JPH05340581A - Clean room system - Google Patents

Clean room system

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JPH05340581A
JPH05340581A JP14970992A JP14970992A JPH05340581A JP H05340581 A JPH05340581 A JP H05340581A JP 14970992 A JP14970992 A JP 14970992A JP 14970992 A JP14970992 A JP 14970992A JP H05340581 A JPH05340581 A JP H05340581A
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maintenance
clean
window
processing
vehicle
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烈 山川
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Abstract

PURPOSE:To reduce the volume of a clean facility, which necessitates cleaning, and permit the execution of the maintenance of the clean facility easily when it is necessary. CONSTITUTION:A clean facility 10 is constituted of the minimum volume, in which works can be supplied and necessary processing machines can be stored therein while the volume is sealed, and is maintained so as to be clean. The clean facility 10 is provided with a maintenance window for maintenance while the maintenance of the clean facility is effected while communicating the maintenance window with a working window provided on a maintenance vehicle 30.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、クリーンルームシステ
ム、特に必要なクリーンエア容積を著しく減少させなが
らクリーンルーム内部の加工組立機械その他を容易にメ
ンテナンスすることのできる改良されたクリーンルーム
システムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a clean room system, and more particularly to an improved clean room system capable of easily maintaining a processing and assembling machine inside the clean room while significantly reducing a required clean air volume.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体の製造工程等においては、製品、
特にICウェハ等に塵埃が付着して加工不良が生じた
り、あるいは製品の品質を劣化させることから、このよ
うな加工ラインはクリーンルーム内に設置される。近年
の高度に精密化された半導体製造工程では、このクリー
ンルームの清浄度例えばクリーン度100以上に管理さ
れ、これによって、高品質のICウェハを高効率で製造
することができる。
2. Description of the Related Art In the manufacturing process of semiconductors, products,
In particular, such a processing line is installed in a clean room because dust adheres to IC wafers and the like to cause processing defects or deteriorate product quality. In the highly sophisticated semiconductor manufacturing process in recent years, the cleanliness of this clean room, for example, the cleanliness of 100 or more, is controlled, and high quality IC wafers can be manufactured with high efficiency.

【0003】このようなクリーンルームは、半導体製造
工程ばかりではなく、例えばハードディスクドライブ等
のように、エンクロージャ内にハードディスクを密閉し
て組み立てる製造ラインにも広く適用されている。従っ
て、今後もこのようなクリーンルームを用いた各種の加
工あるいは組立ラインの用途がますます拡大すると予想
されている。
Such a clean room is widely applied not only in the semiconductor manufacturing process but also in a manufacturing line for assembling a hard disk in an enclosure by hermetically assembling it, such as a hard disk drive. Therefore, it is expected that the applications of various processing or assembly lines using such a clean room will further expand in the future.

【0004】しかしながら、こうしたクリームルームは
通常の場合、工場全体あるいはその一部を区画してその
内部を所望のクリーン度に保つため、作業員が自由に歩
行できる広いクリーン領域全体に対して循環フィルタリ
ングを施さなければならず、このために、所望のクリー
ン度を得、またこれを維持するために大規模な清浄装置
を必要とし、またその維持費も膨大になるという問題が
あった。
However, in such a cream room, in general, the whole factory or a part thereof is partitioned to maintain a desired cleanliness inside, so that a circular filtering is applied to a wide clean area where workers can freely walk. Therefore, there is a problem that a large-scale cleaning device is required to obtain and maintain a desired degree of cleanliness, and the maintenance cost is enormous.

【0005】従来、このようなクリーンルームの維持費
用を低減するため、加工あるいは組立ラインのみを作業
員が入れない小さな密閉室に収納し、清浄化する容積を
減少することによって、その維持費を低減させるシステ
ムが提案されていた。
Conventionally, in order to reduce the maintenance cost of such a clean room, the maintenance cost is reduced by storing only the processing or assembly line in a small closed chamber where no worker can enter and reducing the cleaning volume. A system was proposed that allowed it.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな小型クリーンルームにおいては、その内部に設けら
れているワーク搬送路あるいは加工組立機械のメンテナ
ンスを行うときに、クリーン室を開かねばならず、クリ
ーン領域が汚染され、その都度所望のクリーン度を得る
ために清浄化立上げ時間を必要とし、加工あるいは組立
ラインがメンテナンスの都度長時間に亘って停止してし
まうという問題があった。
However, in such a small clean room, the clean room must be opened when performing maintenance of the work transfer path or the processing and assembling machine provided inside the small clean room. However, there is a problem in that the cleaning and start-up time is required to obtain a desired degree of cleanliness each time, and the machining or assembly line is stopped for a long time each time maintenance is performed.

