JP4477434B2 - 荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
前記標的は、開口、反射型マーク、及び透過型マークのいずれかでありうる。
前記荷電粒子線露光装置は、前記測定手段により測定された相対位置に基づいて前記複数枚の絞りの相対位置を補正する補正手段を有しうる。
前記補正手段による前記相対位置の補正は、前記試料の露光と並行して実行されうる。
前記荷電粒子線露光装置は、前記測定手段の測定結果が規定値を超えたことを作業者に通知する通知手段を有しうる。
前記補正手段は、前記複数枚の絞りの相対位置を補正するための偏向器および回転レンズ、または、前記複数枚の絞りの相対位置を補正するために前記複数枚の絞りのいずれかの位置を調整する微動機構を含みうる。
本発明の他の側面は、デバイス製造方法に係り、該デバイス製造方法は、上記の荷電粒子線露光装置を用いて試料を露光する工程と、前記工程で露光された試料を現像する工程とを含む。
図1は本発明に係る電子ビーム露光装置の要部概略を示す断面図である。図1において、電子源1より放射状に放出される電子ビームは、レンズ2によって成形された後アパーチャアレイ3にほぼ垂直入射される。アパーチャアレイ3は、50ミクロンの開口が10行10列に露光領域内に配置されており、マルチ電子ビーム16を形成する。形成されたマルチ電子ビーム16は、レンズアレイ4、及びマルチ偏向器5,6を用いて独立に成形され、位置微調整された後、ブランキングアレイ7を通過する。
わせ精度はその約1/10、すなわち5ミクロン程度は必要とされるが、これはマルチソースモジュール100の高精度組立、さらには、調整用の偏向器18及び回転レンズ41によって実現することができる。
以下に、本発明の実施例1を説明する。組立後のマルチソースモジュール100の電子光学的な合わせ精度は、コンタミネーションや、外部振動などの環境要因によって逐次変動するため、常に測定できるようにする必要がある。図1には、複数枚の絞り(基板)を構成するアパーチャアレイ3とレンズアレイ4の合わせ精度を測定するための手段の例が示されている。測定は描画用の開口群が配置された領域の外側に(露光領域外に)、測定用の開口(測定マーク)をアパーチャアレイ3上の標的として測定用開口20、レンズアレイ4上の標的として測定用開口22の如く設け、その透過電流を測定手段としてのファラデーカップ17にて測定する。測定用開口のアパーチャアレイ3と、レンズアレイ4の関係を図2及び図3に示す。アパーチャアレイ3上の測定用開口20とレンズアレイ4上の測定用開口22は幾何的に同じ場所に配置され、その径も同一となっている。従って、両者の電子光学的な相対位置がずれると各々の透過電流を測定するファラデーカップ17−a〜17−dによる測定電流が減少する結果となる。
ト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
Claims (7)
- 複数枚の絞りを有し、該複数枚の絞りを通過した荷電粒子線で試料を露光する荷電粒子線露光装置において、
前記複数枚の絞りの相対位置を測定する測定手段を有し、
前記測定手段は、前記複数枚の絞りのそれぞれに設けられた、前記試料の露光に使用する開口以外の標的を介して前記相対位置を測定し、
前記標的は、前記複数枚の絞りのそれぞれに複数個配置され、
複数個配置された前記標的の間隔は前記複数枚の絞りのそれぞれによって異なる、
ことを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 前記標的は、開口、反射型マーク、及び透過型マークのいずれかである、ことを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子線露光装置。
- 前記測定手段により測定された相対位置に基づいて前記複数枚の絞りの相対位置を補正する補正手段を有する、ことを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子線露光装置。
- 前記補正手段による前記相対位置の補正を前記試料の露光と並行して実行する、ことを特徴とする請求項3に記載の荷電粒子線露光装置。
- 前記測定手段の測定結果が規定値を超えたことを作業者に通知する通知手段を有する、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の荷電粒子線露光装置。
- 前記補正手段は、前記複数枚の絞りの相対位置を補正するための偏向器および回転レンズ、または、前記複数枚の絞りの相対位置を補正するために前記複数枚の絞りのいずれかの位置を調整する微動機構を含む、ことを特徴とする請求項3に記載の荷電粒子線露光装置。
- 請求項1〜6のいずれか1つに記載の荷電粒子線露光装置を用いて試料を露光する工程と、前記工程で露光された試料を現像する工程と、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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