JP4521632B2 - ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法 - Google Patents

ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4521632B2
JP4521632B2 JP2004095736A JP2004095736A JP4521632B2 JP 4521632 B2 JP4521632 B2 JP 4521632B2 JP 2004095736 A JP2004095736 A JP 2004095736A JP 2004095736 A JP2004095736 A JP 2004095736A JP 4521632 B2 JP4521632 B2 JP 4521632B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
iridium
dimer
producing
reaction
solvent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004095736A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005281169A (ja
Inventor
江 誠 司 小
住 俊 一 福
邊 清 磯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Original Assignee
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tanaka Kikinzoku Kogyo KK filed Critical Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Priority to JP2004095736A priority Critical patent/JP4521632B2/ja
Publication of JP2005281169A publication Critical patent/JP2005281169A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4521632B2 publication Critical patent/JP4521632B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Catalysts (AREA)

Description

本発明は、各種イリジウム錯体の製造中間体であるジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法に関するものである。
遷移金属錯体は、有機化学反応触媒、重合反応触媒として、また最近では電子材料用薄膜形成のための原材料として広い用途を有している。イリジウム金属錯体では、特にシクロペンタジエニル基を支持配位子とした誘導体が高性能、高機能な材料として触媒、イリジウム薄膜形成材料に応用され、光学活性化合物を製造する選択的水素化触媒〔例えば、特許文献1参照〕、アイソタクチックポリオレフィン製造の触媒〔例えば、特許文献2参照〕、メモリーの電極用薄膜製造の化学気相成長法(CVD)材料〔例えば、特許文献3参照〕などへの使用が提案されている。
シクロペンタジエニル基を支持配位子としたイリジウム金属錯体は、従来から三塩化イリジウム水和物を出発原料として、ジクロロシクロペンタジエニルイリジウムダイマーを中間体として製造されることが多い。
ジクロロシクロペンタジエニルイリジウムダイマーでは、シクロペンタジエニル基にメチル基が5つ置換したジクロロペンタメチルシクロペンタジエニルイリジウムダイマーが代表的であり、最も多く使用されている。例えば、三塩化イリジウム水和物と1−(1−クロルエチル)ペンタメチルシクロペンタジエンをメタノール中65℃で20時間反応させて、85%の収率で製造した報告〔非特許文献1参照〕、三塩化イリジウム水和物とペンタメチルシクロペンタジエンとの反応で、85%の収率で製造した報告〔非特許文献2、非特許文献3参照〕がある。
しかし、三塩化イリジウム水和物を出発原料とする方法は、上記のように収率よく得られることが報告されているが、実際に行ってみるとこのような高収率で得られることは殆どなく、30%以下になることが多い。しかも、市販の三塩化イリジウム水和物における水の量は、供給者によって、さらに製品ロットにより一定でないために、ジクロロペンタメチルシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造収率は大きく変動しているのが実状であった。
特表2003−507353号公報 特開平11−246584号公報 特開2001−181841号公報 特開2002−114795号公報 カン(J.W.Kang)他2名、アメリカ化学会雑誌(Journal of the American Chemical Society)、22巻、5975頁、1969年 ホワイト(C.White)他2名、インオーガニックシンセシス(Inorganic Synthsis)、29巻、230頁、1992年 実験化学講座18・有機金属錯体、334頁、丸善(株)刊、1991年
かかる観点から、本発明の目的は、イリジウム金属錯体製造の中間原料として重要なジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーを、確実に収率良く製造する方法を提供することにある。
本発明者らは、ハロゲン化イリジウム酸を用いることにより上記問題点が解決され、常に安定して高収率でジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーが製造されることを見出し、本発明を達成するに至った。すなわち、本発明の請求項1は一般式(1)で表されるジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法に係り、ハロゲン化イリジウム酸と一般式(2)のシクロペンタジエン類を溶剤中、30〜150℃で反応させることからなっている。
Figure 0004521632
尚、一般式(1)(2)において、XはCl、Br、Iから選ばれ、R、R、R、R、Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基である。
請求項2に係るジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法は、請求項1における一般式(1)、一般式(2)において、XがClであり、R、R、R、R、Rがいずれもメチル基であるものである。
請求項3に係るジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法は、請求項1における溶剤は、炭素数1〜3のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドから選ばれる一種以上である。
請求項4に係るジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法は、請求項1における溶剤は、メタノールが選ばれる。
本発明の効果として、ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーが、確実に高い収率で製造され、高価なイリジウムを無駄なく使用できる。
