JP4525789B2 - Work equipment and local clean room in work equipment - Google Patents
Work equipment and local clean room in work equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP4525789B2 JP4525789B2 JP2008108058A JP2008108058A JP4525789B2 JP 4525789 B2 JP4525789 B2 JP 4525789B2 JP 2008108058 A JP2008108058 A JP 2008108058A JP 2008108058 A JP2008108058 A JP 2008108058A JP 4525789 B2 JP4525789 B2 JP 4525789B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- work
- area
- clean
- room
- drive unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 44
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 35
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 20
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 6
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000009940 knitting Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Ventilation (AREA)
Description
本発明は、作業設備および作業設備における局所クリーンルームに関するものである。 The present invention relates to work equipment and a local clean room in the work equipment.
従来、例えば特許文献1のように、無菌状況下において作業を行うための必要最小限のクリーン作業空間を備えた作業装置がある。
すなわち特許文献1では、高清浄度雰囲気下のクリーン作業空間と、空気を清浄化してクリーン作業空間に供給すると共に、回収して清浄化し再びクリーン作業空間に供給するようにした空調手段と、クリーン作業空間および内部周辺を滅菌するための滅菌手段とを備え、クリーン作業空間を形成する外壁に横移動可能なスライドカバーを設けて、このスライドカバーに外部からクリーン作業空間に臨入させた作業用手袋を設けるとしている。
そして、空調室には、ファンを設けて、ヘパフィルタを配置している。
これにより、従来のクリーンルームによらず、無菌作業が可能なので、設備費自体も抑制することができるとしている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as in
That is, in
The air conditioning room is provided with a fan and a hepa filter.
Thereby, since the aseptic work is possible regardless of the conventional clean room, the facility cost itself can be suppressed.
ところで、クリーンルーム1に組み立てラインや加工ラインを設置する場合は、クリーンルーム1(建屋)と加工機2(設備)を別々の要素として考えてきたため、クリーンルーム1が完成後、生産する製品の内容に合わせて工程を決め、加工機2を配置していた。
例えば図7に示すように、ラインを設置後、ワークや材料を設備外に取り出す必要のある工程では、設備内部の清浄度を作業者領域でも確保する必要が有ることから、局所的に囲い3を設けて局所クリーンブース4とし、ファンフィルタユニット(HEPAフィルタを設けたファンユニットF)を天井に設置し、局所クリーンブース4を構成することで対応してきた(図8参照)。
By the way, when installing an assembly line or a processing line in the
For example, as shown in FIG. 7, in a process in which a work or material needs to be taken out of the equipment after the line is installed, it is necessary to ensure the cleanliness inside the equipment even in the operator area. The local
この局所クリーンブース4では、囲い3によって形成された作業空間A1(クラス1000)とし、加工機2による加工エリアA2にさらに高い清浄度(クラス100)を確保するために、囲い5を設け、天部にファンユニットFを設けている。
In this local
清浄度には種々の規格があるが、ここでいうクラス100とは、空気中の塵埃数を表示したもので、1f3(キュービックフィート)の空気中に長さ0.5μ(ミクロン)以上の塵埃数が100以下ということを意味している。従って、かかる清浄度クラスの数値は小さければ小さいほど、清浄度が高いことになる。
しかしながら、以上のような局所クリーンブース4を設備エリア毎に設置し作業域の清浄度を確保する方式では、作業領域に加え加工機2全体も局所クリーンブース4で覆うことになるため、ブース内部の気流の制御が困難で設備から発生するパーティクル(ゴミの微粒子)を効率よくワーク加工エリアA2から隔離することが困難である(図8、図10参照)。
There are various standards for cleanliness, but class 100 here indicates the number of dust in the air, and it has a length of 0.5μ (micron) or more in 1f 3 (cubic feet) of air. It means that the number of dust is 100 or less. Therefore, the smaller the numerical value of the cleanliness class, the higher the cleanliness.
