JP4523302B2 - 集束イオンビームを用いた加工方法、ナノチューブプローブ、顕微鏡装置、及び電子銃 - Google Patents
集束イオンビームを用いた加工方法、ナノチューブプローブ、顕微鏡装置、及び電子銃 Download PDFInfo
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4 試料
4a 照射面
4b 加工面
4c 側壁
6 加工領域
6a 初期加工領域
6b 拡大加工領域
8 初期走査範囲
10 拡大走査範囲
10a 拡大走査範囲
10b 拡大走査範囲
12 走査範囲
14 加工深度
16 裏面
18 カンチレバー
20 カンチレバー部
22 突出部
22a 垂直面
22b 破断面
24 ナノチューブ
24a ナノチューブ先端
24b ナノチューブ基端部
26 試料
26a 試料表面
28 最先端部
30 基端部
32 カンチレバー先端部
34 湾曲面
36 押圧部材
38 溝部
102 集束イオンビーム
102a 断面
102b 主強度部
102c 裾部
104 試料
104a 照射面
104b 加工面
104c 側壁
106 加工領域
106d 湾曲加工部
112 走査範囲
105 試料ステージ
106 加工領域
112 走査範囲
116 裏面
118 カンチレバー
120 カンチレバー部
122a 垂直面
122e 湾曲面
132 先端部
Claims (8)
- 集束イオンビームを照射して試料の一部を構成する加工領域を除去加工する方法において、前記加工領域が加工深度の勾配を有し、且つ前記加工領域が試料における集束イオンビームの照射面から裏面に到達する場合に、平均加工深度が最も大きな領域を初期加工領域とし、この初期加工領域を含んで平均加工深度が小さくなる方向に連続的又は段階的に拡大された拡大加工領域を1段以上設定し、初期加工領域の前記照射面側の一部を加工した後、前記照射面から前記裏面まで貫通させずに平均加工深度が小さくなる方向に前記拡大加工領域を順次加工して、最終段階で前記加工領域の前記裏面まで除去加工することを特徴とする集束イオンビームを用いた加工方法。
- 集束イオンビームを照射して試料の一部を構成する加工領域を除去加工する方法において、前記加工領域が試料内部から試料側壁までの連続領域に設定され、この加工領域の加工深度が一定で、且つ前記加工領域が試料における集束イオンビームの照射面から裏面に到達する場合に、前記側壁から最も離れた内部領域を初期加工領域とし、この初期加工領域を含んで側壁に近付く方向に連続的又は段階的に拡大された拡大加工領域を1段以上設定し、初期加工領域の前記照射面側の一部を加工した後、前記照射面から前記裏面まで貫通させずに側壁に近付く方向に前記拡大加工領域を順次加工して、最終段階で前記加工領域の前記裏面まで除去加工することを特徴とする集束イオンビームを用いた加工方法。
- カンチレバーを前記試料とし、前記カンチレバー突出部の先端部の一部を加工領域とし、前記請求項1に記載の加工方法により前記突出部の側面側から前記集束イオンビームを照射して前記加工領域を除去し、走査する試料面に対して略垂直な垂直面を形成して、この垂直面の基端部を残して前記先端部の最先端部を除去することを特徴とする集束イオンビームを用いた加工方法。
- 前記垂直面に略垂直な方向から集束イオンビームを照射して前記最先端部を除去する請求項3に記載の集束イオンビームを用いた加工方法。
- 前記突出部側面の所望の位置に集束イオンビームを照射して溝部を形成し、前記最先端部の側面に押圧部材を押接して押圧力を負荷し、前記溝部から最先端部を折って破断面を形成する請求項3に記載の集束イオンビームを用いた加工方法。
- 請求項3〜5のいずれかに記載の加工方法により加工されたカンチレバーを用い、そのカンチレバーの垂直面にナノチューブの基端部を固定し、ナノチューブの先端部を突出させることを特徴とするナノチューブプローブ。
- 請求項6に記載のナノチューブプローブと、このナノチューブプローブを3次元駆動する駆動装置を設け、前記ナノチューブの先端により試料表面を走査することを特徴とする顕微鏡装置。
- 請求項6に記載のナノチューブプローブを用い、このナノチューブ先端から電子ビームを放出することを特徴とする電子銃。
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