JP4486382B2 - 分析装置用付属品、及びそれを用いた分析装置 - Google Patents

Description

本発明は、分析装置用付属品及びそれを用いた分析装置、特に付属品のためのガスパージ機構の改良に関する。

従来より、物質の定量分析ないし定性分析を行うため、赤外分光光度計等の分析装置が用いられている。
ところで、赤外領域の分析においては、物質のスペクトル波形に空気中の水蒸気による吸収ピークが重なることが多いので、空気中に存在する水蒸気等は、高精度なデータを取る上で厄介なものである。特に物質の微弱なピークを測定する際、空気中の水蒸気等の影響は、より深刻となる。したがって、赤外領域の分析においては、いかに空気中の水蒸気等の影響を取り除くかが精度の良いデータを取る上で重要である。
このため分析装置の中でも、特に赤外分析を行うものは、水蒸気等を効果的に除去するため、本体内をガスパージするガスパージ機構を持つ（特許文献１等）。従来は、パージ機構を使って、分析装置の本体内の全体をガスパージしながら、赤外領域の分析を行っている。

ところで、分析装置においては、試料形態に応じた種々の測定法を行うため、本体試料室に付属品を着脱自在に設けている。
付属品をガスパージするため、従来は、本体試料室の全体をパージすることにより付属品も間接的にガスパージすることが考えられる。また従来は、本体試料室に付属品をセットした後、本体用のガス管とは別のガス管を付属品に設け、付属品の全体を直接ガスパージすることも考えられる。
特開平１０−３３２５７４号公報

しかしながら、前記従来方式では、付属品のパージを、簡単に行うこと及び良好に行うことを同時に図ることが困難であった。
すなわち、前記本体試料室の全体をガスパージすることにより付属品も間接的にガスパージするものでは、パージの時間や純度の面で満足のゆくガスパージが行えるものではなかった。
一方、前記付属品の全体を直接ガスパージするものでは、本体試料室の全体をガスパージするものに比較しガスパージが良好に行えるものの、本体試料室に付属品を着脱するたびに、付属品に配管を設ける作業や、これを取り外す作業をしなければならないので、手間がかかり、コストも上がる。
本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされたものであり、その目的は付属品のガスパージを、簡単に及び良好に行うことのできる分析装置を提供することにある。

前記目的を達成するために本発明にかかる分析装置用付属品は、試料室、この試料室に向けて分析に用いる光を出射する光出射手段、および前記試料室からの光を検出する検出器を有して構成される分析装置の本体における前記試料室に対して着脱自在に設けられ、前記本体と共に光学的な分析を行うための光学系構成部材を備えた分析装置用付属品において、付属品ベースを備える。前記分析装置の本体より、前記試料室ベースのパージ用孔及び前記付属品ベースのパージ用孔を通して、前記付属品ベースに設けられた光学系構成部材の周囲がガスパージされることを特徴とする。
ここで、前記付属品ベースは、前記試料室に前記分析装置用付属品をセットした状態では前記試料室の試料室ベースと接触する。前記光学系構成部材は、前記付属品ベースの接触側とは反対側に設けられ、前記光照射手段からの光を試料に入射させる入射光用の光学系構成部材、および前記試料からの光を前記検出器に出射させる出射光用の光学系構成部材を含む。前記付属品ベースには、前記分析装置用付属品の中での光路上の近くに位置するところにパージ用孔が設けられる。前記試料室ベースに前記付属品ベースを接触させて前記試料室に前記分析装置用付属品を置いた状態では、前記光出射手段からの光が前記入射光用の光学系構成部材に入射され、前記出射光用の光学系構成部材からの光が前記検出器に出射され、かつ、試料室ベースに設けられたパージ用孔の位置と前記付属品ベースのパージ用孔の位置が一致する。

なお、前記分析装置用付属品において、パージケースを備える。前記分析装置の本体より、前記付属品ベースのパージ用孔を通して、前記パージケース内の光学系構成部材の周囲がガスパージされることが好適である。
ここで、前記パージケースは、前記光学系構成部材を密閉し、前記付属品ベースのパージ用孔と連通する。
また前記目的を達成するために本発明にかかる分析装置は、前記分析装置用付属品が着脱自在に設けられ、前記分析装置用付属品と共に光学的な分析を行うための本体を備えた分析装置であって、前記本体は、前記分析装置用付属品が着脱自在に設けられる試料室、この試料室に向けて分析に用いる光を出射する光出射手段、および前記試料室からの光を検出する検出器を有し、前記試料室にパージガスを導入可能に構成される。前記試料室には、前記付属品ベースと接触した状態で前記分析装置用付属品が置かれる試料室ベースが設けられている。前記試料室ベースには、前記分析装置用付属品のパージ用孔の位置に対応する、前記本体の中での光路上の近くに位置するところに、パージ用孔が設けられる。前記試料室ベースに前記付属品ベースを接触させて前記試料室に前記分析装置用付属品を置いた状態では、前記分析装置用付属品の中での光路と前記本体の中での光路とが一致し、かつ、前記試料室ベースのパージ用孔と前記付属品ベースのパージ用孔との位置が一致し、前記本体よりのパージガスが、前記試料室ベースのパージ用孔及び前記付属品ベースのパージ用孔を介して、前記付属品ベースに設けられた光学系構成部材の周囲に導入されることを特徴とする。

ここで、前記試料室ベースは、前記付属品ベースと接触した状態で前記分析装置用付属品が置かれる。
また前記付属品用のガス管は、前記分析装置用付属品にパージガスを供給するためのものとする。
なお、前記分析装置において、前記本体に既存のガス本管と、前記ガス本管と前記試料室ベースのパージ用孔とを連通する付属品用ガス管とを備える。前記付属品用ガス管は、前記ガス本管と前記試料室ベースのパージ用孔とを連通する。前記分析装置の本体に前記分析装置用付属品を置くと、前記ガス本管よりのパージガスを、前記付属品用ガス管、前記試料室ベースのパージ用孔、及び前記付属品ベースのパージ用孔を介して、前記付属品ベースに設けられた光学系構成部材の周囲に導入することが好適である。
ここで、前記ガス本管は、前記本体内をガスパージするパージガスを供給するためのものとする。

本発明において付属品（分析装置の本体）の中での光路上の近くに位置するところの意味は、光路を遮る部分をいうものではなく、例えば図面上、付属品（分析装置の本体）を真上から見ると、光路上に孔がほぼ位置するように見えるが、実際には、孔の真上を光路が通っているものをいう。またここにいう光路上に孔がほぼ位置するとは、付属品（分析装置の本体）を真上から見ると、光路上に孔が完全に一致するもの、完全には一致しないが光路の近傍に位置するものを含めていう。

本発明にかかる分析装置用付属品によれば、その光学系構成部材が設けられ、分析装置本体にセットする際に分析装置本体に接触させる付属品ベースを備え、付属品ベースは、付属品の中での光路上の近くに位置するところにパージ用孔が設けられることとしたので、分析装置の本体より、付属品ベースのパージ用孔を通して付属品のガスパージが簡単に及び良好に行われる。
本発明においては、前記分析装置用付属品の光学系構成部材を密閉するパージケースを設けることにより、前記付属品のガスパージが、より良好に行われる。

本発明にかかる分析装置によれば、前記付属品ベースと接触して前記分析装置用付属品が置かれる試料室ベースを備え、試料室ベースは、付属品ベースのパージ用孔の位置に対応する、本体の中での光路上の近くに位置するところにパージ用孔が設けられることとしたので、付属品のガスパージを、簡単に及び良好に行うことができる。
本発明においては、本体に既存のガス本管に付属品用のガス管を連通し、ガス本管からのパージガスを付属品用のガス管を介して試料室ベースのパージ用孔に供給することにより、前記付属品のガスパージを、より簡単に行うことができる。

以下、図面に基づいて本発明の好適な一実施形態について説明する。
図１には本発明の一実施形態にかかる分析装置の概略構成が示されている。なお、同図（Ａ）は付属品、及び本体試料室の主要部を上方より見た図、同図（Ｂ）は同図（Ａ）のＡ−Ａ断面図である。
同図に示すＦＴＩＲ（分析装置）１０は、付属品（分析装置用付属品）１２と、ＦＴＩＲ本体１４と、を備える。
付属品１２は、ＦＴＩＲ本体１４の試料室１６（以下、本体試料室１６という）に着脱自在に設けられ、ＦＴＩＲ本体１４と共に赤外分析（光学的な分析）を行うための光学系構成部材１８等を備える。

光学系構成部材１８は、例えば楔形偏光子等からなり、サンプルの高感度反射測定を行うためのものとする。
付属品１２は、付属品ベース２０を備える。
付属品ベース２０は、その上面側に光学系構成部材１８が設けられる。
ＦＴＩＲ本体１４に付属品１２をセットする際、付属品ベース２０は、その下面が、ＦＴＩＲ本体１４に接触される。
付属品ベース２０は、付属品１２の中での光路２２上の近くに位置するところにパージ用孔２４が設けられる。本実施形態において、付属品ベース２０は、付属品１２の中での光路２２に対してまっすぐ下方に離隔して位置するところに、パージ用孔２４が設けられている。

このために本実施形態においては、さらにパージケース２６と、支持部材２８と、パージ用パイプ３０と、を備える。パージケース２６は、支持部材２８及びパージ用パイプ３０を介して、付属品ベース２０に支持されている。
パージケース２６は、光学系構成部材１８を密閉する。このパージケース２６は、パージケース２６の内外を連通する孔３２が設けられている。
パージ用パイプ３０は、パージガスの流路３４を持つ中空状のものである。
パージケース２６の孔３２、付属品ベース２０のパージ用孔２４とが、パージ用パイプ３０の流路３４を介して連通している。
そして、ＦＴＩＲ本体１４より、付属品ベース２０のパージ用孔２４、パージ用パイプ３０の流路３４、パージケース２６の孔３２を通して、付属品１２のパージケース２６内の光学系構成部材１８の周囲がガスパージされる。

本実施形態において、パージケース２６は、実質的に付属品１２の中での光路２２上のみを密閉しており、付属品１２の中での光路２２上にＦＴＩＲ本体１４よりのパージガスの流路を重点的に形成している。
ＦＴＩＲ本体１４は、試料室ベース（本体ベース）３６と、付属品用のガス管３８と、を備える。
試料室ベース３６は、付属品ベース２０と接触した状態で、付属品１２が置かれる。
付属品用のガス管３８は、付属品１２にパージガスを供給するためのものとする。
試料室ベース３６は、付属品ベース２０のパージ用孔２４の位置に対応する、ＦＴＩＲ本体１４の中での光路２２上の近くに位置するところに、パージ用孔４０が設けられている。試料室ベース３６は、ＦＴＩＲ本体１４の中での光路２２に対してまっすぐ下方に離隔して位置するところに、パージ用孔２４が設けられている。

なお、本実施形態においては、ＦＴＩＲ本体１４に対する付属品１２の光学的な位置決めを容易に行うため、試料室ベース３６は、ＦＴＩＲ本体１４の中での光路２２上の近くに位置するところに位置出しピン４２が設けられている。付属品ベース２０は、試料室ベース３６の位置出しピン４２の位置に対応する、付属品１２の中での光路２２上の近くに位置するところに位置出し穴４４が設けられている。
また本発明において付属品１２（ＦＴＩＲ本体１４）の中での光路２２上の近くに位置するところの意味は、光路２２を遮る部分をいうものではなく、例えば同図（Ａ）中、付属品１２（ＦＴＩＲ本体１４）を真上から見ると、光路２２上にパージ用孔２４，４０がほぼ位置するように見えるが、実際には、同図（Ｂ）に示されるようにパージ用孔２４，４０の真上を光路２２が通っているものをいう。
図２には分析装置１０の全体図が示されている。

さらに本実施形態において、同図に示されるようにＦＴＩＲ本体１４は、ＦＴＩＲ本体１４に既存のガス本管４６を備える。ガス本管４６は、例えば干渉計室４８、検出器室５０をガスパージするパージガスを供給するためのものとする。付属品用のガス管３８は、ＦＴＩＲ本体１４に既存のガス本管４６と試料室ベース３６のパージ用孔４０とを連通する。
本実施形態にかかる分析装置１０は概略以上のように構成され、以下にその作用について説明する。

試料の特性（形状、材質、性質等）により適切な測定法を行うための付属品１２を選択し、付属品１２の中での光路２２とＦＴＩＲ本体１４の中での光路２２とを一致させて、ＦＴＩＲ本体１４に付属品１２をセットする。
ここで、本実施形態において、ＦＴＩＲ本体１４側では、試料室ベース３６のパージ用孔４０から、ガスが噴出できる構造になっている。このために試料室ベース３６は、付属品ベース２０のパージ用孔２４の位置に対応する、ＦＴＩＲ本体１４の中での光路２２上の近くに位置するところに、パージ用孔４０が設けられている。試料室ベース３６のパージ用孔４０は、付属品用ガス管３８を介して、ＦＴＩＲ本体１４に既存のガス本管４６に連通している。

一方、本実施形態において、付属品１２側では、その設置面がＦＴＩＲ本体１４側での噴出位置のガスが流入できるような構造になっている。このために付属品ベース２０は、付属品１２の中での光路２２上の近くに位置するところにパージ用孔２４が設けられている。
したがって、本実施形態においては、本体試料室１６に付属品１２をセットするだけで、ＦＴＩＲ本体１４のガス噴出位置となる試料室ベース３６のパージ用孔４０と付属品ベース２０のパージ用孔２４との位置が合う。これによりＦＴＩＲ本体１４に既存のガス本管４６よりのパージガスは、付属品用ガス管３８、試料室ベース３６のパージ用孔４０及び付属品ベース２０のパージ用孔２４を通じて、付属品１２のパージケース２６内に導入される。

ここで、従来においても、本体試料室の全体をガスパージすることにより付属品を間接的にガスパージすることが考えられる。また例えばＦＴＩＲ本体の検出器室から試料室に流入するパージガスを付属品から試料室の壁部に伸ばしたパイプで付属品側に導き入れることも考えられる。しかしながら、これらの従来方式では、付属品のパージが簡単に行えるものの、パージガス置換時間が長い、パージガス置換率（純度）が低い等の課題があった。

一方、これらの点を改善するため、ＦＴＩＲ本体用とは別に配管を付属品に設け、この配管を付属品の前面パネルに設けられたパージ配管口に接続し、付属品を直接パージすることも考えられる。しかしながら、この従来方式では、本体試料室に付属品を着脱するたびに、配管を付属品に設ける作業や、これを取り外す作業をしなければならないので、手間がかかり、コストも上がる。
このため従来は、付属品のガスパージにおいて、作業の容易性とパージの良好性とを同時に改善することのできる技術が存在しなかった。

これに対し、本実施形態においては、前述のように試料室ベース３６と付属品ベース２０との適切な位置にそれぞれパージ用孔２４，４０を設け、ＦＴＩＲ本体１４を通じて付属品１２のガスパージが行えるようにしている。
したがって、本実施形態においては、本体試料室１６に付属品１２をセットするだけで、付属品１２に新たに配管を設ける作業を行うことなく、ＦＴＩＲ本体１４を通じて付属品１２のガスパージが、簡単に及び良好に行える。
また本実施形態においては、付属品１２のパージ機構として、ＦＴＩＲ本体１４に既存の干渉計室４８、検出器室５０等のためのパージ機能を利用している。このため本実施形態においては、付属品を着脱するたびに配管作業をしなければならないものに比較し、付属品をパージする際の配管の手間が大幅に省ける。また配管自体が必要ないのでコストも下がる。

また本実施形態においては、試料室１６の全体や付属品１２の全体をパージするのではなく、付属品１２の中での光路２２上を直接パージしている。このために本実施形態においては、パージケース２６により、実質的に付属品１２の中での光路２２上のみを密閉することにより、付属品１２の中での光路２２上に、ＦＴＩＲ本体１４よりのパージガスの流路を形成し、付属品１２の中での光路２２上を重点的にガスパージしている。
したがって、本実施形態においては、本体試料室１６の全体や付属品１２の全体をガスパージするものに比較し、より早く付属品１２の中での光路２２上をガスパージすることができるので、パージガス置換時間が短くなる。また必要な付属品１２の中での光路２２上を純度良く置換できるので、パージガス置換率が高い。これにより雰囲気の変化の影響を受けず、安定したスペクトルが得られる。

また本実施形態においては、装置に対する汎用性とパージの確実性との両立も重要であり、このために付属品ベース２０のパージ用孔２４の位置と試料室ベース３６のパージ用孔４０の位置との関係が非常に重要である。
すなわち、付属品１２は、試料室ベース３６上に置けるものであれば、どのような形のものでもよいが、ＦＴＩＲ本体１４の光路２２上には、付属品１２を必ず位置決めしなければならない。一方、どのような形の付属品１２でも、ＦＴＩＲ本体１４の光路２２上の近くには自身のいずれかが必ず存在するはずである。
このため、本実施形態において、ＦＴＩＲ本体１４の試料室ベース３６は、ＦＴＩＲ本体１４の中での光路２２上の近くに位置するところにパージ用孔４０を設けている。かつ付属品１２の付属品ベース２０は、試料室ベース３６のパージ用孔４０の位置に対応する、付属品１２の中での光路２２上の近くに位置するところにパージ用孔２４を設けている。

この結果、本実施形態においては、付属品１２をＦＴＩＲ本体１４にセットした時は、どのような形の付属品１２でも必ず付属品ベース２０のパージ用孔２４が試料室ベース３６のパージ用孔４０上に位置するので、これらのパージ用孔２４，４０の位置の工夫がなされていないものに比較し、パージがより確実に行える。
したがって、本実施形態においては、これらのパージ用孔２４，４０の位置関係の工夫がなされていないものに比較し、装置に対する汎用性が確実に得られる。しかも、ＦＴＩＲ本体１４に対する付属品１２の光学的な位置決めも確実に行える。

なお、本実施形態においては、ＦＴＩＲ本体１４に対する付属品１２の確実な位置決めを容易に行うため、試料室ベース３６は、ＦＴＩＲ本体１４の中での光路２２上の近くに位置するところに位置出しピン４４が設けられている。付属品ベース２０は、位置出しピン４４の位置に対応する、付属品１２の中での光路２２上の近くに位置するところに位置出し穴４６が設けられている。
これにより、本体試料室１６に付属品１２をセットする際は、試料室ベース３６の位置出しピン４２と付属品ベース２０の位置出し穴４４とを一致させるだけで、付属品１２の中での光路２２とＦＴＩＲ本体１４の中での光路２２とを、容易に及び確実に一致させることができる。また付属品ベース２０のパージ用孔２４と試料室ベース３６のパージ用孔４０との位置が確実に一致するので、より容易に及び確実にパージも行える。
本発明は、前記構成に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内であれば、種々の変形が可能である。

ＦＴＩＲ本体
本実施形態において、ＦＴＩＲ本体１４の干渉計室４８、検出器室５０は、それぞれパージケース等の密閉構造とすることが好ましい。
干渉計室４８は、赤外領域の干渉光を出射する干渉計等よりなる光出射手段５２を密閉する。
検出器室５０は、試料室１６よりの光信号を電気信号に変える検出器５４を密閉する。
このように光出射手段５２、検出器５４をそれぞれ密閉構造とし、ガス本管４６よりのパージガスを導入することにより、密閉構造としないものに比較し、より早く、純度よく光出射手段５２、検出器５４の周囲をガスパージすることができる。

また本実施形態においては、ＦＴＩＲ本体１４が、検出器５４よりの信号のサンプリングを行い、アナログ信号をデジタル信号に変換する電気系回路５６を備える。
さらに本実施形態においては、ＦＴＩＲ１０が、コンピュータ５８と、パージ装置本体６０と、を備える。
コンピュータ５８は、コンピュータ本体６２と、ディスプレイ６４と、入力デバイス６６と、を備える。コンピュータ本体６２は、電気系回路５６よりの信号をフーリエ変換し、赤外スペクトルを得る。コンピュータ本体６２は、これをディスプレイ６４に表示する。

パージ装置本体６０は、ガス供給手段６８と、メインバルブ７０と、バルブ駆動回路７２と、を備える。
ガス供給手段６８は、メインバルブ７０を介して、ＦＴＩＲ本体１４のガス本管４６に接続しており、窒素ガス等のパージガスを供給する。
また本実施形態において、ガス本管４６は、検出器用のバルブ７４を介して検出器室５０に接続し、また干渉計用のバルブ７６を介して干渉計室４８に接続している。
また本実施形態において、付属品用ガス管３８は、ガス本管４６と試料室ベース３６の孔４０とを連通し、付属品用のガス管３８の途中に付属品用のバルブ７８を備えることも好ましい。

また各バルブ７４，７６，７８は、バルブ駆動回路７２、及びコンピュータ本体６２により、開閉や流量等の制御が行われている。
特に本体試料室１６に付属品１２を置いた後、コンピュータ本体６２は、バルブ駆動回路７２を介して、付属品用のバルブ７８の開閉と流量の制御を行う。付属品用のバルブ７８が開の状態でパージガスの導入を行い、開き量の調節でパージガスの流量を制御する。
すなわち、ＦＴＩＲ本体に既存のガス本管４６よりのパージガスが、試料室ベース３６のパージ用孔４０、及び付属品ベース２０のパージ用孔２４を介して、付属品１２のパージケース２６内に適切な流量で導入される。一方、コンピュータ本体６２は、測定終了後は、各バルブ７４，７６，７８を閉の状態とし、パージガスの導入を停止する。

付属品認識機構
本実施形態においては、付属品の種類を認識するための付属品認識機構を設けることも好ましい。例えば付属品ベースは、付属品の中での光路上の近くに位置するところに、該付属品に最適なガスパージの設定に関する情報を記憶している付属品認識タグが設けられる。かつ試料室ベースは本体の中での光路上の近くに位置するところに、付属品認識タグの情報を読み取るための読取器を設けることが好ましい。これにより付属品認識タグ、読取器を別の位置に設けたものに比較し、付属品の種類をより確実に認識することができるので、より付属品に対する汎用性が向上される。
また付属品を本体試料室にセットするだけで、その付属品に最適なガスパージに関する設定情報（バルブの開閉制御や流量制御等）が、読取器を介してコンピュータ本体に送られる。コンピュータ本体６２は、その読み取り情報に基づいて、付属品用バルブ７８の開閉制御や流量制御を行い、付属品の種類（試料形態や測定法等）に最適なガスパージを自動に行うこともできる。

真空
前記構成では、前記パージ用孔２４，４０を介して付属品１２をガスパージした例について説明したが、真空ポンプを使って前記パージ用孔２４，４０を介して付属品１２のパージケース内を真空にすることもできる。また新たに真空用の孔を設けることで、真空用の孔を介して付属品内を真空に引きながら、前記パージ用孔を介してガスパージすることもできる。その際も、付属品ベースは、付属品の中での光路上の近くに位置するところに、真空用の孔が設けられることが特に好ましい。試料室ベースは、付属品ベースに設けられた真空用の孔の位置に対応する、本体の中での光路上の近くに位置するところに、真空用の孔が設けられることが、特に好ましい。

付属品
前記構成では、高感度反射測定法を行うため楔形偏光子等を用いた例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば測定法としては、高感度反射測定法以外に、ＡＴＲ法、透過法、ＫＢｒ法、拡散反射法、偏光反射法、正反射法、顕微・透過法、顕微・反射法等の種々のものに対応するものである。また構成部材としては、楔形偏光子以外に、各測定法を行うのに必要なものに対応するものである。
本発明は、例えば図３に示されるような付属品に適用することもできる。同図（Ａ）は付属品を上方より見た図、同図（Ｂ）は同図（Ａ）のＡ−Ａ断面図である。前記図１と対応する部分には符号１００を加えて示し説明を省略する。

同図に示す付属品１１２は、前記図１に示した光学系構成部材とは異なる光学系構成部材１１８であるが、前記構成と同様、付属品ベース１２０を備える。この付属品ベース１２０は、付属品１１２の中での光路１２２上の近くに位置するところにパージ用孔１２４が設けられている。
またこの付属品１１２は、前記構成と同様、光学系構成部材１１８を密閉するパージケース１２６を備える。
したがって、光学系構成部材１１８が設けられた付属品１１２においても、前記構成と同様、本体試料室に置くだけで、ＦＴＩＲ本体より、付属品ベース１２０のパージ用孔１２４を通して、パージケース１２６内がガスパージないし真空されるので、付属品１１２の光学系構成部材１１８の周囲のガス置換が、簡単に及び良好に行える。

その他
さらに前記構成では、付属品として、本体試料室に着脱自在なものを用いた例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、光出射手段を付属品として本体干渉計室に着脱自在に設けたもの、検出器を付属品として本体検出器室に着脱自在に設けたものに適用することもできる。

本発明の一実施形態にかかる分析装置の付属品、及び本体の主要部分の説明図である。 本実施形態にかかる分析装置の全体の説明図である。 本実施形態にかかる付属品の変形例である。

符号の説明

１０ ＦＴＩＲ（分析装置）
１２，１１２ 付属品（分析装置用付属品）
１４ ＦＴＩＲ本体（分析装置の本体）
２０，１２０ 付属品ベース
２４，１２４ 付属品ベースのパージ用孔
２６，１２６ パージケース
３６ 試料室ベース（本体ベース）
４０ 本体ベースのパージ用孔

Claims (4)

1. 試料室、この試料室に向けて分析に用いる光を出射する光出射手段、および前記試料室からの光を検出する検出器を有して構成される分析装置の本体における前記試料室に対して着脱自在に設けられ、前記本体と共に光学的な分析を行うための光学系構成部材を備えた分析装置用付属品において、
   前記試料室に前記分析装置用付属品をセットした状態では前記試料室の試料室ベースと接触する付属品ベースを備え、
   前記光学系構成部材は、前記付属品ベースの接触側とは反対側に設けられ、前記光照射手段からの光を試料に入射させる入射光用の光学系構成部材、および前記試料からの光を前記検出器に出射させる出射光用の光学系構成部材を含み、
   前記付属品ベースには、前記分析装置用付属品の中での光路上の近くに位置するところにパージ用孔が設けられ、
   前記試料室ベースに前記付属品ベースを接触させて前記試料室に前記分析装置用付属品を置いた状態では、前記光出射手段からの光が前記入射光用の光学系構成部材に入射され、前記出射光用の光学系構成部材からの光が前記検出器に出射され、かつ、前記試料室ベースに設けられたパージ用孔の位置と前記付属品ベースのパージ用孔の位置が一致し、前記分析装置の本体より、前記試料室ベースのパージ用孔及び前記付属品ベースのパージ用孔を通して、前記付属品ベースに設けられた光学系構成部材の周囲がガスパージされることを特徴とする分析装置用付属品。
2. 請求項１記載の分析装置用付属品において、
   前記光学系構成部材を密閉し、前記付属品ベースのパージ用孔と連通するパージケースを備え、
   前記分析装置の本体より、前記付属品ベースのパージ用孔を通して、前記パージケース内の光学系構成部材の周囲がガスパージされることを特徴とする分析装置用付属品。
3. 請求項１又は２記載の分析装置用付属品が着脱自在に設けられ、前記分析装置用付属品と共に光学的な分析を行うための本体を備えた分析装置であって、
   前記本体は、前記分析装置用付属品が着脱自在に設けられる試料室、この試料室に向けて分析に用いる光を出射する光出射手段、および前記試料室からの光を検出する検出器を有し、前記試料室にパージガスを導入可能に構成され、
   前記試料室には、前記付属品ベースと接触した状態で前記分析装置用付属品が置かれる試料室ベースが設けられ、
   前記試料室ベースには、前記付属品ベースのパージ用孔の位置に対応する、前記本体の中での光路上の近くに位置するところに、パージ用孔が設けられ、
   前記試料室ベースに前記付属品ベースを接触させて前記試料室に前記分析装置用付属品を置いた状態では、前記分析装置用付属品の中での光路と前記本体の中での光路とが一致し、かつ、前記試料室ベースのパージ用孔と前記付属品ベースのパージ用孔との位置が一致し、前記本体よりのパージガスが、前記試料室ベースのパージ用孔及び前記付属品ベースのパージ用孔を介して、前記付属品ベースに設けられた光学系構成部材の周囲に導入されることを特徴とする分析装置。
4. 請求項３記載の分析装置において、
   前記本体内をガスパージするパージガスを供給するための、前記本体に既存のガス本管と、
   前記ガス本管と前記試料室ベースのパージ用孔とを連通する付属品用ガス管とを備え、
   前記分析装置の本体に前記分析装置用付属品を置くと、前記ガス本管よりのパージガスを、前記付属品用ガス管、前記試料室ベースのパージ用孔、及び前記付属品ベースのパージ用孔を介して、前記付属品ベースに設けられた光学系構成部材の周囲に導入することを特徴とする分析装置。

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