【0007】本発明は上記従来の課題に鑑みなされたも
のであり、その目的は、清浄化領域を減少してクリーン
ルームの維持費用を著しく減少させ、かつメンテナンス
も前記清浄度を低下させることなく任意時期に簡単に行
うことのできる改良されたクリーンルームシステムを提
供することにある。
The present invention has been made in view of the above conventional problems, and an object thereof is to reduce a cleaning area to remarkably reduce a maintenance cost of a clean room, and also to perform maintenance without reducing the cleanliness. The object is to provide an improved clean room system that can be easily performed at any given time.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、クリーン設備自体は作業員が内部に出入
りすることのできない単にワーク及び加工組立機械のみ
を収納可能な密閉された小容量ラインとし、一方メンテ
ナンス時には任意のクリーン設備領域に接続可能なメン
テナンスビークルを働かせることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention is directed to a clean small facility which is a hermetically sealed small unit capable of accommodating only a work and a processing and assembling machine which a worker cannot enter and leave. It features a capacity line, and on the other hand, a maintenance vehicle that can be connected to any clean equipment area is used during maintenance.

【0009】メンテナンスビークルは、保守要員が乗り
込み可能で密閉状態において内部がクリーンに保たれ、
かつクリーン設備の任意位置に設けられたメンテナンス
窓と対向してクリーン設備とメンテナンスビークルとを
連通可能とする作業窓を有することを特徴とする。
The maintenance vehicle can be boarded by maintenance personnel, and the inside is kept clean in a sealed state.
Further, it is characterized in that it has a working window facing the maintenance window provided at an arbitrary position of the clean facility and allowing the clean facility and the maintenance vehicle to communicate with each other.

【0010】もちろん、前記クリーン設備にはその処理
室及び搬送路の任意位置に前記メンテナンスビークルの
作業窓と連通する、常時は密閉され、容易に取り外し可
能なメンテナンス窓を有する。
Of course, the clean facility has a maintenance window which is in a normally closed and easily removable state and which communicates with the working window of the maintenance vehicle at an arbitrary position in the processing chamber and the transfer path.

【0011】[0011]

【作用】従って、本発明によれば、通常は、クリーン設
備はその内部でワークに対して自動加工あるいは自動組
立作業を行い、必要最小限の容積によって所望の加工組
立を行うので、清浄にしなければならない容積が減少す
ることから、その維持費を極めて低減することができ、
同時に清浄度もオープンスペースに比べてはるかに高く
でき、これによって例えば半導体ICウェハの処理シス
テムにおいてもウェハの製造原価を著しく廉価にし、か
つ処理品質も高く保つことが可能となる。そして、クリ
ーン設備内にメンテナンスの必要が生じたときには、保
守要員はメンテナンスビークルに乗り込み、このメンテ
ナンスビークルの狭い領域を清浄化した後、メンテナン
スビークルとクリーン設備とを連通させ、清浄状態のも
とで必要なメンテナンスを行う。従って、このメンテナ
ンスによってクリーン設備内の清浄度は何ら損なわれる
ことなく、必要な保守点検あるいは修理が完了した後に
直ちにクリーン設備を通常の加工組立に復帰させること
ができる。
Therefore, according to the present invention, normally, the clean equipment performs automatic processing or automatic assembly work on the work inside it, and performs desired processing and assembly with a minimum necessary volume, so it must be cleaned. Since the volume that must be reduced is reduced, the maintenance cost can be significantly reduced,
At the same time, the degree of cleanliness can be much higher than that of the open space, which makes it possible to significantly reduce the manufacturing cost of wafers and keep the processing quality high, for example, in the processing system of semiconductor IC wafers. When maintenance is required in the clean equipment, maintenance personnel board the maintenance vehicle, clean the narrow area of the maintenance vehicle, and then connect the maintenance vehicle and the clean equipment to each other under a clean condition. Perform necessary maintenance. Therefore, this maintenance does not impair the cleanliness of the clean equipment, and the clean equipment can be immediately returned to normal processing and assembly after the necessary maintenance and inspection or repair is completed.

