JP4523420B2 - 光学素子、レーザ加工装置及びレーザマニピュレーション装置 - Google Patents
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Description
そして、液状物質の屈折率は、通常、1.1程度〜1.6程度まで選択することができ、光学素子1のように、透明基板2に複数のセル3を形成して、当該セル3に屈折率の異なる液状物質を導入することで、透明基板2を透過する光の屈折率を変化させることができる。
この(2)式から、2種類の液状物質の所定波長λでの平均屈折率n1、n2及びセル12a、12bの距離Lを一定とすると、セル12a、12bの液状物質の比率αのみで位相を変化させることができることが分かる。
したがって、光吸収係数αの異なる光吸収性液状物質を用いることで、光の透過率を制御することができる。
ここで、ns=nl、すなわち、透明基板の屈折率nsを液状物質の屈折率nlと同じにすることで、液状物質と透明基板との界面反射を低減することができる。
2 透明基板
3、3a、3b、3c セル
4 微細流路
4a 導入口
4b 排出口
10 光学素子
11 透明基板
12 セル
12a 上段セル
12b 下段セル
13 透明仕切り板
14a 導入口
14b 排出口
15a 導入口
15b 排出口
16 流路
20 光学素子
21 透明基板
22 セル
22a 上段セル
22b 下段セル
23 透明仕切り板
24a 導入口
24b 排出口
25a 導入口
25b 光吸収性液導入口
25c 排出口
26 流路
30 光学素子
31 透明基板
32、32a、32b、32c セル
33 セル
34 導入口
35 流路
40 光学素子
41 透明基板
42 セル
43 流路
44、44a 遮光用フォトマスク
50 光学素子
51 透明基板
52 セル
52a、52b 分室セル
53 透明仕切り板
54、55 流路
54a、55a 本流路
56 反射ミラー
60 光学素子
61 透明基板
62a、62b、62c セル
63 流路
Claims (7)
- 入射光を空間的に位相変調して出射させる光学素子であって、当該入射光に対して透過性を有し所定形状の中空部を有する構造体が当該入射光に対向する面方向に複数分布する状態で配置され、
当該複数の構造体の前記中空部内が、前記入射光の入射方向に対向する方向に延在するとともに当該入射光方向に移動可能な可動仕切り部材で複数の分室に分割され、
当該各構造体の中空部の各分室に所定の屈折率の液状物質が液状物質供給手段から供給され、
前記液状物質の圧力及び流量を変化させ、前記可動仕切り部材を移動させて、光の透過光路長を変化させ、
前記光学素子は、前記液状物質での総合光透過距離Lが、透過光の波長をλ、
当該液状物質の最大屈折率をnmax、
最小屈折率をnminとしたとき、λ/(nmax−nmin)の整数倍であり、
前記構造体の前記中空部内に、光吸収性を有する光吸収性液状物質が光吸収性液状物質供給手段から選択的に供給され、前記光の位相と同時に光の強度を空間的に変調することを特徴とする光学素子。 - 前記光吸収性液状物質供給手段は、前記構造体の前記中空部によって光吸収率の異なる複数種類の前記光吸収性液状物質を選択的に当該中空部内に供給することを特徴とする請求項1記載の光学素子。
- 前記光学素子は、前記液状物質供給手段または前記光吸収性液状物質供給手段からの液状物質を前記構造体の前記中空部に導く流路を有し、当該流路の少なくとも一部分が前記入射光を遮断する遮光部材で覆われていることを特徴とする請求項1又は2記載の光学素子。
- 前記光学素子は、前記構造体を通過した前記入射光を当該構造体方向に反射する反射板を備え、当該反射板の前記入射光側とは反対側に流路が形成され、当該流路を通して前記液状物質供給手段または前記光吸収性液状物質供給手段からの液状物質を前記構造体の前記中空部に導入することを特徴とする請求項1又は2記載の光学素子。
- 前記光学素子は、前記構造体の前記中空部に供給される前記液状物質のうち少なくとも1種類の液状物質の屈折率が当該構造体の屈折率と同じであることを特徴とする請求項1から請求項4にいずれかに記載の光学素子。
- 前記複数の構造体のうち少なくとも1つ以上の構造体は、前記入射光の透過する光路長が他の構造体の光路長と異なることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の光学素子。
- 位相を光学素子で空間的に変調させたレーザ光を用いて対象物を操作するレーザマニピュレーション装置において、前記光学素子として請求項1から請求項6のいずれかに記載の光学素子が用いられていることを特徴とするレーザマニピュレーション装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP (1) | JP4523420B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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