JP4490435B2 - エレクトロルミネセントデバイスのための有機素子 - Google Patents
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Description
a)2位および8位において同一の分枝アルキル基または非芳香族炭素環基が存在し;
b)5位および11位におけるフェニル環は、パラグラフa)における分枝アルキル基または非芳香族炭素環基と同一のパラ置換基のみを含み;そして
c)6位および12位におけるフェニル環は置換されている。
R1は以下の式を表す:
R2は置換基である;
nは1〜5である;
ただし、全てのR1基は同じである;そして
さらに、1つの環におけるR2基、それらの位置およびn値は、2番目の環のそれらと同じである。
R2は置換基である;
nは1〜5である;
ただし、1つの環におけるR2基、それらの位置およびn値は、2番目の環のそれらと同じである。
Wは、非芳香族ヘテロ環基または非芳香族炭素環基を完成するのに必要な原子を表す;
R2は置換基である;
nは0〜5である;
ただし、1つの環におけるR2基、それらの位置およびn値は、2番目の環のそれらと同じである。
本発明は、たいていのOLEDデバイス構成に使用することができる。これらには、一つの陽極および陰極を含む非常に単純な構造から、ピクセルを形成する陽極および陰極の直交配列で構成された受動マトリックスディスプレイおよび例えば薄膜トランジスタ(TFT)でそれぞれのピクセルが独立して制御されている能動マトリックスディスプレイのようないっそう複雑なデバイスまでが含まれる。
基板101は、発光の意図される方向性により、光透過性または不透明のいずれかであり得る。光透過特性は、基板を通してEL発光が見えるために望ましい。このような場合、透明ガラスまたは有機材料が一般的に使用される。EL発光が最上層電極を通して見られる場合、最下層の支持体の透過特性は重要ではなく、したがって光透過性、光吸収性または光反射性であることが可能である。このような場合における使用のための基板としては、これらに限定されないが、ガラス、プラスティック、半導体材料、セラミックス、および回路基板材料が挙げられる。当然、このようなデバイス構成においては、光透過性の最上層電極を備えることが必要である。
伝導性陽極層103は、一般に基板上に形成され、そしてEL発光が陽極を通して見られる場合、対象の発光に対して透明もしくは実質的に透明であるべきである。本発明で使われる通常の透明な陽極材料は、インジウム−酸化スズ(ITO)および酸化スズである。しかし、アルミニウムドープ酸化亜鉛もしくはインジウムドープ酸化亜鉛(IZO)、マグネシウム−インジウム酸化物およびニッケルタングステン酸化物を含むが、それらに限定されない他の金属酸化物も機能し得る。これらの酸化物に加えて、金属窒化物(例、窒化ガリウム)、金属セレン化物(例、セレン化亜鉛)、および金属硫化物(例、硫化亜鉛)も層103において使用することができる。EL発光が最上層電極を通して見られる場合、層103の透過特性は重要ではなく、したがって透明、不透明または光反射性の任意の導電性材料を使用することができる。この用途のための導電体の例としては、以下のものに限定されないが、金、イリジウム、モリブデン、パラジウムおよびプラチナが挙げられる。一般的な陽極材料は、光透過性かどうかによらず、4.1eV以上の仕事関数を有する。所望の陽極材料は、エバポレーション、スパッタリング、化学蒸着、または電気化学的手段のような任意の適切な手段により、通常付着させる。陽極は、周知のフォトリソグラフィープロセスを使ってパターン化することができる。
必ずしも必要ではないが、正孔注入層105を陽極103と正孔輸送層107との間に設けることは、しばしば有用となる。正孔注入材料は、後に続く有機層のフィルム成形特性を改善し、そして正孔輸送層の中への正孔の注入を容易にするのに役立ち得る。正孔注入層における使用のために適した材料としては、これらに限定されないが、米国特許4,720,432号で記述されたようなポルフィリン化合物、および米国特許6,208,075号で記述されたようなフルオロカーボンポリマーが挙げられる。報告されているところでは、有機ELデバイスにおいて有用な別の正孔注入材料は、欧州特許EP0891121A1および欧州特許EP1029909A1に記述されている。
有機ELデバイスの正孔輸送層107は、芳香族第三アミンのような正孔輸送化合物を少なくとも1つ含む。芳香族第三アミンは、その炭素原子の少なくとも1つが芳香環のメンバーである炭素原子にのみ結合しており、三価窒素原子を少なくとも1つ含む化合物であると理解される。1つの形態では、芳香族第三アミンは、モノアリールアミン、ジアリールアミン、トリアリールアミン、またはポリマーのアリールアミン基のようなアリールアミンであり得る。例示的なモノマーのトリアリールアミンは、Klupfelら(米国特許3,180,730号)によって例証されている。1つ以上のビニルラジカルで置換されているおよび/または少なくとも1つの活性水素含有基を含む他の適切なトリアリールアミンは、Brantleyら(米国特許3,567,450号および米国特許3,658,520号)によって開示されている。
R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、アリール基、もしくはアルキル基を表すか、あるいはR1およびR2は、共に、シクロアルキル基を完成する原子を表す;そして
R3およびR4は、それぞれ独立して、構造式(C)によって示されるようなジアリール置換アミノ基で順に置換されたアリール基を表す:
nは1〜4の整数であり、そして
Ar、R7、R8およびR9は、独立して選択されるアリール基である。典型的な実施形態においては、Ar、R7、R8およびR9の少なくとも1つは、多環式縮合環基、例えばナフタレンである。
1,1’−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン
1,1’−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)−4−フェニルシクロヘキサン
4,4’−ビス(ジフェニルアミノ)クアドリフェニル(quadrIphenyl)
ビス(4−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)−フェニルメタン
N,N,N−トリ(p−トリル)アミン
4−(ジ−p−トリルアミノ)−4’−[4(ジ−p−トリルアミノ)−スチリル]スチルベン
N,N,N’,N’−テトラ−p−トリル−4,4’−ジアミノビフェニル
N,N,N’,N’−テトラフェニル−4,4’−ジアミノビフェニル
N,N,N’,N’−テトラ−1−ナフチル−4,4’−ジアミノビフェニル
N,N,N’,N’−テトラ−2−ナフチル−4,4’−ジアミノビフェニル
N−フェニルカルバゾール
4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−(2−ナフチル)アミノ]ビフェニル
4,4’’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]p−テルフェニル
4,4’−ビス[N−(2−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(3−アセナフテニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
1,5−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ナフタレン
4,4’−ビス[N−(9−アントリル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’’−ビス[N−(1−アントリル)−N−フェニルアミノ]−p−テルフェニル
4,4’−ビス[N−(2−フェナントリル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(8−フルオランテニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(2−ピレニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(2−ナフタセニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(2−ペリレニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
4,4’−ビス[N−(1−コロネニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル
2,6−ビス(ジ−p−トリルアミノ)ナフタレン
2,6−ビス[ジ−(1−ナフチル)アミノ]ナフタレン
2,6−ビス[N−(1−ナフチル)−N−(2−ナフチル)アミノ]ナフタレン
N,N,N’,N’−テトラ(2−ナフチル)−4,4’−ジアミノ−p−テルフェニル
4,4’−ビス{N−フェニル−N−[4−(1−ナフチル)−フェニル]アミノ}ビフェニル
4,4’−ビス[N−フェニル−N−(2−ピレニル)アミノ]ビフェニル
2,6−ビス[N,N−ジ(2−ナフチル)アミン]フッ素
1,5−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ナフタレン。
米国特許4,769,292号および5,935,721号においてより十分に記述されているように、有機EL素子の発光層(LEL)109は、エレクトロルミネッセンスがこの領域での電子−正孔対の再結合の結果として生じるような発光材料または蛍光材料を含む。発光層は一つの材料で構成することができるが、しかし、より一般的には、発光が主にドーパントから発生し、その発光が任意の色であり得るゲスト化合物をドープされたホスト材料からなっている。発光層におけるホスト材料は、下記で定義される電子輸送材料、上記で定義された正孔輸送材料、または他の材料もしくは正孔電子再結合を助ける材料の組合せであり得る。ドーパントは、通常は蛍光性の大きい色素から選ばれるが、国際公開WO98/55561、国際公開WO00/18851、国際公開WO00/57676、および国際公開WO00/70655に記述された遷移金属錯体のようなリン光性化合物もまた有用である。ドーパントは、一般的に、ホスト材料の中に0.01〜10質量%としてコートされる。
Mは金属を表す;
Nは、1〜4の整数である;そして
Zは、少なくとも2つの縮合された芳香環を有している核を完成する原子を、それぞれの出現において独立して表す。
CO−1:アルミニウムトリスオキシン[別名、トリス(8−キノリノレート)アルミニウム(III)]
CO−2:マグネシウムビスオキシン[別名、ビス(8キノリノレート)マグネシウム(II)]
CO−3:ビス[ベンゾ{f}−8−キノリノレート]亜鉛(II)
CO−4:ビス(2−メチル−8−キノリノレート)アルミニウム(III)−μ−オキソ−ビス(2−メチル−8−キノリノレート)アルミニウム(III)
CO−5:インジウムトリスオキシン[別名、トリス(8−キノリノレート)インジウム]
CO−6:アルミニウムトリス(5−メチルオキシン)[別名、トリス(5−メチル−8−キノリノレート)アルミニウム(III)]
CO−7:リチウムオキシン[別名、(8−キノリノレート)リチウム(I)]
CO−8:ガリウムオキシン[別名、トリス(8−キノリノレート)ガリウム(III)]
CO−9:ジルコニウムオキシン[別名、テトラ(8−キノリノレート)ジルコニウム(IV)]
CO−10:ビス(2−メチル−8−キノリノレート)−4−フェニルフェノレートアルミニウム(III)。
グループ1:水素、一般的に1〜24個の炭素原子を有するアルキル基およびアルコキシ基;
グループ2:一般的に6〜20個の炭素原子を有する環基;
グループ3:一般的に6〜30個の炭素原子を有する縮合炭素環基(例、ナフチル基、アントラセニル基、ピレニル基、およびペリレニル基)を完成するために必要な原子;
グループ4:一般的に5〜24個の炭素原子を有する縮合へテロ環基(例、フリル基、チエニル基、ピリジル基、およびキノリニル基)を完成するために必要な原子;
グループ5:一般的に1〜24個の炭素原子を有するアルコキシルアミノ基、アルキルアミノ基、およびアリールアミノ基;ならびに
グループ6:フッ素、塩素、臭素およびシアノ基。
nは、3〜8の整数である;
Zは−O、−NRもしくは−Sであり、RはHもしくは置換基である;そして
R’は1つ以上の任意の置換基を表し、RおよびそれぞれのR’は、H、または一般的に1〜24個の炭素原子を有するアルキル基(例、プロピル、t−ブチルおよびヘプチル基);炭素環基もしくはヘテロ環基(例、フェニルおよびナフチル、フリル、チエニル、ピリジルおよびキノリニル基)および一般的に5〜20個の炭素原子を有する縮合芳香族環基を完成するのに必要な原子;ならびにハロ(例、クロロおよびフルオロ)である;
Lは、多数のベンザゾールを共に共役もしくは非共役で連結するアルキル基もしくはアリール基を通常含む結合ユニットである。
本発明の有機ELデバイスの電子輸送層111を形成するのに使用するための好ましい薄膜形成材料は、オキシン自体のキレートを含む金属キレート化オキシノイド化合物(8−キノリノールまたは8−ヒドロキシキノリンとしても一般的)である。このような化合物は、電子を注入および輸送するのに役立ち、共に高いレベルの性能を示し、そして薄膜の形に容易に製造される。意図されるオキシノイド化合物の例は、前述の構造式(E)を満たすものである。
発光が陽極を通る場合、本発明で使われる陰極層113は、ほとんど任意の導電材料で構成することができる。望ましい材料は、下に位置する有機層との良好な接触を保証する良好なフィルム形成特性を有し、低電圧において電子注入を促進し、そして良好な安定性を有する。有用な陰極材料は、低い仕事関数の金属(<4.0eV)または合金をしばしば含む。1つの好ましい陰極材料は、米国特許4,885,221号に記述されるような、銀のパーセンテージが1〜20%の範囲にあるMg:Ag合金からなる。他の種類の適切な陰極材料としては、伝導性金属のより厚い層で覆われた低い仕事関数の金属または金属塩の薄層からなる二層体が挙げられる。このような陰極の1つは、米国特許5,677,572号で記述されるように、LIFの薄層、それに続いてAlのより厚い層で構成されている。他の有用な陰極材料としては、これらに限定されないが、米国特許5,059,861号、米国特許5,059,862号および米国特許6,140,763号が挙げられる。
前述の有機材料は、昇華により適切に蒸着されるが、フィルム成形を改善するための任意のバインダーで溶媒から蒸着することができる。材料がポリマーである場合、溶媒蒸着が通常好ましい。昇華によって蒸着する材料は、例えば米国特許6,237,529号に記述されているようなタンタル材料で構成されることが多い昇華「ボート」から蒸発させることができ、あるいは、最初にドナーシート上にコートし、次いで基板のさらに近傍において昇華させることができる。材料の混合物を有する層は、個別の昇華ボートを利用することができ、あるいは、その材料は、単一のボートもしくはドナーシートから予混合またはコートすることができる。パターン化された蒸着は、シャドウマスク、インテグラルシャドウマスク(米国特許5,294,870号)、ドナーシートからの空間的定義の熱染料転写(米国特許5,851,709号および米国特許6,066,357号)およびインクジェット法(米国特許6,066,357号)を使って得ることができる。
大部分のOLEDデバイスは、湿気および/または酸素に敏感である。そのため、それらは、乾燥剤(例えば、アルミナ、ボーキサイト、硫酸カルシウム、粘土、シリカゲル、ゼオライト、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、硫酸塩、または金属ハロゲン化物および過塩素酸塩)と共に、窒素またはアルゴンのような不活性雰囲気の中に通常密閉される。密封および乾燥のための方法としては、米国特許6,226,890号に記載されるものが挙げられるが、これらに限定されない。
化合物(3)の調製:窒素雰囲気下において、アセチレン化合物(2)(2.0g、12mMole)をジメチルホルアミド(DMF)(100mL)に溶かし、そして、0℃まで溶液を冷却した。カリウムt−ブトキシド(KButO)(1.4g、12mMole)を加え、そして混合物を約15分間よく攪拌した。次いで、この混合物にベンゾフェノン(1)(3.53g、30mMole)を加えた。攪拌を0℃において約30分間続け、次いで1時間かけて室温になるようにした。この時間の終わりに溶液を0℃に冷却し、そして反応物を飽和塩化ナトリウム(20mL)で処理した。次いで、混合物をエチル酢酸塩で薄め、2Nの塩酸(×3)で洗浄し、MgSO4上で乾燥し、ろ過して減圧下で濃縮した。粗生成物を石油エーテルで粉砕し、オフホワイトの固体として生成物を得た。化合物(3)の収量3.0g。
本発明および比較例Comp−1〜Comp−4の化合物の最大発光波長(すなわちλmax)を、酢酸エチルに化合物を溶かし、蛍光光度計における発光スペクトルを記録することによって得た。表1は、比較化合物が545〜562nmの範囲に発光λmax値を有するのに対して、本発明の化合物は、より長い波長への望ましいシフトを示し、そして566〜572nmの範囲にあることを示している。
本発明の必要条件を満たしているELデバイスを、次の方法でサンプル10として組み立てた:
陽極としてのインジウム−スズ酸化物(ITO)の85nmの層でコートされたガラス基板を、市販の洗剤と共に連続的に超音波処理し、脱イオン水で濯ぎ、トルエン蒸気で脱脂して、そして酸素プラズマに約1分間曝露した。
a)ITOの上に、1nmのフルオロカーボン(CFx)正孔注入層(HIL)を、CHF3のプラズマ援用蒸着により蒸着した。
b)次いで、150nmの厚さを有するN,N’−ジ−1−ナフタレニル−N,N’−ジフェニル−4,4’−ジアミノビフェニル(NPB)の正孔輸送層(HTL)を、タンタルボートから蒸着させた。
c)次いで、トリス(8−キノリノレート)アルミニウム(III)(AlQ3)およびInv−1(3質量%および5質量%、表2および表3を参照)の37.5nm発光層(LEL)を、正孔輸送層の上に蒸着した。これらの物質もまた、タンタルボートから蒸着させた。
d)次いで、トリス(8−キノリノレート)アルミニウム(III)(AlQ3)の37.5nm電子輸送層(ETL)を発光層の上に蒸着した。この物質もまた、タンタルボートから蒸着させた。
e)AlQ3層の上に、10:1の体積比のMgおよびAgからなる220nm陰極を蒸着した。
103 陽極
105 正孔注入層(HIL)
107 正孔輸送層(HTL)
109 発光層(LEL)
111 電子輸送層(ETL)
113 陰極
Claims (7)
- 白色発光を提供するために青色発光化合物をさらに含む、請求項1に記載のデバイス。
- 前記ドーパントがホストの10質量%までの量で存在するホストおよびドーパントを前記層が含む、請求項2に記載のデバイス。
- R2が当該フェニル基のメタ位またはパラ位に位置している、請求項1に記載のデバイス。
- 前記ホストがアミン化合物である、請求項1に記載のデバイス。
- 前記ルブレン誘導体が、565nm<λmax≦625nmとなるような酢酸エチル溶液中での最大発光波長(λmax)を有する、請求項1に記載のOLEDデバイス。
- 請求項1のOLEDデバイスを含む、発光ディスプレイ。
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