本発明のジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーは、上記一般式(1)で表される。式中のXは、Cl、Br、Iから選ばれるハロゲン原子であり、好ましくはClである。R、R、R、R、Rはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基であり、特にR、R、R、R、Rの全てが炭素数1〜6個のアルキル基であるペンタアルキルシクロペンタジエンは、分子中のシクロペンタジエン環にアルキル基による電子供与性によりイリジウム錯体を安定化させることができることから好ましい。また、炭素数1〜6個のアルキル基は、メチル基あるいはエチル基が製造のし易さから特に好ましい。
本発明は、一般式(1)のジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーを、ハロゲン化イリジウム酸と一般式(2)のシクロペンタジエン類との反応で製造され、その反応式は下記で示される。
Figure 0004521632
反応は、上記反応式からも理解されるようにハロゲン化イリジウム酸と一般式(2)のシクロペンタジエン類を1:1モル比で作用させればよい。しかし、イリジウムは非常に高価であるので、出来るだけ短い反応時間内にイリジウムに対して反応を完璧に進行させるためには、シクロペンタジエン類を多くして、ハロゲン化イリジウム酸と一般式(2)のシクロペンタジエン類を1:(1.5〜4)モル比程度で行うことが好ましい。
反応は溶剤中で行われる。溶剤は、ハロゲン化イリジウム酸と一般式(2)のシクロペンタジエン類が共に溶解し、かつハロゲン化イリジウム酸と反応しないものであればよく、好ましい溶剤の例を挙げると、炭素数1〜3のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドがある。溶剤は、一種類単独でもよく、あるいは二種以上の混合溶剤でもよい。上記溶剤のうち、メタノール、エタノールが、常圧沸点で還流させて反応ができること、反応生成物の分離のし易さの点から最も好ましい。溶剤の量は、ハロゲン化イリジウム酸と一般式(2)のシクロペンタジエン類が共に溶解し得る量であればよい。
反応温度は、30〜150℃、好ましくは60〜80℃である。30℃未満でも反応は進むが反応速度が遅く実用的でないことがあり、また150℃を超える温度では反応が急速に進行し過ぎて生成物の純度が劣ることがある。反応時間は、反応温度との関連で決められるが、通常20〜50時間であり、50時間以上となっても特に反応上の弊害はない。
反応終了後の生成物の単離方法は、特に限定するものではないが、例えば、反応混合物を冷却して生成物を析出させる、用いる溶剤の種類や量によって析出が不充分の場合には溶剤を蒸発、好ましくは減圧にて濃縮した後冷却して析出させて得ることができる。析出した生成物は、ろ過、少量の溶剤で洗浄した後乾燥する。
アルゴン雰囲気下において、塩化イリジウム酸〔田中貴金属工業(株)製品〕6.3g(15.4mmol)とペンタメチルシクロペンタジエン〔関東化学(株)、試薬〕5.6g(41.1mmol)をメタノール20mLに入れ、45時間還流させた。反応混合物を0℃に冷却させ、析出した固体をろ過し、少量のエチルエーテルで洗浄、乾燥して目的とするジクロロペンタメチルシクロペンタジエニルイリジウムダイマーを得た。収量6.1g(収率;99%)、H−NMR(CDCl)δ;1.59。
同様にして、塩化イリジウム酸とペンタメチルシクロペンタジエンの反応比、溶剤の種類と量、反応温度、反応時間を変えて反応を行い、反応生成物の生成収率を比較した。この結果を表1に示す。
Figure 0004521632
この結果から、本発明における塩化イリジウム酸とペンタメチルシクロペンタジエンの反応では、反応モル比、反応溶剤、反応温度を変えても生成収率の変動が少なく、いずれの場合もほぼ定量的に得られることがわかった。
各種イリジウム錯体の製造中間体であるジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーを、収率を確実にほぼ定量的に製造できるので、高価なイリジウムを有効に使用でき、この結果ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーを安価に製造できる。

Claims (4)

  1. 一般式(1)〔式中、XはCl、Br、Iから選ばれ、R 、R 、R 、R 、R はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基である。〕で表されるジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法において、ハロゲン化イリジウム酸と一般式(2)〔式中、R 、R 、R 、R 、R はそれぞれ式(1)に相当した水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基である。〕のシクロペンタジエン類を溶剤中、30〜150℃で反応させることを特徴とするジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法。
    Figure 0004521632
  2. 前記一般式(1)、前記一般式(2)において、XがClであり、R、R、R、R、Rがいずれもメチル基であることを特徴とする請求項1記載のジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法。
  3. 前記溶剤は、炭素数1〜3のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、アセトニトリル、プロピオニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドから選ばれる一種以上であることを特徴とする請求項1記載のジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法。
  4. 前記溶剤は、メタノールであることを特徴とする請求項1記載のジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法。
JP2004095736A 2004-03-29 2004-03-29 ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法 Expired - Fee Related JP4521632B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004095736A JP4521632B2 (ja) 2004-03-29 2004-03-29 ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004095736A JP4521632B2 (ja) 2004-03-29 2004-03-29 ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005281169A JP2005281169A (ja) 2005-10-13
JP4521632B2 true JP4521632B2 (ja) 2010-08-11

Family

ID=35179947

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004095736A Expired - Fee Related JP4521632B2 (ja) 2004-03-29 2004-03-29 ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4521632B2 (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06247890A (ja) * 1993-02-24 1994-09-06 Sumitomo Metal Mining Co Ltd アセチルアセトンイリジウム塩溶液の製造方法
JPH07316176A (ja) * 1994-05-20 1995-12-05 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk トリス(アセチルアセトナト)イリジウム(iii) の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06247890A (ja) * 1993-02-24 1994-09-06 Sumitomo Metal Mining Co Ltd アセチルアセトンイリジウム塩溶液の製造方法
JPH07316176A (ja) * 1994-05-20 1995-12-05 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk トリス(アセチルアセトナト)イリジウム(iii) の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005281169A (ja) 2005-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Rubio et al. Toward a general method for CCC N-heterocyclic carbene pincer synthesis: Metallation and transmetallation strategies for concurrent activation of three C–H bonds
Gichumbi et al. Application of arene ruthenium (II) complexes with pyridine-2-carboxaldimine ligands in the transfer hydrogenation of ketones
JP2010163441A (ja) 有機ルテニウム化合物およびその製造方法
KR101732834B1 (ko) 도데카카르보닐 트리루테늄의 제조 방법
Pavlik et al. Synthesis and reactivity of neutral vinylidene and σ-alkynyl complexes containing the hemilabile ligand Ph2PCH2CH2OMe: Part 16. Ruthenium tris (pyrazolyl) borate complexes
US11008322B1 (en) Method of synthesizing (1S,12bS) lactam ester compound
TWI532869B (zh) 由釕錯合物所構成的化學蒸鍍原料及其製造方法和化學蒸鍍法
JP4521632B2 (ja) ジハロゲノシクロペンタジエニルイリジウムダイマーの製造方法
TWI588151B (zh) 由有機釕化合物構成的化學蒸鍍用原料及使用該化學蒸鍍用原料之化學蒸鍍法
Karakovskaya et al. Synthesis, structure and thermal investigation of a new volatile iridium (I) complex with cyclooctadiene and methoxy-substituted β-diketonate
JP4672897B2 (ja) ビス(シクロペンタジエニル)ルテニウム誘導体の製造方法
Miura et al. Synthesis and thermal properties of salts comprising cationic bis (oxazoline)-AuIII complexes and fluorinated anions
JP5656474B2 (ja) 脂肪族光学活性フルオロアルコールの製造方法
JP4512248B2 (ja) ビス(アルキルシクロペンタジエニル)ルテニウムの製造方法及びその方法により製造されるビス(アルキルシクロペンタジエニル)ルテニウム並びにルテニウム薄膜又はルテニウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法
JP5488786B2 (ja) アザボラシクロペンテン化合物の製造方法及びその合成中間体
JP2001213819A (ja) シクロファン誘導体の製法
US5824830A (en) Ruthenium-phosphine complex
US7012150B2 (en) Method of manufacturing bis(cyclopentadienly)ruthenium and bis(cyclopentadienyl)ruthenium manufactured by the same
KR101306812B1 (ko) 신규의 텅스텐 실릴아미드 화합물, 이의 제조방법 및 이를 이용하여 박막을 형성하는 방법
JP4319748B2 (ja) ビス(エチルシクロペンタジエニル)ルテニウムの製造方法
Nomoto et al. Photoinduced Regio-and Stereoselective Introduction of Phenylchalcogeno Moieties to Ethynylferrocene
CN107312045A (zh) 一种取代环戊二烯基茂金属化合物的制备方法
JP4193631B2 (ja) β−ジケトナト銅錯体の製造方法
JP2018162492A (ja) イリジウム錯体からなる化学蒸着用原料及び該化学蒸着用原料を用いた化学蒸着法
Chai et al. Synthesis, structure and characterization of M Sn (M= Mo, W) bonded heterobimetallic complexes containing bis (pyrazol-1-yl) methane ligands

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070207

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091009

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091020

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091216

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20100318

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100422

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100512

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4521632

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130604

Year of fee payment: 3

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees