JP4487259B2 - テクスチャー加工用スラリーの製造方法、および該スラリーを用いた磁気情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明はコンピュータの外部記憶装置などの各種磁気記録装置に搭載される磁気情報記録媒体の製造に用いられるテクスチャー加工用スラリーの製造方法に関する。また、本発明は、該スラリーを用いて製造される磁気情報記録媒体の製造方法に関する。

近年、磁気ディスクの高密度記録化が進み、それに伴いデジタル信号を記録する磁性層の性能向上のみならず、記録の読み出しを司る磁気ヘッド、さらには基板の性能向上も要求されている。このようなニーズに応える手段として基板に関しては、従来から使用されているアルミニウム基板、ガラス基板の高度化・高精密化が推進されている。

磁気ディスクを構成する磁気記録媒体や磁気ヘッドの高度化・高精密化のためには、設計、材料の高度化はもちろんのこと、製造プロセスの高度化も重要な課題であり、磁性膜の配向性を高めるためのテクスチャー加工技術もその一つである。

現在、磁気ディスクは大容量化が進み、３．５インチのアルミニウム基板記録媒体で８０ＧＢ（ギガバイト）／ｄｉｓｋが主流を占めるようになり、その結果、ヘッドの浮上高さも１０ｎｍを切るようになってきている。このため、磁性膜を成膜する前の基板の品質は非常に厳しくなっており、たとえば、高さ１０ｎｍ以上の異物や凸部が存在すると、磁気ヘッドが異物にぶつかりグライドハイト試験（ＧＨＴ）におけるエラーの原因となる。また、このような異物があると、磁性膜の特性が変わったり、磁性膜がうまく成膜できないなどの理由により、リード／ライト（Ｒ／Ｗ）試験においてエラーが発生する。このように微小なパーティクルがエラーの要因になるため、高度な洗浄方法が求められている。

一方、磁性膜に配向性を持たせるために成膜前の基板表面に前述したテクスチャーと呼ばれる円周方向に沿った溝をつけることが一般に行われている。このテクスチャー加工工程は、クーラントと呼ばれる分散剤および／または高級脂肪酸等を混合した水溶液中にダイアモンド砥粒を分散させたテクスチャー加工用のスラリー（以後テクスチャースラリーと称する）で軽く表面研磨をすることにより行われる。テクスチャー加工工程で形成される溝の平均粗さＲａはおよそ０．２〜０．３ｎｍである。テクスチャースラリー中のダイアモンド砥粒が十分に分散していない場合、あるいはクーラントの耐荷重性および／または潤滑性が低い場合には、テクスチャー加工工程において、スクラッチが発生したり、部分的に深い溝ができ、その反作用で溝の周囲が盛り上がるリッジと呼ばれる凸形状が形成される。これらのスクラッチ、リッジなどの欠陥が、直接的または間接的にＧＨＴエラーの原因となることが分ってきた。

このようなテクスチャー加工工程で発生するスクラッチおよびリッジを抑制するために、従来からクーラントに対してオレイン酸、ノナン酸、リノール酸、リシノール酸などの高級脂肪酸を添加して、耐荷重性および潤滑性を付与する方法が取られている。これらの高級脂肪酸は非水溶性のために、このままの状態では水に分散させることは難しく、このためｎ−ブチルカルビトール等の溶媒を加えることにより高級脂肪酸の分散を可能にしている。あるいはまた、スクラッチの低減を目的として、有機アルカリ（アミン類）と高級脂肪酸とを添加したテクスチャー加工用スラリーが提案されている（特許文献１参照）

このように分散剤、高級脂肪酸、高級脂肪酸溶媒等を混合したクーラントに、さらにダイアモンド砥粒を含んだ分散液（ダイアモンド分散液）を添加、分散させてテクスチャー加工用のスラリーが作製される。一般的には、ダイアモンド分散液中のダイアモンド砥粒の分散性を高めるためにポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェイトを添加したり、研磨速度を向上するためにアルミニウムまたはニッケルの硝酸塩、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩、チオ硫酸塩などが添加される（特許文献２および３参照）。これらの添加剤を加えると、ダイアモンド分散液はいずれもｐＨ３〜４の酸性となる。酸性であるダイアモンド分散液をクーラントに添加すると、ソルベントショックとよばれる現象によりクーラントに分散されている高級脂肪酸が凝集し、非水溶性の高級脂肪酸の塊がスラリー中に多量に形成される。ソルベントショックが起きる理由は、次のように考えられている。本来は非水溶性である高級脂肪酸はｎ−ブチルカルビトールのような溶媒の作用により辛うじて水に分散している。この状態に、酸性であるダイアモンド分散液が添加されることにより、急激にｐＨが変化してしまい、溶媒および高級脂肪酸の分散状態のバランスが崩れ、この結果、高級脂肪酸が凝集してしまう。一旦、凝集した高級脂肪酸は、後工程で、たとえば超音波分散処理などを施しても元の分散状態には戻らない。

テクスチャー加工工程で基板表面についたダイアモンド砥粒、Ｎｉ−Ｐのテクスチャー滓や高級脂肪酸を含むクーラントなどの残渣は、後工程であるテクスチャー後洗浄工程でほとんどは適切な洗剤により除去が可能である。基板としてメッキ（たとえばＮｉ−Ｐなど）されたアルミニウム基板またはガラス基板を用いた場合、スラリー中の高級脂肪酸とメッキ材料とが反応して不溶性の塩（たとえば高級脂肪酸ニッケル塩など）を形成することが知られているが、そのような不溶性の塩を有機酸（リンゴ酸など）または無機酸（リン酸、硫酸など）を含む洗浄液を用いることによって除去することが可能である（特許文献４参照）。実際、このような工程を必要に応じて実施することにより記憶容量８０ＧＢ／ｄｉｓｋ（３．５インチディスク）のアルミ媒体は安定な生産が可能であった。

しかしながら、１２０ＧＢ／ｄｉｓｋ（３．５インチディスク）または１６０ＧＢ／ｄｉｓｋ（３．５インチディスク）のように記憶容量がさらに大きくなると、ヘッド浮上量がより低いことが要求され、このため、リッジやスクラッチの発生のより少ないテクスチャースラリーが要求されている。この要求を満たすためには、高級脂肪酸を溶媒に分散できる上限ぎりぎりまで添加する必要がある。このような状態のために、従来以上にソルベントショックによる高級脂肪酸の凝集が発生しやすくなっている。また、仮に凝集量が同じだとしても、テクスチャー後洗浄工程で許容される高級脂肪酸の洗浄残渣量が少なくなってきている。このような背景から、高級脂肪酸の凝集の少ないテクスチャースラリーおよびその製造方法が切望されていた。

特開２００１−２６２１２９号公報 特開２００３−１９３０４１号公報 特開２０００−０６３８０６号公報 特開２００５−１２２８０５号公報 特許第２８６１１１７号公報 特許第２６４４３２６号公報

本発明は、前述した従来技術に関する問題を解決するもので、クーラントに添加されている高級脂肪酸の量が多くても、凝集を起こすことのないテクスチャースラリーの製造方法を提供するものである。本発明の方法により得られるテクスチャースラリーを用いることによって、スクラッチやリッジのないテクスチャー加工基板を安定に供給するとともに、テクスチャー後洗浄工程でテクスチャー残渣を極力低減することを可能とし、この結果、ＧＨＴエラーやＲ／Ｗエラーの少ない情報記録媒体を提供することを可能とする。

本発明者らは種々の検討を重ねた結果、酸性であるダイアモンド水溶液をクーラントに添加する際、ダイアモンド分散液を適当な大きさの液滴として加えることにより、例え高級脂肪酸の添加量の多いクーラントの場合でも、ダイアモンド分散液液滴により局所的にクーラントのｐＨが低下しても、液滴の周りのクーラント量が多ければ、瞬時にｐＨが緩和され、高級脂肪酸の凝集物を生成することがないのではないかという点に着目し、また、液滴のサイズや液滴量を制御するには、インクジェットヘッドで使われている圧電マイクロアクチュエータを利用することが有効であろうとの結論に至った。

このような観点から、圧電マイクロアクチュエータを利用し、ダイアモンド分散液液滴をクーラントに添加する条件を検討してきた。

その結果、ダイアモンド分散液の液滴量を１００ｐＬ以下に制御することにより、局所的なｐＨ低下領域ができたとしても、瞬時に周囲のクーラントにより希釈され、凝集を起こさないか、たとえ局所的な凝集が発生したとしても、その凝集物は、テクスチャー後洗浄工程にて十分に除去できる大きさであることを見出した。

本発明によれば、ダイアモンド分散液をクーラントに添加・混合し、テクスチャー加工用スラリーを作製する際に、圧電マイクロアクチュエータを利用した液体噴射装置で液滴量を制御することにより、有機残渣系パーティクルが少ないテクスチャースラリーを提供することが可能となる。本発明の方法によって提供されるテクスチャースラリーを使用することによって、ＧＨＴおよびＲ／Ｗ試験における良品率の良好な高い磁気記録媒体を製造することが可能となる。

本発明において、テクスチャー加工用スラリーは、クーラントに対して、小体積の液滴を高い再現性をもって滴下することが可能な液体噴射装置を用いてダイアモンド分散液を液滴として添加し、次いで混合および分散することによって調製される。この際に、ダイアモンド分散液の液滴量は１００ｐＬ以下に制御される。

本発明において用いられるクーラントは、高級脂肪酸、分散剤、高級脂肪酸溶媒などを水中に混合・分散した分散液である。用いることができる高級脂肪酸は、オレイン酸、ノナン酸、リノール酸、リシノール酸などを含む。高級脂肪酸は、クーラントの総重量を基準として０．０２〜５．０％、好ましくは０．０５〜２．０％の濃度を有する。高級脂肪酸溶媒は、前述の高級脂肪酸の水中での分散性を向上させるための有機溶媒であり、たとえばｎ−ブチルカルビトール（ジエチレングリコールモノチルエーテル）、ジエタノールアミドなどを含む。本発明において用いることができる分散剤は、ノニオン系界面活性剤を含む。

ダイアモンド分散液は、水中に分散されたダイアモンド砥粒を含む分散液である。必要に応じて、ダイアモンド砥粒の分散性を向上させるためにポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェイトのような分散剤をさらに含んでもよく、および研磨速度を向上させるためにアルミニウムまたはニッケルの硝酸塩、塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩またはチオ硫酸塩などの添加剤をさらに含んでもよい。本発明において用いることができるダイアモンド砥粒は０．０２〜０．５μｍの平均粒径を有することが望ましい。また、ダイアモンド砥粒は、ダイアモンド分散液の総重量を基準として０．１〜１０％、好ましくは０．２〜５％の量で分散液中に含有される。

液滴の体積を精密に制御することができ、かつ該液滴を高い再現性をもって噴射することができる液体噴射装置としては、たとえばインクジェットプリンタに使用されている液体噴射ヘッドを挙げることができる。インクジェットプリンタに使われている液体噴射ヘッドにおいて供給路中にあるインクを駆動・噴射する方法は、（ａ）圧電アクチュエータを用いる方法（たとえば、特許文献５参照）、（ｂ）インクに熱エネルギーを付与してインクの膜沸騰を用いる方法（たとえば、特許文献６参照）に大別される。また、インクの噴射形態は、常に液滴を噴射し続ける連続吐出型と、外部入力信号に応じて液滴を噴射するドロップオンデマンド型とに大別される。ダイアモンド分散液には無機塩等が添加されているので、本発明ではダイアモンド分散液の成分に依存しない圧電マイクロアクチュエータを用いた液体噴射ヘッドを採用し、かつ液滴を精密に制御するためにドロップオンデマンド型を採用している。

本発明のテクスチャースラリーの製造に用いることができる装置の一例を図１に示す。液体噴射装置１０は、導入路壁５ａおよび５ｂ、吐出口２、圧電マイクロアクチュエータ３を含み、ダイアモンド分散液４はタンク（不図示）から導入路中に供給される。クーラント２３は、オリフィス下方に設けられた混合容器２１に収容され、攪拌装置２２によって攪拌されている。そして、圧電マイクロアクチュエータ３に対する電圧印加によって発生する圧力によってダイアモンド分散液４が吐出口２から吐出され、液滴１となってクーラント２３中に滴下される。

本発明においては、液滴１の体積を１００ｐＬ以下、好ましくは１０〜１００ｐＬに制御して、ソルベントショックによる高級脂肪酸の凝集を防止することが重要である。吐出口２の形状および寸法、ダイアモンド分散液の粘度、および圧電マイクロアクチュエータに対する印加電圧を総合的に制御することによって、液滴１の体積を調整することができる。液滴の滴下頻度は、最初の液滴の添加による局所的なクーラントｐＨの変化が緩和された後に、次の液滴が添加されるように設定すべきである。本発明の方法においては、液滴の滴下頻度を０．１ｍｓ／個以上（１０，０００個／秒以下）、好ましくは０．１ｍｓ／個〜２．０ｍｓ／個（５００〜１０，０００個／秒）に設定することが望ましい。

前述の方法で得られるテクスチャースラリーは、アルミニウム合金母材またはガラス母材に対してＮｉ−Ｐメッキなどの非磁性合金メッキを施すことによって準備される非磁性基板のテクスチャー加工のみならず、前述の母材に対してＣｏ−Ｐ系メッキ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐ系メッキまたはＣｏ−Ｗ−Ｐメッキなどの軟磁性合金メッキを施すことによって準備される垂直磁気記録媒体用の基板のテクスチャー加工にも対応することができる。テクスチャー加工を施された基板を洗浄工程し、そして下地層、中間層、磁気記録層、保護層および／または潤滑層を成膜することによって、磁気情報記録媒体を作製することができる。ここで、下地層、中間層、保護層および潤滑層は、任意選択的に設けてもよい層である。現在、磁気情報記録媒体としては、公称３．５インチ、２．５インチ、１インチあるいは０．８インチなどの種々のディスク径を有する媒体が開発または製造されている。これらの媒体においては、そのディスク径に応じて厚さの異なる基板が用いられている。以下の説明においては、現在最も市場占有率の高い３．５インチ用の基板を例として、磁気情報記録媒体の製造方法を説明する。

最初に、厚さ１．２７ｍｍのアルミニウム系合金からなる板を内径２５ｍｍ、外径９５ｍｍのドーナツ状に裁断し、内外周の裁断部をチャンファ加工し、両主表面を砥石によるグラインディング加工を施すことによってブランク材を得る。このブランク材に無電解メッキを施して、膜厚５〜１５μｍのＮｉ−Ｐ無電解メッキ膜を付着させる。そして、メッキ液残渣の洗浄、アルミナ砥粒を用いた１次研磨、コロイダルシリカ砥粒を用いた２次研磨、およびそれに引き続く洗浄によって、平坦な主表面を有するポリッシュ基板を作製する。Ｎｉ−Ｐ無電解メッキ膜は１次研磨、２次研磨により数μｍ研磨される。

このようにして得られたポリッシュ基板に対して、磁気記録層の配向性を高めるためにテクスチャー加工が施される。テクスチャー加工は、一般的には、前述の方法により得られたテクスチャースラリーを含浸させた研磨用テープを、回転させたポリッシュ基板に押圧して研磨する方法で行われる。テクスチャー加工工程に引き続いて、テクスチャースラリーや基板加工滓等を除去するために洗浄を行う。一般的には、洗剤を用いたスクラブ洗浄に加えて、純水や水素水などの機能水を用いた超音波洗浄との組み合わせが行われている。

次いで、このようにして得られた洗浄基板に、磁気記録層を積層して磁気情報記録媒体を得る。磁気記録層は、Ｃｏおよびその合金などを含む磁性材料を用いて形成され、好ましくはＣｏＣｒＰｔＢまたはＣｏＣｒＰｔＴａなどを用いて形成される。必要に応じて、磁気記録層を積層する前に、非磁性下地層および中間層を積層してもよい。非磁性下地層は、好ましくはＴｉ、またはＴｉＣｒ合金のようなＣｒを含む非磁性材料を用いて形成される。また、中間層の材料としては、非磁性下地層と磁気記録層との格子定数のミスフィットが小さくなる六方晶の材料が適しており、一般的にＣｏＣｒ、ＣｏＣｒＰｔ等のＣｏＣｒ系合金を使用することができる。あるいはまた、磁気記録層の保護を目的として、磁気記録層の上面に、保護層および潤滑層を積層してもよい。保護層は、ダイアモンド様カーボン（ＤＬＣ）などの炭素系材料、酸化珪素（ＳｉＯ₂）および酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂）を用いて形成することができる。また、潤滑層は、パーフルオロポリエーテルのようなフッ素系液体潤滑剤を用いて形成することができる。上記の構成層の内、中間層、磁気記録層および保護層は、好ましくは、スパッタ法、電子ビーム蒸着法、化学蒸着法（プラズマＣＶＤ法、レーザＣＶＤ法、有機金属ＣＶＤ法を含む）のようなドライプロセスを用いて形成することができ、より好ましくはスパッタ法を用いて形成される。

必要な層の形成の後、媒体表面に存在するパーティクルを除去するためにテープバニッシュやヘッドバニッシュを行って、磁気情報記録媒体の完成品を得る。この際に、ＧＨＴおよび／またはＲ／Ｗ試験を行って、情報記録媒体としての性能を確認してもよい。

更に具体的な実施例により本発明を以下に説明する。

（実施例１）
図１に示す液体噴射装置１０に対して、平均粒径０．１μｍのダイアモンド砥粒（１．０％）、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェイト（５．０％）、純水などを含むダイアモンド分散液を充填した。ダイアモンド分散液のｐＨは３．４であった。一方、混合容器２１に、リシノール酸（０．１％）、ｎ−ブチルカルビトール（１．０％）、ノニオン系界面活性剤（０．１％）および水を含むクーラント５ｍＬを配置し、機械式攪拌機２２を用いて攪拌した。次いで圧電マイクロアクチュエータ３に制御された電圧を印加して、体積１ｐＬの液滴としてダイアモンド分散液を滴下した。この時、液滴の体積は、液滴が完全に球状であるとして、高速度カメラを用いて撮影した液滴の直径から計算した。最終的に、クーラント１ｍＬに対してダイアモンド分散液０．０５ｍＬを添加して、テクスチャースラリーを得た。

次に、前述のようにして得られたテクスチャースラリーを用いて、磁気情報記録媒体を作製した。最初に、厚さ１．２７ｍｍのアルミニウム系合金板を内径２５ｍｍ、外径９５ｍｍのドーナツ状に裁断し、内外周の裁断部をチャンファ加工し、両主表面を砥石によるグラインディング加工を施すことによりディスク基板（ブランク材）を得た。このディスク基板に約１３μｍの厚さのＮｉ−Ｐ無電解メッキ膜を積層し下地層とした。次いで、メッキ液残渣の洗浄、アルミナ砥粒を用いた１次研磨、コロイダルシリカ砥粒を用いた２次研磨、それに引き続く洗浄によりポリッシュ基板を作製した。１次研磨および２次研磨によるメッキ膜の研磨厚さは約３μｍで、したがって研磨後のメッキ膜の膜厚は１０μｍであった。

次に、前述のようにして得られたテクスチャースラリーをポリエステル不織布製テープに含浸させた。ポリッシュ基板を回転させながら、該テープを押圧してテクスチャー加工を行った。この際に、Ｒａを０．３ｎｍに制御した。Ｒａは洗浄、乾燥後の基板表面の２０μｍ角の領域のＡＦＭ測定にて求めた。

次いでテクスチャー加工工程で基板表面に付着したテクスチャースラリー残渣およびＮｉ−Ｐ研磨滓を洗浄除去するために、洗剤を併用したスクラブ洗浄、該洗剤を除去するための純水スクラブ洗浄、および周波数８５０ｋＨｚの超音波洗浄（メガソニック洗浄）を行った。洗浄後基板を、スピン乾燥機にて乾燥させた。

本発明の方法で得られたテクスチャースラリーの効果を確認するために、表面外観検査装置（日立ＤＥＣＯ製ディスク表面検査装置ＮＳ１５１０）を用いて、洗浄後基板の表面に付着しているパーティクルの数を測定した。また、洗浄後基板の表面に付着しているパーティクルが有機系残渣であるかどうかを確認するために、顕微ラマン分析装置による分析を実施した。

次に、洗浄後基板に対して、スパッタ法を用いて、膜厚１５ｎｍのＣｒ合金からなる非磁性下地層、膜厚１５ｎｍのＣｏ合金からなる磁気記録層および膜厚５ｎｍの炭素系材料からなる保護膜を積層した。そして、スピンコート法を用いて、膜厚１ｎｍのパーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を形成して、磁気情報記録媒体を得た。

得られた磁気情報記録媒体に対して、ＧＨＴおよびＲ／Ｗ試験を実施した。両試験ともに、１６０ＧＢ／ｄｉｓｋ（３．５インチディスク）に対する規格に準拠して行った。ＧＨＴは、ヘッド浮上量４．０ｎｍにキャリブレーションした線速度（周速）５．５ｍ／ｓにて実施した。

（実施例２）
クーラントに滴下するダイアモンド分散液の液滴の体積を２ｐＬに変更したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

（実施例３）
クーラントに滴下するダイアモンド分散液の液滴の体積を５ｐＬに変更したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

（実施例４）
クーラントに滴下するダイアモンド分散液の液滴の体積を１０ｐＬに変更したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

（実施例５）
クーラントに滴下するダイアモンド分散液の液滴の体積を５０ｐＬに変更したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

（実施例６）
クーラントに滴下するダイアモンド分散液の液滴の体積を８０ｐＬに変更したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

（実施例７）
クーラントに滴下するダイアモンド分散液の液滴の体積を１００ｐＬに変更したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

（比較例１）
クーラントに滴下するダイアモンド分散液の液滴の体積を１５０ｐＬに変更したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

（比較例２）
クーラントに滴下するダイアモンド分散液の液滴の体積を２００ｐＬに変更したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

（比較例３）
クーラントに対して、６０μＬ／分の速度でダイアモンド分散液を連続的に添加したことを除いて実施例１の手順を繰り返して、磁気情報記録媒体の作製および評価を行った。

以下の第１表に、実施例および比較例における洗浄後基板の表面パーティクル数および有機残渣比率、ならびに磁気情報記録媒体におけるＧＨＴ良品率およびＲ／Ｗ試験良品率を示した。なお、上記の実施例および比較例においては、ダイアモンド分散液の吐出頻度を０．１ｍｓ／個〜２．０ｍｓ／個（１０，０００〜５００個／秒）まで変化させたが、この範囲では評価結果に対する吐出頻度の影響は無かった。

第１表から明らかなように、ダイアモンド分散液の液滴量が１００ｐＬを越えると、洗浄後基板上のパーティクルが著しく増加し、これに伴って有機残渣の比率も著しく増大した。そして、最終的に得られた磁気情報記録媒体においても、ＧＨＴ良品率およびＲ／Ｗ試験良品率が著しく低下した。すなわち、圧電マイクロアクチュエータを用いる液体噴射装置により、ダイアモンド分散液とクーラントを混合する際のダイアモンド分散液の液滴の体積を１００ｐＬ以下に制御することによって、１６０ＧＢ／ｄｉｓｋ（３．５インチディスク）の規格に対応させた場合でも、ＧＨＴ良品率およびＲ／Ｗ試験良品率の両方が９０％以上である優れた特性を有する磁気情報記録媒体を得ることができた。

本発明のテクスチャースラリーの製造方法の実施形態を示す模式図である。

符号の説明

１ 液滴
２ 吐出口
３ 圧電マイクロアクチュエータ
４ ダイアモンド分散液
５ａ、５ｂ 導入路壁
１０ 液体噴射装置
２１ 混合容器
２２ 攪拌装置
２３ クーラント

Claims (3)

1. 高級脂肪酸を含むクーラントに対して、ダイアモンド砥粒を含む酸性のダイアモンド分散液を添加する磁気記録媒体のテクスチャー加工用スラリーの製造方法であって、
   前記ダイアモンド分散液が体積１００ｐＬ以下の液滴として添加されることを特徴とするテクスチャー加工用スラリーの製造方法。
2. 前記ダイアモンド分散液の添加を、圧電マイクロアクチュエータを用いた液体噴射装置によって実施することを特徴とする請求項１に記載のテクスチャー加工用スラリーの製造方法。
3. 請求項１または２に記載の方法で製造されたテクスチャー加工用スラリーを用いて、基板をテクスチャー加工を施す工程と、
   テクスチャー加工された基板に対して、磁気記録層を積層する工程と
   を少なくとも含むことを特徴とする磁気情報記録媒体の製造方法。
   

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