【0012】[0012]

【実施例】以下、図面に基づき本発明の好適な実施例を
説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】図1には、本発明に係るクリーンルームシ
ステムの全体構造が示され、例えば半導体製造設備にお
けるウェハ処理装置として構成されている。図2には、
この加工プロセスの一部のユニットが斜視図で示され、
以下に図1及び図2に基づいて実施例におけるICウェ
ハ処理プロセスを簡単に説明する。
FIG. 1 shows the entire structure of a clean room system according to the present invention, which is configured as a wafer processing apparatus in a semiconductor manufacturing facility, for example. In Figure 2,
Some units of this fabrication process are shown in perspective view,
The IC wafer processing process in the embodiment will be briefly described below with reference to FIGS. 1 and 2.

【0014】クリーン設備10はICウェハ処理装置の
一部として図示されており、処理工程に従って、以下の
如く個別のユニットに分けられている。すなわち、ユニ
ット11はフォトレジスト塗布及びプリベークラインを
示し、ICウェハに予めレジストを塗布焼き付けするラ
インを構成する。ユニット12は、紫外線マスクアライ
ナあるいは電子ビーム露光装置を示し、ICウェハのレ
ジスト上に所定のパターンを露光する。
The clean facility 10 is shown as part of an IC wafer processing apparatus and is divided into individual units according to the processing steps as follows. That is, the unit 11 represents a photoresist coating and pre-baking line, and constitutes a line for coating and baking the resist on the IC wafer in advance. The unit 12 represents an ultraviolet mask aligner or an electron beam exposure device, and exposes a predetermined pattern on the resist of the IC wafer.

【0015】ユニット13は搬送路であり、前記所望パ
ターンが露光されたICウェハを次のユニット14へ搬
送し、ユニット14にて現像及び清浄化処理が行われ
る。更に、ユニット15及び16は2ユニットをつなげ
てポストベークラインを構成しており、次のユニット1
7でのエッチング及び清浄化プロセスへICウェハを送
り込む。
The unit 13 is a conveyance path, and conveys the IC wafer on which the desired pattern is exposed to the next unit 14, and the unit 14 performs development and cleaning processing. Further, the units 15 and 16 form a post bake line by connecting two units, and the next unit 1
Deliver the IC wafer to the etching and cleaning process at 7.

【0016】このように、実施例においては、各処理
室、すなわちユニット11,12,14,15,16,
17及び搬送路13はそれぞれ所定の規格化された外形
状を有し、これによって後述するメンテナンスビークル
との接続を容易に行うよう構成されている。
As described above, in the embodiment, each processing chamber, that is, the units 11, 12, 14, 15, 16,
Each of 17 and the transport path 13 has a predetermined standardized outer shape, and is configured to facilitate connection with a maintenance vehicle described later.

【0017】すなわち、図2から明らかなように、各処
理室及び搬送路は、その幅及び高さが一定寸法となるよ
うに構成されており、これによって各処理室及び搬送路
に設けられるメンテナンス窓の大きさ及び位置を画一化
し、メンテナンスビークルの作業窓との連通を容易にし
ている。
That is, as is apparent from FIG. 2, the processing chambers and the transfer paths are configured so that the width and height thereof have constant dimensions, whereby the maintenance provided in the processing chambers and the transfer paths. The size and position of the windows are standardized to facilitate communication between the maintenance vehicle and the work window.

【0018】図2において、各処理室及び搬送路を貫通
してエアコンベア20が設けられており、このエアコン
ベア20はその表面に設けられた多数の細孔21から空
気を噴出し、これによってワークであるICウェハを直
接あるいはトレイに載せたまま僅かにエアコンベア20
の上で浮上させ、この空気噴き出し方向あるいはタイミ
ングを制御することによってICウェハを迅速に所定位
置に搬送し、またそこで停止させることができる。
In FIG. 2, an air conditioner bear 20 is provided so as to penetrate through each processing chamber and a transfer path, and the air conditioner bear 20 blows out air from a large number of pores 21 provided on the surface thereof. Air conditioner bare 20 directly or with the IC wafer that is the work placed on the tray
The IC wafer can be quickly conveyed to a predetermined position and stopped there by controlling the air jetting direction or the timing.

【0019】周知のように、各処理室内では、図2にそ
の一部が見られるように、例えばフォトレジスト塗布ラ
インにおいては、符号22で示されるフォトレジスト塗
布機が内蔵されている。
As is well known, in each processing chamber, as can be seen in FIG. 2, a photoresist coating machine indicated by reference numeral 22 is built in, for example, a photoresist coating line.

【0020】そして、本実施例において、各処理室及び
搬送路はその内部が高度のクリーン度、例えばクリーン
度100程度に清浄化され、ワークに塵埃が付着して品
質を低下させたり、加工不良を生じさせることを確実に
防止している。
In the present embodiment, the inside of each processing chamber and the transfer path are cleaned to a high degree of cleanliness, for example, a cleanness of about 100, and dust adheres to the work to deteriorate the quality, or defective processing occurs. Is surely prevented.

【0021】従って、本発明においては、処理室及び搬
送路は通常の加工あるいは組立ラインにおいては、外部
から保守点検あるいは修理をすることができず、各プロ
セスの状態は、例えばユニット12の電子ビーム露光装
置で見られるように、所定位置におかれたモニタ23に
よって外部から判定することができる。また、各処理室
あるいは搬送路には、図の符号24及び25で示される
ように、警告表示器及びコネクタが設けられ、処理室及
び搬送路のクリーン密閉状態を損なうことなく、内部の
加工組立処理状況を監視し、あるいは所定の遠隔操作信
号その他を送り込むことができる。
Therefore, in the present invention, the processing chamber and the transfer path cannot be maintained or inspected or repaired from the outside in a normal processing or assembly line, and the state of each process depends on, for example, the electron beam of the unit 12. As can be seen in the exposure apparatus, it can be determined externally by the monitor 23 placed in place. In addition, as shown by reference numerals 24 and 25 in the drawing, a warning indicator and a connector are provided in each processing chamber or transfer path, and the internal processing and assembly is performed without impairing the clean sealed state of the processing chamber and transfer path. It is possible to monitor the processing status or send a predetermined remote control signal or the like.

【0022】このようにして、本発明によれば、必要な
処理室及び搬送路のみをクリーンにするので、そのクリ
ーン領域は必要最小限の容積となり、従来の部屋全体あ
るいは工場全体をクリーンにし、その中を作業員が歩き
回るシステムと異なり、クリーン維持費用を著しく低減
することができ、これに伴いワークである例えばICウ
ェハ、ハードディスクドライブの加工製造コストを低減
することができる。
As described above, according to the present invention, since only the necessary processing chambers and transfer paths are cleaned, the clean area has a minimum required volume, and the conventional room or the entire factory can be cleaned. Unlike a system in which a worker walks in it, the clean maintenance cost can be significantly reduced, and along with this, the processing and manufacturing cost of a work such as an IC wafer or a hard disk drive can be reduced.

【0023】また、極めて限定されたクリーン領域のみ
を高度のクリーン度に保つため、極めて安定した優れた
清浄状態を生成維持することができる。
Further, since only a very limited clean area is maintained at a high degree of cleanliness, an extremely stable and excellent clean state can be generated and maintained.

【0024】しかしながら、このようなクリーンルーム
システムにおいても、その内部に設けられた搬送路、例
えばエアコンベア20、処理機械のメンテナンスは必須
であり、本発明においては、このようなメンテナンスを
メンテナンスビークルによって行うことを特徴とする。
However, even in such a clean room system, it is indispensable to maintain the transport path provided inside the system, for example, the air conditioner bear 20 and the processing machine. In the present invention, such maintenance is performed by the maintenance vehicle. It is characterized by

