JP4496194B2 - Wafer cassette auxiliary equipment - Google Patents

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Description

本発明は一種のウエハカセット補助装置に関する。特に一種のウエハフレームを取り出し或いは上はカセットにセットする時にウエハが接触せず、摩擦や傷の恐れがないウエハカセット補助装置に係る。   The present invention relates to a kind of wafer cassette auxiliary device. In particular, the present invention relates to a wafer cassette auxiliary device in which a wafer does not come into contact when a kind of wafer frame is taken out or set on a cassette, and there is no risk of friction or scratches.

研磨後のウエハはウエハフレーム(wafer frame) 上に粘着し、ウエハカセット(cassette)にセットされ、運送され、ダイシング(dicing)、ダイス(die) の(pick-up) 取り出しなどの後工程を行う。
ウエハフレーム１００の正面図である図１に示すように、ウエハ１０１はウエハシート(wafer sheet/tape)１０２により該ウエハフレーム１００の表面に粘着される。
さらにウエハカセット１０３の俯瞰図と立体図である図２、図３に示すように、該ウエハカセット１０３両側の内側壁１０４は多数組の相互に対称するウエハカセットスロット(slot)１０５を備え、該ウエハフレーム１００は該ウエハカセットスロット１０５に従い該ウエハカセット１０３内にスライド設置される。すべての該ウエハフレーム１００が該ウエハカセット１０３にセットされると、操作人員は回転ハンドル１０６を回転し引き出し、持ち上げることにより、該ウエハカセット１０３を運送する。 The polished wafer adheres onto the wafer frame, is set in a wafer cassette, transported, and undergoes post-processing such as dicing and picking up the die. .
As shown in FIG. 1, which is a front view of the wafer frame 100, the wafer 101 is adhered to the surface of the wafer frame 100 by a wafer sheet / tape 102.
Further, as shown in FIGS. 2 and 3 which are an overhead view and a three-dimensional view of the wafer cassette 103, the inner side walls 104 on both sides of the wafer cassette 103 are provided with a plurality of pairs of mutually symmetrical wafer cassette slots 105, The wafer frame 100 is slid and installed in the wafer cassette 103 according to the wafer cassette slot 105. When all the wafer frames 100 are set in the wafer cassette 103, an operator personnel carries the wafer cassette 103 by rotating, pulling out and lifting the rotary handle 106.

またダイシング(dicing)作業の前後においては、通常は操作人員の手動により該ウエハフレーム１００を取り出し、サンプル検査を行う必要がある。しかし、該ウエハカセットスロット１０５の間隔距離或いはスロットの幅は該ウエハフレーム１００の厚みより大きい( 通常は約３倍) ため、該ウエハフレーム１００を取り出し或いは設置の過程において、隣り合った該ウエハフレーム１００はぶつかり、摩擦し易く、該上は１０１に傷を作ってしまう。
上記問題に鑑み、コストの点からウエハカセットを再設計、再製造しないという条件において、一種の装置を提出し、ウエハフレームを取り出し、ウエハカセットにセットする時に補助し、ウエハがぶつかり、摩擦し、傷を負うことを防止する。 Before and after the dicing operation, it is usually necessary to take out the wafer frame 100 manually by an operator and perform sample inspection. However, since the interval distance or slot width of the wafer cassette slots 105 is larger than the thickness of the wafer frame 100 (usually about 3 times), the wafer frames 100 adjacent to each other in the process of taking out or installing the wafer frame 100 can be obtained. 100 hits and is easy to rub, and on top of that it creates a scratch on 101.
In view of the above problems, a type of device is submitted under the condition that the wafer cassette is not redesigned and remanufactured from the viewpoint of cost, assisting when taking out the wafer frame and setting it in the wafer cassette, the wafer hits and rubs, Preventing injuries.

本発明は下記のウエハカセット補助装置を提供する。
それはウエハカセット補助装置を提供し、ウエハは取り出し或いは設置時に接触、摩擦、或いは傷がつく恐れを払拭することができ、
すなわちそれは少なくともガイドレールフレームを含み、
該ガイドレールフレームは第一ガイドレール槽板、第二ガイドレール槽板、少なくとも１個の連接アームを含み、
該ガイドレールフレームは該各連接アームによりそれぞれ該第一ガイドレール槽板と該第二ガイドレール槽板の側辺に連接し、しかも該第一ガイドレール槽板と該第二ガイドレール槽板に、ウエハカセットの各ウエハカセットスロットの位置に対応するガイドレール槽が設置され、さらに該各ガイドレール槽の一端の幅は該ガイドレール槽中央に向かい徐々に縮小する形態を呈し、該ガイドレールフレームを該ウエハカセットに接続することができ、
本発明のウエハカセット補助装置により、ウエハカセットをウエハフレームから取り出す、或いはセットする時、ガイドレール槽の幅によりウエハフレームを導引するため、ウエハは取り出し或いは設置の角度により接触、摩擦、或いは傷がつく恐れを払拭することができることを特徴とするウエハカセット補助装置である。 The present invention provides the following wafer cassette auxiliary apparatus.
It provides a wafer cassette auxiliary device, the wafer can be removed from contact, friction or scratching when taken out or installed,
That is, it includes at least a guide rail frame,
The guide rail frame includes a first guide rail tank plate, a second guide rail tank plate, at least one connecting arm,
The guide rail frame is connected to the side edges of the respective said first guide rail tank plate and said second guide rail tank plate by respective articulated arm, yet the said first guide rail tank plate and said second guide rail tank plate , guide rail tank corresponding to the position of the wafer cassette slot of the wafer cassette is installed, further the width of one end of the respective guide rail tank exhibits a form which gradually reduced toward the guide rail tank center, the guide rail frame Can be connected to the wafer cassette,
When the wafer cassette is taken out from the wafer frame or set by the wafer cassette auxiliary device of the present invention, the wafer frame is guided by the width of the guide rail tank. It is a wafer cassette auxiliary device characterized by being able to wipe out the fear of being sticky.

請求項１の発明は、ガイドレールフレーム、底台、側壁、可動接続器を含み、
該ガイドレールフレームは第一ガイドレール槽板、第二ガイドレール槽板、少なくとも１個の連接アームを含み、
該各連接アームはそれぞれ該第一ガイドレール槽板と該第二ガイドレール槽板の側辺に接続され、該第一ガイドレール槽板と該第二ガイドレール槽板はウエハカセットに設置した複数のウエハカセットスロットにそれぞれ対応する複数のガイドレール槽を有し、該ガイドレール槽の一端の幅は該ガイドレール槽中央に向かい徐々に縮小する形態を呈し、該ガイドレールフレームが該ウエハカセットに接続されることで、該ガイドレール槽はその対応する該ウエハカセットスロットに接続され、
該底台は該ウエハカセットを定位し、
該側壁は該底台の側辺に設置し、
該可動接続器の一端は該側壁に接続し、反対端は該ガイドレールフレームに接続し、これにより該ガイドレールフレームは該側壁に対し回転が可能で、該ガイドレールフレームの該各ガイドレール槽はそれが対応するウエハカセットスロットにそれぞれ接続することを特徴とするウエハカセット補助装置としている。
請求項２の発明は、請求項１記載のウエハカセット補助装置において、前記可動接続器の反対端には該第一ガイドレール槽板、該第二ガイドレール槽板、該連接アームの内の一つを選択し連接することを特徴とするウエハカセット補助装置としている。
請求項３の発明は、請求項２記載のウエハカセット補助装置において、前記ウエハカセット補助装置はさらに斜度調整機構を含み、それは該底台と相互に組み合わせ、該底台と該斜度調整機構の相対角度を調整することを特徴とするウエハカセット補助装置としている。
請求項４の発明は、請求項３記載のウエハカセット補助装置において、前記斜度調整機構は少なくとも１個の調整壁を含み、該各調整壁の一端は該底台に可動接続し、該底台に対し回転することを特徴とするウエハカセット補助装置としている。
請求項５の発明は、請求項４記載のウエハカセット補助装置において、前記調整壁の反対端には調整槽を設置し、しかも該底台には該調整槽に可動貫通可能な調整ボルトを設置し、調整ネジと該調整ボルトの相互組み合わせにより、該底台と該斜度調整機構の相対角度を固定可能であることを特徴とするウエハカセット補助装置としている。
請求項６の発明は、請求項１記載のウエハカセット補助装置において、前記ガイドレール槽一端の幅は該ウエハカセットスロットの幅に連動し、該ガイドレール槽の反対端の幅は該ガイドレール槽の中央に向かい徐々に縮小する形態を呈することを特徴とするウエハカセット補助装置としている。
請求項７の発明は、請求項１記載のウエハカセット補助装置において、前記ガイドレール槽中央の幅は該ウエハカセットスロットの幅より小さいことを特徴とするウエハカセット補助装置としている。
請求項８の発明は、請求項１記載のウエハカセット補助装置において、前記ウエハカセット補助装置はサポートブロックを含み、該サポートブロックは該側壁の一面に設置し、該ガイドレールフレームの回転角度を制限することを特徴とするウエハカセット補助装置としている。 The invention of claim 1 includes guide rails frame, bottom base, side walls, a movable connector,
The guide rail frame first Ichiga Idoreru vessel plate, the second guide rail tank plate comprises at least one articulated arm,
Multiple respective articulated arms are respectively connected to the side of said first guide rail tank plate and said second guide rail tank plate, said first guide rail tank plate and said second guide rail tank plate installed in the wafer cassette A plurality of guide rail tanks respectively corresponding to the wafer cassette slots , and the width of one end of the guide rail tank gradually decreases toward the center of the guide rail tank , and the guide rail frame is attached to the wafer cassette. By being connected, the guide rail tank is connected to its corresponding wafer cassette slot,
The bottom platform localizes the wafer cassette,
The side wall is installed on the side of the base,
One end of the movable connector is connected to the side wall, and the opposite end is connected to the guide rail frame so that the guide rail frame can be rotated with respect to the side wall. The wafer cassette auxiliary device is characterized in that it is connected to the corresponding wafer cassette slot .
According to a second aspect of the present invention, in the wafer cassette auxiliary apparatus according to the first aspect, one of the first guide rail tank plate, the second guide rail tank plate, and the connecting arm is provided at the opposite end of the movable connector. The wafer cassette auxiliary device is characterized in that one is selected and connected.
According to a third aspect of the present invention, in the wafer cassette auxiliary device according to the second aspect, the wafer cassette auxiliary device further includes an inclination adjusting mechanism, which is combined with the base, and the base and the inclination adjusting mechanism. The wafer cassette auxiliary device is characterized in that the relative angle of the wafer cassette is adjusted.
According to a fourth aspect of the present invention, in the wafer cassette auxiliary apparatus according to the third aspect, the inclination adjusting mechanism includes at least one adjusting wall, and one end of each adjusting wall is movably connected to the bottom base, The wafer cassette auxiliary device is characterized by rotating with respect to the table.
According to a fifth aspect of the present invention, in the wafer cassette auxiliary apparatus according to the fourth aspect, an adjustment tank is installed at the opposite end of the adjustment wall, and an adjustment bolt that can be moved through the adjustment tank is installed at the bottom. The wafer cassette auxiliary device is characterized in that the relative angle between the base and the inclination adjusting mechanism can be fixed by a combination of the adjusting screw and the adjusting bolt.
According to a sixth aspect of the present invention, in the wafer cassette auxiliary apparatus according to the first aspect, the width of one end of the guide rail tank is linked to the width of the wafer cassette slot, and the width of the opposite end of the guide rail tank is the guide rail tank. The wafer cassette auxiliary device is characterized in that it gradually decreases toward the center of the wafer cassette.
A seventh aspect of the present invention is the wafer cassette auxiliary apparatus according to the first aspect, wherein the width of the center of the guide rail tank is smaller than the width of the wafer cassette slot.
According to an eighth aspect of the present invention, in the wafer cassette auxiliary apparatus according to the first aspect, the wafer cassette auxiliary apparatus includes a support block, and the support block is provided on one surface of the side wall to limit a rotation angle of the guide rail frame. The wafer cassette auxiliary device is characterized by that.

本発明のウエハカセット補助装置により、使用者はウエハカセットをウエハフレームから取り出す、或いはセットする時、ガイドレール槽の幅によりウエハフレームを導引するため、ウエハは取り出し或いは設置の角度により接触、摩擦、或いは傷がつく恐れを払拭することができる。   With the wafer cassette auxiliary device of the present invention, when the user removes or sets the wafer cassette from the wafer frame, the wafer frame is guided by the width of the guide rail tank. Or, the fear of scratching can be eliminated.

本発明の実施例について以下に説明するが、本発明は他の実施例にも広く応用することができ、しかも本発明の範囲を限定するものではなく、以下の特許請求の範囲を基準とするものである。さらに本説明書中の各部品の異なる部分はサイズに基づき作画されていない。本発明への理解を促進するため、あるサイズは他の関連サイズと比較し、明確に描写するため誇張してある。   Embodiments of the present invention will be described below, but the present invention can be widely applied to other embodiments, and does not limit the scope of the present invention, and is based on the following claims. Is. Furthermore, different parts of each part in this manual are not drawn based on size. To facilitate an understanding of the present invention, certain sizes are exaggerated for clarity and delineation compared to other related sizes.

本発明実施例のウエハカセット補助装置２０１の立体表示図である図４と図４実施例がウエハカセットを定位する立体表示図である図５に示すように、その主要構造は少なくとも底台２０９、側壁２０６、ガイドレールフレーム２０７、可動接続器２１３、サポートブロック２０８を含む。
該底台２０９は複数のウエハカセットスロット１０５を設置するウエハカセット１０３を定位する。
該側壁２０６は該底台２０９の片側に設置する。
該ガイドレールフレーム２０７は第一ガイドレール槽板２０２、第二ガイドレール槽板２０３、少なくとも１個の連接アーム２０５を含む。該各連接アーム２０５はそれぞれ該第一ガイドレール槽板２０２と該第二ガイドレール槽板２０３の側辺に連接し、しかも該第一ガイドレール槽板２０２と該第二ガイドレール槽板２０３に、該各ウエハカセットスロット１０５の位置にそれぞれ対応するガイドレール槽２０４が設置されている。
該可動接続器( 図６に示す２１３など) の一端には側壁２０６を連接し、反対端にはガイドレールフレーム２０７を連接する。これにより該ガイドレールフレーム２０７は該側壁２０６に対し回転し、該ガイドレールフレーム２０７の各ガイドレール槽２０４をそれが対応するウエハカセットスロット１０５にそれぞれ接続する。該可動接続器２１３が該ガイドレールフレーム２０７に連接する位置は該第一ガイドレール槽板２０１、該第二ガイドレール槽板２０３、該連接アーム２０５の内の一つを選択することができる。いずれの場合にも同様の効果を達成可能で、該ガイドレールフレーム２０７は該側壁２０６に対し回転する。
該サポートブロック２０８は該側壁２０６の一面に設置し、該ガイドレールフレーム２０７の回転角度を制限する。例えば、該ガイドレールフレーム２０７が回転され持ち上がり直立状態となった時( 図４参照) には、該ガイドレールフレーム２０７が回転し過ぎないよう、該サポートブロック２０８がサポートする。 As shown in FIG. 4 which is a three-dimensional display diagram of the wafer cassette auxiliary device 201 of the embodiment of the present invention and FIG. 5 which is a three-dimensional display diagram in which the embodiment of FIG. A side wall 20 6 , a guide rail frame 207, a movable connector 213, and a support block 208 are included.
Bottom platform 209 to localize a wafer cassette 103 to install a plurality of wafer cassettes slot 105.
The side wall 206 is installed on one side of the base 209.
The guide rail frame 207 includes a first guide rail tank plate 202, a second guide rail tank plate 203, and at least one connecting arm 205. Each respective articulated arm 205 is connected to the side of said first guide rail tank plate 202 and said second guide rail tank plate 203, moreover to said first guide rail tank plate 202 and said second guide rail tank plate 203 A guide rail tank 204 corresponding to the position of each wafer cassette slot 105 is installed .
A side wall 206 is connected to one end of the movable connector (such as 213 shown in FIG. 6), and a guide rail frame 207 is connected to the opposite end. Thus is the guide rail frame 207 rotates against the side wall 206, respectively connected to the wafer cassette slot 105 of each guide rail tank 204 of the guide rail frame 207 which corresponds. One of the first guide rail tank plate 201, the second guide rail tank plate 203, and the connecting arm 205 can be selected as a position where the movable connector 213 is connected to the guide rail frame 207. Can achieve the same effect in any case, the guide rail frame 207 is rotated against the side wall 206.
The support block 208 is installed on one side of the side wall 206 to limit the rotation angle of the guide rail frame 207. For example, the support block 208 supports the guide rail frame 207 so that the guide rail frame 207 does not rotate too much when the guide rail frame 207 is rotated and lifted upright (see FIG. 4).

本発明のウエハカセット補助装置はさらに斜度調整機能を含み、それは該底台２０９と相互に組み合わされ、該底台２０９と該斜度調整機構の相対角度を制御する。該斜度調整機構は少なくとも１個の調整壁２１０を含む。
該調整壁２１０の一端は該底台２０９に可動接続し、該底台２０９に対し回転する。該調整壁２１０の反対端には調整槽２１２を設置し、しかも該底台２０９は該調整槽２１２を可動貫通する調整ボルト２１１を設置する。該調整ボルト２１１と調整ネジの相互対応により、該底台２０９と斜度調整機構の相対角度の固定を強化することができる。該斜度調整機構は主に該ウエハカセット１０３上のウエハフレーム１００を該ウエハカセットスロット１０５の同一辺に同時に接触させ、これにより該各ウエハフレーム１００の相互の間隔距離は最大の間隔距離を保持可能で、該ウエハフレーム１００の相互接触、摩擦により、ウエハ１０１に傷が付く状況を効果的に防止することができる。 The wafer cassette auxiliary apparatus of the present invention further includes an inclination adjusting function, which is combined with the base 209 to control the relative angle between the base 209 and the inclination adjusting mechanism. The inclination adjusting mechanism includes at least one adjusting wall 210.
One end of the adjustment wall 210 is movable connected to the bottom base 209, rotates against the bottom base 209. An adjustment tank 212 is installed at the opposite end of the adjustment wall 210, and an adjustment bolt 211 that moves through the adjustment tank 212 is installed on the bottom base 209. The mutual correspondence between the adjusting bolt 211 and the adjusting screw can strengthen the fixing of the relative angle between the base 209 and the inclination adjusting mechanism. The inclination adjusting mechanism mainly brings the wafer frame 100 on the wafer cassette 103 into contact with the same side of the wafer cassette slot 105 at the same time, thereby maintaining the maximum distance between the wafer frames 100. It is possible to effectively prevent the wafer 101 from being damaged by mutual contact and friction of the wafer frame 100.

続いて図５のガイドレールフレーム２０７がウエハカセット１０３上方まで回転する立体表示図である図６に示すように、この時、該ウエハフレーム１００は該ガイドフレーム２０７のガイドレール槽２０４上方より挿入し、続いて、該ウエハカセット１０３のウエハカセットスロット１０５にスライドし入る。
反対に該ウエハフレーム１００を該ウエハカセット１０３内から取り出す時には、該ガイドレール槽２０４の導引により、該ガイドレール槽２０４上方から取り出すことができる。 Subsequently, as shown in FIG. 6 which is a three-dimensional display view in which the guide rail frame 207 of FIG. 5 rotates to above the wafer cassette 103, at this time, the wafer frame 100 is inserted from above the guide rail tank 204 of the guide frame 207. Subsequently, it slides into the wafer cassette slot 105 of the wafer cassette 103.
On the contrary, when the wafer frame 100 is taken out from the wafer cassette 103, it can be taken out from above the guide rail tank 204 by guiding the guide rail tank 204.

さらにガイドレールフレーム２０７がウエハカセット１０３上方まで回転する時のガイドレール槽２０４とウエハカセットスロット１０３の拡大表示図である図７に示すように、該ガイドレールフレーム２０７に設置する該各ガイドレール槽２０４はおよそ平行に排列される。該各ガイドレール槽２０４の該ウエハカセットスロット１０５に向かう一端の幅は、該ウエハカセットスロット１０５の幅と同一で、これにより該ウエハフレーム１００はスムーズに該ウエハカセットスロット１０５中にスライドし入る。しかも該ガイドレール槽２０４の幅は該ガイドレール槽２０４中央が徐々に縮小する形態を呈するため、該ガイドレール槽２０４中央の幅は該ウエハカセットスロット１０５の幅より小さい。別に該ガイドレール槽２０４反対端の幅も、該ガイドレール槽２０４中央は徐々に縮小する形態を呈するため、該ガイドレール槽２０４両端の幅はより大きく、該ウエハフレーム１００の該ガイドレール槽２０４への進入を導引する作用を備える。
すなわち、該ガイドレール槽２０４の中央の幅がより小さいため、ウエハフレーム１００を取り出し或いは設置する過程において、一般操作員を効果的に補助することができ、隣り合ったウエハを平行に保ち、該各ウエハフレーム１００が該ウエハ１０１と摩擦し、該ウエハ１０１に傷が付く状況の発生を防止することができる。 Further, as shown in FIG. 7 which is an enlarged display view of the guide rail tank 204 and the wafer cassette slot 103 when the guide rail frame 207 is rotated to above the wafer cassette 103, each guide rail tank installed on the guide rail frame 207 is shown. 204 are arranged approximately in parallel. The width of one end of each guide rail tank 204 toward the wafer cassette slot 105 is the same as the width of the wafer cassette slot 105, so that the wafer frame 100 smoothly slides into the wafer cassette slot 105. In addition, the width of the guide rail tank 204 is such that the center of the guide rail tank 204 is gradually reduced. Therefore, the width of the center of the guide rail tank 204 is smaller than the width of the wafer cassette slot 105. Separately, the width of the opposite end of the guide rail tank 204 is gradually reduced at the center of the guide rail tank 204, so that the width of both ends of the guide rail tank 204 is larger, and the guide rail tank 204 of the wafer frame 100 is larger. It has the effect of guiding the approach to the.
That is, since the center width of the guide rail tank 204 is smaller, it is possible to effectively assist a general operator in the process of taking out or installing the wafer frame 100, keeping adjacent wafers in parallel, The occurrence of a situation in which each wafer frame 100 is rubbed with the wafer 101 and the wafer 101 is damaged can be prevented.

以上は本発明の最適実施例で、本発明の特許申請の範囲を限定するものではない。本発明が掲示する精神を離脱しないという条件において完成された同等の効果を持つ他の変化或いは修飾はすべて特許申請の範囲に含まれるものとする。例えば、該ガイドレールフレーム２０７を直接該ウエハカセット１０３上方に嵌設し、操作を行い、上記実施手のような回転方式でない場合もそうである。また、該ウエハカセット補助装置２０１には側壁２０６を設置せず、さらには底台２０９を含まなくても良く、他の公知の昇降機機構により該ガイドレールフレーム２０７を持ち上げ、該ウエハカセット１０３上のウエハカセットスロット１０５に対応させれば良い。さらには、該ウエハカセット１０３の傾斜角度は他の方法によっても得ることができ、例えば作業台の傾斜角度を調整し、ウエハカセットを傾斜させることもできる。   The above is the optimum embodiment of the present invention and does not limit the scope of the patent application of the present invention. All other changes or modifications having equivalent effects completed under the condition that the spirit of the present invention is not departed from shall be included in the scope of patent application. For example, this is also the case when the guide rail frame 207 is directly fitted over the wafer cassette 103 and operated, and the rotation method is not the same as that of the above-mentioned hand. Further, the wafer cassette auxiliary device 201 does not have to be provided with the side wall 206 and further does not need to include the bottom 209. The guide rail frame 207 is lifted by another known elevator mechanism, What is necessary is just to make it respond | correspond to the wafer cassette slot 105. FIG. Furthermore, the tilt angle of the wafer cassette 103 can be obtained by other methods. For example, the tilt angle of the work table can be adjusted to tilt the wafer cassette.

ウエハフレームの正面図である。It is a front view of a wafer frame. ウエハフレームの俯瞰図である。It is an overhead view of a wafer frame. ウエハフレームの立体図である。It is a three-dimensional view of a wafer frame. 本発明実施例のウエハカセット補助装置の立体表示図である。It is a three-dimensional display figure of the wafer cassette auxiliary | assistance apparatus of this invention Example. 図４実施例がウエハカセットを定位する立体表示図である。FIG. 4 is a three-dimensional display diagram in which the embodiment of FIG. 4 localizes the wafer cassette. 図５のガイドレールフレームがウエハカセット上方まで回転する立体表示図である。FIG. 6 is a three-dimensional display diagram in which the guide rail frame of FIG. 5 rotates to the upper side of the wafer cassette. ガイドレールフレームがウエハカセット上方まで回転する時のガイドレール槽とウエハカセットスロットの拡大表示図である。It is an enlarged display view of a guide rail tank and a wafer cassette slot when the guide rail frame rotates to above the wafer cassette.

１００ ウエハフレーム
１０１ ウエハ
１０２ ウエハシート
１０３ ウエハカセット
１０４ 内側壁
１０５ ウエハカセットスロット
１０６ 回転ハンドル
２０１ ウエハカセット補助装置
２０２ 第一ガイドレール槽板
２０３ 第二ガイドレール槽板
２０４ ガイドレール槽
２０５ 連接アーム
２０６ 側壁
２０７ ガイドレールフレーム
２０８ サポートブロック
２０９ 底台
２１０ 調整壁
２１１ 調整ボルト
２１２ 調整槽
２１３ 可動接続器 100 Wafer Frame 101 Wafer 102 Wafer Sheet 103 Wafer Cassette 104 Inner Wall 105 Wafer Cassette Slot 106 Rotating Handle 201 Wafer Cassette Auxiliary Device 202 First Guide Rail Tank Plate 203 Second Guide Rail Tank Plate 204 Guide Rail Tank 205 Connecting Arm 206 Side Arm 207 Guide rail frame 208 Support block 209 Bottom base 210 Adjustment wall 211 Adjustment bolt 212 Adjustment tank 213 Movable connector

Claims (8)

ガイドレールフレーム、底台、側壁、可動接続器を含み、
該ガイドレールフレームは第一ガイドレール槽板、第二ガイドレール槽板、少なくとも１個の連接アームを含み、
該各連接アームはそれぞれ該第一ガイドレール槽板と該第二ガイドレール槽板の側辺に接続され、該第一ガイドレール槽板と該第二ガイドレール槽板はウエハカセットに設置した複数のウエハカセットスロットにそれぞれ対応する複数のガイドレール槽を有し、該ガイドレール槽の一端の幅は該ガイドレール槽中央に向かい徐々に縮小する形態を呈し、該ガイドレールフレームが該ウエハカセットに接続されることで、該ガイドレール槽はその対応する該ウエハカセットスロットに接続され、
該底台は該ウエハカセットを定位し、
該側壁は該底台の側辺に設置し、
該可動接続器の一端は該側壁に接続し、反対端は該ガイドレールフレームに接続し、これにより該ガイドレールフレームは該側壁に対し回転が可能で、該ガイドレールフレームの該各ガイドレール槽はそれが対応するウエハカセットスロットにそれぞれ接続することを特徴とするウエハカセット補助装置。 It includes guide rails frame, bottom base, side walls, a movable connector,
The guide rail frame first Ichiga Idoreru vessel plate, the second guide rail tank plate comprises at least one articulated arm,
Multiple respective articulated arms are respectively connected to the side of said first guide rail tank plate and said second guide rail tank plate, said first guide rail tank plate and said second guide rail tank plate installed in the wafer cassette A plurality of guide rail tanks respectively corresponding to the wafer cassette slots , and the width of one end of the guide rail tank gradually decreases toward the center of the guide rail tank , and the guide rail frame is attached to the wafer cassette. By being connected, the guide rail tank is connected to its corresponding wafer cassette slot,
The bottom platform localizes the wafer cassette,
The side wall is installed on the side of the base,
One end of the movable connector is connected to the side wall, and the opposite end is connected to the guide rail frame so that the guide rail frame can be rotated with respect to the side wall. A wafer cassette auxiliary device characterized in that it is connected to a corresponding wafer cassette slot . 請求項１記載のウエハカセット補助装置において、前記可動接続器の反対端には該第一ガイドレール槽板、該第二ガイドレール槽板、該連接アームの内の一つを選択し連接することを特徴とするウエハカセット補助装置。2. The wafer cassette auxiliary apparatus according to claim 1, wherein one of the first guide rail tank plate, the second guide rail tank plate, and the connecting arm is selected and connected to the opposite end of the movable connector. A wafer cassette auxiliary device. 請求項２記載のウエハカセット補助装置において、前記ウエハカセット補助装置はさらに斜度調整機構を含み、それは該底台と相互に組み合わせ、該底台と該斜度調整機構の相対角度を調整することを特徴とするウエハカセット補助装置。3. The wafer cassette auxiliary device according to claim 2, wherein the wafer cassette auxiliary device further includes an inclination adjusting mechanism, which is mutually combined with the base and adjusts a relative angle between the base and the inclination adjusting mechanism. A wafer cassette auxiliary device. 請求項３記載のウエハカセット補助装置において、前記斜度調整機構は少なくとも１個の調整壁を含み、該各調整壁の一端は該底台に可動接続し、該底台に対し回転することを特徴とするウエハカセット補助装置。4. The wafer cassette auxiliary apparatus according to claim 3, wherein the inclination adjusting mechanism includes at least one adjusting wall, and one end of each adjusting wall is movably connected to the base and rotates relative to the base. A wafer cassette auxiliary device. 請求項４記載のウエハカセット補助装置において、前記調整壁の反対端には調整槽を設置し、しかも該底台には該調整槽に可動貫通可能な調整ボルトを設置し、調整ネジと該調整ボルトの相互組み合わせにより、該底台と該斜度調整機構の相対角度を固定可能であることを特徴とするウエハカセット補助装置。5. The wafer cassette auxiliary apparatus according to claim 4, wherein an adjustment tank is installed at the opposite end of the adjustment wall, and an adjustment bolt that can move through the adjustment tank is installed at the bottom, and the adjustment screw and the adjustment A wafer cassette auxiliary device characterized in that a relative angle between the base and the inclination adjusting mechanism can be fixed by a combination of bolts. 請求項１記載のウエハカセット補助装置において、前記ガイドレール槽一端の幅は該ウエハカセットスロットの幅に連動し、該ガイドレール槽の反対端の幅は該ガイドレール槽の中央に向かい徐々に縮小する形態を呈することを特徴とするウエハカセット補助装置。2. The wafer cassette auxiliary apparatus according to claim 1, wherein the width of one end of the guide rail tank is linked to the width of the wafer cassette slot, and the width of the opposite end of the guide rail tank is gradually reduced toward the center of the guide rail tank. A wafer cassette auxiliary device characterized by exhibiting a form to perform. 請求項１記載のウエハカセット補助装置において、前記ガイドレール槽中央の幅は該ウエハカセットスロットの幅より小さいことを特徴とするウエハカセット補助装置。2. The wafer cassette auxiliary apparatus according to claim 1, wherein the width of the center of the guide rail tank is smaller than the width of the wafer cassette slot. 請求項１記載のウエハカセット補助装置において、前記ウエハカセット補助装置はサポートブロックを含み、該サポートブロックは該側壁の一面に設置し、該ガイドレールフレームの回転角度を制限することを特徴とするウエハカセット補助装置。2. The wafer cassette auxiliary device according to claim 1, wherein the wafer cassette auxiliary device includes a support block, and the support block is installed on one surface of the side wall to limit a rotation angle of the guide rail frame. Cassette auxiliary device.
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