JP4487859B2 - 電子ビーム制御方法およびその装置 - Google Patents
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Description
ただし、P=1/8×Cs 2
Q=1/2×Cc 2×(ΔE/Vacc)2
+4/π4×Cs×Csg×(Vacc/Vext)3/2×(Ib/B)2×1/dco 4
R=4/π4×Cc×Ccg×(ΔE/Vacc)2×(Vacc/Vext)3/2
×Ib/B×1/dco 2
S=4/π4×Ib/B+(1.22×λ)2
+32/π8×Csg 2×(Vacc/Vext)3×(Ib/B)4×1/dco 8
+8/π4×Ccg 2×(ΔE/Vacc)2×(Vacc/Vext)3
×(Ib/B)2×1/dco 4
ここで、dは試料に照射されるときの電子ビーム径、Ibはビーム電流、αは操作される開き角、Csは対物レンズの球面収差係数、Ccは対物レンズの色収差係数、Vextは電子銃の引き出し電圧、Vaccは電子銃の加速電圧、ΔEは電子ビームのエネルギー拡がり、Csgは集束レンズの球面収差係数、Ccgは集束レンズの色収差係数、Bは電子ビームの輝度、dcoは電子源の径(ただし直径)、λは電子ビームのde Broglie波長をそれぞれ表す。上記(1)式が、電子銃や集束レンズの収差を考慮したものに拡張した特許文献1中の(2)式(電子ビーム径の評価式)となる。
上記(2)式が、電子銃や集束レンズの収差を考慮したものに拡張した特許文献1中の(3)式(最適な開き角の算出式)となる。そして、このビーム電流Ibの値に応じて開き角を上記(2)式で与えられる値に調整するように制御する。
ここで、上記(3)式においても、上述した(1)式や(2)式といった最適な開き角αoptを求める場合においても、ビーム電流の依存性はビーム電流Ibと輝度Bとの比(Ib/B)という形態で常に入っている。すなわち、あるパラメータをtとして、そのパラメータt=Ib/Bで定義すると、総合レンズ倍率Mと最適な開き角αoptとはtの関数でともに表される。
つまり、ビーム電流Ibを変化させたとき、総合レンズ倍率および最適な開き角の組み合わせ(M、αopt)は上記(4)式の与える動作曲線上を動いてそれぞれが変化する。この組み合わせ、すなわち総合レンズ倍率および開き角の相関関係が所定の条件で満たされるように決められ、その所定の条件が試料に照射されるときの電子ビーム径が最小になる条件であれば、(M、αopt)が動作曲線上を動く限り、最適な開き角αoptが実現できていることになる。動作曲線のグラフは図2に示すとおりである。
すなわち、請求項1に記載の発明は、電子ビームを試料に向けて照射させるように電子ビームの特性を複数のレンズで制御する電子ビーム制御方法であって、所定の条件において成立する前記複数のレンズの総合レンズ倍率と前記試料に照射されるときの電子ビームの開き角との相関関係を規定する動作曲線上にあるように、各レンズの励起強度を操作することで開き角を制御して、電子ビームの特性を制御することを特徴とするものである。
図1は、実施例に係る電子ビーム制御装置の概略図である。
11 … エミッタ(電界放出型エミッタ)
14 … 集束レンズ
15 … 絞りレンズ
16 … 対物レンズ
17 … ターゲット
24 … コントローラ
M … 総合レンズ倍率
α … 開き角
Claims (3)
- 電子ビームを試料に向けて照射させるように電子ビームの特性を複数のレンズで制御する電子ビーム制御方法であって、所定の条件において成立する前記複数のレンズの総合レンズ倍率と前記試料に照射されるときの電子ビームの開き角との相関関係を規定する動作曲線上にあるように、各レンズの励起強度を操作することで開き角を制御して、電子ビームの特性を制御することを特徴とする電子ビーム制御方法。
- 請求項1に記載の電子ビーム制御方法において、前記所定の条件は、前記試料に照射されるときの電子ビーム径が最小になる条件であることを特徴とする電子ビーム制御方法。
- 電子ビームを発生させる電子源と、電子源からの電子ビームの特性を制御する複数のレンズとを備えた電子ビーム制御装置であって、演算手段を備え、所定の条件において成立する前記複数のレンズの総合レンズ倍率と前記試料に照射されるときの電子ビームの開き角との相関関係を規定する動作曲線上にあるように、前記演算手段は、各レンズの励起強度を決定する演算を行い、その演算を行うことにより各レンズの励起強度を操作することで開き角を制御して、電子ビームの特性を制御することを特徴とする電子ビーム制御装置。
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JP2005161572A JP4487859B2 (ja) | 2005-06-01 | 2005-06-01 | 電子ビーム制御方法およびその装置 |
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JP5842716B2 (ja) * | 2012-04-02 | 2016-01-13 | 株式会社島津製作所 | 電子ビーム装置の調整方法とそのように調整された電子ビーム装置 |
US10157727B2 (en) * | 2017-03-02 | 2018-12-18 | Fei Company | Aberration measurement in a charged particle microscope |
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2005
- 2005-06-01 JP JP2005161572A patent/JP4487859B2/ja active Active
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