【0025】メンテナンスビークルは、図3にその外観
が示されており、また、図1、図3においてメンテナン
スビークルは符号30にて示されている。このメンテナ
ンスビークルは、内部に保守要員が乗り込み可能な自走
型の密閉ビークルからなり、実施例においてはモータに
て低速自走可能である。また、このメンテナンスビーク
ル30にはそれ自体空気清浄化ユニット31が設けられ
ており、その内部を迅速に清浄化するとともに、後述す
るようにクリーン設備10との接続時にその接続部の清
浄化を急速に行うことができる。
The appearance of the maintenance vehicle is shown in FIG. 3, and the maintenance vehicle is indicated by reference numeral 30 in FIGS. 1 and 3. This maintenance vehicle is composed of a self-propelled sealed vehicle into which maintenance personnel can board, and in the embodiment, it can be driven at low speed by a motor. Further, the maintenance vehicle 30 itself is provided with an air cleaning unit 31, which quickly cleans the inside of the maintenance vehicle 30 and, at the time of connection with the clean facility 10, cleans the connection portion thereof, as will be described later. Can be done.

【0026】図3において、メンテナンスビークル30
はその全面に張出部32を有し、この張出部32の底面
には、図3では隠れて見えないが、クリーン設備10の
メンテナンス窓と連通する作業窓が設けられている。同
様に、メンテナンスビークル30の前部下方にも符号3
3で示される作業窓が、更に両側面にも符号34で示さ
れる作業窓が設けられている。
In FIG. 3, the maintenance vehicle 30 is shown.
Has an overhanging portion 32 on its entire surface, and a work window communicating with the maintenance window of the clean facility 10 is provided on the bottom surface of this overhanging portion 32, which is hidden and not visible in FIG. Similarly, the reference numeral 3 is provided below the front portion of the maintenance vehicle 30.
A work window indicated by reference numeral 3 and work windows indicated by reference numeral 34 are further provided on both side surfaces.

【0027】また、メンテナンスビークル30にはその
後部にエアシャワー室69と連通するための連通扉35
が設けられている。図3に示す符号36,37、そして
38はそれぞれメンテナンスビークル30内から外部を
監視するための監視窓である。
Further, the maintenance vehicle 30 has a communication door 35 at its rear portion for communicating with the air shower chamber 69.
Is provided. Reference numerals 36, 37, and 38 shown in FIG. 3 are monitoring windows for monitoring the outside from inside the maintenance vehicle 30, respectively.

【0028】一方、図1、図2から明らかなように、ク
リーン設備10側にはその上面にそれぞれ着脱可能なメ
ンテナンス窓26が設けられており、このメンテナンス
窓26は各ユニットに対して同一形状を有する。そし
て、このメンテナンス窓26はその四辺に設けられてい
るボルト27にて各ユニットに固定されており、この結
果、ボルト27を外部からゆるめることによってメンテ
ナンス窓26を開くことができる。
On the other hand, as is apparent from FIGS. 1 and 2, maintenance windows 26 are provided on the upper surface of the clean equipment 10 side, and the maintenance windows 26 have the same shape for each unit. Have. The maintenance window 26 is fixed to each unit by bolts 27 provided on its four sides. As a result, the maintenance window 26 can be opened by loosening the bolt 27 from the outside.

【0029】また、各メンテナンス窓26の四隅の周囲
には、各ユニット毎にガイドポスト28が設けられてお
り、これによって前記メンテナンス窓26を開く前に、
メンテナンスビークル30がこのガイドポスト28を基
準にしてメンテナンス窓26の周囲に作業窓をぴったり
と密着させ、クリーン設備10とメンテナンスビークル
30とをしっかりと連通し、かつ同等のクリーン度にし
た後、メンテナンス窓26を開き、所望の保守点検作業
が行われる。
Further, guide posts 28 are provided around the four corners of each maintenance window 26 for each unit, whereby before the maintenance window 26 is opened,
The maintenance vehicle 30 makes the working window fit tightly around the maintenance window 26 with the guide post 28 as a reference, so that the clean facility 10 and the maintenance vehicle 30 are firmly communicated with each other and the cleanliness is made equal to each other. The window 26 is opened, and desired maintenance and inspection work is performed.

【0030】各処理室及び搬送路には、前記上部のメン
テナンス窓26とは別に、側面のメンテナンス窓40あ
るいは41が設けられ、これらのメンテナンス窓40,
41もそれぞれ規格化され、前述したメンテナンスビー
クル30の前面に設けられた作業窓33及び側部に設け
られた作業窓34と対応している。各メンテナンス窓4
0,41も前記メンテナンス窓26と同様にその四辺が
ボルト42,43で着脱可能に固定され、更にその周囲
には4本のガイドポスト44,45が設けられている。
In addition to the upper maintenance window 26, a side maintenance window 40 or 41 is provided in each of the processing chambers and the transfer path.
41 are also respectively standardized, and correspond to the work window 33 provided on the front surface of the maintenance vehicle 30 and the work window 34 provided on the side portion thereof. Each maintenance window 4
Similarly to the maintenance window 26, the 0 and 41 are detachably fixed to the four sides with bolts 42 and 43, and four guide posts 44 and 45 are provided around the four sides.

【0031】図4では、クリーン設備10のメンテナン
ス窓、例えば40とメンテナンスビークル30側の作業
窓、例えば33との関係を説明する。
In FIG. 4, the relationship between the maintenance window of the clean facility 10, for example, 40 and the work window on the maintenance vehicle 30 side, for example, 33, will be described.

【0032】メンテナンス窓40はクリーン設備10の
ユニット壁50に固定されたボルト51にナット52で
固定されている。このとき、メンテナンス窓40とユニ
ット壁50との間にはパッキン53が挿入されており、
ユニット内部は密閉状態に保たれている。
The maintenance window 40 is fixed by a nut 52 to a bolt 51 fixed to a unit wall 50 of the clean facility 10. At this time, the packing 53 is inserted between the maintenance window 40 and the unit wall 50,
The inside of the unit is kept sealed.

【0033】図4において、メンテナンス窓40の四囲
にはガイドポスト54がユニット壁50に固定されてお
り、このガイドポスト54は図2に示したガイドポスト
44と同様である。
In FIG. 4, a guide post 54 is fixed to the unit wall 50 around the four sides of the maintenance window 40. The guide post 54 is similar to the guide post 44 shown in FIG.

【0034】一方、メンテナンスビークルの作業窓33
はビークル壁55にボルト56によってしっかりと固定
されており、ビークル壁55と作業窓33との間にはパ
ッキン57が設けられ、作業窓33を密閉状態に保って
いる。作業窓33の周囲外周には、固定枠58によって
ジャバラ59が取り付けられており、このジャバラ59
の先端に設けられた密着枠60には、更にその外周にパ
ッキン61が固定されており、密着枠60及びパッキン
61に設けられたガイド孔62を前記ガイドポスト54
と係合させ、これによって作業窓33とメンテナンス窓
40とはしっかりと密着可能である。
On the other hand, the working window 33 of the maintenance vehicle
Is firmly fixed to the vehicle wall 55 by bolts 56, and a packing 57 is provided between the vehicle wall 55 and the work window 33 to keep the work window 33 in a sealed state. A bellows 59 is attached to the periphery of the work window 33 by a fixed frame 58.
A packing 61 is further fixed to the outer periphery of the close contact frame 60 provided at the tip of the guide post 54 and the guide hole 62 provided in the close contact frame 60 and the packing 61.
The work window 33 and the maintenance window 40 can be firmly attached to each other.

【0035】従って、図4において、メンテナンスビー
クル30を移動させ、所望のメンテナンス窓40に対し
て作業窓33を近付け、ガイドポスト54に密着枠60
のガイド孔62を係合することにより、パッキン61は
ユニット壁50とぴったりと密着し、メンテナンスビー
クル30とユニット壁50とジャバラ59及び外周パッ
キンによって密閉された空間63の空気を予備の清浄装
置(図示せず)でクリーンにした後、メンテナンスビー
クル30内から作業窓33とメンテナンス窓40を取り
外せば、メンテナンスビークル30は容易に所望のユニ
ットに対して連通して所定のメンテナンス作業を行うこ
とが可能となる。メンテナンスを行なわないときは、メ
ンテナンスビークル30との密着部分をクリーンにして
おくために、ガイドポストも含めて、メンテナンス窓を
覆うカバーをかぶせ養生しておくことが好適である。
Therefore, in FIG. 4, the maintenance vehicle 30 is moved, the working window 33 is brought closer to the desired maintenance window 40, and the contact frame 60 is attached to the guide post 54.
By engaging the guide holes 62 of the packing 61 with the unit wall 50, the packing 61 fits tightly, and the air in the space 63 sealed by the maintenance vehicle 30, the unit wall 50, the bellows 59, and the outer packing is preliminarily cleaned ( If the working window 33 and the maintenance window 40 are removed from the inside of the maintenance vehicle 30 after cleaning with (not shown), the maintenance vehicle 30 can easily communicate with a desired unit to perform a predetermined maintenance work. Becomes When maintenance is not performed, it is preferable to cover and cover the maintenance window, including the guide posts, in order to keep the contact portion with the maintenance vehicle 30 clean.

【0036】本発明によれば、以上のように、限られた
領域のみ清浄化したクリーン設備10とメンテナンス時
のみクリーン設備10内に連通するメンテナンスビーク
ル30を備えることにより、通常の加工組立状態では空
気清浄費用を著しく低減させ、かつメンテナンス時には
容易にクリーン設備の内部を点検補修することが可能で
ある。
According to the present invention, as described above, by providing the clean equipment 10 in which only a limited area is cleaned and the maintenance vehicle 30 communicating with the clean equipment 10 only at the time of maintenance, in a normal working and assembling state. Air cleaning costs can be significantly reduced, and the inside of clean equipment can be easily inspected and repaired during maintenance.

【0037】図1にはメンテナンス時のメンテナンスビ
ークル30の動きを示し、メンテナンスが必要となった
ときには、保守要員は無塵衣ロッカー70から無塵衣を
取り出し、これを着用した後、エアシャワー室69に入
り、エアシャワーを受ける。一方、メンテナンスビーク
ル30は図1のAで示されるように、その扉35をエア
シャワー室69の出入口に密着固定する。このようなメ
ンテナンスビークル30の動きあるいは密着作業は、ク
リーン領域外にいる作業員が行ってもよく、あるいはエ
アシャワー室69内に入った保守要員が遠隔操作で行っ
てもよい。
FIG. 1 shows the movement of the maintenance vehicle 30 at the time of maintenance. When maintenance is required, the maintenance staff takes out the dust-free garment from the dust-free garment locker 70, puts on the dust-free garment, and then wears it. Enter 69 and take an air shower. On the other hand, as shown in A of FIG. 1, the maintenance vehicle 30 has its door 35 closely fixed to the entrance / exit of the air shower chamber 69. Such movement or close contact work of the maintenance vehicle 30 may be performed by a worker outside the clean area, or may be performed remotely by a maintenance worker who has entered the air shower chamber 69.

【0038】このようにして、空気清浄化を受けた保守
要員は、メンテナンスビークル30に乗り込み、メンテ
ナンスビークル30内を密閉し、同時に空気清浄化ユニ
ット31を働かせてメンテナンスビークル30内の清浄
化を行う。そして、この状態からメンテナンスビークル
30は実施例において自走し、符号Bあるいは符号Cで
示されるように、メンテナンスが必要なユニットに密着
し、図4で説明したように、メンテナンスビークル30
内の作業窓とクリーン設備10のメンテナンス窓とを連
通させ、所望のメンテナンスを行う。このとき、メンテ
ナンスビークル30内はクリーン設備10と同等のクリ
ーン度を有するので、必要な保守点検が完了し、メンテ
ナンス窓が密閉されると、クリーン設備10は直ちに通
常の加工あるいは組立状態に復帰することができる。
In this way, the maintenance personnel who have been subjected to the air cleaning board the maintenance vehicle 30, seal the inside of the maintenance vehicle 30, and at the same time operate the air cleaning unit 31 to clean the inside of the maintenance vehicle 30. .. Then, from this state, the maintenance vehicle 30 is self-propelled in the embodiment, and as shown by a symbol B or a symbol C, is brought into close contact with a unit requiring maintenance, and as described with reference to FIG.
A desired maintenance is performed by connecting the working window inside and the maintenance window of the clean facility 10 to each other. At this time, since the inside of the maintenance vehicle 30 has the same degree of cleanliness as the clean facility 10, when the necessary maintenance inspection is completed and the maintenance window is sealed, the clean facility 10 immediately returns to the normal processing or assembly state. be able to.

【0039】前述した実施例では、メンテナンスビーク
ル30はそれ自体自走式であるが、もちろんクリーン領
域外にいる作業員がメンテナンスビークル30を他の台
車その他によって移動させることも可能であり、本発明
によれば、クリーン領域はクリーン設備10とメンテナ
ンスビークル30内に極めて限定されているので、それ
以外では、作業員が清浄度に関係なく作業を進めること
ができ、任意の方式を採用可能である。
In the above-described embodiment, the maintenance vehicle 30 is self-propelled by itself, but of course it is possible for an operator outside the clean area to move the maintenance vehicle 30 by another trolley or the like. According to the above, since the clean area is extremely limited within the clean equipment 10 and the maintenance vehicle 30, other than that, the worker can proceed with the work regardless of the cleanliness, and any method can be adopted. ..

【0040】また、前述した実施例では、メンテナンス
窓及び作業窓はボルト固定されているが、これを例えば
スライド型とすることも可能であり、任意の窓構造を採
用可能である。
Further, in the above-mentioned embodiment, the maintenance window and the working window are fixed by bolts, but it is also possible to adopt a sliding type, for example, and an arbitrary window structure can be adopted.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
半導体ICウェハあるいはハードディスクドライブ等の
高清浄度を必要とする部品加工あるいは部品組立に対し
て、必要最小限のクリーン容積のみ提供するので、その
空気清浄費用を著しく低減し、これによって製品のコス
トを低下させるという利点がある。
As described above, according to the present invention,
For processing parts or assembling parts such as semiconductor IC wafers or hard disk drives that require high cleanliness, only the minimum required clean volume is provided, which significantly reduces the air cleaning cost, thereby reducing the product cost. It has the advantage of lowering.

【0042】また、メンテナンス時には、メンテナンス
ビークルによって自由にその内部点検あるいは補修が可
能であるから、そのメンテナンスを極めて簡単迅速に行
い、かつメンテナンス完了後にクリーン設備を直ちに作
業に復帰できるという利点がある。
In addition, at the time of maintenance, the inside can be freely inspected or repaired by the maintenance vehicle, so that there is an advantage that the maintenance can be performed very easily and quickly, and the clean facility can be immediately returned to the work after the completion of the maintenance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るクリーンルームシステムの全体的
な構造を示した概略説明図である。
FIG. 1 is a schematic explanatory view showing an overall structure of a clean room system according to the present invention.

【図2】本実施例におけるクリーン設備の一例を示す斜
視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of clean equipment according to the present embodiment.

【図3】本実施例において用いられるメンテナンスビー
クルの斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of a maintenance vehicle used in this embodiment.

【図4】本実施例におけるクリーン設備とメンテナンス
ビークルとの連通構造を示す要部断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of essential parts showing a communication structure between a clean facility and a maintenance vehicle in the present embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 クリーン設備 11,12,14,15,16,17 処理室 13 搬送路 26,40,41 メンテナンス窓 30 メンテナンスビークル 33 作業窓 10 Clean Equipment 11, 12, 14, 15, 16, 17 Processing Room 13 Transport Path 26, 40, 41 Maintenance Window 30 Maintenance Vehicle 33 Work Window

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワークに対して所望の加工組立作業を施
す処理室と、 前記処理室へのワーク供給を行うために処理室に接続さ
れた搬送路と、を有し、 前記処理室と搬送路とは密閉されて内部がクリーンに保
たれ、処理室及び搬送路の一部には開閉可能なメンテナ
ンス窓が設けられているクリーン設備と、 保守要員が乗込み可能で、密閉状態において内部がクリ
ーンに保たれ、前記クリーン設備のメンテナンス窓と対
向してクリーン設備とビークルとを連通可能とする作業
窓を有するメンテナンスビークルと、 を含むクリーンルームシステム。
1. A processing chamber for performing desired processing and assembling work on a work, and a transfer path connected to the processing chamber for supplying the work to the processing chamber. The interior is kept clean by sealing the inside of the passage, and there is a clean facility with a maintenance window that can be opened and closed in a part of the processing chamber and the conveyance passage. A clean room system comprising: a maintenance vehicle that is kept clean and has a working window that faces the maintenance window of the clean facility and that allows communication between the clean facility and the vehicle.
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