However, in the system in which the local
そこで、結果的に大型のファンフィルタユニットを設けたり、局所クリーンブース4の気密性を高めるなど大掛かりな対応が必要となることから、コストやエネルギー消費が大きくなる問題があった。
また、このような後付けの局所クリーンブース4は、ライン編成が変わる際には、局所クリーンブース4形状や大きさに過不足が生じ、ライン編成が変わるたびに局所クリーンブース4環境の再構築に多大な時間を要し、ラインの短期立ち上げを阻害する要因にもなっている(図9参照)。
このようなわずらわしさを避けるために、現実的には、クリーンルーム1全体の清浄度を高める方向に対応することが多く、過剰な清浄度を確保するために過剰なエネルギーを要している。
また、設置する設備に対しても、クリーンルーム1内の環境に合わせた清浄度を要求するため、加工エリアA2のみに必要な清浄度を設備全体に求めることとなり、過剰な清浄度を要求し、煩雑で高価な設備構成となっている。
さらに、CO2削減が求められている現在、局所クリーンブース4による省エネルギーなクリーン環境の構築は、急務の課題となっている。
本発明は、以上のような観点から提案されたものであって、設備と建屋を分けて考える従来の区分を見直し、ワークに必要な清浄度を確保する空間と、ワークや、材料が暴露されることの無い空間を綿密に分けることで、必要な清浄度を確保することができ、しかも、設備の再構築が容易で、ラインの短期立ち上げが可能な、作業設備および作業設備における局所クリーンルームを提供することを目的とする。
Therefore, as a result, large-scale measures such as providing a large fan filter unit or increasing the airtightness of the local
In addition, such a retrofit of the local
In order to avoid such annoyance, in reality, it often corresponds to the direction of increasing the cleanliness of the entire
In addition, for the equipment to be installed, since the cleanliness in accordance with the environment in the
Furthermore, at present, when CO 2 reduction is required, the construction of an energy-saving clean environment by the local
The present invention has been proposed from the above viewpoint, and the conventional division that considers the facility and the building is reviewed, and the space for ensuring the cleanliness necessary for the workpiece, the workpiece and the material are exposed. By carefully dividing the space where there is no possibility, the required cleanliness can be ensured, the equipment can be easily reconstructed, and the local clean room in the work equipment and work equipment can be set up for a short period of time. The purpose is to provide.
上記の課題を解決するために、請求項1記載の発明は、複数の工作機械が配設された作業設備(30)であって、前記複数の工作機械は、前記工作機械のベースに一体に設けられたクリーン作業ルームユニット(10)をそれぞれ備え、隣り合う前記工作機械の前記クリーン作業ルームユニット(10)同士が連結されて、周囲の空間に比較して高清浄度の局所クリーンルーム(33)を構成し、前記工作機械が、前記局所クリーンルーム(33)内に配置された作業設備において、前記クリーン作業ルームユニット(10)は、少なくとも、ワークを載置して移動させ前記工作機械により所定の作業を施す囲まれた施工エリア(11)と、前記工作機械の駆動部等を囲う駆動部等発塵エリア(12)と、この駆動部等発塵エリア(12)に連通し、作業者が入室して作業を行う作業エリア(13)とを備え、前記駆動部等発塵エリア(12)は排気手段(15)を備えると共に、前記作業エリア(13)は、ファンフィルタユニット(18)を備え、前記作業エリア(13)に、前記ファンフィルタユニット(18)を介して、加圧状態で外気を導入すると共に、前記駆動部等発塵エリア(12)と前記施工エリア(11)において排気手段(15)を通じて排気する構成としたことを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to
これにより、隣り合う工作機械のクリーン作業ルームユニット(10)同士を、必要に応じて互いに連結することで、高清浄度の作業空間を容易に構築することができる。作業エリア(13)は、加圧状態で清浄空気が導入され、例え、作業者や、工作機械の駆動部等、施工エリア(11)からパーティクルが発せられても、駆動部等発塵エリア(12)と前記施工エリア(11)において排気手段(15)を通じて排気することができるので、局所クリーンルーム(33)内は清浄度を維持することができる。 Thereby, the clean work room units (10) of the adjacent machine tools are connected to each other as necessary, so that a high clean work space can be easily constructed. In the work area (13), clean air is introduced in a pressurized state. For example, even if particles are emitted from the construction area (11) such as an operator or a drive part of a machine tool, a dust generation area (such as a drive part) ( 12) and the construction area (11) can be evacuated through the exhaust means (15), so that the cleanliness in the local clean room (33) can be maintained.
請求項2記載の発明は、クリーン作業ルームユニット(10)は、上面(16t)および背面(16b)を、静電シートを用いたカバー(16)で構成すると共に、床面にグレーチング(17)を配し、側面は、各ユニット(10)間を連結可能に開口していることを特徴とする。 According to the second aspect of the present invention, in the clean work room unit (10), the upper surface (16t) and the back surface (16b) are constituted by a cover (16) using an electrostatic sheet, and the floor surface is grating (17). The side surface is characterized in that each unit (10) is open to be connectable.
