JP4486840B2 - Display device and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は表示装置及び表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a display device and a method for manufacturing the display device.

近年、FPD(Flat Panel Display)として有機EL(ElectroLuminescence)ディスプレイが注目されている。有機ELディスプレイは画素となる有機EL素子を複数配置した表示パネルを備えている。表示パネルは通常、有機EL素子が形成された素子基板と素子基板と対向する封止用対向基板とを備えている。封止用対向基板に捕水材を設けて素子基板と封止用対向基板を貼合せ、有機EL素子が設けられた領域を封止することにより、大気中の水分等による劣化を防いでいる。     In recent years, organic EL (Electro Luminescence) displays have attracted attention as FPD (Flat Panel Display). The organic EL display includes a display panel in which a plurality of organic EL elements serving as pixels are arranged. A display panel usually includes an element substrate on which an organic EL element is formed and a sealing counter substrate facing the element substrate. By providing a water-absorbing material on the sealing counter substrate and bonding the element substrate and the sealing counter substrate and sealing the region where the organic EL element is provided, deterioration due to moisture in the atmosphere is prevented. .

有機EL表示装置では封止用対向基板の一部を掘り込んで凹部を設け、捕水材収納部を形成している。この捕水材収納部は有機EL素子が設けられている表示領域に設けられる。そして、捕水材収納部に捕水材を収納した後、凹部の周りの凸部にシール材を塗布して素子基板と貼り合わせている。これにより、有機EL素子が2枚の基板とシール材によりを封止された空間に捕水材を設けることができる。この捕水材は乾燥剤として機能し、封止された空間に存在する水分を吸着して、有機EL素子の劣化を防いでいる。また、シール材を設けるための凸部の外周にさらに凹部を設ける製造方法が開示されている(特許文献1)。   In the organic EL display device, a part of the counter substrate for sealing is dug to provide a concave portion to form a water catching material storage portion. This water catching material storage part is provided in the display area in which the organic EL element is provided. And after storing a water catching material in a water catching material storage part, a sealing material is apply | coated to the convex part around a recessed part, and it is bonded with the element substrate. Thereby, a water catching material can be provided in the space where the organic EL element is sealed with the two substrates and the sealing material. This water-absorbing material functions as a desiccant, adsorbs moisture present in the sealed space, and prevents deterioration of the organic EL element. Moreover, the manufacturing method which provides a recessed part further in the outer periphery of the convex part for providing a sealing material is disclosed (patent document 1).

しかしながら、従来の有機EL表示装置ではガラス等の透明基板に対してエッチング処理を行い、掘り込みを作るため、厚さの制御が難しかった。また、複雑な形状の凹部を形成するとコストアップしてしまい、さらに、製造工程が増えるため生産性が低下してしまった。
特開2002−343557号公報
However, in the conventional organic EL display device, since the etching process is performed on the transparent substrate such as glass to make a digging, it is difficult to control the thickness. In addition, forming a concave portion having a complicated shape results in an increase in cost, and further, the number of manufacturing steps increases, resulting in a decrease in productivity.
JP 2002-343557 A

このように従来の有機EL表示パネルの製造方法では生産性の低下を招いてしまうという問題点があった。   As described above, the conventional method for manufacturing an organic EL display panel has a problem in that productivity is lowered.

本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、生産性の優れた表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide a display device with excellent productivity and a method for manufacturing the same.

本発明の第1の態様にかかる表示装置は、第1の基板(例えば、本発明の実施の形態における対向基板20)と第2の基板(例えば、本発明の実施の形態における素子基板10)とが対向配置された表示装置であって、前記第1の基板と前記第2の基板との間に表示領域を囲むように設けられたシール材(例えば、本発明の実施の形態におけるシール材23)と、前記第1の基板表面の上に形成され、前記シール材の外側に前記シール材の位置を規制するために配置された凸部(例えば、本発明の実施の形態における第1の凸部25)とを備えるものである。これにより、生産性を向上することができる。   The display device according to the first aspect of the present invention includes a first substrate (for example, the counter substrate 20 in the embodiment of the present invention) and a second substrate (for example, the element substrate 10 in the embodiment of the present invention). Is a display device disposed opposite to the display device, and a sealing material provided so as to surround a display region between the first substrate and the second substrate (for example, the sealing material in an embodiment of the present invention) 23) and a convex portion formed on the surface of the first substrate and arranged to restrict the position of the sealing material outside the sealing material (for example, the first in the embodiment of the present invention) And a convex portion 25). Thereby, productivity can be improved.

本発明の第2の態様にかかる表示装置は、上述の表示装置において前記第1の基板表面の上に形成され、前記シール材の内側に前記シール材の位置を規制するために配置された第2の凸部をさらに備えるものである。これにより、生産性を向上することができる。   A display device according to a second aspect of the present invention is formed on the surface of the first substrate in the above-described display device, and is disposed inside the seal material to regulate the position of the seal material. 2 convex parts are further provided. Thereby, productivity can be improved.

また、上述の表示装置において前記シール材が樹脂により形成されていることが好ましい。   In the above display device, it is preferable that the sealing material is formed of a resin.

本発明の第3の態様にかかる表示装置は、上述の表示装置において前記シール材に、シール材配設位置における前記第1の基板と前記第2の基板との間の間隔を規制するスペーサが設けられているものである。これにより、基板間隔を調整することができる。   In the display device according to the third aspect of the present invention, in the above-described display device, the sealing material includes a spacer that regulates a distance between the first substrate and the second substrate at a sealing material disposition position. It is provided. Thereby, a board | substrate space | interval can be adjusted.

本発明の第4の態様にかかる表示装置は、上述の表示装置において本発明の第1の態様にかかる表示装置は、前記スペーサが前記凸部の高さの1.02倍以上1.1倍以下の高さで形成されているものである。これにより、基板間隔を調整することができる。
本発明の第5の態様にかかる表示装置は、上述の表示装置において前記第1の凸部及び/又は第2の凸部に捕水材が含まれているものである。これにより捕水性能を向上することができる。
In the display device according to the fourth aspect of the present invention, in the display device according to the first aspect of the present invention, the spacer is 1.02 times to 1.1 times the height of the convex portion. It is formed with the following height. Thereby, a board | substrate space | interval can be adjusted.
A display device according to a fifth aspect of the present invention is the above-described display device, wherein the first convex portion and / or the second convex portion includes a water catching material. Thereby, water catching performance can be improved.

本発明の第6の態様にかかる表示装置の製造方法は、第1の基板表面の上に凸部を形成するステップと、前記凸部の内側に表示領域を囲むようシール材を形成するステップと、前記前記シール材を介して前記第1の基板と第2の基板とを貼り合わせるステップとを有するものである。これにより表示装置を高い生産性で製造することができる。   A method for manufacturing a display device according to a sixth aspect of the present invention includes a step of forming a convex portion on the surface of the first substrate, and a step of forming a sealing material so as to surround the display region inside the convex portion. And bonding the first substrate and the second substrate via the sealing material. As a result, the display device can be manufactured with high productivity.

本発明の第7の態様にかかる表示装置の製造方法は、前記凸部の内側に第2の凸部を形成するステップをさらに備え、前記シール材を形成するステップでは、前記第1の凸部と前記第2の凸部との間にシール材を形成するものである。   The manufacturing method of the display device according to the seventh aspect of the present invention further includes a step of forming a second convex portion inside the convex portion, and the step of forming the sealing material includes the first convex portion. And the second convex portion are formed with a sealing material.

本発明によれば、生産性の高い表示装置及びその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a display device with high productivity and a manufacturing method thereof.

以下に、本発明を適用可能な実施の形態が説明される。以下の説明は、本発明の実施形態を説明するものであり、本発明が以下の実施形態に限定されるものではない。説明の明確化のため、以下の記載は、適宜、省略及び簡略化がなされている。又、当業者であれば、以下の実施形態の各要素を、本発明の範囲において容易に変更、追加、変換することが可能であろう。尚、各図において同一の符号を付されたものは同様の要素を示しており、適宜、説明が省略される。   Hereinafter, embodiments to which the present invention can be applied will be described. The following description is to describe the embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment. For clarity of explanation, the following description is omitted and simplified as appropriate. Further, those skilled in the art will be able to easily change, add, and convert each element of the following embodiments within the scope of the present invention. In addition, what attached | subjected the same code | symbol in each figure has shown the same element, and abbreviate | omits description suitably.

本発明にかかる有機EL表示装置の製造方法について図1を用いて説明する。図1は有機EL表示装置の製造工程を示すフローチャートである。有機EL表示装置は画素となる有機EL素子を複数配置した有機EL表示パネルを備えている。有機EL表示パネルは通常、有機EL素子が形成された素子基板と有機EL素子を封止するため素子基板と対向配置された対向基板とを備えている。   A method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a flowchart showing a manufacturing process of an organic EL display device. The organic EL display device includes an organic EL display panel in which a plurality of organic EL elements serving as pixels are arranged. An organic EL display panel usually includes an element substrate on which an organic EL element is formed and a counter substrate disposed opposite to the element substrate for sealing the organic EL element.

有機EL素子を備える素子基板の製造方法について説明する。素子基板には厚さが例えば、0.7mm〜1.1mmのガラス基板を用いる(ステップS101)。ガラス基板には無アルカリガラス(例えば、旭硝子社製AN100)あるいはアルカリガラス(旭硝子社製AS)を用いることができる。このガラス基板の上に陽極電極材料であるITOを成膜する(ステップS102)。ITOはスパッタや蒸着によって、ガラス基板全面に均一性よく成膜することができる。ここではDCスパッタ法により膜厚150nmで成膜する。フォトリソグラフィー及びエッチングによりITOパターンを形成する(ステップS103)。このITOパターンが陽極となる。レジストとしてはフェノールノボラック樹脂を使用し、露光現像を行う。エッチングはウェットエッチングあるいはドライエッチングのいずれでもよいが、ここでは塩酸及び硝酸の混合水溶液を使用してITOをパターニングした。レジスト剥離材としてはモノエタノールアミンを使用した。   A method for manufacturing an element substrate including an organic EL element will be described. For example, a glass substrate having a thickness of 0.7 mm to 1.1 mm is used as the element substrate (step S101). As the glass substrate, alkali-free glass (for example, AN100 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) or alkali glass (ASA manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) can be used. An ITO film serving as an anode electrode material is deposited on the glass substrate (step S102). ITO can be formed on the entire surface of the glass substrate with good uniformity by sputtering or vapor deposition. Here, the film is formed with a film thickness of 150 nm by a DC sputtering method. An ITO pattern is formed by photolithography and etching (step S103). This ITO pattern becomes the anode. A phenol novolac resin is used as the resist, and exposure development is performed. Etching may be either wet etching or dry etching. Here, ITO was patterned using a mixed aqueous solution of hydrochloric acid and nitric acid. Monoethanolamine was used as the resist stripping material.

ITOパターンの上から補助配線材料を成膜する(ステップS104)。補助配線材料はAlあるいはAl合金などの低抵抗な金属材料が用いられ、スパッタ、蒸着によって成膜することができる。さらに下地との密着性を向上させるため、あるいは腐食を防止するために、Al膜の下層又は上層にTiNやCr等のバリア層を形成して補助配線を積層構造としても良い。このバリア層も蒸着あるいはスパッタにより形成できる。ここではDCスパッタ法により総厚が450nmのCr/Al/Crの積層膜やMoNb/Al/MoNbの積層膜を補助配線材料として成膜する。この補助配線材料をフォトリソグラフィー及びエッチングによりパターニングして、補助配線パターンを形成する(ステップS105)。エッチングには燐酸、酢酸、硝酸等の混合水溶液よりなるエッチング液を使用することができる。なお、陽極材料と補助配線材料とを順に成膜し、その後に補助配線材料と陽極材料を順番にパターニングすることも可能である。この補助配線パターンにより、陽極又は陰極に信号が供給される。   An auxiliary wiring material is deposited on the ITO pattern (step S104). The auxiliary wiring material is made of a low-resistance metal material such as Al or an Al alloy, and can be formed by sputtering or vapor deposition. Further, in order to improve adhesion to the base or prevent corrosion, a barrier layer such as TiN or Cr may be formed on the lower layer or upper layer of the Al film to form the auxiliary wiring in a laminated structure. This barrier layer can also be formed by vapor deposition or sputtering. Here, a Cr / Al / Cr laminated film or a MoNb / Al / MoNb laminated film having a total thickness of 450 nm is formed as an auxiliary wiring material by DC sputtering. The auxiliary wiring material is patterned by photolithography and etching to form an auxiliary wiring pattern (step S105). For the etching, an etching solution made of a mixed aqueous solution of phosphoric acid, acetic acid, nitric acid or the like can be used. It is also possible to form the anode material and the auxiliary wiring material in order, and then pattern the auxiliary wiring material and the anode material in order. A signal is supplied to the anode or the cathode by the auxiliary wiring pattern.

次に開口絶縁膜を形成する(ステップS106)。絶縁膜としては感光性のポリイミドをスピンコーティングして、フォトリソグラフィー工程でパターニングした後、キュアし画素に画素開口部を有する開口絶縁膜を形成する。同時に陰極と補助配線とのコンタクトホールを形成する。例えば、画素開口部は300μm×300μm程度、陰極と補助配線とのコンタクトホールを200μm×200μm程度で形成する。   Next, an opening insulating film is formed (step S106). As the insulating film, photosensitive polyimide is spin-coated, patterned after a photolithography process, and then cured to form an opening insulating film having a pixel opening in a pixel. At the same time, a contact hole between the cathode and the auxiliary wiring is formed. For example, the pixel opening is formed with a size of about 300 μm × 300 μm, and the contact hole between the cathode and the auxiliary wiring is formed with a size of about 200 μm × 200 μm.

次に陰極隔壁を形成する(ステップS107)。陰極隔壁には、例えば、ノボラック樹脂を用いる。ノボラック樹脂をスピンコートして、フォトリソグラフィー工程でパターニングした後、光反応させて陰極隔壁を形成する。陰極隔壁が逆テーパ構造を有するようネガタイプの感光性樹脂を用いることが望ましい。ネガタイプの感光性樹脂を用いると、上から光を照射した場合、深い場所ほど光反応が不十分となる。その結果、上から見た場合、硬化部分の断面積が上の方より下の方が狭い構造を有する。これが逆テーパ構造を有するという意味である。このような構造にすると、その後、陰極の蒸着時に蒸着源から見て陰になる部分は蒸着が及ばないため、陰極同士を分離することが可能になる。さらに、開口部のITO層の表面改質を行うために、酸素プラズマ又は紫外線を照射してもよい。   Next, a cathode barrier is formed (step S107). For the cathode partition, for example, novolac resin is used. A novolak resin is spin-coated, patterned by a photolithography process, and then photoreacted to form cathode barrier ribs. It is desirable to use a negative type photosensitive resin so that the cathode partition has an inversely tapered structure. When a negative photosensitive resin is used, when light is irradiated from above, the photoreaction becomes insufficient at deeper locations. As a result, when viewed from above, the cross-sectional area of the cured portion has a structure that is narrower on the lower side than on the upper side. This means that it has an inverted taper structure. With such a structure, the cathodes can be separated from each other because the portions that are shaded when viewed from the vapor deposition source during vapor deposition of the cathodes do not reach the vapor deposition. Further, oxygen plasma or ultraviolet light may be irradiated in order to modify the surface of the ITO layer in the opening.

次に画素開口部の上に有機EL素子を形成する(ステップS108)。例えば、蒸着装置を用い、有機EL層と陰極を蒸着する。有機EL層は界面層、正孔輸送層、発光層、電子注入層等を構成要素とすることが多い。ただし、これとは異なる層構成を有する場合もある。有機EL層の厚さは通常100〜300nm程度である。界面層として銅フタロシアニン(CuPc)を厚さ10nm、正孔輸送層としてN,N'−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N'−ジフェニル−ベンジジン(α―NPD)を厚さ60nm、発光層としてAlqを厚さ50nm、電子注入層としてLiFを厚さ0.5nm蒸着する。上述の構成で正孔輸送層をα―NPDの代わりにトリフェニルジアミン(TPD)等のトリフェニルアミン系の物質を使用することもできる。陰極にはAlを使用することが多いが、Li等のアルカリ金属、Ag、Ca、Mg、Y、Inやそれらを含む合金を用いることも可能である。陰極の厚さは通常50〜300nm程度であり、ここでは厚さ200nmのAlとする。陰極はこの他、スパッタリング、イオンプレーティングなどの物理的気相成長法(PVD)で形成することができる。これにより、有機EL素子が形成される。   Next, an organic EL element is formed on the pixel opening (step S108). For example, an organic EL layer and a cathode are deposited using a deposition apparatus. The organic EL layer often includes an interface layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron injection layer, and the like as constituent elements. However, it may have a different layer structure. The thickness of the organic EL layer is usually about 100 to 300 nm. Copper phthalocyanine (CuPc) is 10 nm thick as the interface layer, and N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (α-NPD) is 60 nm thick as the hole transport layer, Alq is deposited to a thickness of 50 nm as a light emitting layer, and LiF is deposited to a thickness of 0.5 nm as an electron injection layer. In the above structure, a triphenylamine-based material such as triphenyldiamine (TPD) can be used for the hole transport layer instead of α-NPD. Al is often used for the cathode, but alkali metals such as Li, Ag, Ca, Mg, Y, In and alloys containing them can also be used. The thickness of the cathode is usually about 50 to 300 nm, and here it is Al having a thickness of 200 nm. In addition, the cathode can be formed by physical vapor deposition (PVD) such as sputtering or ion plating. Thereby, an organic EL element is formed.

これらの工程により有機EL素子が複数形成された素子基板が製造される。通常1枚の基板には複数の有機EL素子を有する有機EL表示パネルが複数形成される。そして、各有機EL表示パネルを切断分離することにより、1枚のマザーガラスから複数の有機EL表示パネルが得られる。この工程については後述する。上述の有機EL素子基板の製造工程は典型的な有機EL表示装置に用いられる素子基板の製造工程の一例であり、上述の製造工程に限られるものではない。   Through these steps, an element substrate on which a plurality of organic EL elements are formed is manufactured. Usually, a plurality of organic EL display panels having a plurality of organic EL elements are formed on one substrate. Then, by cutting and separating each organic EL display panel, a plurality of organic EL display panels can be obtained from one mother glass. This process will be described later. The manufacturing process of the organic EL element substrate described above is an example of a manufacturing process of an element substrate used in a typical organic EL display device, and is not limited to the manufacturing process described above.

次に有機EL素子を封止するための対向基板の製造工程について説明する。有機EL素子は空気中の水分等により劣化するので、対向基板を用いて封止する。対向基板として厚さ0.7mm〜1.1mmのガラス基板が使用され(ステップS201)、素子基板と同様のものを用いることができる。   Next, a manufacturing process of the counter substrate for sealing the organic EL element will be described. Since the organic EL element deteriorates due to moisture in the air or the like, the organic EL element is sealed using a counter substrate. A glass substrate having a thickness of 0.7 mm to 1.1 mm is used as the counter substrate (step S201), and the same substrate as the element substrate can be used.

そして、対向基板の表面にシール材の位置を規制するための凸部を形成する(ステップS202)。凸部はシール材を形成する位置の外側及び内側に形成することが望ましい。凸部を外側に形成することにより、シール材が基板の切断線まで流出することを防ぐことができる。従って、切断不良の発生を低減することができる。また、凸部を内側に形成することにより、素子が形成されている領域まで流出することを防ぐことができる。凸部を設けることにより、基板を掘り込む工程を省略することができ、生産性を向上できる。   And the convex part for regulating the position of a sealing material is formed in the surface of a counter substrate (step S202). It is desirable to form the convex portions outside and inside the position where the sealing material is formed. By forming the convex portion on the outside, it is possible to prevent the sealing material from flowing out to the cutting line of the substrate. Therefore, occurrence of cutting defects can be reduced. Further, by forming the convex portion inside, it is possible to prevent the element from flowing out to the region where the element is formed. By providing the convex portion, the step of digging the substrate can be omitted, and productivity can be improved.

凸部はエポキシ樹脂により形成することができる。具体的には印刷あるいはディスペンサにより硬化性樹脂を塗布し、キュア等して凸部を形成する。樹脂は2液性又は1液性のエポキシ樹脂が好ましく、シール材塗布前に硬化させておく。これにより、凸部がシール材の流出を防ぐダムとして機能する。なお、樹脂は硬化性を持つ樹脂で、紫外線に対して耐性があるものであればよい。さらに、凸部の樹脂は長期に渡り揮発物質やガスの発生が無く、形成時にガラスと密着性があり、経時変化及び変形が硬化後のシール材と同等以上であることが望ましい。   The convex portion can be formed of an epoxy resin. Specifically, a curable resin is applied by printing or a dispenser, and a convex portion is formed by curing or the like. The resin is preferably a two-component or one-component epoxy resin, and is cured before application of the sealing material. Thereby, a convex part functions as a dam which prevents the outflow of a sealing material. Note that the resin may be a curable resin that is resistant to ultraviolet rays. Furthermore, it is desirable that the convex resin does not generate volatile substances or gases over a long period of time, has adhesiveness with glass at the time of formation, and has a change with time and deformation equivalent to or higher than that of the cured sealant.

次に捕水材を配置する(ステップS203)。捕水材には酸化カルシウム粉末などが用いられる。そして、対向基板の凸部が設けられた面に、ディスペンサを用いてシール材を塗布する(ステップS204)。シール材は外側の凸部と内側の凸部の間に設けられる。これにより、シール材が流出するのを防ぐことができる。シール材としては感光性エポキシ樹脂が望ましく、例えば、光カチオン重合型エポキシ樹脂を用いることができ、素子基板と対向基板を貼り合わせるための接着材として機能する。シール材には素子基板と対向基板との間隔を一定に保つためのスペーサを混練しておく。そしてスペーサ28が含まれたシール材23を塗布する。これにより、捕水材を配置するための隙間が形成される。   Next, a water catching material is disposed (step S203). Calcium oxide powder or the like is used as the water catching material. And a sealing material is apply | coated to the surface in which the convex part of the opposing board | substrate was provided using a dispenser (step S204). The sealing material is provided between the outer convex portion and the inner convex portion. Thereby, it can prevent that a sealing material flows out. As the sealing material, a photosensitive epoxy resin is desirable. For example, a photocationic polymerization type epoxy resin can be used, and it functions as an adhesive for bonding the element substrate and the counter substrate. The sealing material is kneaded with a spacer for keeping the distance between the element substrate and the counter substrate constant. Then, the sealing material 23 including the spacer 28 is applied. Thereby, the clearance gap for arrange | positioning a water catching material is formed.

次に素子基板と対向基板を貼り合わせて、有機EL素子を封止する(ステップS109)。この有機EL素子を封止することにより形成される有機EL表示パネルの構成について図2を用いて説明する。図2は素子基板と対向基板の切断線の構成を示す平面図である。10は素子基板、11は有機EL素子、12は補助配線、20は対向基板、23はシール材、24は飛散防止用シール材である。   Next, the element substrate and the counter substrate are bonded together to seal the organic EL element (step S109). A configuration of an organic EL display panel formed by sealing the organic EL element will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a plan view showing a configuration of cutting lines between the element substrate and the counter substrate. 10 is an element substrate, 11 is an organic EL element, 12 is an auxiliary wiring, 20 is a counter substrate, 23 is a sealing material, and 24 is a sealing material for preventing scattering.

まず、図2を用いて有機EL表示パネルの全体の構成について説明する。素子基板10には上述のステップS101〜S108により形成された複数の有機EL素子11と各有機EL素子11に信号を供給する補助配線12が設けられている。有機EL素子11からは補助配線12がシール材23の外側に延設されている。この補助配線12を介して有機EL素子に電流を供給することにより、有機EL素子11が発光して所望の画像を表示することができる。有機EL素子11が形成されている領域が表示領域となる。   First, the overall configuration of the organic EL display panel will be described with reference to FIG. The element substrate 10 is provided with a plurality of organic EL elements 11 formed in steps S <b> 101 to S <b> 108 and auxiliary wirings 12 for supplying signals to each organic EL element 11. An auxiliary wiring 12 extends from the organic EL element 11 to the outside of the sealing material 23. By supplying a current to the organic EL element through the auxiliary wiring 12, the organic EL element 11 emits light and a desired image can be displayed. A region where the organic EL element 11 is formed becomes a display region.

図2に示すようにマザーガラスとなる素子基板10には6個の表示領域が設けられており、封止用の対向基板20と対向配置されて封止されている。両基板を切断分離することにより有機EL表示パネル30が形成される。なお、切断分離前においても切断分離後の各々の有機EL表示パネルの中心側を内側とし、端部側を外側とする。素子基板10より若干小さい対向基板20には各有機EL素子11に対して捕水材22が配置されている。図2では説明のため捕水材について省略して図示している。   As shown in FIG. 2, the element substrate 10 serving as the mother glass is provided with six display regions, and is disposed so as to be opposed to the counter substrate 20 for sealing. The organic EL display panel 30 is formed by cutting and separating the two substrates. Even before the cutting and separation, the center side of each organic EL display panel after the cutting and separation is set to the inside, and the end side is set to the outside. A counter substrate 20 that is slightly smaller than the element substrate 10 is provided with a water capturing material 22 for each organic EL element 11. In FIG. 2, the water catching material is omitted for illustration.

対向基板20には、それぞれの表示領域の全周を囲むようにシール材23が設けられる。シール材23の内側及び外側にはシール材23の位置を規制するための凸部(図示せず)が形成されている。この凸部については後述する。なお、本実施例では切断する際の切断片の飛散を防止するため、それぞれの表示領域を囲むシール材23の間に飛散防止用シール材24が設けられている。   The counter substrate 20 is provided with a sealing material 23 so as to surround the entire circumference of each display region. Protrusions (not shown) for regulating the position of the sealing material 23 are formed on the inner side and the outer side of the sealing material 23. This convex portion will be described later. In this embodiment, in order to prevent scattering of the cut pieces when cutting, a scattering prevention sealing material 24 is provided between the sealing materials 23 surrounding each display area.

対向基板20には有機EL素子11の外周全体にシール材23が設けられている。シール材23は紫外線硬化樹脂等の接着剤であり、ディスペンサにより塗布される。このシール材23にUV光を照射して硬化させることにより、対向基板20と素子基板10を貼り合わせることができる。そして素子基板10と対向基板20とが対向するよう位置合わせして、両基板を加圧し、シール材にUV光を照射する。これにより、シール材23が硬化して素子基板10と対向基板20が貼り合わされる。   The counter substrate 20 is provided with a sealing material 23 on the entire outer periphery of the organic EL element 11. The sealing material 23 is an adhesive such as an ultraviolet curable resin, and is applied by a dispenser. The counter substrate 20 and the element substrate 10 can be bonded together by irradiating and curing the sealing material 23 with UV light. Then, the element substrate 10 and the counter substrate 20 are aligned so as to face each other, both substrates are pressurized, and the sealing material is irradiated with UV light. Thereby, the sealing material 23 is cured and the element substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together.

上述の工程により貼り合わされた基板を切断して、それぞれの有機EL表示パネルに分割する(ステップS110)。次に駆動回路等を実装する(ステップS111)。素子基板10にはシール材23で囲まれた領域から外に補助配線12が延設されている。補助配線12の外側の端部には端子部が形成されており、この端子部に異方性導電フィルム(ACF)を貼付け、駆動回路が設けられたTCP(Tape Carrier Package)を接続する。具体的には端子部にACFを仮圧着する。ACFは日立化成製アニソルム7106Uを用いている。仮圧着温度は80℃で、圧着圧力は1.0MPaである。ついで駆動回路が内蔵されたTCPを端子部に本圧着する。本圧着温度は170度で、圧着圧力は2.0MPaである。これにより駆動回路が実装される。この有機EL表示パネル30が筐体に取り付けられ、有機EL表示装置が完成する(ステップS112)。   The substrate bonded by the above-described process is cut and divided into each organic EL display panel (step S110). Next, a drive circuit and the like are mounted (step S111). On the element substrate 10, auxiliary wiring 12 is extended outside from a region surrounded by the sealing material 23. A terminal portion is formed at the outer end portion of the auxiliary wiring 12, and an anisotropic conductive film (ACF) is attached to the terminal portion to connect a TCP (Tape Carrier Package) provided with a drive circuit. Specifically, ACF is temporarily crimped to the terminal portion. ACF uses Hitachi Chemical Anisolm 7106U. The temporary pressure bonding temperature is 80 ° C. and the pressure bonding pressure is 1.0 MPa. Next, the TCP with the built-in drive circuit is finally bonded to the terminal portion. The main pressure bonding temperature is 170 degrees and the pressure bonding pressure is 2.0 MPa. Thereby, a drive circuit is mounted. The organic EL display panel 30 is attached to the housing, and the organic EL display device is completed (step S112).

上述の工程により、図3に示す有機EL表示パネル30が形成される。図3は有機EL表示パネル30の構成を模式的に示す断面図である。なお、図3では駆動回路等については省略して図示している。図3に示すように素子基板10の表示領域には有機EL素子11が設けられている。対向基板20の有機EL素子11と対向する位置には空気中の水分等による有機EL素子11の劣化を防ぐための捕水材22が設けられている。捕水材22は有機EL素子11が封止された空間の水分を捕獲して、有機EL素子11の劣化を防ぐ。封止する工程では窒素ガスを充填してもよい。   Through the above-described steps, the organic EL display panel 30 shown in FIG. 3 is formed. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the organic EL display panel 30. In FIG. 3, the drive circuit and the like are not shown. As shown in FIG. 3, an organic EL element 11 is provided in the display area of the element substrate 10. A water catching material 22 for preventing deterioration of the organic EL element 11 due to moisture in the air is provided at a position facing the organic EL element 11 of the counter substrate 20. The water capturing material 22 captures moisture in the space where the organic EL element 11 is sealed, and prevents the organic EL element 11 from deteriorating. In the sealing step, nitrogen gas may be filled.

シール材23の外側には第1の凸部25が形成されている。さらにシール材23の内側には第2の凸部27が形成されている。すなわち、第1の凸部25と第2の凸部27との間にシール材23が形成される。捕水材22は第2の凸部27の内側に設けられ、表示領域内に配置される。   A first convex portion 25 is formed outside the sealing material 23. Further, a second convex portion 27 is formed inside the sealing material 23. That is, the sealing material 23 is formed between the first convex portion 25 and the second convex portion 27. The water catching material 22 is provided inside the second convex portion 27 and is disposed in the display area.

このシール材23の近傍の構成について図4を用いて説明する。図4は封止工程におけるシール材23近傍の構成を模式的に示す拡大断面図である。素子基板10の表面において、シール材23を塗布する位置の外側に第1の凸部25を樹脂により形成する。シール材23を塗布する位置の内側に第2の凸部27を樹脂により形成する。シール材塗布前にエポキシ樹脂を硬化して、第1の凸部25及び第2の凸部27を形成する。これにより、対向基板20の上に設けられた第1の凸部25と第2の凸部27とがシール材23の流出を防ぐダムとして機能する。そして、第1の凸部25と第2の凸部27との間にシール材23を塗布する。シール材23にはシール材配設位置における素子基板10と対向基板20との間の間隔を規制するためのスペーサ28が含まれている。このスペーサ28により基板間のギャップを制御することができる。シール材23は第1の凸部25及び第2の凸部27よりも高く塗布されている。 A configuration in the vicinity of the sealing material 23 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view schematically showing the configuration in the vicinity of the sealing material 23 in the sealing step. On the surface of the element substrate 10, the first convex portion 25 is formed of resin outside the position where the sealing material 23 is applied. The second convex portion 27 is formed of resin inside the position where the seal material 23 is applied. The epoxy resin is cured before applying the sealing material to form the first convex portion 25 and the second convex portion 27. Thereby, the first convex portion 25 and the second convex portion 27 provided on the counter substrate 20 function as a dam that prevents the sealing material 23 from flowing out. Then, the sealing material 23 is applied between the first convex portion 25 and the second convex portion 27. The seal material 23 includes a spacer 28 for restricting the distance between the element substrate 10 and the counter substrate 20 at the position where the seal material is disposed. The spacer 28 can control the gap between the substrates. The sealing material 23 is applied higher than the first convex portion 25 and the second convex portion 27.

素子基板10と対向基板20とが対向するよう位置合わせして、両基板を加圧する。これにより、硬化前のシール材23が凸部と素子基板10との間まで流出して、図4(b)に示す構成となる。   Positioning is performed so that the element substrate 10 and the counter substrate 20 face each other, and both substrates are pressurized. Thereby, the sealing material 23 before hardening flows out between the convex part and the element substrate 10, and it becomes a structure shown in FIG.4 (b).

そして、図4(c)に示すように、スペーサ28の高さまで素子基板10と対向基板20との間隔が狭くなる。シール材23にスペーサ28が設けられているため、基板間隔がスペーサ28よりも狭くなることがない。スペーサ28は第1の凸部25及び第2の凸部27の高さの1.02倍〜1.1倍の高さが望ましい。凸部の頂面と素子基板10との間にはギャップが生じる。両基板を加圧すると、このギャップにシール材23が流れ出る。すなわち凸部よりも高く形成されているシール材23が押し潰されて凸部の頂面と素子基板10との間に流出する。シール材23の流出量は凸部の高さとスペーサ28の高さによって制御される。この状態でシール材23にUV光を照射する。これにより、両基板が接着された構成となる   Then, as shown in FIG. 4C, the distance between the element substrate 10 and the counter substrate 20 is reduced to the height of the spacer 28. Since the spacer 28 is provided on the sealing material 23, the substrate interval does not become narrower than the spacer 28. The spacer 28 preferably has a height of 1.02 to 1.1 times the height of the first convex portion 25 and the second convex portion 27. A gap is generated between the top surface of the convex portion and the element substrate 10. When both substrates are pressurized, the sealing material 23 flows out into this gap. That is, the sealing material 23 formed higher than the convex portion is crushed and flows out between the top surface of the convex portion and the element substrate 10. The outflow amount of the sealing material 23 is controlled by the height of the convex portion and the height of the spacer 28. In this state, the sealing material 23 is irradiated with UV light. As a result, both substrates are bonded.

第1の凸部25及び第2の凸部27の高さは素子基板10と対向基板20との間に形成される間隔に基づいて決定される。すなわち、有機EL素子10の厚さと捕水材22の高さに基づいて第1の凸部25及び第2の凸部27の高さが決定される。第1の凸部25及び第2の凸部27の高さを有機EL素子10の高さと捕水材22の高さとの合計の高さよりも大きくすることにより、捕水材22が有機EL素子11と接触することを防ぐことができる。有機EL素子11及び捕水材22の高さを考慮した場合、第1の凸部25及び第2の凸部27の高さは例えば、0.3mm程度で形成される。捕水材22の高さを考慮しない場合、有機EL素子11の総厚がおよそ0.2μmなので、樹脂の表面張力と濡れ性だけを考慮すれば、第1の凸部25及び第2の凸部27の高さは0.1mm程度で形成される。   The heights of the first convex portion 25 and the second convex portion 27 are determined based on the distance formed between the element substrate 10 and the counter substrate 20. That is, the heights of the first convex portion 25 and the second convex portion 27 are determined based on the thickness of the organic EL element 10 and the height of the water catching material 22. By making the height of the first convex portion 25 and the second convex portion 27 larger than the total height of the organic EL element 10 and the water catching material 22, the water catching material 22 becomes an organic EL element. 11 can be prevented from contacting. When the height of the organic EL element 11 and the water catching material 22 is taken into consideration, the height of the first convex portion 25 and the second convex portion 27 is, for example, about 0.3 mm. When the height of the water catching material 22 is not taken into account, the total thickness of the organic EL element 11 is about 0.2 μm. Therefore, if only the surface tension and wettability of the resin are taken into consideration, the first convex portion 25 and the second convex portion The height of the portion 27 is about 0.1 mm.

第1の凸部25及び第2の凸部27は上述のようにエポキシ樹脂により形成される。これにより、捕水材22を配置するために基板を掘り込む必要がなくなり、表面が平坦な基板上に捕水材22を配置することができる。よって、基板のエッチング工程を省略することができ、生産性を向上することができる。さらに、シール材23には基板間隔を一定にするためスペーサ28を設けられている。シール材23の外側に第1の凸部25を設けることにより、切断線までシール材23が流出することを防ぐことができる。よって、切断不良を低減することができ、生産性を向上することができる。また、シール材23の内側に第2の凸部27を形成することにより、有機EL素子11や捕水材22までシール材23が流出することを防ぐことができる。よって、表示品質の低下を防ぐことができる。シール材23にスペーサ28を混練しておくことにより、製造工程を増やさずスペーサ28を設けることができ、生産性を向上することができる。また凸部とスペーサ28の高さを調整することにより、シール材23のはみ出し量を容易に制御することができる。   The first convex portion 25 and the second convex portion 27 are formed of epoxy resin as described above. Thereby, it is not necessary to dig a substrate in order to arrange the water catching material 22, and the water catching material 22 can be placed on the substrate having a flat surface. Therefore, the substrate etching step can be omitted and productivity can be improved. Furthermore, spacers 28 are provided in the sealing material 23 in order to keep the substrate interval constant. By providing the 1st convex part 25 on the outer side of the sealing material 23, it can prevent that the sealing material 23 flows out to a cutting line. Therefore, cutting defects can be reduced and productivity can be improved. Further, by forming the second convex portion 27 inside the sealing material 23, it is possible to prevent the sealing material 23 from flowing out to the organic EL element 11 and the water catching material 22. Therefore, it is possible to prevent a decrease in display quality. By kneading the spacer 28 in the sealing material 23, the spacer 28 can be provided without increasing the number of manufacturing steps, and productivity can be improved. Further, by adjusting the heights of the convex portions and the spacers 28, the amount of protrusion of the sealing material 23 can be easily controlled.

第1の凸部25及び第2の凸部27はシール材23の全体を囲むように連続的に設けることが望ましい。連続的に凸部を形成することにより、シール材23が全体を囲む枠状に形成される。これにより、シール材23が流出することを防ぐことができる。なお、樹脂の表面張力と濡れ性のバランスによって影響しない程度であれば間歇的に凸部を形成することも可能である。例えば、幅0.1mm程度で第1の凸部25又は第2の凸部27の欠損があってもよい。また、特定部分のみへのシール材23の流出を防ぎたい場合、間歇的に凸部を形成してもよい。   It is desirable that the first convex portion 25 and the second convex portion 27 are continuously provided so as to surround the entire sealing material 23. By continuously forming the convex portions, the sealing material 23 is formed in a frame shape surrounding the whole. Thereby, it can prevent that the sealing material 23 flows out. In addition, it is also possible to form a convex part intermittently if it is a grade which is not influenced by the balance of the surface tension and wettability of resin. For example, the first convex portion 25 or the second convex portion 27 may be missing with a width of about 0.1 mm. Further, when it is desired to prevent the seal material 23 from flowing out only to a specific portion, the convex portions may be formed intermittently.

両基板とシール材23で囲まれた空間には捕水材が配置されているため、封止された空間に残留または侵入してくる水分等による有機EL素子の劣化を防止することができる。シール材23の近傍に設けられている第1の凸部25及び第2の凸部27は紫外線に対して耐性を有しているため、揮発物質が封止空間に揮発することがない。   Since the water capturing material is disposed in the space surrounded by both the substrates and the sealing material 23, it is possible to prevent deterioration of the organic EL element due to moisture remaining or entering the sealed space. Since the 1st convex part 25 and the 2nd convex part 27 which were provided in the vicinity of the sealing material 23 have tolerance with respect to an ultraviolet-ray, a volatile substance does not volatilize in sealing space.

なお、上述の説明ではシール材23、第1の凸部25及び第2の凸部27を対向基板20に形成したが、素子基板10に形成してもよい。また第1の凸部25と第2の凸部27とは異なる高さでもよい。この場合、高い方の凸部の高さの1.02〜1.1倍の高さのスペーサ28を用いることが好ましい。さらに、第1の凸部25又は第2の凸部27となるエポキシ樹脂に捕水材を混練しておくことにより、捕水性能を向上することができる。   In the above description, the sealing material 23, the first convex portion 25, and the second convex portion 27 are formed on the counter substrate 20, but may be formed on the element substrate 10. Further, the first convex portion 25 and the second convex portion 27 may have different heights. In this case, it is preferable to use a spacer 28 having a height of 1.02 to 1.1 times the height of the higher convex portion. Furthermore, water-capturing performance can be improved by kneading a water-absorbing material with the epoxy resin that becomes the first convex portion 25 or the second convex portion 27.

本発明にかかる有機EL表示装置の製造工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing process of the organic electroluminescence display concerning this invention. 本発明にかかる有機EL表示パネルの切断前の構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure before the cutting | disconnection of the organic electroluminescent display panel concerning this invention. 本発明にかかる有機EL表示パネルの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the organic electroluminescence display panel concerning this invention. 本発明の実施例にかかる有機EL表示装置の封止時におけるシール材周辺の構成を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view which shows the structure of the sealing material periphery at the time of sealing of the organic electroluminescent display apparatus concerning the Example of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 素子基板
11 有機EL素子
12 補助配線
20 対向基板、
22 捕水材
23 シール材
24 飛散防止用シール材
25 第1の凸部
27 第2の凸部
28 スペーサ
30 有機EL表示パネル
40 対向基板の切断線
50 素子基板の切断線
10 element substrate 11 organic EL element 12 auxiliary wiring 20 counter substrate,
22 Water catching material 23 Sealing material 24 Spattering preventing sealing material 25 First convex portion 27 Second convex portion 28 Spacer 30 Organic EL display panel 40 Cutting line 50 of opposing substrate Cutting line of element substrate

Claims (7)

第1の基板と第2の基板とが対向配置された表示装置であって、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に表示領域を囲むように設けられたシール材と、
前記第1の基板表面の上に形成され、前記シール材の外側に前記シール材の位置を規制するために配置された第1の凸部と
前記第1の基板表面の上に形成され、前記シール材の内側に前記シール材の位置を規制するために配置された第2の凸部と、を備え、
前記シール材に前記第1の基板と前記第2の基板との間の間隔を規制するスペーサを含ませるとともに、該スペーサが前記第1の凸部及び前記第2の凸部の高さよりも高くされ、
前記第1の凸部の頂面及び第2の凸部の頂面と前記第2の基板との間にシール材が介在している表示装置。
A display device in which a first substrate and a second substrate are arranged to face each other,
A sealing material provided so as to surround a display region between the first substrate and the second substrate;
A first protrusion formed on the surface of the first substrate and disposed on the outside of the sealing material to regulate the position of the sealing material ;
A second protrusion formed on the surface of the first substrate and disposed inside the sealing material to regulate the position of the sealing material,
The seal material includes a spacer that regulates a distance between the first substrate and the second substrate, and the spacer is higher than the height of the first protrusion and the second protrusion. And
A display device in which a sealing material is interposed between the top surface of the first protrusion and the top surface of the second protrusion and the second substrate .
前記スペーサが前記第1の凸部及び第2の凸部の高さの1.02倍以上1.1倍以下の高さで形成されている請求項に記載の表示装置。 2. The display device according to claim 1 , wherein the spacer is formed at a height of 1.02 times or more and 1.1 times or less of a height of the first protrusion and the second protrusion. 前記第1の凸部及び/又は第2の凸部に捕水材が含まれている請求項1、又は2に記載の表示装置。 The display device according to claim 1, wherein a water catching material is included in the first convex portion and / or the second convex portion. 前記シール材が紫外線硬化樹脂である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の表示装置 The display device according to claim 1, wherein the sealing material is an ultraviolet curable resin . 前記第1の基板が対向基板であり、前記第2の基板が有機EL素子を備える素子基板である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の表示装置。4. The display device according to claim 1, wherein the first substrate is a counter substrate, and the second substrate is an element substrate including an organic EL element. 第1の基板表面の上に第1の凸部を形成するステップと、
前記第1の凸部の内側に表示領域を囲むようシール材を形成するステップと、
前記前記シール材を介して前記第1の基板と第2の基板とを貼り合わせるステップと、
前記第1の凸部の内側に前記第2の凸部を形成するステップと、を備え、
前記シール材を形成するステップでは、
前記第1の凸部と前記第2の凸部との間にシール材を形成し、前記シール材に前記第1の凸部及び前記第2の凸部の高さよりも高いスペーサを含ませ、
前記シール材を前記第1の凸部及び前記第2の凸部よりも高く塗布し、前記第1の凸部及び前記第2の凸部と前記第2の基板との間に前記シール材を流れ込ませる表示装置の製造方法。
Forming a first protrusion on the surface of the first substrate;
Forming a sealing material so as to surround the display area inside the first convex portion;
Bonding the first substrate and the second substrate through the sealing material;
Forming the second convex portion inside the first convex portion, and
In the step of forming the sealing material,
Forming a sealing material between the first convex portion and the second convex portion, and including a spacer higher than the height of the first convex portion and the second convex portion in the sealing material;
The sealing material is applied higher than the first convex portion and the second convex portion, and the sealing material is interposed between the first convex portion, the second convex portion, and the second substrate. A method for manufacturing a display device to be poured .
前記第1の凸部及び第2の凸部に捕水材を含ませる請求項6に記載の表示装置の製造方法。The method for manufacturing a display device according to claim 6, wherein a water catching material is included in the first convex portion and the second convex portion.
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