高周波特性のばらつきを少なくすることができる。
【００６５】
なお、Ｓパラメータの測定に使用したＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃとマイクロストリップ線路４６との間を接続する接続パッド９８とが異なるので、オンウエハ測定の際には測定端面の後方にオープンスタブを有する状態となるため実装時の特性と際が生じるが、この分については、シミュレーションによって補正することができる。
【００６６】
実施の形態７．
図２１は実施の形態７に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。図２２は実施の形態７に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装した高周波回路装置、例えばモジュール、の内部の一部を示す部分平面図である。
図２１において、１０８はスイッチＭＭＩＣである。実施の形態１から６はＳＰ３ＴのスイッチＭＭＩＣであったが、スイッチＭＭＩＣ１０８はＳＰＤＴ（Single Pole Double Throw）構成である。従って実施の形態１のスイッチＭＭＩＣ１０において、ストレート・パスを構成するＲＦ信号出力端子２２を省いたものである。
【００６７】
そして、ＲＦ信号出力端子２４，２６のそれぞれのＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃとそれに隣接する接地パッド２０の配列の方向が、ＲＦ信号入力端子におけるＲＦ信号入力パッド１８と接地パッド２０との配列の方向に並行している。
スイッチＭＭＩＣ１０８では、ＲＦ信号出力端子２２が無いので、ＲＦ信号出力端子２４，２６のそれぞれのＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃとそれに隣接する接地パッド２０の配列の方向に並行に、ＧａＡｓ基板１２の周縁を一直線に形成することができる。このためＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃとそれに隣接する接地パッド２０を、ＧａＡｓ基板１２の周縁に沿わせてこれに隣接させることができる。
【００６８】
従ってベンド・パスである、ｂ−ｐａｔｈ、ｃ−ｐａｔｈにおいてもＳパラメータの測定が容易に行うことができ、実施の形態１と同様の効果を有する。
図２２において、１１０はＭＭＩＣ１０８を実装したモジュールである。
モジュール１１０では、ＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃとそれに隣接する接地パッド２０を、ＧａＡｓ基板１２の周縁に沿わせてこれに隣接しているので、ＲＦ信号出力パッド２８ｂ、２８ｃとマイクロストリップ線路４６とを接続するボンディングワイヤ４８を短くすることができ、ＲＦ信号入力パッド１８とマイクロストリップ線路４６とを接続するボンディングワイヤ４８も併せて、全てのボンディングワイヤ４８の長さを揃えることができる。
【００６９】
従ってモジュール１１０は高周波特性を向上させることができ、モジュールの高周波特性のばらつきも少なくすることができる。
【００７０】
実施の形態８．
図２３は実施の形態８に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
図２３において、１１４はスイッチＭＭＩＣである。スイッチＭＭＩＣ１１４はＳＰ５Ｔ（Single Pole ５ Throw）構成である。１１６は第２の回路要素としてのスイッチング素子である。１１８は第４の接続ポートとしてのＲＦ信号出力端子、１２０は第４の信号パッドとしてのＲＦ信号出力パッドである。
【００７１】
スイッチＭＭＩＣ１１４は実施の形態７のスイッチＭＭＩＣ１０８に加え、スイッチング素子１４に直接に接続したスイッチング素子１１６を接続し、このスイッチング素子１１６に、ＲＦ信号入力端子１６とストレート・パスを構成するＲＦ信号出力端子２２を接続するとともに、ＲＦ信号入力端子１６とベンド・パスを構成するＲＦ信号出力端子１１８を二つ接続したものである。
【００７２】
そして、ＲＦ信号出力端子１１８は、ＲＦ信号出力端子２２，２４，２６と同様に、ＲＦ信号出力パッド１２０を中央に挟んで、その両側に接地パッド２０が配設されている。従って、ＲＦ信号入力端子１１８もG-S-Gパッド構成をなしている。さらにＲＦ信号出力端子２２，２４，２６と同様に、ＲＦ信号入力端子１１８のＲＦ信号出力パッド１２０とそれに隣接する接地パッド２０の配列の方向が、ＲＦ信号入力端子１６におけるＲＦ信号入力パッド１８と接地パッド２０との配列の方向に並行している。
【００７３】
このため、ベンド・パス測定となるＲＦ信号入力端子１６−ＲＦ信号入力端子１１８間のＳパラメータの測定においては、ＲＦ信号出力端子１１８側のプローブヘッドの向きを変更する必要はなく、単に位置の調整を行なうのみでＳパラメータの測定を行なうことができる。
【００７４】
従って実施の形態１におけるスイッチＭＭＩＣ１０と同様の効果を奏する。
さらに、図２３のスイッチング素子１４とスイッチング素子１１６の間に、スイッチング素子１４とＲＦ信号入力端子２４及びＲＦ信号入力端子２６とを接続した回路を付加してゆけばＳＰｎＴ（Single Pole ｎ Throw）構成のスイッチＭＭＩＣを構成でき、このスイッチＭＭＩＣもプローブヘッドの向きを変更する必要はなく、単に位置の調整を行なうのみでＳパラメータの測定を行なうことができる。
【００７５】
つまり測定が容易に行うことができ、作業に要する時間も短縮され、結果的に安価なＭＭＩＣを得ることができる。
図２４は実施の形態８に係るスイッチＭＭＩＣチップの変形例の平面図である。このスイッチＭＭＩＣ１２２は、スイッチング素子１４の出力端子を多くすることにより達成できるＳＰ５Ｔ（Single Pole ５ Throw）構成のスイッチＭＭＩＣで、スイッチＭＭＩＣ１１４と同様の効果を有する。
【００７６】
以上の実施の形態においては、回路要素としてスイッチング素子を用いて説明したが、ミキサ、分配器など他の機能回路要素を用いてもよい。
またスイッチング素子で説明したので、信号入力端子は一つとし、他は信号出力端子としたが、これに限定されるものではない。従って回路要素によって信号入力端子や信号出力端子が任意に設定される。
また、フリップチップ実装は実施の形態１において説明したが、他の実施の形態に示したＭＭＩＣチップも実施の形態１と同様にフリップチップ実装ができることは云うまでもない。
【００７７】
【発明の効果】
この発明に係る高周波用集積回路及び高周波回路装置は以上に説明したような構成を備えているので、以下のような効果を有する。
この発明に係る高周波用集積回路においては、半導体基板と、この半導体基板に配設され、複数の信号端子を有する第１の回路要素と、半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第１の信号パッドとこの第１の信号パッドに隣接した接地用パッドとを有する第１の接続ポートと、半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第２の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して第２の信号パッドに隣接した接地パッドを有する第２の接続ポートと、半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第３の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して第３の出力信号パッドに隣接した接地パッドを有する第３の接続ポートと、を備えたもので、高周波特性評価を容易に、精度高く、短時間で、実施することができる。延いては高周波特性に優れ、安価な３端子以上の高周波用集積回路を構成することができる。
【００７８】
さらに、半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第４の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して第４の出力信号パッドに隣接した接地パッドを有する第４の接続ポートをさらに備えるとともに第１の接続ポートと第４の接続ポートとが第１の回路要素を介して互いに対向して配設されたもので、高周波特性評価を容易に、精度高く、短時間で、行うことができる。延いては高周波特性に優れ、安価な、ストレート・パスを含む４端子以上の高周波用集積回路を構成することができる。
【００７９】
またさらに、第２及び第３の接続ポートの少なくとも一方が、半導体基板の周縁に近接した信号パッドとこの信号パッドより基板内側に配設された接地用パッドとを備えたもので、半導体基板の面積を小さくでき、信号線の接続に際してはボンディングワイヤを短くできる。延いては小型で、高周波特性に優れ、安価な高周波用集積回路を構成することができる。
【００８０】
さらに、第２及び第３の接続ポートそれぞれの信号パッドと接地用パッドとの並び方向のパッド中軸線が少なくともパッド幅を越える間隔を有したもので、ウエハ上の配置でパッド相互の干渉が無いので、半導体基板をよりコンパクトにすることが出来る。延いては小型で安価な高周波用集積回路を構成することができる。
【００８１】
またさらに、第２及び第３の接続ポートの少なくとも一方が、半導体基板の周縁に近接した接地用パッドとこの接地用パッドより基板内側に配設された信号パッドを備えるとともにこの信号パッドと接続され、この信号パッドより半導体基板の周縁に近接した位置に配設された第２の信号パッドを備えたもので、信号線の接続に際してはボンディングワイヤを短くできる。延いては高周波特性に優れ、安価な高周波用集積回路を構成することができる。
【００８２】
またさらに、接続ポートそれぞれが、半導体基板の周縁に近接した信号パッドと半導体基板の周縁に沿ってこの信号パッドに隣接した接地用パッドとを備えたもので、信号線の接続に際してはボンディングワイヤを短くできる。延いては高周波特性に優れ、安価な高周波用集積回路を構成することができる。
【００８３】
またさらに、複数の信号端子を有する第２の回路要素が半導体基板にさらに配設され、第１の回路要素と直接に接続されるとともに、第２の回路要素に接続された第４の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して上記第４の信号パッドに隣接した接地パッドを有する第４の接続ポートが半導体基板にさらに配設されたもので、第２の回路要素を増やすことにより、高周波用集積回路の端子数を必要に応じて増加することができる。延いては安価で所望の端子数を有する高周波用集積回路を構成でき、多様な回路要素を配設することにより、多様な機能を有する高周波用集積回路を構成することができる。
【００８４】
またさらに、第１の回路素子をスイッチング素子、第１の接続ポートを信号入力ポートとし、残りの接続ポートを信号出力ポートとしたもので、高周波特性評価を容易に、精度高く、短時間で、実施することが出来る。延いては高周波特性に優れ、安価な、スイッチング機能を有する高周波用集積回路を構成することができる。
【００８５】
また、この発明に係る高周波回路装置においては、導電性の組付け基板と、この組付け基板上に配設され表面に信号線路が配設された誘電体基板と、組付け基板上に配設された請求項１ないし８のいずれか１項に記載の高周波用集積回路と、この高周波集積回路の接続ポートの信号パッドと誘電体基板の信号線路とを接続する接続導体と、を備えたもので、電気特性のばらつきを少なく、歩留まりを高くすることが出来る。延いては安価で信頼性の高い高周波回路装置を構成することができる。
【００８６】
さらに、高周波用集積回路の半導体基板裏面を導電性の接着材で組付け基板と接着するとともに接続導体をボンディングワイヤとしたので簡単な構成で高周波回路装置を構成することができる。延いては安価な高周波回路装置を構成することができる。
【００８７】
またさらに、高周波用集積回路の接続ポートを組付け基板に対向させ、高周波用集積回路が誘電体基板を介して組付け基板上に配設された、高周波特性のばらつきが少ない高周波回路装置を構成することができる。高周波特性に優れ安価な高周波回路装置を構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
【図２】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣの通過特性の測定状態を示す模式図である。
【図３】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣの通過特性の測定状態を示す模式図である。
【図４】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣの通過特性の測定状態を示す模式図である。
【図５】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装したモジュールの一部を示す部分平面図である。
【図６】 この発明の一実施の形態に係るモジュールに使用するフリップチップ実装基板の部分平面図である。
【図７】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップをフリップチップ実装したモジュールの一部透視部分平面図である。
【図８】 図７のモジュールのＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ断面における断面図である。
【図９】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
【図１０】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装したモジュールの一部を示す部分平面図である。
【図１１】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
【図１２】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装したモジュールの一部を示す部分平面図である。
【図１３】 この発明の一実施の形態に係るＭＭＩＣチップのウエハにおける配列を示す模式図である。
【図１４】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣのウエハの部分平面図である。
【図１５】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装したモジュールの一部を示す部分平面図である。
【図１６】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣのウエハの部分平面図である。
【図１７】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装したモジュールの一部を示す部分平面図である。
【図１８】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
【図１９】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣの通過特性の測定状態を示す模式図である。
【図２０】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装したモジュールの一部を示す部分平面図である。
【図２１】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
【図２２】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップを実装したモジュールの一部を示す部分平面図である。
【図２３】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
【図２４】 この発明の一実施の形態に係るスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
【図２５】 従来のＳＰ３ＴスイッチＭＭＩＣチップの平面図である。
【図２６】 従来のＳＰ３ＴスイッチＭＭＩＣの通過特性の測定状態を示す模式図である。
【図２７】 従来のＳＰ３ＴスイッチＭＭＩＣの通過特性の測定状態を示す模式図である。
【図２８】 従来のＳＰ３ＴスイッチＭＭＩＣの通過特性の測定状態を示す模式図である。
【符号の説明】
１２ ＧａＡｓ基板、 １４ スイッチングＭＭＩＣ、 １８ ＲＦ信号入力パッド、 ２０ 接地パッド、 １６ ＲＦ信号入力端子、 ２８ａ，２８ｂ，２８ｃ ＲＦ信号出力パッド、 ２２，２４、２６ ＲＦ信号出力端子、 ９８ 接続パッド、 １１６ スイッチングＭＭＩＣ、 １１８ＲＦ信号出力パッド、 １２０ ＲＦ信号出力端子、 ４０ 金属ベース、 ４４ 配線層、 ４２ ＭＩＣ基板、 ４８ ボンディングワイヤ。

Claims (11)

  1. 半導体基板と、
    この半導体基板に配設され、複数の信号端子を有する第１の回路要素と、
    上記半導体基板上に配設され、上記第１の回路要素に接続された第１の信号パッドとこの第１の信号パッドに隣接した接地用パッドとを有する第１の接続ポートと、
    上記半導体基板上に配設され、上記第１の回路要素に接続された第２の信号パッドおよび上記第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して上記第２の信号パッドに隣接した接地パッドを有する第２の接続ポートと、
    上記半導体基板上に配設され、上記第１の回路要素に接続された第３の信号パッドおよび上記第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して上記第３の出力信号パッドに隣接した接地パッドを有する第３の接続ポートと、
    を備えた高周波用集積回路。
  2. 半導体基板上に配設され、第１の回路要素に接続された第４の信号パッドおよび第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して上記第４の出力信号パッドに隣接した接地パッドを有する第４の接続ポートをさらに備えるとともに第１の接続ポートと第４の接続ポートとが第１の回路要素を介して互いに対向して配設されたことを特徴とする請求項１記載の高周波用集積回路。
  3. 第２及び第３の接続ポートの少なくとも一方が、半導体基板の周縁に近接した信号パッドとこの信号パッドより基板内側に配設された接地用パッドとを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の高周波用集積回路。
  4. 第２及び第３の接続ポートそれぞれの信号パッドと接地用パッドとの並び方向のパッド中軸線が少なくともパッド幅を越える間隔を有したことを特徴とする請求項３記載の高周波用集積回路。
  5. 第２及び第３の接続ポートの少なくとも一方が、半導体基板の周縁に近接した接地用パッドとこの接地用パッドより基板内側に配設された信号パッドを備えるとともにこの信号パッドと接続され、この信号パッドより半導体基板の周縁に近接した位置に配設された第２の信号パッドを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の高周波用集積回路。
  6. 接続ポートそれぞれが、半導体基板の周縁に近接した信号パッドと半導体基板の周縁に沿ってこの信号パッドに隣接した接地用パッドとを備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の高周波用集積回路。
  7. 複数の信号端子を有する第２の回路要素が半導体基板にさらに配設され、第１の回路要素と直接に接続されるとともに、上記第２の回路要素に接続された第４の信号パッドおよび上記第１の接続ポートの第１の信号パッドと接地用パッドとの並び方向に並行して上記第４の信号パッドに隣接した接地パッドを有する第４の接続ポートが上記半導体基板にさらに配設されたことを特徴とする請求項１記載の高周波用集積回路。
  8. 第１の回路素子をスイッチング素子、第１の接続ポートを信号入力ポートとし、残りの接続ポートを信号出力ポートとしたことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の高周波用集積回路。
  9. 導電性の組付け基板と、
    この組付け基板上に配設され表面に信号線路が配設された誘電体基板と、
    上記組付け基板上に配設された請求項１ないし８のいずれか１項に記載の高周波用集積回路と、
    この高周波用集積回路の接続ポートの信号パッドと上記誘電体基板の信号線路とを接続する接続導体と、
    を備えた高周波回路装置。
  10. 高周波用集積回路の半導体基板裏面を導電性の接着材で組付け基板と接着するとともに接続導体をボンディングワイヤとしたことを特徴とする請求項９記載の高周波回路装置。
  11. 高周波用集積回路の接続ポートを組付け基板に対向させ、高周波用集積回路が誘電体基板を介して組付け基板上に配設されたことを特徴とする請求項９記載の高周波回路装置。
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