これにより、必要に応じてクリーン作業ルームユニット(10)を側面において連結して、局所クリーンルーム(33)を構築することができる。 Thereby, a clean work room unit (10) can be connected in a side as needed, and a local clean room (33) can be constructed.
請求項3記載の発明は、グレーチング(17)下方に排気手段(26)を接続したことを特徴とする。
The invention described in
これにより、作業エリア(13)におけるパーティクルは、グレーチング17を通して落下し、再飛散することなく、排気手段(26)により排出することができる。
Thereby, the particles in the work area (13) can fall through the
請求項4記載の発明は、グレーチング(17)下方に表面を粘着シートで構成した床板(18)を配設したことを特徴とする。
The invention according to
これにより、作業エリア(13)内空間に存在するパーティクルを、グレーチング(17)を通して、表面が粘着シートの床板(18)上に落とし、再飛散させないように捕捉することができる。 Thereby, the particle which exists in the work area (13) internal space can be caught so that the surface may fall on the floor board (18) of an adhesive sheet through the grating (17), and may not be scattered again.
さらに請求項5記載の発明は、複数の工作機械が配設された作業設備(30)における局所クリーンルーム(33)であって、ワークを載置して移動させ前記工作機械により所定の作業を施す囲まれた施工エリア(11)と、前記工作機械の駆動部等を囲う駆動部等発塵エリア(12)と、この駆動部等発塵エリア(12)に連通し、作業者が入室して作業を行う作業エリア(13)と、前記駆動部等発塵エリア(12)に備えられた排気手段(15)と、を備えたクリーン作業ルームユニット(10)において、前記クリーン作業ルームユニット(10)同士が連結されて周囲の空間に比較して高清浄度を要する作業空間を構成し、前記駆動部等発塵エリア(12)と前記施工エリア(11)において排気手段(15)を通じて排気することを特徴とする。
Further, the invention according to
これにより、隣り合う工作機械のクリーン作業ルームユニット(10)同士を、必要に応じて互いに連結することで、高清浄度の作業空間を容易に構築することができる。 Thereby, the clean work room units (10) of the adjacent machine tools are connected to each other as necessary, so that a high clean work space can be easily constructed.
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。 In addition, the code | symbol in the bracket | parenthesis of each said means is an example which shows a corresponding relationship with the specific means as described in embodiment mentioned later.
図1にクリーン作業設備(後述)に用いられるクリーン作業ルームユニット10を、2ユニット、結合して、一体化した状態を示している。
クリーン作業ルームユニット10は、高度に清浄化された雰囲気下で、作業員が所定の作業を施す、最小ルームユニットである。
FIG. 1 shows a state in which two clean
The clean
すなわち、クリーン作業ルームユニット10は、実質的には、内部構成が、施工エリア11と駆動部発塵エリア12と作業エリア13とよりなる(図2参照)。
That is, the clean
施工エリア11は、所定の工作機械、すなわち加工機や、組立機(図示省略)により、治具jに載せられたワークに対し、所定の施工を行うエリアである。治具jは、駆動部発塵エリア12を画成する仕切壁14の天板部(後述)上において、作業エリア13から施工エリア11との間で図示しない駆動部により、移動可能に設けられている。かかる治具jに、作業エリア13において、作業員によってワークを載置した後に、施工エリア11へ移動させ、ワークに対し、上述のごとく、加工を施すようにしている。
The
駆動部発塵エリア12は、施工エリア11下部に位置していて、仕切壁14によって仕切られ、施工エリア11における加工機や、組立機の駆動部から発生する塵埃類を排出する他、後述する作業エリア13内の雰囲気を吸引する排気ファン15を備えている。
The drive unit
作業エリア13は、作業員が立位状態で作業が可能な高さの作業ルームとするべく、所定の高さ寸法の背面16bと、上面16tとを、静電シートを用いたカバー16で構成している。
また、作業エリア13の床面には、グレーチング17(すのこ状の板)と、グレーチング17直下に、表面を粘着シート(図示省略)で構成した床板18が配設されている。作業エリア13内空間に存在するパーティクル(微小な粒子状ごみ)を、グレーチング17を通して、表面が粘着シートの床板18上に落とし、再飛散させないように捕捉している。
そして、かかる作業エリア13のフロント、すなわち、施工エリア11における加工機や、組立機(図示省略)類が配される駆動部発塵エリア12の上方、正面16fには、作業エリア13内の空間に、清浄空気を送り込むファンフィルタユニット19が配設されている(図3参照)。このファンフィルタユニット19は、モータ20とファン21と高度な塵埃除去フィルタである、ヘパフィルタ22とで構成している。かかるファンフィルタユニット19を介して、作業エリア13内の空間に、加圧状態で、ルームユニット外から空気をヘパフィルタ22を通して清浄化して導入するようにしている。
The
Further, on the floor surface of the
A space in the
なお、作業エリア13内の空間と駆動部発塵エリア12とは、駆動部発塵エリア12を画成する仕切壁14に設けた通気板23、駆動部発塵エリア12の天板部に設けた治具jを支持する通気性天板24を介して通気可能としている。
これにより、作業エリア13内および駆動部発塵エリア12内の雰囲気は、ファンフィルタユニット19の押込み作用下に、駆動部等発塵エリア12における排気ファン15を通じて排気されるようになっている。
The space in the
As a result, the atmosphere in the
そして、以上のように構成されるクリーン作業ルームユニット10は、各ユニットごと、開口された側面を介して、任意数、順次連結して一体化構成することができ、連結されたクリーン作業ルームユニット10における両端の側面に、側面扉25を取付けて、内部に、一つの遮蔽された作業空間を形成するようにしている(図1、図3参照)。
And, the clean
次に、図4に、上述のクリーン作業ルームユニット10を用いて構築された、作業設備30の一例を示す。
かかる作業設備30においては、四方を外壁31で囲ったクリーンルーム32内に、コ形状に各工機を列設してラインが形成され、矢印で示す方向に、加工すべきワークが進行して加工が施されるようになっている。またクリーンルーム32内は、コ形状に列設された各工作機械の正面側に面し、且つ作業者が行き来するクリーンゾーンCzと、各工作機械の背面側、すなわち、排気側に面するダーティゾーンDzとしている。なお、クリーンルーム32は、清浄度がクラス10000としている。
Next, FIG. 4 shows an example of the
In the
そして、クリーンルーム32内のラインに、クリーン作業ルームユニット10を、図中、上側のラインに4台、下のラインに3台それぞれ連結して局所クリーンルーム33として配置した構成を示している。これらは、クリーン作業ルームユニット10を側面同士を介して連結することで、クリーンゾーンCzより高い、清浄度(例えばクラス100)の作業空間を形成することができ、連結された3台、4台のクリーン作業ルームユニット10の、両端の開口面に側面扉25を接続するようにしている。
Then, the clean
以上のような作業設備30は、例えば、具体的な例として、プリント配線基板を製造する工程において用いられる。かかるプリント配線基板の製造工程として、樹脂シート配線パターンを乗せたプリント配線基板を積み重ねて一括プレスにより、多層基板とする方法がある。
上述の作業設備30におけるクリーンルーム32では、半導体工場に見られるようなダウンフロー構造を採用していないことから、清浄度はクラス10000程度となり、プリント配線基板上の微細な回路パターンに対し清浄度が十分とはいえない。
The
The
しかし、ワーク投入段階で配線パターンを乗せたプリント配線基板を両面ラミネートし、再び基材表面が露出するまでに付着した異物は、ラミネート材を剥離する際に共に除去される工法を採用することで、上述のような作業設備30におけるクリーンルーム32内のラインにおける、クラス10000の環境でも必要な加工を行うことができる。
However, a double-sided laminate of the printed circuit board on which the wiring pattern is placed at the work input stage, and adopting a construction method that removes the foreign matter adhering until the substrate surface is exposed again when the laminate material is peeled off. The necessary processing can be performed even in a class 10000 environment in the line in the
ところが、ラミネート材を剥離した後の加工工程においては、クラス100、望ましくはクラス10の清浄度が要求されるため、上述の作業設備30におけるライン上のうち、ラミネート材剥離後の加工工程の箇所に、クリーン作業ルームユニット10を複数連結して構成した局所クリーンルーム33が必要となるのである。
However, since the cleanliness of class 100, preferably
ラミネート材剥離後の加工工程の際に、作業員は、ラインの対応する箇所に設置された局所クリーンルーム33における側面扉25から、ルーム内の作業空間に入る。作業員は、作業エリア13の床面のグレーチング17を踏込むことになる。
局所クリーンルーム33内の作業エリア13が結合された作業空間内は、ファンフィルタユニット19により、加圧状態で、局所クリーンルーム33外から空気をヘパフィルタ22を通して導入しているため、作業員の出入りによって、清浄度が低下するようなことはない。
ここで、作業員から、例え、塵埃等、微小な異物が生じたとしても、ファンフィルタユニット19により、加圧状態で、局所クリーンルーム33外から空気をヘパフィルタ22を通して導入する一方、駆動部等発塵エリア12における排気ファン15を作動させているため、上記塵埃等は、駆動部発塵エリア12を画成する仕切壁14に設けた通気板23を通して駆動部発塵エリア12側にもたらされ、排気ファン15を通じて、局所クリーンルーム33外へ排出される。
排気ファン15を通じて排出されたパーティクルは、クリーンルーム32内の、コ形状ライン外周のダーティーゾーンDzにもたらされる。
その他、作業員からの塵埃等、微小な異物は、グレーチング17を通して落下し、グレーチング17直下の、表面が粘着シートの床板18によって、再飛散させないように捕捉することができる。
During the processing step after the laminate material is peeled off, the worker enters the work space in the room from the
In the work space where the
Here, even if a minute foreign matter such as dust is generated from the worker, the
The particles discharged through the
In addition, minute foreign matter such as dust from the worker can fall through the grating 17 and can be captured by the
局所クリーンルーム33において、作業員は、ラミネート材剥離後のワークを、駆動部発塵エリア12を画成する仕切壁14の天板部における治具jに載せ、かかる治具jを、作業エリア13から施工エリア11へ移動させ、ワークに対し、加工機や、組立機により、所定の加工が施される。
In the local
以上のような作業の際、局所クリーンルーム33内の作業エリア13が結合された作業空間内は、ファンフィルタユニット19により、加圧状態で、局所クリーンルーム33外から空気をヘパフィルタ22を通して清浄化し導入する一方、駆動部等発塵エリア12における排気ファン15を作動させている。
このため、上述の作業中に、治具j、加工機や、組立機から、パーティクルが生じたとしても、作業エリア13内および駆動部発塵エリア12内の雰囲気は、ファンフィルタユニット19の押込み作用下に、駆動部等発塵エリア12における排気ファン15を通じて排気されるため、局所クリーンルーム33を所定の清浄度に維持することができる。
During the work as described above, in the work space where the
For this reason, even if particles are generated from the jig j, the processing machine, or the assembly machine during the above-described operation, the atmosphere in the
以上、図4に示す作業設備30を用いて、プリント配線基板を製造する工程を行う具体例を挙げ、説明したが、作業設備30は四方を外壁31で囲繞されたクリーンルーム32内に、コ形状に各工機を列設してラインを形成して、ラインの中央をクリーンゾーンCz、外周をダーティーゾーンDzに区分され、局所クリーンルーム(33)から、ダーティーゾーンDzに排出されたパーティクルを、クリーンルーム32外に排気するようにすれば、全体の清浄度を高めることが可能となる。
In the above, a specific example of performing a process of manufacturing a printed wiring board using the
また、上記作業設備30において、クリーンルーム32内のラインに、クリーン作業ルームユニット10を、適宜数連結することで、高い清浄度の局所クリーンルーム33として構成することができるので、従来の懸案事項であった、ライン編成の変更に際しても、切り離しや追加によって短時間に編成を行うことが可能になり、変更後の立ち上げも置き換えによって生じたパーティクルが除去され、清浄度が復帰した時点で生産が開始できるなど、従来方法では望めなかった立ち上げ速度の向上をも図ることができる。
Further, in the
さらに、上述の作業設備30では、設備が発生する塵埃等を、従来のように作業エリア13内の空間に放出することがないから、機械部品をクリーンルーム対応にする必要性が減少し、設備コストの低減や、保全性の向上など、相乗的な効果も得られる。
特に、クリーンルーム全体の清浄度を維持するために要するエネルギーは、クリーン作業ルームユニット10を側面同士を介して連結する構成によって、高い清浄度の作業空間を限定的なものとしたことで、大幅に低減することができ、局所クリーン環境の構成(例えば、設備の前後に無人服の着替えとエヤーシャワーブースを連結)によっては、一般工場でも、清浄度の高い環境を実現することで高品質な生産ラインを構成することが可能となる。
Furthermore, in the above-described
In particular, the energy required to maintain the cleanliness of the entire clean room is greatly reduced by limiting the work space with a high cleanliness by the configuration in which the clean
また、作業設備30によれば、パーティクルのフローコントロールが従来より容易になることから、例えば、設備後部に設けた排気口をクリーンルーム外へ排気するダクトに接続することで、クリーンルーム内に設備が放出するパーティクルを低減することができる。
Also, according to the
また、作業者が移動する際に発生するパーティクルについても、グレーチング17下部に排気手段26を設けたり、図2に示したように粘着シートを設置して回収するなどの簡易的なパーティクル除去手段で大幅な清浄度の改善が可能になるなど、安価な装置でこれまで以上の清浄度を得ることができる。 Also, particles generated when the worker moves can be removed by simple particle removing means such as an exhaust means 26 provided under the grating 17 or an adhesive sheet as shown in FIG. It is possible to obtain a higher degree of cleanliness than before with an inexpensive device, such as a significant improvement in cleanliness.
さらに従来の設備においても、クリーン作業ルームユニット10におけるカバー16によって、正面、上面、背面、床面のカバーを設置すれば、わずかな設備改造で同様の清浄度を確保できるなど応用範囲が広い。
Further, in the conventional equipment, if the front, top, back, and floor covers are installed by the
また、本実施形態におけるクリーン作業ルームユニット10では、ファンフィルタユニット19を作業者の正面に配置しているが、設備の構成によっては上面カバーに設けるようにしてもよい。
また、ラインの構成によっては、ファンフィルタユニット19が過剰となる場合もあるため、清浄度を適正に保ちつつ前後設備とのファンフィルタユニット19の共有も可能である。
Further, in the clean
In addition, depending on the configuration of the line, the
10 クリーン作業ルームユニット
11 加工エリア
12 駆動部発塵エリア
13 作業エリア
14 仕切壁
15 排気ファン
16 カバー
16b 背面
16t 上面
16f 正面
17 グレーチング
18 床板
19 ファンフィルタユニット
20 モータ
21 ファン
22 ヘパフィルタ
23 通気板
24 通気性天板
25 側面扉
26 排気手段
30 作業設備
31 外壁
32 クリーンルーム
33 局所クリーンルーム
Cz クリーンゾーン
Dz ダーティゾーン
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記複数の工作機械は、前記工作機械のベースに一体に設けられたクリーン作業ルームユニット(10)をそれぞれ備え、
隣り合う前記工作機械の前記クリーン作業ルームユニット(10)同士が連結されて、周囲の空間に比較して高清浄度の局所クリーンルーム(33)を構成し、
前記工作機械が、前記局所クリーンルーム(33)内に配置された作業設備において、
前記クリーン作業ルームユニット(10)は、少なくとも、
ワークを載置して移動させ前記工作機械により所定の作業を施す囲まれた施工エリア(11)と、
前記工作機械の駆動部等を囲う駆動部等発塵エリア(12)と、
この駆動部等発塵エリア(12)に連通し、作業者が入室して作業を行う作業エリア(13)とを備え、
前記駆動部等発塵エリア(12)は排気手段(15)を備えると共に、
前記作業エリア(13)は、ファンフィルタユニット(18)を備え、
前記作業エリア(13)に、前記ファンフィルタユニット(18)を介して、加圧状態で外気を導入すると共に、前記駆動部等発塵エリア(12)と前記施工エリア(11)において排気手段(15)を通じて排気する構成としたことを特徴とする作業設備。 A work facility (30) provided with a plurality of machine tools,
Each of the plurality of machine tools includes a clean work room unit (10) integrally provided on a base of the machine tool,
The clean work room units (10) of the adjacent machine tools are connected to each other to constitute a local clean room (33) having a higher cleanliness than the surrounding space,
In the work equipment in which the machine tool is disposed in the local clean room (33) ,
The clean work room unit (10) is at least
An enclosed construction area (11) on which a workpiece is placed and moved to perform a predetermined work by the machine tool,
A dust generation area (12) such as a drive unit surrounding the drive unit and the like of the machine tool;
A work area (13) that communicates with the dust generation area (12) such as the drive unit, and that allows an operator to enter and work,
The dust generation area (12) such as the drive unit is provided with exhaust means (15),
The working area (13) comprises a fan filter unit (18),
The work area (13), through said fan filter unit (18), while introducing outside air in a pressurized state, to have contact to the working area and the driving portion such as dust area (12) (11) Exhaust A work facility characterized in that exhaust is made through the means (15).
側面は、各ユニット(10)間を連結可能に開口していることを特徴とする請求項1に記載の作業設備。 The clean work room unit (10) has an upper surface (16t) and a back surface (16b) constituted by a cover (16) using an electrostatic sheet and a grating (17) on the floor surface.
2. The work facility according to claim 1, wherein the side surface is open so as to be connectable between the units.
ワークを載置して移動させ前記工作機械により所定の作業を施す囲まれた施工エリア(11)と、
前記工作機械の駆動部等を囲う駆動部等発塵エリア(12)と、
この駆動部等発塵エリア(12)に連通し、作業者が入室して作業を行う作業エリア(13)と、
前記駆動部等発塵エリア(12)に備えられた排気手段(15)と、を備えたクリーン作業ルームユニット(10)において、
前記クリーン作業ルームユニット(10)同士が連結されて周囲の空間に比較して高清浄度を要する作業空間を構成し、前記駆動部等発塵エリア(12)と前記施工エリア(11)において排気手段(15)を通じて排気することを特徴とする作業設備における局所クリーンルーム。 A local clean room (33) in a work facility (30) provided with a plurality of machine tools ,
An enclosed construction area (11) on which a workpiece is placed and moved to perform a predetermined work by the machine tool,
A dust generation area (12) such as a drive unit surrounding the drive unit and the like of the machine tool;
A work area (13) that communicates with the dust generation area (12) such as the drive unit, and where an operator enters and works ,
In the clean work room unit (10) comprising the exhaust means (15) provided in the dust generation area (12) such as the drive unit,
The clean work room units (10) are connected to form a work space that requires a higher cleanliness than the surrounding space , and exhaust is generated in the dust generation area (12) such as the drive unit and the construction area (11). A local clean room in a work facility, characterized by exhausting through means (15) .
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008108058A JP4525789B2 (en) | 2008-04-17 | 2008-04-17 | Work equipment and local clean room in work equipment |
CN2009101345060A CN101559388B (en) | 2008-04-17 | 2009-04-17 | Cleaning chamber device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008108058A JP4525789B2 (en) | 2008-04-17 | 2008-04-17 | Work equipment and local clean room in work equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009257680A JP2009257680A (en) | 2009-11-05 |
JP4525789B2 true JP4525789B2 (en) | 2010-08-18 |
Family
ID=41218465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008108058A Expired - Fee Related JP4525789B2 (en) | 2008-04-17 | 2008-04-17 | Work equipment and local clean room in work equipment |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4525789B2 (en) |
CN (1) | CN101559388B (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5427833B2 (en) * | 2011-05-18 | 2014-02-26 | パナソニック株式会社 | Clean room backflow prevention device |
KR20180016339A (en) * | 2015-05-26 | 2018-02-14 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Clean room for polarizer manufacturing |
CN105771523A (en) * | 2016-05-10 | 2016-07-20 | 江苏万新光学有限公司 | Polarizer cleaning and loading device |
US20210125843A1 (en) * | 2019-10-24 | 2021-04-29 | Xia Tai Xin Semiconductor (Qing Dao) Ltd. | Air control cabinet module and clean room system having the same |
JP7448778B2 (en) * | 2019-11-20 | 2024-03-13 | 三井住友建設株式会社 | Article processing equipment |
JP7513399B2 (en) * | 2020-01-23 | 2024-07-09 | ファナック株式会社 | Clean bench equipment |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335414U (en) * | 1986-08-27 | 1988-03-07 | ||
JPH03107642U (en) * | 1989-12-22 | 1991-11-06 | ||
JPH05340581A (en) * | 1992-06-09 | 1993-12-21 | Retsu Yamakawa | Clean room system |
JPH0745487A (en) * | 1993-07-27 | 1995-02-14 | Sony Corp | Semiconductor production system |
JPH0888155A (en) * | 1994-09-20 | 1996-04-02 | Asahi Kogyosha:Kk | Interface box in local cleaning and clean room therefor |
JPH09264575A (en) * | 1996-03-28 | 1997-10-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacturing device and cleaning method |
JP2000085963A (en) * | 1998-09-16 | 2000-03-28 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | Clean working device |
JP2003042498A (en) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Sony Corp | System, device, and method for manufacturing semiconductor and semiconductor device |
JP2003083579A (en) * | 2001-09-11 | 2003-03-19 | Seiko Epson Corp | Clean space unit and clean air diffusing unit |
JP2003214668A (en) * | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Clean room |
JP2003302083A (en) * | 2002-04-10 | 2003-10-24 | Canon Inc | Processing method of work, processing device of work, cassette, and unit of printer |
JP2004228576A (en) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Samsung Electronics Co Ltd | Substrate processing apparatus |
JP2006242419A (en) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Sanki Eng Co Ltd | Clean booth and work system using the clean booth |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1008397B (en) * | 1985-10-09 | 1990-06-13 | 高砂热学工业株式会社 | Multi-purpose flexible clean room system |
JPS6475835A (en) * | 1987-09-17 | 1989-03-22 | Fujitsu Ltd | Clean working booth |
TWI289645B (en) * | 2003-07-29 | 2007-11-11 | Alps Electric Co Ltd | Clean bench |
-
2008
- 2008-04-17 JP JP2008108058A patent/JP4525789B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-04-17 CN CN2009101345060A patent/CN101559388B/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335414U (en) * | 1986-08-27 | 1988-03-07 | ||
JPH03107642U (en) * | 1989-12-22 | 1991-11-06 | ||
JPH05340581A (en) * | 1992-06-09 | 1993-12-21 | Retsu Yamakawa | Clean room system |
JPH0745487A (en) * | 1993-07-27 | 1995-02-14 | Sony Corp | Semiconductor production system |
JPH0888155A (en) * | 1994-09-20 | 1996-04-02 | Asahi Kogyosha:Kk | Interface box in local cleaning and clean room therefor |
JPH09264575A (en) * | 1996-03-28 | 1997-10-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacturing device and cleaning method |
JP2000085963A (en) * | 1998-09-16 | 2000-03-28 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | Clean working device |
JP2003042498A (en) * | 2001-07-31 | 2003-02-13 | Sony Corp | System, device, and method for manufacturing semiconductor and semiconductor device |
JP2003083579A (en) * | 2001-09-11 | 2003-03-19 | Seiko Epson Corp | Clean space unit and clean air diffusing unit |
JP2003214668A (en) * | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Clean room |
JP2003302083A (en) * | 2002-04-10 | 2003-10-24 | Canon Inc | Processing method of work, processing device of work, cassette, and unit of printer |
JP2004228576A (en) * | 2003-01-24 | 2004-08-12 | Samsung Electronics Co Ltd | Substrate processing apparatus |
JP2006242419A (en) * | 2005-03-01 | 2006-09-14 | Sanki Eng Co Ltd | Clean booth and work system using the clean booth |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009257680A (en) | 2009-11-05 |
CN101559388B (en) | 2012-08-22 |
CN101559388A (en) | 2009-10-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4525789B2 (en) | Work equipment and local clean room in work equipment | |
US6033301A (en) | Fan filter unit and a clean room for using the same | |
JP2620037B2 (en) | Production plant for producing semiconductor integrated circuit device and method of constructing the plant | |
JP4598124B2 (en) | Automatic work device | |
JP4684683B2 (en) | Clean booth and work system using the clean booth | |
JP5408909B2 (en) | Clean room | |
JPH09264575A (en) | Manufacturing device and cleaning method | |
JP4370186B2 (en) | Thin film solar cell manufacturing system | |
KR200476578Y1 (en) | Auxiliary dust collecting apparatus in laser fabricating equipment | |
JP7513399B2 (en) | Clean bench equipment | |
JP2004226574A (en) | Device for washing substrate and facility for processing substrate | |
JP2005235916A (en) | Thin-film solar cell manufacturing system | |
JP2000346416A (en) | Circulating clean room | |
JPH07310941A (en) | Clean room | |
JP2007171730A (en) | Reticle cleaning device | |
KR100628580B1 (en) | Production system | |
JP2003004273A (en) | Method for removing dust in clean room | |
KR100213436B1 (en) | Lcd panel equipment and clean room system | |
JP2006071167A (en) | Clean room | |
JPH07318128A (en) | Removing method for contaminant substance generated from clean room | |
KR20140084286A (en) | Substrate processing device and robot controller | |
JP2904011B2 (en) | Clean room | |
JP2002143697A (en) | Dustproof booth | |
JP2001343140A (en) | Clean work module and clean tunnel | |
JP7069651B2 (en) | Load port device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090821 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100405 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100511 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100524 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4525789 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140611 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |