JP4494045B2 - ビームホモジナイザ及びレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法 - Google Patents
ビームホモジナイザ及びレーザ照射装置、並びに半導体装置の作製方法 Download PDFInfo
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〔比較例〕
Claims (7)
- 非晶質半導体膜にレーザビームを照射することにより、前記非晶質半導体膜を結晶化し、
前記レーザビームは、前記非晶質半導体膜上でのビームスポットが長方形状であり、
レーザビームの射出側の端面が曲面形状に成形された光導波路又はライトパイプによって、前記レーザビームの長辺方向における中央と端の焦点位置が、前記非晶質半導体膜に合い、かつ、前記長方形状のビームスポットの短辺方向のエネルギー分布が均一にされ、
前記光導波路又は前記ライトパイプは、前記短辺方向に向い合う2つの反射面を有し、
シリンドリカルレンズアレイによって、前記長方形状のビームスポットの長辺方向のエネルギー分布が均一にされることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 請求項1において、
前記レーザビームは、エキシマレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザ、YVO4レーザ、YLFレーザ、Arレーザのいずれかから発振されることを特徴とする半導体装置の作製方法。 - 2つの反射面を有し、一方の端面からレーザビームを入射させ、他方の端面から前記レーザビームを射出する光導波路又はライトパイプを有し、
前記射出されたレーザビームの被照射面におけるビームスポットは長方形状を有し、
前記2つの反射面は、前記長方形状のビームスポットの短辺方向に向い合い、
前記光導波路又は前記ライトパイプは、前記長方形状のビームスポットの短辺方向のエネルギー分布を均一にし、
前記光導波路又は前記ライトパイプの他方の端面は、当該端面に対して前記レーザビームを射出する側に曲率中心を有する曲面形状に成形され、
前記曲面形状は、前記光導波路又は前記ライトパイプから射出されたレーザビームを前記被照射面に投影する際、前記レーザビームの長辺方向における中央と端の焦点位置が、
前記被照射面に合うことを特徴とするビームホモジナイザ。 - 請求項3において、
前記光導波路又は前記ライトパイプが有する2つの反射面の間の空間は、媒質で満たされていることを特徴とするビームホモジナイザ。 - 2つの反射面を有し、一方の端面からレーザビームを入射させ、他方の端面から前記レーザビームを射出する光導波路又はライトパイプと、
前記レーザビームを被照射面に投影するレンズと、
シリンドリカルレンズアレイと、を有し、
前記射出されたレーザビームの前記被照射面におけるビームスポットは長方形状を有し、
前記2つの反射面は、前記長方形状のビームスポットの短辺方向に向い合い、
前記光導波路又は前記ライトパイプは、前記長方形状のビームスポットの短辺方向のエネルギー分布を均一にし、
前記光導波路又は前記ライトパイプの他方の端面は、当該端面に対して前記レーザビームを射出する側に曲率中心を有する曲面形状に成形され、
前記曲面形状は、前記光導波路又は前記ライトパイプから射出されたレーザビームを前記レンズで前記被照射面に投影する際、前記レーザビームの長辺方向における中央と端の焦点位置が、前記被照射面に合うように成形され、
前記シリンドリカルレンズアレイは、前記長方形状のビームスポットの長辺方向のエネルギー分布を均一にすることを特徴とするレーザ照射装置。 - 請求項5において、
前記レーザビームを発振するエキシマレーザ、YAGレーザ、ガラスレーザ、YVO4レーザ、YLFレーザ、Arレーザのいずれかを有することを特徴とするレーザ照射装置。 - 請求項5又は請求項6において、
前記光導波路又は前記ライトパイプが有する2つの反射面の間の空間は、媒質で満たされていることを特徴とするレーザ照射装置。
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