JP4530789B2 - Circuit board manufacturing method and circuit board - Google Patents
Circuit board manufacturing method and circuit boardInfo
- Publication number
- JP4530789B2 JP4530789B2 JP2004288340A JP2004288340A JP4530789B2 JP 4530789 B2 JP4530789 B2 JP 4530789B2 JP 2004288340 A JP2004288340 A JP 2004288340A JP 2004288340 A JP2004288340 A JP 2004288340A JP 4530789 B2 JP4530789 B2 JP 4530789B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit pattern
- resin
- insulating substrate
- transfer member
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
本発明は、回路基板の製造方法及び回路基板に関するものである。 The present invention relates to a circuit board manufacturing method and a circuit board.
従来、可撓性を有する絶縁性の合成樹脂フイルムからなる絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなるフレキシブル回路基板が、各種電子機器に使用されている。そして前記フレキシブル回路基板に設ける回路パターンとして、導電ペースト(樹脂含有導電ペースト)を合成樹脂フイルム上に塗布して硬化させることで形成される回路パターン(樹脂含有型回路パターン)がある。導電ペーストの塗布によって回路パターンを形成すると、銅箔をエッチングして回路パターンを形成する場合等に比べて、回路パターンの形成が容易でその製造コストの低減化が図れ、また廃液や不要金属等が出ない工程が可能で、環境負荷が低く、また電力節減効果も期待できる。 Conventionally, a flexible circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate made of an insulating synthetic resin film having flexibility has been used in various electronic devices. As a circuit pattern provided on the flexible circuit board, there is a circuit pattern (resin-containing circuit pattern) formed by applying and curing a conductive paste (resin-containing conductive paste) on a synthetic resin film. When a circuit pattern is formed by applying a conductive paste, the circuit pattern can be easily formed and its manufacturing cost can be reduced compared to the case where a circuit pattern is formed by etching a copper foil. The process that does not occur is possible, the environmental load is low, and the power saving effect can be expected.
しかしながら一方で従来の導電ペースト(一般には銀ペースト)を用いた回路パターンは、銅箔をエッチングして得られる回路パターンの比抵抗(体積抵抗率)(1.6×10-6〔Ω・cm〕)に比べて比抵抗(1×10-4〜4×10-5〔Ω・cm〕)が高く、このため従来、導電ペーストを用いて形成した回路パターンを有するフレキシブル回路基板においては、その回路パターンに高電流を流すことが困難であった。即ち例えばこのフレキシブル回路基板に設けたスイッチの回路や固定抵抗器の回路には、数mA程度の電流を流すだけで良いので回路パターンの比抵抗値が大きいことはあまり問題にならないが、例えばフレキシブル回路基板に設けたチップLEDの回路には、数10mA程度の電流を流す必要があるので回路パターンの抵抗値が大きいと、回路パターンに規定の電流を流すことができず、チップLEDの発光が阻害されたり、高圧の静電気や過電流が流れ込むと最悪の場合加熱によりパターン切れを生じる恐れがある。一方これを防止するには、そのパターン幅を太くすることとなるが、そうするとフレキシブル回路基板の小型・集積化が阻害される。 However, on the other hand, a circuit pattern using a conventional conductive paste (generally a silver paste) has a specific resistance (volume resistivity) (1.6 × 10 −6 [Ω · cm] of a circuit pattern obtained by etching a copper foil. ], The specific resistance (1 × 10 −4 to 4 × 10 −5 [Ω · cm]) is higher than that of a conventional flexible circuit board having a circuit pattern formed using a conductive paste. It was difficult to pass a high current through the circuit pattern. That is, for example, a switch circuit and a fixed resistor circuit provided on the flexible circuit board need only pass a current of about several mA, so that the specific resistance value of the circuit pattern is not a big problem. Since it is necessary to pass a current of about several tens of mA to the circuit of the chip LED provided on the circuit board, if the resistance value of the circuit pattern is large, a specified current cannot be supplied to the circuit pattern, and the chip LED emits light. In the worst case, pattern interruption may occur due to heating if it is obstructed or high-pressure static electricity or overcurrent flows. On the other hand, in order to prevent this, the pattern width is increased. However, this reduces the size and integration of the flexible circuit board.
従来の導電ペースト(銀ペースト)の比抵抗が高い原因は、樹脂バインダーが銀粒子間に介在するため銀粒子同士の接触箇所が少ないためであり、更には銀粒子同士の電気的導通は物理的接触のみであるため各接触箇所において接触抵抗が発生してしまうためである。 The reason why the specific resistance of the conventional conductive paste (silver paste) is high is that the resin binder is interposed between the silver particles, so that the number of contact points between the silver particles is small. Furthermore, the electrical conduction between the silver particles is physical. This is because contact resistance is generated at each contact location because of only contact.
そこで近年、比抵抗の低いペーストとして、例えば特許文献1に示すように、平均粒径が0.01〜1μm程度の粒子状銀化合物を含むペーストが開発されている。この種のペーストは、これを絶縁基板に塗布し、金属銀自体の溶融温度よりもかなり低い温度(例えば180℃)で加熱することで、容易に金属銀粒子に還元され、還元した金属銀微粒子が溶融し、互いに融着して金属銀に匹敵する高導電性の金属銀の被膜を形成する。従ってこの種のペーストを用いて回路パターンを形成すれば、銅箔をエッチングして回路パターンを形成する場合の欠点と、従来の導電ペーストを塗布して回路パターンを形成する場合の欠点とが同時に解消でき、好適である。
Therefore, in recent years, as a paste having a low specific resistance, for example, as shown in
しかしながらこの比抵抗の低いペーストを用いて回路パターンを形成しようとする場合、以下のような問題点があった。
(1)前記ペーストを焼成する際の加熱温度は、ペーストの材質に応じて140℃〜250℃程度ではあるが、好適な加熱温度は180℃程度以上必要なので、安価ではあるが耐熱性の低い合成樹脂フイルム(例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フイルム等)を絶縁基板として使用することが困難となる場合があった。
However, when a circuit pattern is to be formed using this paste having a low specific resistance, there are the following problems.
(1) Although the heating temperature at the time of baking the paste is about 140 ° C. to 250 ° C. depending on the material of the paste, a suitable heating temperature is required to be about 180 ° C. or more, so it is inexpensive but has low heat resistance. It may be difficult to use a synthetic resin film (eg, polyethylene terephthalate (PET) film) as an insulating substrate.
(2)前記ペーストによって形成される回路パターンは絶縁基板への密着性(接着性)に乏しくまた同時に屈曲性に乏しいので、形成した回路パターンが絶縁基板から容易に剥離したり、絶縁基板を撓ませた場合に容易に破断したりする恐れがあった。この問題は特に絶縁基板として可撓性を有する合成樹脂フイルムを用いた場合に著しい。
本発明は上述の点に鑑みてなされたものでありその目的は、回路パターンの比抵抗値を小さくできて細い回路パターンでも高電流を流すことができ、また小型・集積化が図れ、また耐熱温度の低い材料からなる絶縁基板を用いることができ、同時に回路パターンの破断や絶縁基板からの剥離が生じない回路基板の製造方法及び回路基板を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above points, and its purpose is to reduce the specific resistance value of a circuit pattern, to allow a high current to flow even in a thin circuit pattern, and to achieve miniaturization and integration, and heat resistance. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a circuit board and a circuit board which can use an insulating substrate made of a material having a low temperature, and at the same time, do not break the circuit pattern or peel off the insulating substrate.
本願請求項1に記載の発明は、表面を転写面とした転写部材と、絶縁基板とを用意し、絶縁基板の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、前記転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより、前記樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを、予め融着型回路パターン又は樹脂含有型回路パターン上に形成した導電接着被膜を介して積層する工程と、前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる回路パターンを形成する工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第一実施形態に対応する発明である。
The invention according to
本願請求項2に記載の発明は、表面を転写面とした転写部材と、絶縁基板とを用意し、絶縁基板の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、前記転写部材と絶縁基板とを対向させた際に、絶縁基板に形成した前記樹脂含有型回路パターンの内の一部の樹脂含有型回路パターンに対向する転写部材の転写面の位置に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、前記転写部材と絶縁基板とを積層することにより、前記一部の樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを、予め融着型回路パターン又は樹脂含有型回路パターン上に形成した導電接着被膜を介して積層する工程と、前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して形成する工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法にある。第二回路パターンを構成する樹脂含有型回路パターン上は導電接着被膜で覆われていても良い。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第一実施形態に対応する発明である。
The invention according to
本願請求項3に記載の発明は、表面を転写面とした転写部材と、絶縁基板とを用意し、絶縁基板の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、前記転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより、前記樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層する工程と、前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる回路パターンを形成する工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第二実施形態に対応する発明である。
The invention according to
本願請求項4に記載の発明は、表面を転写面とした転写部材と、絶縁基板とを用意し、絶縁基板の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、前記絶縁基板と転写部材とを対向させた際に、前記絶縁基板に形成した前記樹脂含有型回路パターンの内の一部の樹脂含有型回路パターンに対向する転写部材の転写面の位置に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより前記一部の樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層する工程と、前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して形成する工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第二実施形態に対応する発明である。
In the invention according to
本願請求項5に記載の発明は、表面を転写面とした転写部材と、絶縁基板とを用意し、絶縁基板の表面に、接着被膜を形成する工程と、前記転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、前記融着型回路パターンの表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより前記接着被膜と樹脂含有型回路パターンとを積層する工程と、前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面に積層している融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる回路パターンを形成する工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第三実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 5 provides a transfer member having a transfer surface as a transfer surface and an insulating substrate, a step of forming an adhesive film on the surface of the insulating substrate, and a metal on the transfer surface of the transfer member. Alternatively, by applying a paste containing a metal compound and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., the metal fine particles present in the paste or the metal fine particles precipitated from the metal compound are fused to each other and melted. A step of forming a contact-type circuit pattern, a step of forming a resin-containing type circuit pattern by applying a resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder on the surface of the fusion-type circuit pattern, A step of laminating the adhesive coating and the resin-containing circuit pattern by laminating the insulating substrate and the transfer member; and a transfer member from the laminated insulating substrate and the transfer member. By transferring the fused circuit pattern and the resin-containing circuit pattern laminated on the transfer surface of the transfer member to the insulating substrate side, the resin-containing circuit pattern and the fused circuit pattern are thereby transferred onto the insulating substrate. And a step of forming a circuit pattern formed by laminating the circuit board. This invention is an invention corresponding to the third embodiment in the description of the “Best Mode for Carrying Out the Invention” below.
本願請求項6に記載の発明は、表面を転写面とした転写部材と、絶縁基板とを用意し、絶縁基板の表面に、接着被膜を形成する工程と、前記転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、前記融着型回路パターンの表面とそれ以外の転写部材の転写面の表面とに、それぞれ導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより前記接着被膜と樹脂含有型回路パターンとを積層する工程と、前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面上の融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して形成する工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第三実施形態に対応する発明である。 According to the sixth aspect of the present invention, there is provided a transfer member having a transfer surface as a transfer surface and an insulating substrate, a step of forming an adhesive film on the surface of the insulating substrate, and a metal on the transfer surface of the transfer member. Alternatively, by applying a paste containing a metal compound and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., the metal fine particles present in the paste or the metal fine particles precipitated from the metal compound are fused to each other and melted. A resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder is applied to the step of forming the contact-type circuit pattern and the surface of the fusion-type circuit pattern and the surface of the transfer surface of the other transfer member. A step of forming a resin-containing circuit pattern by laminating, and a step of laminating the adhesive coating and the resin-containing circuit pattern by laminating the insulating substrate and a transfer member; Transfer the fused circuit pattern and the resin-containing circuit pattern on the transfer surface of the transfer member to the insulating substrate side by separating the transfer member from the laminated insulating substrate and transfer member, thereby containing the resin on the insulating substrate. Forming a mixed circuit of a first circuit pattern formed by laminating a mold circuit pattern and a fused circuit pattern and a second circuit pattern formed of a resin-containing circuit pattern. It is in the manufacturing method of a circuit board. This invention is an invention corresponding to the third embodiment in the description of the “Best Mode for Carrying Out the Invention” below.
本願請求項7に記載の発明は、表面を転写面とした第一,第二の転写部材と、絶縁基板とを用意し、絶縁基板の表面に、接着被膜を形成する工程と、第一の転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、第二の転写部材の転写面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、前記絶縁基板と第一の転写部材とを積層することにより、絶縁基板の接着被膜に第一の転写部材の融着型回路パターンを接着した後に、前記積層した絶縁基板と第一の転写部材から第一の転写部材を離すことで第一の転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写する工程と、前記融着型回路パターンを転写した絶縁基板と第二の転写部材とを積層することにより、前記融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを、直接接触して積層するかあるいは予め融着型回路パターン若しくは樹脂含有型回路パターン上に形成した導電接着被膜を介して積層する工程と、前記積層した絶縁基板と第二の転写部材から第二の転写部材を離すことで第二の転写部材の転写面上の樹脂含有型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを積層してなる回路パターンを形成する工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第四実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 7 of the present invention provides a first and second transfer members having a transfer surface as a transfer surface and an insulating substrate, and a step of forming an adhesive film on the surface of the insulating substrate; By applying a paste containing a metal or a metal compound to the transfer surface of the transfer member and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., metal fine particles present in the paste or metal deposited from the metal compound A step of forming a fused circuit pattern by fusing fine particles to each other, and a resin-containing type by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder on the transfer surface of the second transfer member A step of forming a circuit pattern; and laminating the insulating substrate and the first transfer member to bond the fused circuit pattern of the first transfer member to the adhesive film of the insulating substrate, and A step of transferring the fusion circuit pattern on the transfer surface of the first transfer member to the insulating substrate side by separating the first transfer member from the substrate and the first transfer member; and transferring the fusion circuit pattern. By laminating the insulating substrate and the second transfer member, the fused circuit pattern and the resin-containing circuit pattern are laminated in direct contact with each other, or the fused circuit pattern or the resin-containing circuit is preliminarily contacted. A step of laminating via a conductive adhesive film formed on the pattern, and a resin-containing mold on the transfer surface of the second transfer member by separating the second transfer member from the laminated insulating substrate and the second transfer member Transferring the circuit pattern to the insulating substrate side, thereby forming a circuit pattern formed by laminating the fused circuit pattern and the resin-containing circuit pattern on the insulating substrate. In the method of manufacturing the plate. The present invention is an invention corresponding to the fourth embodiment described in the following “Best Mode for Carrying Out the Invention”.
本願請求項8に記載の発明は、表面を転写面とした第一,第二の転写部材と、絶縁基板とを用意し、絶縁基板の表面に、接着被膜を形成する工程と、第一の転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、前記第一の転写部材と第二の転写部材とを対向させた際に、前記第一の転写部材の転写面に形成した前記融着型回路パターンに対向する第二の転写部材の位置及びそれ以外の第二の転写部材の位置に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、前記絶縁基板と第一の転写部材とを積層することにより、絶縁基板の接着被膜に第一の転写部材の融着型回路パターンを接着した後に、前記積層した絶縁基板と第一の転写部材から第一の転写部材を離すことで第一の転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写する工程と、前記融着型回路パターンを転写した絶縁基板と第二の転写部材とを積層することにより、一部の樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを直接接触して積層するかあるいは予め融着型回路パターン若しくは樹脂含有型回路パターン上に形成した導電接着被膜を介して積層する工程と、前記積層した絶縁基板と第二の転写部材から第二の転写部材を離すことで第二の転写部材の転写面上の樹脂含有型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して形成する工程と、を具備することを特徴とする回路基板の製造方法にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第四実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 8 provides a first and second transfer members having a transfer surface as a transfer surface and an insulating substrate, a step of forming an adhesive film on the surface of the insulating substrate, By applying a paste containing a metal or a metal compound to the transfer surface of the transfer member and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., metal fine particles present in the paste or metal deposited from the metal compound When the first transfer member and the second transfer member are opposed to each other, the fine particles are fused to each other to form a fused circuit pattern, and formed on the transfer surface of the first transfer member. Resin-containing by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder at the position of the second transfer member facing the fusion-type circuit pattern and the position of the other second transfer member. Pattern circuit pattern A step of forming and laminating the insulating substrate and the first transfer member to bond the fused circuit pattern of the first transfer member to the adhesive film of the insulating substrate; A step of transferring the fusing circuit pattern on the transfer surface of the first transfer member to the insulating substrate by separating the first transfer member from the one transfer member; and an insulating substrate on which the fusing circuit pattern is transferred And a second transfer member are laminated so that a part of the resin-containing circuit pattern and the fusion-type circuit pattern are directly in contact with each other, or are previously laminated on the fusion-type circuit pattern or the resin-containing type circuit pattern. And a resin-containing circuit pattern on the transfer surface of the second transfer member by separating the second transfer member from the laminated insulating substrate and the second transfer member. The insulating substrate The first circuit pattern formed by laminating the fusion-type circuit pattern and the resin-containing circuit pattern on the insulating substrate, and the second circuit pattern made of the resin-containing circuit pattern are thereby mixed and formed. And a step of manufacturing the circuit board. The present invention is an invention corresponding to the fourth embodiment described in the following “Best Mode for Carrying Out the Invention”.
本願請求項9に記載の発明は、絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなる回路基板において、前記回路パターンは、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に導電接着被膜を介して、金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層することで構成されていることを特徴とする回路基板にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第一実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 9 is a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate, wherein the circuit pattern is a resin-containing circuit made of a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder. Metals deposited from metal fine particles or metal compounds present in the paste by heating a paste containing metal or metal compound at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C. via a conductive adhesive film on the pattern The circuit board is characterized in that it is constituted by laminating fusion-type circuit patterns formed by fusing fine particles of each other. The present invention is an invention corresponding to the first embodiment described in the following “Best Mode for Carrying Out the Invention”.
本願請求項10に記載の発明は、絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなる回路基板において、前記回路パターンは、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に導電接着被膜を介して金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して構成されていることを特徴とする回路基板にある。第二回路パターンを構成する樹脂含有型回路パターン上は導電接着被膜で覆われていても良い。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第一実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 10 is a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate, and the circuit pattern is a resin-containing circuit made of a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder. By heating a paste containing a metal or a metal compound on a pattern through a conductive adhesive film at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., fine particles of metal present in the paste or metal deposited from the metal compound A circuit comprising a first circuit pattern formed by laminating a fused circuit pattern formed by fusing fine particles to each other and a second circuit pattern comprising a resin-containing circuit pattern. On the board. The resin-containing circuit pattern constituting the second circuit pattern may be covered with a conductive adhesive film. The present invention is an invention corresponding to the first embodiment described in the following “Best Mode for Carrying Out the Invention”.
本願請求項11に記載の発明は、絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなる回路基板において、前記回路パターンは、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に、金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層することで構成されていることを特徴とする回路基板にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第二実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 11 is a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate, and the circuit pattern is a resin-containing circuit made of a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder. By heating a paste containing a metal or a metal compound on the pattern at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., the metal fine particles present in the paste or the metal fine particles deposited from the metal compound are fused to each other. The circuit board is characterized in that it is configured by laminating the fusion-type circuit patterns. This invention is an invention corresponding to the second embodiment in the description of the “Best Mode for Carrying Out the Invention” below.
本願請求項12に記載の発明は、絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなる回路基板において、前記回路パターンは、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して構成されていることを特徴とする回路基板にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第二実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 12 is a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate, wherein the circuit pattern is a resin-containing circuit made of a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder. By heating a paste containing a metal or a metal compound on the pattern at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., the metal fine particles present in the paste or the metal fine particles precipitated from the metal compound are fused to each other. In the circuit board, the first circuit pattern formed by laminating the fused circuit patterns and the second circuit pattern formed from the resin-containing circuit pattern are mixed. This invention is an invention corresponding to the second embodiment in the description of the “Best Mode for Carrying Out the Invention” below.
本願請求項13に記載の発明は、絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなる回路基板において、前記回路パターンは、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンを形成するとともに、前記樹脂含有型回路パターン上に金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層することで構成されていることを特徴とする回路基板にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第三実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 13 of the present application is a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate, wherein the circuit pattern is formed by using conductive powder as a resin binder on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate. By forming a resin-containing circuit pattern composed of a dispersed resin-containing conductive paste and heating a paste containing a metal or a metal compound on the resin-containing circuit pattern at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C. The circuit board is constituted by laminating fusion type circuit patterns obtained by fusing metal fine particles present in the paste or metal fine particles precipitated from the metal compound to each other. This invention is an invention corresponding to the third embodiment in the description of the “Best Mode for Carrying Out the Invention” below.
本願請求項14に記載の発明は、絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなる回路基板において、前記回路パターンは、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンを形成するとともに、この樹脂含有型回路パターンの上に金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層してなる第一回路パターンと、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に樹脂含有型回路パターンを形成してなる第二回路パターンとを混在して構成されていることを特徴とする回路基板にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第三実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 14 of the present invention is a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate, wherein the circuit pattern is obtained by dispersing conductive powder in a resin binder on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate. By forming a resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste and heating a paste containing a metal or a metal compound on the resin-containing circuit pattern at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C. A first circuit pattern formed by laminating a fusion type circuit pattern obtained by fusing together metal fine particles present in the paste or metal fine particles precipitated from the metal compound ; and formed on the surface of the insulating substrate. circuit, characterized in that the second circuit pattern obtained by forming a resin-containing type circuit pattern is configured in a mixed on the adhesive film was In the plate. This invention is an invention corresponding to the third embodiment in the description of the “Best Mode for Carrying Out the Invention” below.
本願請求項15に記載の発明は、絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなる回路基板において、前記回路パターンは、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に、金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを形成するとともに、この融着型回路パターン上に導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンを直接積層するか、あるいは導電接着被膜を介して積層することで構成されていることを特徴とする回路基板にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第四実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 15 of the present application is a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate, and the circuit pattern contains a metal or a metal compound on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate. By heating the paste to be heated at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., a fused circuit pattern is formed by fusing metal fine particles present in the paste or metal fine particles precipitated from the metal compound to each other. In addition, a resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder is directly laminated on the fusion-type circuit pattern, or laminated through a conductive adhesive film. It is in the circuit board characterized by having. The present invention is an invention corresponding to the fourth embodiment described in the following “Best Mode for Carrying Out the Invention”.
本願請求項16に記載の発明は、絶縁基板の表面に回路パターンを設けてなる回路基板において、前記回路パターンは、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを形成するとともに、この融着型回路パターン上に導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンを直接積層するか、あるいは導電接着被膜を介して積層することで構成される第一回路パターンと、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に樹脂含有型回路パターンを形成してなる第二回路パターンとを混在して構成されていることを特徴とする回路基板にある。この発明は、下記する「発明を実施するための最良の形態」の記載中の第四実施形態に対応する発明である。 The invention according to claim 16 of the present application is a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate, and the circuit pattern contains a metal or a metal compound on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate. The paste is heated at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C. to form a fusion-type circuit pattern in which metal fine particles present in the paste or metal fine particles precipitated from the metal compound are fused to each other. The resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder is directly laminated on the fusion-type circuit pattern, or laminated through a conductive adhesive film. a first circuit pattern, the second circuit pattern obtained by forming a resin-containing type circuit pattern on an adhesive coating formed on the surface of the insulating substrate Lying on the circuit board, characterized in that is configured and down mixed. The present invention is an invention corresponding to the fourth embodiment described in the following “Best Mode for Carrying Out the Invention”.
請求項1から8に記載の発明によれば、一旦転写部材(請求項7,8の場合は第一の転写部材)の転写面に形成した融着型回路パターンを、絶縁基板に転写するように構成したので、絶縁基板として融着型回路パターン形成時の加熱に耐えられない耐熱温度の低い材料を使用できるようになる。同時に形成される回路パターンは、融着型回路パターンを用いているので、金属自体と同程度の低い比抵抗を有するものとなり、従って回路パターンの比抵抗値を小さくできて細い回路パターンでも高電流を流すことができる回路基板が提供できる。また回路パターンを細くできるので、回路基板の小型・集積化を図ることもできる。また樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層するので、融着型回路パターンが樹脂含有型回路パターンによって補強され、回路パターンの破断や絶縁基板からの剥離が生じにくくなる。 According to the first to eighth aspects of the invention, the fused circuit pattern once formed on the transfer surface of the transfer member (the first transfer member in the case of the seventh and eighth aspects) is transferred to the insulating substrate. Therefore, a material having a low heat-resistant temperature that cannot withstand the heating during the formation of the fused circuit pattern can be used as the insulating substrate. The circuit pattern formed at the same time has a fusion circuit pattern, so it has a specific resistance as low as that of the metal itself. Therefore, the specific resistance value of the circuit pattern can be reduced, and even a thin circuit pattern has a high current. Can be provided. In addition, since the circuit pattern can be made thin, the circuit board can be reduced in size and integrated. In addition, since the resin-containing circuit pattern and the fusion-type circuit pattern are laminated, the fusion-type circuit pattern is reinforced by the resin-containing circuit pattern, and the circuit pattern is less likely to break or peel from the insulating substrate.
請求項2,4,6,8に記載の発明によれば、絶縁基板上に、容易に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる第一の回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二の回路パターンとを混在して形成することができる。つまり同一絶縁基板上の各回路パターンの中で、高電流を流す第一の回路パターンと、低電流を流す第二の回路パターンとをそれぞれ必要に応じて選択・形成することができ、材料費の低減化や製造工程の簡略化を図ることができる。
According to the invention described in
請求項9から16に記載の発明によれば、形成される回路パターンは、融着型回路パターンを用いているので、金属自体と同程度の低い比抵抗を有するものとなり、従って回路パターンの比抵抗値を小さくできて細い回路パターンでも高電流を流すことができる回路基板が提供できる。また回路パターンを細くできるので、回路基板の小型・集積化を図ることもできる。また樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層するので、融着型回路パターンが樹脂含有型回路パターンによって補強され、回路パターンの破断や絶縁基板からの剥離が生じにくくなる。 According to the invention described in claims 9 to 16, since the circuit pattern to be formed uses a fusion-type circuit pattern, it has a specific resistance as low as that of the metal itself. A circuit board can be provided in which the resistance value can be reduced and a high current can flow even in a thin circuit pattern. In addition, since the circuit pattern can be made thin, the circuit board can be reduced in size and integrated. In addition, since the resin-containing circuit pattern and the fusion-type circuit pattern are laminated, the fusion-type circuit pattern is reinforced by the resin-containing circuit pattern, and the circuit pattern is less likely to break or peel from the insulating substrate.
請求項10,12,14,16に記載の発明によれば、第一の回路パターンと第二の回路パターンとが混在しているので、同一絶縁基板上の各回路パターンの中で、高電流を流す第一の回路パターンと、低電流を流す第二の回路パターンとをそれぞれ必要に応じて選択・形成することができ、材料費の低減化や製造工程の簡略化を図ることができる。 According to the invention described in claims 10, 12, 14, and 16, since the first circuit pattern and the second circuit pattern are mixed, a high current is generated in each circuit pattern on the same insulating substrate. The first circuit pattern for flowing a current and the second circuit pattern for flowing a low current can be selected and formed as necessary, and the material cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
〔第一実施形態〕
図1,図2は本発明の第一実施形態にかかる回路基板1−1の製造方法を示す要部拡大断面図、図3は完成した回路基板1−1の要部拡大断面図である。この回路基板(フレキシブル回路基板)1−1を製造するには、まず図1に示すように、可撓性を有する絶縁性の合成樹脂フイルム(厚みは例えば50〜75μm)からなる絶縁基板30−1と、一方の表面を転写面65−1とした転写部材60−1とを用意する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[First embodiment]
1 and 2 are enlarged cross-sectional views of main parts showing a method for manufacturing the circuit board 1-1 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of the main parts of the completed circuit board 1-1. In order to manufacture the circuit board (flexible circuit board) 1-1, first, as shown in FIG. 1, an insulating board 30- made of an insulating synthetic resin film (thickness is, for example, 50 to 75 μm) having flexibility. 1 and a transfer member 60-1 having one surface as a transfer surface 65-1.
ここで絶縁基板30−1は、この実施形態では耐熱性は低いが安価なポリエチレンテレフタレート(PET)フイルムを用いているが、それ以外に、例えばポリフェニレンスルフイド(PPS)フイルム、ポリイミド(PI)フイルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フイルム、ポリエーテルイミドフイルム等によって構成してもよい。 In this embodiment, the insulating substrate 30-1 uses a polyethylene terephthalate (PET) film which has low heat resistance but is inexpensive in this embodiment, but other than that, for example, polyphenylene sulfide (PPS) film, polyimide (PI), etc. You may comprise by a film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, a polyetherimide film, etc.
一方転写部材60−1は金属板等の硬質板61−1の一方の表面にフッ素樹脂コートによる表面層63−1を設け、この表面層63−1を設けた側の表面を転写面65−1として構成されている。表面層63−1は、被転写物(本実施形態では各種被膜)を一旦転写部材60−1上に配置でき、次にこの被転写物を他の部材側(本実施形態では絶縁基板30−1側)に転写し得る程度の粘着機能を有している。なお転写部材60−1としてこの実施形態では硬質部材を用いたが、例えばフッ素樹脂製のシート等、可撓性のあるフレキシブルシートを用いても良い。フレキシブルシートとしてフッ素樹脂を用いた場合はそれ自体が表面層63−1の機能を有するので、別途表面層63−1を形成する必要はない。なお転写部材60−1の材質としては、転写面65上に形成する下記する融着型回路パターン70a−1,70b−1の焼成時の加熱温度(140℃〜250℃)に絶えられる材質のものを選ぶ。
On the other hand, the transfer member 60-1 is provided with a surface layer 63-1 of a fluororesin coat on one surface of a hard plate 61-1 such as a metal plate, and the surface on which the surface layer 63-1 is provided is the transfer surface 65-. 1 is configured. In the surface layer 63-1, a transfer object (in this embodiment, various coatings) can be temporarily disposed on the transfer member 60-1, and then this transfer object is placed on the other member side (in this embodiment, the insulating substrate 30-). It has an adhesive function that can be transferred to the first side. In this embodiment, a hard member is used as the transfer member 60-1. However, for example, a flexible flexible sheet such as a fluororesin sheet may be used. When a fluororesin is used as the flexible sheet, it itself has the function of the surface layer 63-1, so that it is not necessary to separately form the surface layer 63-1. The material of the transfer member 60-1 is a material that can be kept at the heating temperature (140 ° C. to 250 ° C.) when firing the following fused
そして前記絶縁基板30−1の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって複数本(図では三本)の樹脂含有型導電性被膜からなる樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1,40c−1を形成する。樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1の具体的形成方法の一例を示すと、鱗片状の導電粉(この実施形態では平均粒径1〜50μm程度の銀粒子)を、樹脂バインダー及び有機溶剤に分散して構成される一般の樹脂含有導電ペーストである銀ペーストを用意する。ここで樹脂バインダーとしては例えば熱硬化性のフェノール樹脂や架橋型ウレタン樹脂等を用いる。そして絶縁基板30−1上にこの樹脂含有導電ペーストを、樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1の形状にスクリーン印刷によって塗布する。但し塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、インクジェット印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。次に160℃程度(加熱時間5分間程度)で加熱・硬化させることで樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1を形成する。この樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1は、その比抵抗が、1×10-4〜4×10-5〔Ω・cm〕程度で比較的大きな抵抗値となる。またこの樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1の厚みは6μm程度となる。
A resin-containing type comprising a plurality of (three in the figure) resin-containing conductive films by applying a resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder on the surface of the insulating substrate 30-1.
次に前記絶縁基板30−1の樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1を少なくとも覆うように、導電接着被膜90−1をスクリーン印刷によって塗布して形成する。但し塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、インクジェット印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。なお本実施形態では導電接着被膜90−1は各樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1が形成されていない絶縁基板30−1の面にも塗布されている。導電接着被膜90−1は、厚み方向に加熱加圧することで厚み方向に電気的に導通し(面方向には電気的に導通しない)且つ接着される性質を有する異方性のホットメルトタイプの導電接着被膜であり、具体的には、例えば熱可塑性の樹脂バインダー(例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル樹脂等)中に導電粉としてニッケル粉又は銅粉に銀メッキ等を施したものを混練した導電ペーストを塗布して硬化することで形成される。
Next, a conductive adhesive coating 90-1 is applied by screen printing so as to cover at least the resin-containing
次に転写部材60−1の表面層63−1表面の転写面65−1上に融着型回路パターン70a−1,70b−1を形成する。これら融着型回路パターン70a−1,70b−1は、この転写部材60−1と前記絶縁基板30−1とを対向させた際に絶縁基板30−1に形成した前記樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1の内の一部(この実施形態では二本)の樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1に対向する転写部材60−1の転写面65−1の位置に、樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1と略同一形状に形成される。融着型回路パターン70a−1,70b−1の具体的形成方法の一例を示すと、まず銀化合物を含有したペーストを用意する。この種のペーストには種々の構成のものがあるが、ここでは、酸化銀微粒子(銀化合物の微粒子)と有機銀化合物と有機溶剤からなるペーストを用いている。酸化銀微粒子は例えば160℃程度の熱で加熱されると酸素を離して銀に戻る。すなわち酸化銀は空気中で熱せられることで自己還元し(2Ag2O→4Ag+O2)、酸素が分離して金属銀微粒子が形成されると同時にこれらは融着する。一方所定の化学構造の有機銀化合物に熱を加えることで熱分解すれば、その有機分は揮散し、金属銀微粒子が析出する。このとき析出する銀微粒子は活性である(R−Ag→Ag+R1↑+R2↑+…)。また有機溶剤は加熱によって揮発する。そこでこの実施形態に用いるペーストとして、140〜200℃以下で分解する特定の分子構造の有機銀化合物を用い、この有機銀化合物と前記酸化銀微粒子とを併用して配合したものを用いた。そしてこのペーストを転写部材60−1の転写面65−1上にスクリーン印刷によって塗布する。但し、塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、インクジェット印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。そして140〜200℃程度(好ましくは180℃以上)で加熱(加熱時間は10秒〜120分程度)すれば、酸化銀微粒子から酸素が分離して金属銀微粒子が発生し、次に隣接している前記金属銀微粒子同士の隙間に、有機銀化合物から分解して析出する前記金属銀微粒子よりさらに小さな粒子形状を有する活性な析出銀微粒子が入り込んで金属銀微粒子と析出銀微粒子とが融着されることにより、最終的に緻密な導電性の高い連続した金属微粒子融着型導電性被膜からなる融着型回路パターン70a−1,70b−1が形成できる。ここで140〜200℃で分解する有機銀化合物としては、例えば三級脂肪酸銀塩が好適である。なおこのようなペーストとしては、例えば特開2003−203522号公報や特開2003−309375号公報等に記載のペーストがある。
Next, fused
前記酸化銀微粒子の平均粒径は500nm以下が好ましいが、還元剤等を添加することでこれよりも大きな粒径とすることも可能である。三級脂肪酸銀塩とは総炭素数が5〜30の三級脂肪酸の銀塩であり、滑剤的な役割を果たし、酸化銀微粒子と三級脂肪酸銀塩とを混練してペースト状にする際に酸化銀微粒子を粉砕して微粒子化を促進するとともに、酸化銀微粒子の周囲に存在して酸化銀微粒子の再凝集を抑制し、分散性を向上させるものであり、同時に加熱時には平均粒径数10nmの金属銀微粒子を析出させ、酸化銀微粒子から還元して生成する銀微粒子に融着させるものである。このような三級脂肪酸銀塩の具体例としては、ピバリン酸銀、ネオヘプタン酸銀、ネオノナン酸銀、ネオデカン酸銀等がある。 The average particle size of the silver oxide fine particles is preferably 500 nm or less, but it is also possible to make the particle size larger by adding a reducing agent or the like. A tertiary fatty acid silver salt is a silver salt of a tertiary fatty acid having a total carbon number of 5 to 30 and serves as a lubricant. When kneading silver oxide fine particles and a tertiary fatty acid silver salt into a paste form In addition to pulverizing silver oxide fine particles to promote fine particle formation, it is present around silver oxide fine particles to suppress re-aggregation of silver oxide fine particles and improve dispersibility. 10 nm metallic silver fine particles are deposited and fused to silver fine particles produced by reduction from silver oxide fine particles. Specific examples of such tertiary fatty acid silver salts include silver pivalate, silver neoheptanoate, silver neononanoate, and silver neodecanoate.
この実施形態では粒子状銀化合物として酸化銀(酸化第1銀、酸化第2銀)の微粒子を用いたが、その代りに炭酸銀、酢酸銀等、又はこれらの混合物の微粒子を用いても良い。またこの粒子状銀化合物に還元剤を添加すれば、平均粒径が500nm以上の比較的大きな微粒子であっても還元がスムーズに行えるようになり、その利用が容易に行えるようになる。また有機溶剤としては、イソホロン、テルピネオール、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ブチルセロソルブアセテートなどがある。 In this embodiment, fine particles of silver oxide (first silver oxide, second silver oxide) are used as the particulate silver compound. Instead, fine particles of silver carbonate, silver acetate, or a mixture thereof may be used. . Further, if a reducing agent is added to the particulate silver compound, even a relatively large fine particle having an average particle diameter of 500 nm or more can be reduced smoothly and can be used easily. Examples of the organic solvent include isophorone, terpineol, triethylene glycol monobutyl ether, and butyl cellosolve acetate.
以上のようにして形成される融着型回路パターン70a−1,70b−1は、前述のように、金属微粒子融着型導電性被膜によって形成されるが、この金属微粒子融着型導電性被膜は、金属銀微粒子が互いに融着して連続している金属銀の塗膜なので、その比抵抗は3〜8×10-6〔Ω・cm〕程度と小さく、金属銀自体の比抵抗と同じオーダーになる。なお前記加熱時間を長くすればするほど、また加熱温度を高くすればするほど比抵抗は小さくなり、また密着性もより良好になる。従来の鱗片状の銀粒子(平均粒径1〜50μm程度)を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを用いて形成した樹脂含有型導電性被膜の場合は、前述のようにその比抵抗が、1×10-4〜4×10-5〔Ω・cm〕程度なのに対して、非常に小さい比抵抗となる。なおこの融着型回路パターン70a−1,70b−1の厚みは3μm程度となる。
As described above, the fusion-
次に転写部材60−1と絶縁基板30−1とを、両者にそれぞれ設けた融着型回路パターン70a−1,70b−1と導電接着被膜90−1とが接触するように積層する。このとき一部の樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1と融着型回路パターン70a−1,70b−1とが、樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1上に設けた導電接着被膜90−1を介して積層される。そして図2に示すように転写部材60−1と絶縁基板30−1間を、これらの上下に設置した加熱加圧部材A1,A2によって挟持し、加熱・加圧すれば、ホットメルトタイプの導電接着被膜90−1が溶融することによってこの導電接着被膜90−1と融着型回路パターン70a−1,70b−1とが接着する。なお加熱加圧部材A1,A2による加熱・加圧条件は、例えば加熱温度150℃、加圧圧力10kg/cm2、加熱・加圧時間5〜10秒間、である。
Next, the transfer member 60-1 and the insulating substrate 30-1 are laminated so that the fused
次に加熱加圧部材A1,A2を取り外した後、前記積層した絶縁基板30−1と転写部材60−1から転写部材60−1を離せば、転写部材60−1の転写面65−1上の融着型回路パターン70a−1,70b−1が絶縁基板30−1側に転写され、これによって図3に示すように、絶縁基板30−1上に樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1と融着型回路パターン70a−1,70b−1とを積層してなる第一回路パターン80−1,80−1と、樹脂含有型回路パターン40c−1からなる第二回路パターン81−1とを混在して形成してなる回路基板1−1が構成される。
Next, after removing the heating and pressing members A1 and A2, the transfer member 60-1 is separated from the laminated insulating substrate 30-1 and the transfer member 60-1. The fused
上記製造方法を用いれば、一旦転写部材60−1の転写面65−1に形成した融着型回路パターン70a−1,70b−1を絶縁基板30−1に転写するので、PETフイルムのような耐熱性の低い絶縁基板30−1にも融着型回路パターン70a−1,70b−1を形成することができる。
If the above manufacturing method is used, the fusion-
樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1と融着型回路パターン70a−1,70b−1とを積層してなる第一回路パターン80−1,80−1は金属銀に近い比抵抗を有し、従って数10mAの高電流を流すような場合であっても、従来の樹脂含有導電ペーストのみからなる樹脂含有型回路パターンと比べて回路パターンの線幅を太くしたりする必要がない。これにより第一回路パターン80−1を高電流用として使用し、一方第二回路パターン81−1を低電流用として使用することができる。つまり、両回路パターン80−1,81−1をそれぞれ必要に応じて選択形成することができ、材料費の低減化や製造工程の簡略化が図れる。またこの実施形態は、樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1と融着型回路パターン70a−1,70b−1と導電接着被膜90−1の全てをスクリーン印刷を用いて形成したので、何れのパターンや被膜も同一の工程によって製造できて製造工程の簡素化が図れ、また同一の製造装置を使用でき、これらのことから回路基板1−1の製造の容易化、製造コストの低減化が図れる。
The first circuit patterns 80-1 and 80-1 formed by laminating the resin-containing
またこの実施形態のように絶縁基板30−1の上面に樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1を形成し、その上に導電接着被膜90−1を介して融着型回路パターン70a−1,70b−1を形成することによって第一回路パターン80−1,80−1を構成したのは以下の理由による。即ち絶縁基板30−1上に融着型回路パターン70a−1,70b−1を直接塗布して形成した場合の両者間の密着性は、両者の相性によっては、絶縁基板30−1上に樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1を直接塗布して形成した場合の両者間との密着性に比べて、あまり良くない場合がある。そこで絶縁基板30−1と融着型回路パターン70a−1,70b−1の間に樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1を介在したのである。さらにこの樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1は、樹脂バインダーとして熱硬化性のフェノール樹脂や架橋型ウレタン樹脂等を用いているので、硬化後はこれを加熱加圧しても接着性が生じない。そこでこの樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1の上にホットメルトタイプの導電接着被膜90−1を被覆しておき、前記転写の際にこれを加熱加圧することで融着型回路パターン70a−1,70b−1を樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1上に導電接着被膜90−1を介して確実に転写し、且つその積層状態が維持できるようにしたのである。また融着型回路パターン70a−1,70b−1は樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1に比べて薄くて硬いので、絶縁基板30−1を屈曲させたときにクラックが入り易いが、クラックの入り難い柔軟性のある樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1を積層することで融着型回路パターン70a−1,70b−1を補強し、これによって絶縁基板30−1の屈曲に対して十分対応できるようになっている。なお樹脂含有型回路パターン40a−1〜40c−1や融着型回路パターン70a−1,70b−1の印刷回数を複数回(ここで言う一回の印刷回数とは、ペーストを一回塗布して硬化させるまでの一工程をいう)とすることにより、これらパターンの厚みを厚くし、細いパターン幅で更に低抵抗のパターンを得ることができ、これによって更なる高電流を流すこともできる。
Further, as in this embodiment, resin-containing
またこの実施形態においては、導電接着被膜90−1を絶縁基板30−1の上面の樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1上に形成したが、その代りに、導電接着被膜90−1を転写部材60−1の転写面65−1の融着型回路パターン70a−1,70b−1上に形成しても良い。この場合は、絶縁基板30−1と転写部材60−1間を積層して加熱加圧した後に転写部材60−1を絶縁基板30−1から離す際に、転写部材60‐1側に形成した導電接着被膜90−1と融着型回路パターン70a−1,70b−1が、絶縁基板30−1に設けた樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1上に転写されることとなる。
In this embodiment, the conductive adhesive film 90-1 is formed on the resin-containing
図4は上記第一,第二回路パターン80−1,81−1を用いて構成した回路基板1−1の一具体例にかかる回路基板(以下「フレキシブル回路基板」という)100及びこれに取り付ける各種部品を示す要部斜視図である。同図に示すフレキシブル回路基板100(図4ではフレキシブル回路基板100の左右の部分の記載を省略している)は、可撓性を有する絶縁性のPETフイルムからなる絶縁基板30−1の表面に、第一,第二回路パターン80−1,81−1を設けて構成されている。なお図4に示すA−A線部分の断面拡大図が図3に示す回路基板1−1である。
FIG. 4 shows a circuit board (hereinafter referred to as “flexible circuit board”) 100 according to a specific example of the circuit board 1-1 configured by using the first and second circuit patterns 80-1 and 81-1, and the circuit board 1-1. It is a principal part perspective view which shows various components. The
即ちこのフレキシブル回路基板100においては、スイッチ回路用として一対の第二回路パターン81−1,81−1が形成され、発光素子用として一対の第一回路パターン80−1,80−1が形成され、さらに別の回路用に一本の第一回路パターン80−1が形成されている。スイッチ回路用の第二回路パターン81−1,81−1の一方の端部同士は対向して配置され、それぞれの端部には円形のスイッチ接点部81aと、スイッチ接点部81aを囲むC字状のスイッチ接点部81bとが設けられている。また発光素子用の第一回路パターン80−1,80−1の一方の端部同士は対向して配置され、それぞれの端部には電極固定ランド部80a,80aが設けられている。なお実際には上記第一,第二回路パターン80−1,81−1を形成した絶縁基板30−1の前記スイッチ接点部81a,81bと、電極固定ランド部80a,80aの部分を除く表面全体には、絶縁塗料を印刷・乾燥することで、絶縁層が被覆・形成されるが、図ではその記載を省略している。この絶縁塗料としては例えば紫外線硬化型の樹脂を用いる。なお絶縁塗料の塗布の代わりに、絶縁フイルムを被覆しても良い。そして前記スイッチ接点部81a,81bの真上に弾性金属板をその中央が上方向に凸となるように湾曲変形してなる金属反転板110を載置し、図示しない接着テープ等によって固定し、また前記電極固定ランド部80a,80a上に発光素子120を載置して発光素子120の両端に設けた電極部121,121を電極固定ランド部80a,80aに導電性接着剤や図示しない機械的固定手段によって取り付ける。
That is, in the
そしてこのフレキシブル回路基板100においては、数10mA程度の高電流を必要とする発光素子120発光用の回路パターンとして低抵抗の第一回路パターン80−1を用いたので、発光素子120の発光が回路抵抗が高いことにより阻害される等の問題を確実に防止できる。また数mA程度の低電流でも問題の生じないスイッチ用の回路パターンとして通常の比較的抵抗値の高い第二回路パターン81−1を用いたので、材料費の低減化や印刷工程の簡略化(回路パターンの低抵抗化の不必要な部分を積層構造にしなくても良い等)等が図れる。そしてこのフレキシブル回路基板100のように、一枚のフレキシブル回路基板100上に、第一,第二回路パターン80−1,81−1を混在させたので、高電流を流す第一回路パターン80−1と低電流しか流さない第二回路パターン81−1とが混在するフレキシブル回路基板100であっても、回路パターンの線幅を太くする必要はなく、フレキシブル回路基板100の小型化が図れる。
In this
〔第二実施形態〕
図5,図6は本発明の第二実施形態にかかる回路基板1−2の製造方法を示す要部拡大断面図、図7は完成した回路基板1−2の要部拡大断面図である。なおこの実施形態において、前記第一実施形態と同一又は相当部材には同一符号(但し、添え字のみ異ならせている)を付している。この実施形態においては、樹脂含有型導電性被膜からなる樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2の樹脂含有導電ペーストとして、下記する樹脂を選択することで、第一実施形態に示す導電接着被膜90−1の形成を省略している。即ちこの回路基板1−2を製造するには、まず図5に示すように、可撓性を有する絶縁性の合成樹脂フイルム(厚みは例えば50〜75μm)からなる絶縁基板30−2と、一方の表面を転写面65−2とした転写部材60−2とを用意する。ここで絶縁基板30−2の材質と転写部材60−2の材質とは、第一実施形態と同じである。従って絶縁基板30−2はPETフイルム製(それ以外に、例えば、PPSフイルム、PIフイルム、PENフイルム、ポリエーテルイミドフイルム等でもよい。)であり、特に透明なものを使用している。
[Second Embodiment]
5 and 6 are enlarged cross-sectional views of main parts showing a method for manufacturing the circuit board 1-2 according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of the main parts of the completed circuit board 1-2. In this embodiment, the same or equivalent members as those in the first embodiment are given the same reference numerals (however, only subscripts are different). In this embodiment, the first embodiment is selected by selecting the following resin as the resin-containing conductive paste of the resin-containing
そして絶縁基板30−2の表面に、第一実施形態と同じ形成方法にて、導電粉を紫外線硬化型の樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって複数本(図では三本)の樹脂含有型導電性被膜からなる樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2を形成する。即ちこの実施形態に用いる樹脂含有導電ペーストは紫外線硬化型であり、紫外線を照射する前は所定の粘性を有して半硬化状態のままとなっている。樹脂含有型回路パターン40a−2〜40c−2の具体的形成方法の一例を示すと、鱗片状の導電粉(この実施形態では平均粒径0.02〜5μm程度の銀粒子)を、紫外線硬化型の樹脂バインダー(例えば、ロジンアクリレート)及び有機溶剤に分散して構成される樹脂含有導電ペーストである銀ペーストを用意し、この樹脂含有導電ペーストを、絶縁基板30−2上に樹脂含有型回路パターン40a−2〜40c−2の形状にスクリーン印刷によって塗布する(但し塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、インクジェット印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。)ことで樹脂含有型回路パターン40a−2〜40c−2を形成する。
Then, a plurality of resin pastes (three in the figure) are applied to the surface of the insulating substrate 30-2 by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in an ultraviolet curable resin binder by the same formation method as in the first embodiment. Resin-containing circuit patterns 40 a-2, 40 b-2, and 40 c-2 made of a resin-containing conductive film of the present) are formed. That is, the resin-containing conductive paste used in this embodiment is of an ultraviolet curable type, and has a predetermined viscosity and remains in a semi-cured state before being irradiated with ultraviolet rays. An example of a specific method for forming the resin-containing
次に転写部材60−2の転写面65−2上に第一実施形態と同様に、融着型回路パターン70a−2,70b−2を形成する。これら融着型回路パターン70a−2,70b−2は、この転写部材60−2と前記絶縁基板30−2とを対向させた際に絶縁基板30−2に形成した前記樹脂含有型回路パターン40a−2〜40c−2の内の一部の樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2に対向する転写部材60−2の表面層63−2の表面の転写面65−2の位置に、樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2と略同一形状で複数本形成されている。融着型回路パターン70a−2,70b−2の具体的形成方法は、第一実施形態と同一である。即ち融着型回路パターン70a−2,70b−2は、第一実施形態と同様に、金属微粒子融着型導電性被膜によって形成されるが、この金属微粒子融着型導電性被膜は、金属銀微粒子が互いに融着して連続している金属銀の塗膜なので、その比抵抗は3〜8×10-6〔Ω・cm〕程度と小さく、金属銀と同じオーダーになる。
Next, fused
次に転写部材60−2と絶縁基板30−2とを、図6に示すように、融着型回路パターン70a−2,70b−2と一部の樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2とが対向して接触するように積層する。これによって半硬化状態の樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2が融着型回路パターン70a−2,70b−2の表面に付着する。そして絶縁基板30−2の樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2を設けた面の反対面側から樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2に向けて紫外線を照射すれば、樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2が硬化し、同時に樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2と融着型回路パターン70a−2,70b−2間が接着される。
Next, as shown in FIG. 6, the transfer member 60-2 and the insulating substrate 30-2 are bonded to the fused
次に前記積層した絶縁基板30−2と転写部材60−2から転写部材60−2を離せば、転写部材60−2の転写面65−2上の融着型回路パターン70a−2,70b−2が絶縁基板30−2側に転写され、これによって図7に示すように、絶縁基板30−2上に樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2と融着型回路パターン70a−2,70b−2とを積層してなる第一回路パターン80−2,80−2と、樹脂含有型回路パターン40c−2からなる第二回路パターン81−2とを混在して形成してなる回路基板1−2が構成される。
Next, when the transfer member 60-2 is separated from the laminated insulating substrate 30-2 and the transfer member 60-2, the fused
このようにして形成された第一回路パターン80−2,80−2も、第一実施形態と同様に、金属銀に近い比抵抗を有し、従って数10mAの高電流を流すような場合であっても、従来の樹脂含有導電ペーストのみからなる樹脂含有型回路パターンと比べて回路パターンの線幅を太くしたりする必要がない。これにより第一回路パターン80−2を高電流用として使用し、一方第二回路パターン81−2を低電流用として使用することができる。つまり両回路パターン80−2,81−2をそれぞれ必要に応じて選択形成することができ、材料費の低減化や製造工程の簡略化が図れる。またこの実施形態は、樹脂含有型回路パターン40a−2〜40c−2と融着型回路パターン70a−2,70b−2の全てをスクリーン印刷を用いて形成したので、何れのパターンも同一の工程によって製造できて製造工程の簡素化が図れ、また同一の製造装置を使用でき、これらのことから回路基板1−2の製造の容易化、製造コストの低減化が図れる。
Similarly to the first embodiment, the first circuit patterns 80-2 and 80-2 formed in this way also have a specific resistance close to that of metallic silver, and therefore a case where a high current of several tens of mA flows. Even if it exists, it is not necessary to make the line width of a circuit pattern thick compared with the resin containing type | mold circuit pattern which consists only of the conventional resin containing electrically conductive paste. Thereby, the first circuit pattern 80-2 can be used for high current, while the second circuit pattern 81-2 can be used for low current. That is, both circuit patterns 80-2 and 81-2 can be selectively formed as necessary, so that the material cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified. Further, in this embodiment, all of the resin-containing
また絶縁基板30−2の上面に、絶縁基板30−2に対して密着性の優れている樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2を介してその上に融着型回路パターン70a−2,70b−2を形成することによって第一回路パターン80−2,80−2を構成したので、絶縁基板30−2に対して樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2と比して密着性のあまり良くない融着型回路パターン70a−2,70b−2を容易且つ確実に絶縁基板30−2上に転写によって形成することができる。融着型回路パターン70a−2,70b−2が樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2を積層することによって補強され、これによって絶縁基板30−2の屈曲に対して十分対応できるようになっている点も第一実施形態と同様である。
Further, a fused
また樹脂含有型回路パターン40a−2〜40c−2や融着型回路パターン70a−2,70b−2の印刷回数を複数回(ここで言う一回の印刷回数とは、ペーストを一回印刷して硬化させるまでの一工程を言う)とすることにより、これらパターンの厚みを厚くし、細いパターン幅で更に低抵抗のパターンを得ることができ、これによって更なる高電流を流すことができる。
Also, the number of times the resin-containing
なおこの実施形態においては、樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2を絶縁基板30−2の上面に形成したが、その代りに、これら樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2を転写部材60−2側に形成しても良い。具体的には、転写部材60−2上に形成された融着型回路パターン70a−2上に樹脂含有型回路パターン40a−2、融着型回路パターン70b−2上に樹脂含有型回路パターン40b−2、表面層63−2表面の転写面65−2上に樹脂含有型回路パターン40c−2をスクリーン印刷(但し塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、インクジェット印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。)する。次にこの転写部材60−2と絶縁基板30−2を積層し、この絶縁基板30−2の転写部材60−2を積層していない側の面に紫外線を照射して樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2を硬化し、転写部材60−2を絶縁基板30−2から離す際に、転写部材60−2側に形成した融着型回路パターン70a−2,70b−2と樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2とを、絶縁基板30−2上に転写することとなる。なお光(紫外線)を絶縁基板30−2に照射する場合は絶縁基板30−2の加熱温度は最大で80℃であり、耐熱性に劣るPETフイルムからなる絶縁基板30−2を変質させることはない。
In this embodiment, the resin-containing
なおこの実施形態においては、融着型回路パターン70a−2,70b−2と樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2とを直接接着するために、樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2として紫外線硬化型の樹脂含有導電ペーストを用いたが、その代りに、樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2として、熱可塑性の導電ペースト(例えば銀粉等の導電粉を、ポリエステル樹脂,アクリル樹脂,ポリスチレン樹脂,ポリビニルアルコール樹脂,塩化ビニル樹脂等の樹脂バインダーに混練したペースト)を用いても良い。この場合は、絶縁基板30−2と転写部材60−2とを積層した後に、両者間を加熱加圧(本実施形態では加熱温度150℃、加圧圧力10kg/cm2、加熱加圧時間5〜10秒間)し、その後転写部材60−2を離せば転写部材60−2上の融着型回路パターン70a−2,70b−2が、絶縁基板30−2上の樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2上に転写される。また樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2として第一実施形態と同一な熱硬化型の樹脂含有導電ペーストを用いても良い。この場合は、樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2を一旦硬化温度以下で若干の粘着性を有する半硬化状態にし、次に絶縁基板30−2に転写部材60−2を積層して加熱硬化して転写部材60−2上の融着型回路パターン70a−2,70b−2と絶縁基板30−2上の樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2とを接着する必要がある。
In this embodiment, in order to directly bond the fused
以上のようにこの実施形態に係る製造方法を用いれば、第一実施形態と同様に、一旦転写部材60−2の転写面65−2に形成した融着型回路パターン70a−2,70b−2を絶縁基板30−2に転写するので、PETフイルムのような耐熱性の低い絶縁基板30−2にも融着型回路パターン70a−2,70b−2を形成することができる。なおこの実施形態にかかる回路基板1−2も、第一実施形態と同様に、前記図4に示すようなフレキシブル回路基板100に適用できることはいうまでもない。
As described above, when the manufacturing method according to this embodiment is used, as in the first embodiment, the fused
〔第三実施形態〕
図8,図9は本発明の第三実施形態にかかる回路基板1−3の製造方法を示す要部拡大断面図、図10は完成した回路基板1−3の要部拡大断面図である。なおこの実施形態において、前記第一実施形態と同一又は相当部材には同一符号(但し、添え字のみ異ならせている)を付している。この実施形態においては、融着型回路パターン70a−3,70b−3と樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3とを何れも転写部材60−3側に形成し、これら各パターンを絶縁基板30−3側に形成した接着被膜85−3に接着して転写するように構成している。即ちこの回路基板1−3を製造するには、まず図8に示すように、可撓性を有する絶縁性のPETフイルム(それ以外に、例えばPPSフイルム、PIフイルム、PENフイルム、ポリエーテルイミドフイルム等によって構成してもよい。)(厚みは例えば50〜75μm)からなる絶縁基板30−3と、一方の表面を転写面65−3とした転写部材60−3とを用意する。ここで絶縁基板30−3の材質と転写部材60−3の材質とは、第一実施形態と同じである。
[Third embodiment]
FIGS. 8 and 9 are enlarged cross-sectional views of main parts showing a method for manufacturing the circuit board 1-3 according to the third embodiment of the present invention, and FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of the main parts of the completed circuit board 1-3. In this embodiment, the same or equivalent members as those in the first embodiment are given the same reference numerals (however, only subscripts are different). In this embodiment, the fused
そして絶縁基板30−3の表面に、絶縁性の材料からなる接着被膜85−3をスクリーン印刷によって塗布する。但し塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。この接着被膜85−3の材質は、ホットメルトタイプ(熱可塑性)の合成樹脂(例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル樹脂等)でも良いし、紫外線硬化型の合成樹脂でも良いし、熱硬化型の合成樹脂(例えばフェノール樹脂又はウレタン樹脂等)でも良い。ホットメルトタイプの合成樹脂の場合は、150℃程度で加熱して、下記する転写部材60−3に積層する前に硬化状態にしておけばよいが、紫外線硬化型の合成樹脂や熱硬化型の合成樹脂の場合は完全に硬化させずに第二実施形態と同様な方法で若干の粘着性を有する半硬化状態としておく必要がある。 Then, an adhesive coating 85-3 made of an insulating material is applied to the surface of the insulating substrate 30-3 by screen printing. However, the application method includes flexographic printing, offset printing, letterpress printing, intaglio printing, spray printing and the like in addition to screen printing. The material of the adhesive coating 85-3 may be a hot melt type (thermoplastic) synthetic resin (for example, a polyester resin, an acrylic resin, a polystyrene resin, a polyvinyl alcohol resin, a vinyl chloride resin, etc.), or an ultraviolet curable synthetic resin. Alternatively, a thermosetting synthetic resin (such as a phenol resin or a urethane resin) may be used. In the case of a hot melt type synthetic resin, it may be heated at about 150 ° C. and set in a cured state before being laminated on the transfer member 60-3 described below, but an ultraviolet curable synthetic resin or a thermosetting type resin may be used. In the case of a synthetic resin, it is necessary to make it a semi-cured state having some tackiness by the same method as in the second embodiment without being completely cured.
次に転写部材60−3の表面層63−3の表面の転写面65−3上に融着型回路パターン70a−3,70b−3を形成する。融着型回路パターン70a−3,70b−3の具体的形成方法は、第一実施形態と同一である。即ち融着型回路パターン70a−3,70b−3は、第一実施形態と同様な金属微粒子融着型導電性被膜によって形成されるが、この金属微粒子融着型導電性被膜は、金属銀微粒子が互いに融着して連続している金属銀の塗膜なので、その比抵抗は3〜8×10-6〔Ω・cm〕程度と小さく、金属銀と同じオーダーになる。
Next, fused
次に融着型回路パターン70a−3,70b−3の表面とそれ以外の転写部材60−3の表面層63−3表面の転写面65−3とに、それぞれ第一実施形態と同様の材料及び形成方法で樹脂含有導電ペーストをスクリーン印刷によって塗布することによって樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3を形成する。但し塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、インクジェット印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。
Next, the same material as that of the first embodiment is used for the surface of the fusion-
次に図9に示すように、前記絶縁基板30−3と転写部材60−3とを積層することにより前記接着被膜85−3と樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3とを積層する。そして接着被膜85−3がホットメルトタイプの合成樹脂の場合は積層した絶縁基板30−3と転写部材60−3間を加熱・加圧することで、接着被膜85−3と樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3間を接着すれば良く、また接着被膜85−3が紫外線硬化型の合成樹脂の場合は積層した絶縁基板30−3の接着被膜85−3を設けていない側の面側から紫外線を照射することで接着被膜85−3と樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3間を接着すれば良く、また接着被膜85−3が熱硬化型の合成樹脂の場合は粘着性を有する半硬化状態の接着被膜85−3をそのまま硬化させることで接着被膜85−3と樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3間を接着すれば良い。
Next, as shown in FIG. 9, by laminating the insulating substrate 30-3 and the transfer member 60-3, the adhesive coating 85-3 and the resin-containing
そして積層した絶縁基板30−3と転写部材60−3から転写部材60−3を離すことで転写部材60−3の転写面65−3上の融着型回路パターン70a−3,70b−3及び樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3を絶縁基板30−3側に転写し、これによって図10に示すように、絶縁基板30−3上に樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3と融着型回路パターン70a−3,70b−3とを積層してなる第一回路パターン80−3,80−3と、樹脂含有型回路パターン40c−3からなる第二回路パターン81−3とを混在してなる回路基板1−3が構成される。
Then, by separating the laminated insulating substrate 30-3 and the transfer member 60-3 from the transfer member 60-3, the fused
このようにして形成された第一回路パターン80−3,80−3も、第一実施形態と同様に、金属銀に近い比抵抗を有し、従って数10mAの高電流を流すような場合であっても、従来の樹脂含有導電ペーストのみからなる樹脂含有型回路パターンと比べて回路パターンの線幅を太くしたりする必要がない。これにより第一回路パターン80−3を高電流用として使用し、一方第二回路パターン81−3を低電流用として使用することができる。つまり両回路パターン80−3,81−3をそれぞれ必要に応じて選択形成することができ、材料費の低減化や製造工程の簡略化が図れる。またこの実施形態は、樹脂含有型回路パターン40a−3〜40c−3と融着型回路パターン70a−3,70b−3と接着被膜85−3の全てをスクリーン印刷を用いて形成したので、何れのパターンも同一の工程によって製造できて製造工程の簡素化が図れ、また同一の製造装置を使用でき、これらのことから回路基板1−3の製造の容易化、製造コストの低減化が図れる。
Similarly to the first embodiment, the first circuit patterns 80-3 and 80-3 formed in this way have a specific resistance close to that of metallic silver, and therefore a high current of several tens of mA flows. Even if it exists, it is not necessary to make the line width of a circuit pattern thick compared with the resin containing type | mold circuit pattern which consists only of the conventional resin containing electrically conductive paste. Thereby, the first circuit pattern 80-3 can be used for high current, while the second circuit pattern 81-3 can be used for low current. That is, both circuit patterns 80-3 and 81-3 can be selectively formed as necessary, so that the material cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified. In this embodiment, all of the resin-containing
以上のようにこの実施形態に係る製造方法を用いれば、第一実施形態と同様に、一旦転写部材60−3の転写面65−3に形成した融着型回路パターン70a−3,70b−3を絶縁基板30−3に転写するので、PETフイルムのような耐熱性の低い絶縁基板30−3にも融着型回路パターン70a−3,70b−3を形成することができる。また絶縁基板30−3の上面に接着被膜85−3を形成したので、樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3,40c−3と融着型回路パターン70a−3,70b−3とを容易に絶縁基板30−3上に転写することができる。またクラックの入り難い柔軟性のある樹脂含有型回路パターン40a−3,40b−3によって融着型回路パターン70a−3,70b−3を補強し、これによって絶縁基板30−3の屈曲に対して十分対応できるようになっている点も第一実施形態と同様である。
As described above, when the manufacturing method according to this embodiment is used, as in the first embodiment, the fused
また樹脂含有型回路パターン40a−3〜40c−3や融着型回路パターン70a−3,70b−3の印刷回数を複数回(ここで言う一回の印刷回数とは、ペーストを一回印刷して硬化させるまでの一工程を言う)とすることにより、これらパターンの厚みを厚くし、細いパターン幅で更に低抵抗のパターンを得ることができ、これによって更なる高電流を流すことができるようになる。なおこの実施形態にかかる回路基板1−3も、第一実施形態と同様に、前記図4に示すようなフレキシブル回路基板100に適用できることはいうまでもない。
Also, the number of times the resin-containing
〔第四実施形態〕
図11〜図15は本発明の第四実施形態にかかる回路基板1−4の製造方法を示す要部拡大断面図、図16は完成した回路基板1−4の要部拡大断面図である。なおこの実施形態において、前記第一実施形態と同一又は相当部材には同一符号(但し、添え字のみ異ならせている)を付している。この実施形態においては、二枚の転写部材(第一,第二の転写部材60A−4,60B−4)を使用し、それぞれの転写部材60A−4,60B−4に形成した融着型回路パターン70a−4,70b−4と樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4,40c−4とを、それぞれ別々の転写工程によって絶縁基板30−4上に転写することとしている。即ちこの回路基板1−4を製造するには、まず図11に示す、可撓性を有する絶縁性のPETフイルム(それ以外に、例えばPPSフイルム、PIフイルム、PENフイルム、ポリエーテルイミドフイルム等によって構成してもよい。)(厚みは例えば50〜75μm)からなる絶縁基板30−4と、一方の表面を転写面65A−4とした第一の転写部材60A−4と、図14に示す、一方の表面を転写面65B−4とした第二の転写部材60B−4とを用意する。ここで絶縁基板30−4の材質と第一,第二の転写部材60A−4,60B−4の材質とは、第一実施形態の絶縁基板30−1と転写部材60−1と同じである。
[Fourth embodiment]
FIG. 11 to FIG. 15 are principal part enlarged sectional views showing a method of manufacturing a circuit board 1-4 according to the fourth embodiment of the present invention, and FIG. 16 is a principal part enlarged sectional view of the completed circuit board 1-4. In this embodiment, the same or equivalent members as those in the first embodiment are given the same reference numerals (however, only subscripts are different). In this embodiment, two transfer members (first and
そして図11に示すように、第一実施形態と同じ絶縁基板30−4の表面に、絶縁性の材料からなる接着被膜85−4をスクリーン印刷によって塗布する。但し塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。この接着被膜85−4の材質は、前記第三実施形態に示す接着被膜85−3と同様なホットメルトタイプの合成樹脂(例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、塩化ビニル樹脂等)でも良いし、紫外線硬化型の合成樹脂でも良いし、熱硬化型の合成樹脂(例えばフェノール樹脂又はウレタン樹脂等)でも良い。ホットメルトタイプの合成樹脂の場合は、第一の転写部材60A−4に積層する前に150℃程度で加熱して硬化状態にしておけばよいが、紫外線硬化型の合成樹脂や熱硬化型の合成樹脂の場合は完全に硬化させずに第二実施形態と同様な方法で若干の粘着性を有する半硬化状態としておく必要がある。
Then, as shown in FIG. 11, an adhesive coating 85-4 made of an insulating material is applied to the surface of the same insulating substrate 30-4 as in the first embodiment by screen printing. However, the application method includes flexographic printing, offset printing, letterpress printing, intaglio printing, spray printing and the like in addition to screen printing. The material of the adhesive coating 85-4 is the same hot-melt type synthetic resin as the adhesive coating 85-3 shown in the third embodiment (for example, polyester resin, acrylic resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, vinyl chloride resin, etc. ), An ultraviolet curable synthetic resin, or a thermosetting synthetic resin (such as a phenol resin or a urethane resin). In the case of a hot melt type synthetic resin, it may be cured by heating at about 150 ° C. before being laminated on the
次に図11に示すように、第一の転写部材60A−4の表面層63A−4の表面の転写面65A−4に、金属微粒子融着型導電性被膜からなる融着型回路パターン70a−4,70b−4を、第一実施形態の融着型回路パターン70a−1,70b−1の場合と同様な材料及び形成方法(ペーストの塗布にはスクリーン印刷を用いるが、第一実施形態と同様にインクジェット印刷等の他の方法を用いても良い。)で形成する。
Next, as shown in FIG. 11, on the
一方図14に示すように、第二の転写部材60B−4の表面層63B−4表面の転写面65B−4上に、樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4,40c−4を、第一実施形態の樹脂含有型回路パターン40a−1,40b−1,40c−1の場合と同様な材料及び形成方法(ペーストの塗布にはスクリーン印刷を用いるが、第一実施形態と同様にインクジェット印刷等の他の方法を用いても良い。)で形成する。このとき樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4は下記する工程で融着型回路パターン70a−4,70b−4が転写された絶縁基板30−4とこの第二の転写部材60B−4とを対向させた際に絶縁基板30−4上の融着型回路パターン70a−4,70b−4に対向する第二の転写部材60B−4の位置に形成され、また樹脂含有型回路パターン40c−4は絶縁基板30−4と第二の転写部材60B−4とを対向させた際に絶縁基板30−4上の融着型回路パターン70a−4,70b−4に対向する第二の転写部材60B−4の位置以外の第二の転写部材60B−4の位置に形成されている。
On the other hand, as shown in FIG. 14, resin-containing
さらに第二の転写部材60B−4の転写面65B−4上の樹脂含有型回路パターン40a−4〜40c−4を少なくとも覆うように、導電接着被膜90−4をスクリーン印刷によって塗布して形成する。但し塗布方法としては、スクリーン印刷の他に、インクジェット印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、凸版印刷、凹版印刷、スプレー印刷等がある。なお本実施形態では導電接着被膜90−4は各樹脂含有型回路パターン40a−4〜40c−4が形成されていない転写面95B−4上にも塗布されている。導電接着被膜90−4は、第一実施形態の導電接着被膜90−1と同様な、厚み方向に加熱加圧することで厚み方向に電気的に導通し(面方向には電気的に導通しない)且つ接着される性質を有する異方性のホットメルトタイプの導電接着被膜である。
Further, a conductive adhesive coating 90-4 is applied by screen printing so as to cover at least the resin-containing
そしてまず図12に示すように、絶縁基板30−4と第一の転写部材60A−4とを積層することにより、絶縁基板30−4の接着被膜85−4に第一の転写部材60A−4の融着型回路パターン70a−4,70b−4を接着する。その後前記積層した絶縁基板30−4と第一の転写部材60A−4から第一の転写部材60A−4を離すことで、図13に示すように第一の転写部材60A−4の転写面65−4上の融着型回路パターン70a−4,70b−4を絶縁基板30−4側に転写する。
First, as shown in FIG. 12, by laminating the insulating substrate 30-4 and the
次に図14に示すように融着型回路パターン70a−4,70b−4を転写した絶縁基板30−4と第二の転写部材60B−4とを対向させ、図15に示すようにこれらを積層することにより、一部の樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4と融着型回路パターン70a−4,70b−4とを樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4上に設けた導電接着被膜90−4を介して積層し、同時にその他の樹脂含有型回路パターン40c−4を導電接着被膜90−4を介して接着被膜85−4上に積層する。このとき導電接着被膜90−4の内の表面層63B−4の転写面65B−4の表面に直接形成されている部分の表面(絶縁基板30−4に対向する側の表面)と、絶縁基板30−4の接着被膜85−4の表面との間には、図15の図面上では大きな隙間lが生じているように記載しているが、実際は前記隙間lは極めて小さな隙間であり、絶縁基板30−4や転写部材60B−4には柔軟性があるので、加圧時に前記導電接着被膜90−4の表面と接着被膜85−4の表面とは接触する程度の極めて小さい隙間である。そして第二の転写部材60B−4と絶縁基板30−4間を、これらの上下に設置した加熱加圧部材A1,A2によって挟持し、第一実施形態と同じ条件で加熱・加圧すれば、ホットメルトタイプの導電接着被膜90−4が溶融することによって融着型回路パターン70a−4,70b−4と樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4間が接着され、同時に樹脂含有型回路パターン40c−4が絶縁基板30−4上の接着被膜85−4上に接着される。
Next, as shown in FIG. 14, the insulating substrate 30-4 to which the fused circuit patterns 70 a-4 and 70 b-4 are transferred and the
次に加熱加圧部材A1,A2を取り外した後、前記積層した絶縁基板30−4と第二の転写部材60B−4から第二の転写部材60B−4を離せば、第二の転写部材60B−4の転写面65−4上の樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4,40c−4及び導電接着被膜90−4の全部が絶縁基板30−4側に転写され、これによって図16に示すように、絶縁基板30−4上に融着型回路パターン70a−4,70b−4と樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4とを積層してなる第一回路パターン80−4,80−4と、樹脂含有型回路パターン40c−4からなる第二回路パターン81−4とを混在してなる回路基板1−4が構成される。
Next, after removing the heating and pressing members A1 and A2, the
このようにして形成された第一回路パターン80−4,80−4も、第一実施形態と同様に、金属銀に近い比抵抗を有し、従って数10mAの高電流を流すような場合であっても、従来の樹脂含有導電ペーストのみからなる樹脂含有型回路パターンと比べて回路パターンの線幅を太くしたりする必要がない。これにより第一回路パターン80−4を高電流用として使用し、一方第二回路パターン81−4を低電流用として使用することができる。つまり両回路パターン80−4,81−4をそれぞれ必要に応じて選択形成することができ、材料費の低減化や製造工程の簡略化が図れる。またこの実施形態は、樹脂含有型回路パターン40a−4〜40c−4と融着型回路パターン70a−4,70b−4と接着被膜85−4と導電接着被膜90−4の全てをスクリーン印刷を用いて形成したので、何れのパターンも同一の工程によって製造できて製造工程の簡素化が図れ、また同一の製造装置を使用でき、これらのことから回路基板1−4の製造の容易化、製造コストの低減化が図れる。
Similarly to the first embodiment, the first circuit patterns 80-4 and 80-4 formed in this way also have a specific resistance close to that of metallic silver, and therefore a case where a high current of several tens of mA flows. Even if it exists, it is not necessary to make the line width of a circuit pattern thick compared with the resin containing type | mold circuit pattern which consists only of the conventional resin containing electrically conductive paste. Thereby, the first circuit pattern 80-4 can be used for high current, while the second circuit pattern 81-4 can be used for low current. That is, both circuit patterns 80-4 and 81-4 can be selectively formed as necessary, so that the material cost can be reduced and the manufacturing process can be simplified. In this embodiment, all of the resin-containing
上記製造方法を用いれば、第一実施形態と同様に、一旦転写部材60A−4の転写面65A−4に形成した融着型回路パターン70a−4,70b−4を絶縁基板30−4に転写するので、PETフイルムのような耐熱性の低い絶縁基板30−4にも融着型回路パターン70a−4,70b−4を形成することができる。また融着型回路パターン70a−4,70b−4と樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4を積層することで、クラックの入り難い柔軟性のある樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4が融着型回路パターン70a−4,70b−4を補強し、これによって絶縁基板30−4の屈曲に対して十分対応できるようになっている点も第一実施形態と同様である。
If the above manufacturing method is used, the fused
また樹脂含有型回路パターン40a−4〜40c−4や融着型回路パターン70a−4,70b−4の印刷回数を複数回(ここで言う一回の印刷回数とは、ペーストを一回印刷して硬化させるまでの一工程を言う)とすることにより、これらパターンの厚みを厚くし、細いパターン幅で更に低抵抗のパターンを得ることができ、これによって更なる高電流を流すことができるようになる。
Also, the number of times the resin-containing
なおこの実施形態においては、導電接着被膜90−4を第二の転写部材60B−4の転写面65−4表面の樹脂含有型回路パターン40a−4〜40c−4上に形成したが、その代りに、導電接着被膜90−4を少なくとも絶縁基板30−4表面に転写した融着型回路パターン70a−4,70b−4上と樹脂含有型回路パターン40c−4に対向する接着被膜85−4上に形成しても良い。この場合は、絶縁基板30−4と第二の転写部材60B−4間を加熱加圧した後に転写部材60−4を絶縁基板30−4から離す際に、転写部材60−4側に形成した樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4,40c−4が、絶縁基板30−4側に設けた導電接着被膜90−4上に転写されることとなる。
In this embodiment, the conductive adhesive coating 90-4 is formed on the resin-containing
また樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4,40c−4として、第二実施形態で用いた樹脂含有型回路パターン40a−2,40b−2,40c−2のように、この樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4,40c−4自体に前記導電接着被膜90−4の役割を兼ねさせれば、導電接着被膜90−4の形成を省略することもできる。この場合、図14,図15において、導電接着被膜90−4を形成していない第二の転写部材60B−4を絶縁基板30−4上に積層して、融着型回路パターン70a−4,70b−4上に直接、樹脂含有型回路パターン40a−4,40b−4を積層し、同時に接着被膜85−4上に直接樹脂含有型回路パターン40c−4を積層し、これらの積層面を接着し、その後絶縁基板30−4から第二の転写部材60B−4を離せばよい。
Further, as the resin-containing
なおこの実施形態にかかる回路基板1−4も、第一実施形態と同様に、前記図4に示すようなフレキシブル回路基板100に適用できることはいうまでもない。
Needless to say, the circuit board 1-4 according to this embodiment can also be applied to the
以上本発明の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲、及び明細書と図面に記載された技術的思想の範囲内において種々の変形が可能である。なお直接明細書及び図面に記載のない何れの形状・構造・材質であっても、本願発明の作用・効果を奏する以上、本願発明の技術的思想の範囲内である。例えば上記実施形態では融着型回路パターンを構成する金属微粒子融着型導電性被膜を、粒子状の銀化合物(酸化銀微粒子等)と有機銀化合物と有機溶剤からなるペーストを絶縁基板に塗布して加熱することで構成しているが、本発明に用いることができるペーストはこの例に限定されず、種々の変更が可能である。例えば溶融させる金属は銀に限られず、銅やその他の金属(例えば金、亜鉛、カドミウム、パラジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウム、ロジウム、白金、鉄、コバルト、ニッケル、インジウム、錫、アンチモン、鉛、ビスマス)及びこれらの混合物を用いても良い。 Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the technical idea described in the claims and the specification and drawings. Is possible. It should be noted that any shape, structure, and material not directly described in the specification and drawings are within the scope of the technical idea of the present invention as long as the effects and advantages of the present invention are exhibited. For example, in the above embodiment, the metal fine particle fusion type conductive film constituting the fusion type circuit pattern is applied to the insulating substrate with a paste composed of a particulate silver compound (silver oxide fine particles, etc.), an organic silver compound and an organic solvent. However, the paste that can be used in the present invention is not limited to this example, and various modifications can be made. For example, the metal to be melted is not limited to silver, but copper and other metals (for example, gold, zinc, cadmium, palladium, iridium, ruthenium, osmium, rhodium, platinum, iron, cobalt, nickel, indium, tin, antimony, lead, bismuth) ) And mixtures thereof may be used.
また前記ペーストは、例えば酸化銀微粒子を混合していない、有機銀化合物又はその他の有機金属化合物と有機溶剤又は水性溶液からなるペーストでもよい。つまり140℃〜250℃で加熱することにより、これらの有機金属化合物から金属微粒子が析出して互いに融着するものであれば良い。また金属銀又はその他の金属の微粒子を分散したものでも良い。即ち例えばペーストとして、特開2002−299833号公報で記載されているように、平均粒径が1〜100nmである金属微粒子が、その表面を、当該金属微粒子に含まれる金属元素と配位可能な有機化合物で被覆されて、液体中に安定に分散した250℃以下の温度で燒結するペースト組成物(ペースト)を用い、このペーストを絶縁基板上に塗布して140℃〜250℃で加熱して前記金属微粒子を互いに融着することで金属微粒子融着型導電性被膜を形成しても良い。即ちこの例では、酸化金属微粒子を還元するのではなく、金属微粒子自体を分散したペーストを用いている。平均粒径が1〜100nmの銀及び/又はその他の金属の微細な金属微粒子(ナノ粒子)は、上記実施形態と同様に、低い加熱温度により容易に溶融し、互いに融着して連続した金属の薄い金属微粒子融着型導電性被膜を形成する。加熱時間は10秒〜120分程度とする。このようにして形成された金属微粒子融着型導電性被膜も、その比抵抗は7×10-6〔Ω・cm〕程度(金属銀微粒子の場合)と、金属銀と同じレベルで小さい。またこの例以外にも各種のペーストが提案されており、本発明はその何れのペーストを用いても良い。即ち要は、金属又は金属化合物を含有するペーストを絶縁基板に塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンであれば、どのような組成からなる融着型回路パターンであってもよい。 The paste may be, for example, a paste made of an organic silver compound or other organic metal compound and an organic solvent or an aqueous solution in which silver oxide fine particles are not mixed. In other words, any material may be used as long as it heats at 140 ° C. to 250 ° C. to deposit metal fine particles from these organometallic compounds and fuse them together. Further, metal silver or other metal fine particles may be dispersed. That is, for example, as described in JP-A No. 2002-299833, as a paste, metal fine particles having an average particle diameter of 1 to 100 nm can be coordinated with the metal elements contained in the metal fine particles. A paste composition (paste) coated with an organic compound and stably dispersed in a liquid and sintered at a temperature of 250 ° C. or lower is used. The paste is applied onto an insulating substrate and heated at 140 ° C. to 250 ° C. A metal fine particle fusion-type conductive film may be formed by fusing the metal fine particles to each other. That is, in this example, instead of reducing the metal oxide fine particles, a paste in which the metal fine particles themselves are dispersed is used. Fine metal fine particles (nanoparticles) of silver and / or other metals having an average particle diameter of 1 to 100 nm are easily melted at a low heating temperature and fused together to form a continuous metal as in the above embodiment. A thin metal fine particle fusion-type conductive film is formed. The heating time is about 10 seconds to 120 minutes. The metal fine particle fusion-type conductive film thus formed has a specific resistance of about 7 × 10 −6 [Ω · cm] (in the case of metal silver fine particles), which is as small as metal silver. Various pastes other than this example have been proposed, and any of these pastes may be used in the present invention. That is, in short, a metal or metal compound-containing paste is applied to an insulating substrate and heated at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., so that the metal fine particles present in the paste or the metal deposited from the metal compound A fused circuit pattern having any composition may be used as long as it is a fused circuit pattern in which fine particles are fused to each other.
また上記各実施形態においては、絶縁基板上に形成する回路パターンの内の一部の回路パターンを融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを積層してなる回路パターンとしたが、全ての回路パターンを融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを積層してなる回路パターンとしてもよい。 In each of the above embodiments, a part of the circuit pattern formed on the insulating substrate is a circuit pattern formed by laminating a fusion circuit pattern and a resin-containing circuit pattern. The circuit pattern may be a circuit pattern formed by laminating a fused circuit pattern and a resin-containing circuit pattern.
上記各実施形態では、絶縁基板30−1〜30−4として可撓性を有する絶縁性の合成樹脂フイルムを用い、この合成樹脂フイルムの表面に回路パターン(第一,第二回路パターン80−1〜80−4,81−1〜81−4)を設けてフレキシブル回路基板1−1〜1−4を構成したが、本発明はフレキシブル回路基板1−1〜1−4に限らず、セラミック,ガラス等の絶縁硬質基板の表面に回路パターン(第一,第二回路パターン)を設けてなる回路基板であっても良く、また導電性の金属基板の表面又は絶縁基板の表面に薄い層からなる絶縁層を印刷手法又はスパッタリング手法等によって被覆して構成される絶縁基板の該絶縁層表面に回路パターン(第一,第二回路パターン)を設けてなる回路基板であっても良い。 In each of the above embodiments, an insulating synthetic resin film having flexibility is used as the insulating substrates 30-1 to 30-4, and a circuit pattern (first and second circuit patterns 80-1) is formed on the surface of the synthetic resin film. 80-4, 81-1 to 81-4) to provide flexible circuit boards 1-1 to 1-4, but the present invention is not limited to flexible circuit boards 1-1 to 1-4, It may be a circuit board in which circuit patterns (first and second circuit patterns) are provided on the surface of an insulating hard substrate such as glass, and is formed of a thin layer on the surface of a conductive metal substrate or the surface of an insulating substrate. It may be a circuit board in which a circuit pattern (first and second circuit patterns) is provided on the surface of the insulating substrate formed by coating the insulating layer by a printing method or a sputtering method.
また上記実施形態では絶縁基板30−1〜30−4の形状として薄板状の絶縁基板を用いたが、本発明に用いることができる絶縁基板の形状は上記形状の絶縁基板に限られず、塊状、円筒状等の立体形状の絶縁基板であってもよい。即ち塊状、円筒状等の立体形状の絶縁基板の表面に回路パターン(第一,第二回路パターン)を設けてなる回路基板であっても良い。 Moreover, in the said embodiment, although the thin-plate-shaped insulating substrate was used as the shape of the insulating substrates 30-1 to 30-4, the shape of the insulating substrate which can be used for this invention is not restricted to the insulating substrate of the said shape, lump shape, A three-dimensional insulating substrate such as a cylindrical shape may be used. That is, it may be a circuit board in which circuit patterns (first and second circuit patterns) are provided on the surface of a three-dimensional insulating substrate such as a block shape or a cylindrical shape.
1−1 回路基板(フレキシブル回路基板)
30−1 絶縁基板
40a−1,40b−1,40c−1 樹脂含有型回路パターン
60−1 転写部材
61−1 硬質板
63−1 表面層
65−1 転写面
70a−1,70b−1 融着型回路パターン
80−1 第一回路パターン
81−1 第二回路パターン
90−1 導電接着被膜
1−2 回路基板
40a−2,40b−2,40c−2 樹脂含有型回路パターン
30−2 絶縁基板
65−2 転写面
60−2 転写部材
70a−2,70b−2 融着型回路パターン
1−3 フレキシブル回路基板(回路基板)
30−3 絶縁基板
40a−3,40b−3,40c−3 樹脂含有型回路パターン
60−3 転写部材
65−3 転写面
70a−3,70b−3 融着型回路パターン
85−3 接着被膜
1−4 フレキシブル回路基板(回路基板)
30−4 絶縁基板
40a−4,40b−4,40c−4 樹脂含有型回路パターン
60A−4 第一の転写部材
60B−4 第二の転写部材
65−4 転写面
70a−4,70b−4 融着型回路パターン
85−4 接着被膜
90−4 導電接着被膜
1-1 Circuit board (flexible circuit board)
30-1
30-3
30-4
Claims (16)
絶縁基板の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、
前記転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、
前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより、前記樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを、予め融着型回路パターン又は樹脂含有型回路パターン上に形成した導電接着被膜を介して積層する工程と、
前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる回路パターンを形成する工程と、
を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。 Prepare a transfer member whose surface is the transfer surface and an insulating substrate,
Forming a resin-containing circuit pattern by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder on the surface of the insulating substrate;
Metal deposited on the transfer surface of the transfer member by applying a paste containing a metal or a metal compound and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., or metal deposited from the metal compound in the paste A step of fusing fine particles of each other to form a fused circuit pattern;
By laminating the insulating substrate and the transfer member, the resin-containing circuit pattern and the fusion-type circuit pattern are connected to each other via a conductive adhesive film previously formed on the fusion-type circuit pattern or the resin-containing type circuit pattern. Laminating steps;
The fused circuit pattern on the transfer surface of the transfer member is transferred to the insulated substrate side by separating the transfer member from the laminated insulated substrate and the transfer member, and thereby the resin-containing circuit pattern and the fused mold on the insulated substrate. Forming a circuit pattern formed by laminating the circuit pattern;
A method of manufacturing a circuit board, comprising:
絶縁基板の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、
前記転写部材と絶縁基板とを対向させた際に、絶縁基板に形成した前記樹脂含有型回路パターンの内の一部の樹脂含有型回路パターンに対向する転写部材の転写面の位置に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、
前記転写部材と絶縁基板とを積層することにより、前記一部の樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを、予め融着型回路パターン又は樹脂含有型回路パターン上に形成した導電接着被膜を介して積層する工程と、
前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して形成する工程と、
を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。 Prepare a transfer member whose surface is the transfer surface and an insulating substrate,
Forming a resin-containing circuit pattern by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder on the surface of the insulating substrate;
When the transfer member and the insulating substrate are made to face each other, the metal or the transfer surface of the transfer member facing a part of the resin-containing circuit pattern of the resin-containing circuit patterns formed on the insulating substrate By applying a paste containing a metal compound and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., the metal fine particles present in the paste or the metal fine particles deposited from the metal compound are fused to each other and fused. Forming a pattern circuit pattern;
A conductive adhesive film in which the part of the resin-containing circuit pattern and the fused circuit pattern are formed in advance on the fused circuit pattern or the resin-containing circuit pattern by laminating the transfer member and the insulating substrate. Laminating through,
The fused circuit pattern on the transfer surface of the transfer member is transferred to the insulated substrate side by separating the transfer member from the laminated insulated substrate and the transfer member, and thereby the resin-containing circuit pattern and the fused mold on the insulated substrate. Forming a first circuit pattern formed by laminating a circuit pattern and a second circuit pattern composed of a resin-containing circuit pattern; and
A method of manufacturing a circuit board, comprising:
絶縁基板の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、
前記転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、
前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより、前記樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層する工程と、
前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる回路パターンを形成する工程と、
を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。 Prepare a transfer member whose surface is the transfer surface and an insulating substrate,
Forming a resin-containing circuit pattern by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder on the surface of the insulating substrate;
Metal deposited on the transfer surface of the transfer member by applying a paste containing a metal or a metal compound and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., or metal deposited from the metal compound in the paste A step of fusing fine particles of each other to form a fused circuit pattern;
Laminating the resin-containing circuit pattern and the fused circuit pattern by laminating the insulating substrate and the transfer member;
The fused circuit pattern on the transfer surface of the transfer member is transferred to the insulated substrate side by separating the transfer member from the laminated insulated substrate and the transfer member, and thereby the resin-containing circuit pattern and the fused mold on the insulated substrate. Forming a circuit pattern formed by laminating the circuit pattern;
A method of manufacturing a circuit board, comprising:
絶縁基板の表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、
前記絶縁基板と転写部材とを対向させた際に、前記絶縁基板に形成した前記樹脂含有型回路パターンの内の一部の樹脂含有型回路パターンに対向する転写部材の転写面の位置に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、
前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより前記一部の樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層する工程と、
前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して形成する工程と、
を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。 Prepare a transfer member whose surface is the transfer surface and an insulating substrate,
Forming a resin-containing circuit pattern by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder on the surface of the insulating substrate;
When the insulating substrate and the transfer member are made to face each other, a metal is placed at a transfer surface position of the transfer member that faces a part of the resin-containing circuit pattern of the resin-containing circuit patterns formed on the insulating substrate. Alternatively, by applying a paste containing a metal compound and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., the metal fine particles present in the paste or the metal fine particles precipitated from the metal compound are fused to each other and melted. Forming a ring-shaped circuit pattern;
Laminating the part of the resin-containing circuit pattern and the fused circuit pattern by laminating the insulating substrate and the transfer member;
By transferring the transfer member from the laminated insulating substrate and the transfer member, the fused circuit pattern of the transfer member is transferred to the insulating substrate side, whereby the resin-containing circuit pattern and the fused circuit pattern are formed on the insulating substrate. Forming a mixed first circuit pattern and a second circuit pattern made of a resin-containing circuit pattern; and
A method of manufacturing a circuit board, comprising:
絶縁基板の表面に、接着被膜を形成する工程と、
前記転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、
前記融着型回路パターンの表面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、
前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより前記接着被膜と樹脂含有型回路パターンとを積層する工程と、
前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面に積層している融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる回路パターンを形成する工程と、
を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。 Prepare a transfer member whose surface is the transfer surface and an insulating substrate,
Forming an adhesive film on the surface of the insulating substrate;
Metal deposited on the transfer surface of the transfer member by applying a paste containing a metal or a metal compound and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., or metal deposited from the metal compound in the paste A step of fusing fine particles of each other to form a fused circuit pattern;
Forming a resin-containing circuit pattern by applying a resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder on the surface of the fusion-type circuit pattern;
Laminating the adhesive coating and the resin-containing circuit pattern by laminating the insulating substrate and the transfer member;
By separating the laminated insulating substrate and the transfer member from the transfer member, the fused circuit pattern and the resin-containing circuit pattern laminated on the transfer surface of the transfer member are transferred to the insulating substrate side, thereby Forming a circuit pattern in which a resin-containing circuit pattern and a fusion-type circuit pattern are laminated,
A method of manufacturing a circuit board, comprising:
絶縁基板の表面に、接着被膜を形成する工程と、
前記転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、
前記融着型回路パターンの表面とそれ以外の転写部材の転写面の表面とに、それぞれ導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、
前記絶縁基板と転写部材とを積層することにより前記接着被膜と樹脂含有型回路パターンとを積層する工程と、
前記積層した絶縁基板と転写部材から転写部材を離すことで転写部材の転写面上の融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して形成する工程と、
を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。 Prepare a transfer member whose surface is the transfer surface and an insulating substrate,
Forming an adhesive film on the surface of the insulating substrate;
Metal deposited on the transfer surface of the transfer member by applying a paste containing a metal or a metal compound and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., or metal deposited from the metal compound in the paste A step of fusing fine particles of each other to form a fused circuit pattern;
A resin-containing circuit pattern is formed by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder to the surface of the fusion-type circuit pattern and the transfer surface of the other transfer member. Process,
Laminating the adhesive coating and the resin-containing circuit pattern by laminating the insulating substrate and the transfer member;
By separating the transfer member from the laminated insulating substrate and the transfer member, the fused circuit pattern and the resin-containing circuit pattern on the transfer surface of the transfer member are transferred to the insulating substrate side, thereby containing the resin on the insulating substrate. Forming a first circuit pattern obtained by laminating a mold circuit pattern and a fused circuit pattern and a second circuit pattern comprising a resin-containing circuit pattern,
A method of manufacturing a circuit board, comprising:
絶縁基板の表面に、接着被膜を形成する工程と、
第一の転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、
第二の転写部材の転写面に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、
前記絶縁基板と第一の転写部材とを積層することにより、絶縁基板の接着被膜に第一の転写部材の融着型回路パターンを接着した後に、前記積層した絶縁基板と第一の転写部材から第一の転写部材を離すことで第一の転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写する工程と、
前記融着型回路パターンを転写した絶縁基板と第二の転写部材とを積層することにより、前記融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを、直接接触して積層するかあるいは予め融着型回路パターン若しくは樹脂含有型回路パターン上に形成した導電接着被膜を介して積層する工程と、
前記積層した絶縁基板と第二の転写部材から第二の転写部材を離すことで第二の転写部材の転写面上の樹脂含有型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを積層してなる回路パターンを形成する工程と、
を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。 First and second transfer members having a transfer surface as a transfer surface and an insulating substrate are prepared.
Forming an adhesive film on the surface of the insulating substrate;
By depositing a paste containing a metal or a metal compound on the transfer surface of the first transfer member and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., precipitation from the metal fine particles or the metal compound present in the paste Forming a fused circuit pattern by fusing metal fine particles to each other;
Forming a resin-containing circuit pattern by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder on the transfer surface of the second transfer member;
After laminating the insulating substrate and the first transfer member, the fused circuit pattern of the first transfer member is adhered to the adhesive film of the insulating substrate, and then from the laminated insulating substrate and the first transfer member. Transferring the fused circuit pattern on the transfer surface of the first transfer member to the insulating substrate side by separating the first transfer member;
By laminating the insulating substrate onto which the fusion-type circuit pattern has been transferred and a second transfer member, the fusion-type circuit pattern and the resin-containing circuit pattern are laminated in direct contact with each other, or are previously fused. A step of laminating via a conductive adhesive film formed on a mold circuit pattern or a resin-containing circuit pattern;
By separating the second transfer member from the laminated insulating substrate and the second transfer member, the resin-containing circuit pattern on the transfer surface of the second transfer member is transferred to the insulating substrate side, and thereby on the insulating substrate. Forming a circuit pattern formed by laminating a fused circuit pattern and a resin-containing circuit pattern;
A method of manufacturing a circuit board, comprising:
絶縁基板の表面に、接着被膜を形成する工程と、
第一の転写部材の転写面に、金属又は金属化合物を含有するペーストを塗布して140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させて融着型回路パターンを形成する工程と、
前記第一の転写部材と第二の転写部材とを対向させた際に、前記第一の転写部材の転写面に形成した前記融着型回路パターンに対向する第二の転写部材の位置及びそれ以外の第二の転写部材の位置に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストを塗布することによって樹脂含有型回路パターンを形成する工程と、
前記絶縁基板と第一の転写部材とを積層することにより、絶縁基板の接着被膜に第一の転写部材の融着型回路パターンを接着した後に、前記積層した絶縁基板と第一の転写部材から第一の転写部材を離すことで第一の転写部材の転写面上の融着型回路パターンを絶縁基板側に転写する工程と、
前記融着型回路パターンを転写した絶縁基板と第二の転写部材とを積層することにより、一部の樹脂含有型回路パターンと融着型回路パターンとを直接接触して積層するかあるいは予め融着型回路パターン若しくは樹脂含有型回路パターン上に形成した導電接着被膜を介して積層する工程と、
前記積層した絶縁基板と第二の転写部材から第二の転写部材を離すことで第二の転写部材の転写面上の樹脂含有型回路パターンを絶縁基板側に転写し、これによって絶縁基板上に融着型回路パターンと樹脂含有型回路パターンとを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して形成する工程と、
を具備することを特徴とする回路基板の製造方法。 First and second transfer members having a transfer surface as a transfer surface and an insulating substrate are prepared.
Forming an adhesive film on the surface of the insulating substrate;
By depositing a paste containing a metal or a metal compound on the transfer surface of the first transfer member and heating at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., precipitation from the metal fine particles or the metal compound present in the paste Forming a fused circuit pattern by fusing metal fine particles to each other;
The position of the second transfer member facing the fusion circuit pattern formed on the transfer surface of the first transfer member when the first transfer member and the second transfer member are opposed to each other, and Forming a resin-containing circuit pattern by applying a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder at the position of the second transfer member other than
After laminating the insulating substrate and the first transfer member, the fused circuit pattern of the first transfer member is adhered to the adhesive film of the insulating substrate, and then from the laminated insulating substrate and the first transfer member. Transferring the fused circuit pattern on the transfer surface of the first transfer member to the insulating substrate side by separating the first transfer member;
By laminating the insulating substrate onto which the fusion-type circuit pattern has been transferred and the second transfer member, a part of the resin-containing circuit pattern and the fusion-type circuit pattern are laminated in direct contact with each other, or previously fused. Laminating via a conductive adhesive film formed on a wearable circuit pattern or a resin-containing circuit pattern;
By separating the second transfer member from the laminated insulating substrate and the second transfer member, the resin-containing circuit pattern on the transfer surface of the second transfer member is transferred to the insulating substrate side, and thereby on the insulating substrate. Forming a first circuit pattern formed by laminating a fusion-type circuit pattern and a resin-containing circuit pattern and a second circuit pattern formed of a resin-containing circuit pattern; and
A method of manufacturing a circuit board, comprising:
前記回路パターンは、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に導電接着被膜を介して、金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層することで構成されていることを特徴とする回路基板。 In a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate,
The circuit pattern is a paste containing a metal or a metal compound on a resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder, with a conductive adhesive film interposed between 140 ° C. and 250 ° C. It is constituted by laminating a fusion type circuit pattern in which metal fine particles existing in the paste or metal fine particles precipitated from the metal compound are fused to each other by heating at a heating temperature of Feature circuit board.
前記回路パターンは、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に導電接着被膜を介して金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して構成されていることを特徴とする回路基板。 In a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate,
The circuit pattern is a paste containing a metal or a metal compound on a resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder at a temperature of 140 ° C. to 250 ° C. via a conductive adhesive film. A first circuit pattern formed by laminating a fusion-type circuit pattern in which metal fine particles present in the paste or metal fine particles deposited from the metal compound are fused to each other by heating at a heating temperature; and a resin A circuit board comprising a second circuit pattern composed of a contained circuit pattern.
前記回路パターンは、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に、金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層することで構成されていることを特徴とする回路基板。 In a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate,
In the circuit pattern, a paste containing a metal or a metal compound is heated at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C. on a resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder. A circuit board comprising: a fusion-type circuit pattern in which metal fine particles present in the paste or metal fine particles precipitated from the metal compound are fused together.
前記回路パターンは、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンの上に金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層してなる第一回路パターンと、樹脂含有型回路パターンからなる第二回路パターンとを混在して構成されていることを特徴とする回路基板。 In a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate,
The circuit pattern is obtained by heating a paste containing a metal or a metal compound at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C. on a resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder. A first circuit pattern formed by laminating a fusion type circuit pattern formed by fusing together metal fine particles present in the paste or metal fine particles precipitated from the metal compound, and a resin-containing type circuit pattern. A circuit board characterized by being mixed with a second circuit pattern.
前記回路パターンは、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に、導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンを形成するとともに、前記樹脂含有型回路パターン上に金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層することで構成されていることを特徴とする回路基板。 In a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate,
The circuit pattern forms a resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste in which conductive powder is dispersed in a resin binder on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate, and the resin-containing circuit By heating a paste containing a metal or a metal compound on the pattern at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., the metal fine particles present in the paste or the metal fine particles precipitated from the metal compound are fused together. A circuit board, comprising: a laminated fused circuit pattern.
前記回路パターンは、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンを形成するとともに、この樹脂含有型回路パターンの上に金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを積層してなる第一回路パターンと、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に樹脂含有型回路パターンを形成してなる第二回路パターンとを混在して構成されていることを特徴とする回路基板。 In a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate,
The circuit pattern forms a resin-containing circuit pattern made of a resin-containing conductive paste obtained by dispersing conductive powder in a resin binder on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate. By heating a paste containing a metal or a metal compound at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C., the fine metal particles present in the paste or the fine metal particles precipitated from the metal compound are fused together. A first circuit pattern formed by laminating a fusion-type circuit pattern and a second circuit pattern formed by forming a resin-containing circuit pattern on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate. A circuit board characterized by being made.
前記回路パターンは、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に、金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを形成するとともに、この融着型回路パターン上に導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンを直接積層するか、あるいは導電接着被膜を介して積層することで構成されていることを特徴とする回路基板。 In a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate,
The circuit pattern includes fine particles of metal present in the paste by heating a paste containing a metal or a metal compound at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C. on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate. Alternatively, from a resin-containing conductive paste formed by fusing metal fine particles precipitated from the metal compound to each other and dispersing conductive powder on a resin binder on the fusing circuit pattern A circuit board characterized in that the resin-containing circuit pattern is directly laminated or laminated via a conductive adhesive film.
前記回路パターンは、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に金属又は金属化合物を含有するペーストを140℃〜250℃の加熱温度で加熱することで前記ペースト中に存在する金属の微粒子若しくは前記金属化合物から析出する金属の微粒子を互いに融着させてなる融着型回路パターンを形成するとともに、この融着型回路パターン上に導電粉を樹脂バインダーに分散してなる樹脂含有導電ペーストからなる樹脂含有型回路パターンを直接積層するか、あるいは導電接着被膜を介して積層することで構成される第一回路パターンと、前記絶縁基板の表面に形成された接着被膜上に樹脂含有型回路パターンを形成してなる第二回路パターンとを混在して構成されていることを特徴とする回路基板。 In a circuit board in which a circuit pattern is provided on the surface of an insulating substrate,
The circuit pattern is formed by heating a paste containing a metal or a metal compound on an adhesive film formed on the surface of the insulating substrate at a heating temperature of 140 ° C. to 250 ° C. A fusion-type circuit pattern is formed by fusing metal fine particles precipitated from the metal compound together, and a conductive paste containing resin in which conductive powder is dispersed in a resin binder on the fusion-type circuit pattern. A first circuit pattern configured by directly laminating a resin-containing circuit pattern or laminating via a conductive adhesive film, and a resin-containing circuit pattern on the adhesive film formed on the surface of the insulating substrate A circuit board comprising a second circuit pattern formed and mixed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004288340A JP4530789B2 (en) | 2004-09-30 | 2004-09-30 | Circuit board manufacturing method and circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004288340A JP4530789B2 (en) | 2004-09-30 | 2004-09-30 | Circuit board manufacturing method and circuit board |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006108129A JP2006108129A (en) | 2006-04-20 |
JP4530789B2 true JP4530789B2 (en) | 2010-08-25 |
Family
ID=36377538
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004288340A Expired - Fee Related JP4530789B2 (en) | 2004-09-30 | 2004-09-30 | Circuit board manufacturing method and circuit board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4530789B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007324426A (en) * | 2006-06-02 | 2007-12-13 | Hitachi Ltd | Pattern forming method, and conductor interconnection pattern |
US9578752B2 (en) | 2009-02-05 | 2017-02-21 | Lg Chem, Ltd. | Method of forming conductive pattern and substrate having conductive pattern manufactured by the same method |
KR102045113B1 (en) | 2013-11-01 | 2019-11-14 | 피피지 인더스트리즈 오하이오 인코포레이티드 | Methods of transferring electrically conductive materials |
JP6269285B2 (en) * | 2014-04-21 | 2018-01-31 | コニカミノルタ株式会社 | Pattern formation method |
WO2019123629A1 (en) * | 2017-12-22 | 2019-06-27 | 株式会社Fuji | Method and device for manufacturing additively manufactured electronic device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001168485A (en) * | 1999-12-07 | 2001-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Wiring board and transfer medium and manufacturing method for them |
JP2003086946A (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Dainippon Printing Co Ltd | Multilayer interconnection substrate and its manufacturing method |
JP2003243788A (en) * | 2002-02-20 | 2003-08-29 | Alps Electric Co Ltd | Printed wiring board and manufacturing method of the same |
JP2003308732A (en) * | 2002-04-17 | 2003-10-31 | Fujikura Ltd | Conductive composition |
JP2004064047A (en) * | 2002-06-07 | 2004-02-26 | Sharp Corp | Wiring board, display device, and method of manufacturing wiring board |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6149473U (en) * | 1984-09-01 | 1986-04-03 | ||
JPH08298359A (en) * | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Kyocera Corp | Thick copper film circuit board |
JP3702516B2 (en) * | 1995-11-29 | 2005-10-05 | イビデン株式会社 | Method for manufacturing printed wiring board |
JP3441368B2 (en) * | 1998-05-29 | 2003-09-02 | 京セラ株式会社 | Multilayer wiring board and manufacturing method thereof |
-
2004
- 2004-09-30 JP JP2004288340A patent/JP4530789B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001168485A (en) * | 1999-12-07 | 2001-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Wiring board and transfer medium and manufacturing method for them |
JP2003086946A (en) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Dainippon Printing Co Ltd | Multilayer interconnection substrate and its manufacturing method |
JP2003243788A (en) * | 2002-02-20 | 2003-08-29 | Alps Electric Co Ltd | Printed wiring board and manufacturing method of the same |
JP2003308732A (en) * | 2002-04-17 | 2003-10-31 | Fujikura Ltd | Conductive composition |
JP2004064047A (en) * | 2002-06-07 | 2004-02-26 | Sharp Corp | Wiring board, display device, and method of manufacturing wiring board |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006108129A (en) | 2006-04-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101362863B1 (en) | Method for forming pattern for transparent conductive layer | |
KR101193757B1 (en) | Anisotropic conductive film, method for producing the same, and joined structure using the same | |
KR101416581B1 (en) | Digitizer board with aluminum pattern and manufacturing method for thereof | |
CN111610871A (en) | Electrode structure and touch panel thereof | |
JP2005128993A (en) | Narrow-frame touch panel | |
JP2012014206A (en) | Fpc connection method for protection panel with touch input function | |
US8541687B2 (en) | Coreless layer buildup structure | |
WO2016063907A1 (en) | Film-like printed circuit board, and production method therefor | |
KR101791285B1 (en) | Anisotropic conductive film and method of manufacturing same | |
JP5113149B2 (en) | Thermal transfer type conductive ribbon, method of manufacturing thermal transfer type conductive ribbon, and method of manufacturing electric circuit on flexible substrate | |
JP4530789B2 (en) | Circuit board manufacturing method and circuit board | |
JP2007335430A (en) | Circuit board and its production process | |
JPS6331905B2 (en) | ||
JP2013074025A (en) | Method for manufacturing conductive pattern formation substrate and conductive pattern formation substrate | |
US9351408B2 (en) | Coreless layer buildup structure with LGA and joining layer | |
TWI642735B (en) | Conductive ink, circuit board and method for manufacturing the same | |
US8536459B2 (en) | Coreless layer buildup structure with LGA | |
US8308887B2 (en) | Via hole forming method using electrophotographic printing method | |
JP2006066838A (en) | Circuit board | |
JP2008124029A (en) | Connecting member | |
JP4090779B2 (en) | Conductive composition, method for forming conductive film, conductive film | |
JP2011077125A (en) | Wiring board, manufacturing method of wiring board, connection structure of wiring board, and connection method of wiring board | |
JP4476164B2 (en) | Switch board and switch using the switch board | |
KR20150017591A (en) | Flexible circuit board using ito and manufacturing method thereof | |
KR101416580B1 (en) | Double-sided digitizer board with aluminum pattern and manufacturing method for thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070306 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070306 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100105 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100114 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100608 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100608 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130618 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140618 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |