JP4464223B2 - ナノレベル構造組成評価用試料、その製造方法、及び、ナノレベル構造組成評価方法 - Google Patents
ナノレベル構造組成評価用試料、その製造方法、及び、ナノレベル構造組成評価方法 Download PDFInfo
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Description
図6は、上述のアトムプローブ法の原理の説明図であり、先端半径が例えば、100nm(=0.1μm)の針状試料31にパルス高電圧を印加して針状試料31の先端から構成物質32,33を電界蒸発させ、飛来する構成物質32,33の到達時間(TOF:Time of Flight)を測定器34によって測定し、到達時間から構成物質32,33のイオン種を同定するものである。
図1参照
上記課題を解決するために、本発明は、凸状試料部2に少なくともパルス状電界またはパルス状レーザを印加して凸状試料部2の先端部を構成する物質を遊離させるナノレベル構造組成評価用試料において、凸状試料部2が少なくとも一部に絶縁層4が介在する多層薄膜構造3からなるとともに、凸状試料部2の先端部から少なくとも絶縁層4を跨ぐ表面領域全面を多層構造を構成する導電性物質5より蒸発電界の低い物質からなる導電性材料6により覆ったことを特徴とする。
したがって、安定した短絡効果を確保するとともに、導電性材料6を蒸発させるのに時間を短縮するためには、1nm〜10nmの膜厚にすることがより望ましい。
図2参照
図2を参照して先端部の四角錐台状の凸状試料部の形成方法を説明するが、まず、CMP(化学機械研磨)後のシリコン基板11をフッ酸処理したのち洗浄し、次いで、シリコン基板11の表面に厚さが、例えば、100nmのSiO2 膜12を形成したのち、スパッタリング法を用いて厚さが、例えば、0.75nmのRu層13、2nmのCoFeB層14、及び、2nmのRu層15を順次成膜して多層薄膜構造16を形成したのち、例えば、真空中において280℃で3時間のアニール処理を施す。
図3は、完成したナノレベル構造組成評価用試料の要部切り欠き斜視図であり、シリコン基板11と上部のRu層13、CoFeB層14、及び、Ru層とは全面を覆うCr膜18によって短絡された構造となっている。
図4参照
図4を参照して先端部が針状の凸状試料部の形成方法を説明するが、上記の実施例1と同様に、まず、CMP(化学機械研磨)後のシリコン基板11をフッ酸処理したのち洗浄し、次いで、シリコン基板11の表面に厚さが、例えば、100nmのSiO2 膜12を形成したのち、スパッタリング法を用いて厚さが、例えば、0.75nmのRu層13、2nmのCoFeB層14、及び、2nmのRu層15を順次成膜して多層薄膜構造16を形成したのち、例えば、真空中において280℃で3時間のアニール処理を施す。
図5は、完成したナノレベル構造組成評価用試料の要部切り欠き斜視図であり、シリコン基板11と上部のRu層13、CoFeB層14、及び、Ru層15とは全面を覆うTi膜21によって短絡された構造となっている。
再び、図1参照
(付記1) 凸状試料部2に少なくともパルス状電界またはパルス状レーザを印加して前記凸状試料部2の先端部を構成する物質を遊離させるナノレベル構造組成評価用試料において、前記凸状試料部2が少なくとも一部に絶縁層4が介在する多層薄膜構造3からなるとともに、前記凸状試料部2の先端部から少なくとも前記絶縁層4を跨ぐ表面領域全面を前記多層構造を構成する導電性物質5より蒸発電界の低い物質からなる導電性材料6により覆ったことを特徴とするナノレベル構造組成評価用試料。
(付記2) 上記凸状試料部2が角錐台状部からなることを特徴とする付記1記載のナノレベル構造組成評価用試料。
(付記3) 上記表面を覆う導電性材料6の比抵抗値が10Ω・cm-1以下であることを特徴とする付記1または2に記載のナノレベル構造組成評価用試料。
(付記4) 上記表面を覆う導電性材料6の膜厚が0.2nm〜100nmであることを特徴とする付記1または2に記載のナノレベル構造組成評価用試料。
(付記5) 絶縁層4が介在する多層薄膜構造3を設けた基板1を前記絶縁層4の下の層が露出するまで選択的に除去して凸状試料部2を形成したのち、前記凸状試料部2の先端部から少なくとも前記絶縁層4を跨ぐ表面領域全面を導電性材料6で被覆することを特徴とするナノレベル構造組成評価用試料の作製方法。
(付記6) 付記1乃至付記4のいずれか1に記載のナノレベル構造組成評価用試料の凸状試料部2に少なくともパルス状電界を印加して前記凸状試料部2の先端部を構成する物質を遊離させ、前記遊離した物質を検出することを特徴とするナノレベル構造組成評価方法。
(付記7) 上記凸状試料部2に、上記パルス状電界とともにレーザパルスを照射することを特徴とする付記6記載のナノレベル構造組成評価方法。
2 凸状試料部
3 多層薄膜構造
4 絶縁層
5 導電性物質
6 導電性材料
11 シリコン基板
12 SiO2 膜
13 Ru層
14 CoFeB層
15 Ru層
16 多層薄膜構造
17 凸状試料部
18 Cr膜
19 Gaイオン
20 凸状試料部
21 Ti膜
31 針状試料
32 構成物質
33 構成物質
34 測定器
Claims (5)
- 凸状試料部に少なくともパルス状電界またはパルス状レーザを印加して前記凸状試料部の先端部を構成する物質を遊離させるナノレベル構造組成評価用試料において、前記凸状試料部が少なくとも一部に絶縁層が介在する多層薄膜構造からなるとともに、前記凸状試料部の先端部から少なくとも前記絶縁層を跨ぐ表面領域全面を前記凸状試料部を構成する導電性物質より蒸発電界の低い物質からなる導電性材料により覆ったことを特徴とするナノレベル構造組成評価用試料。
- 上記凸状試料部が角錐台状部からなることを特徴とする請求項1記載のナノレベル構造組成評価用試料。
- 上記表面を覆う導電性材料の膜厚が0.2nm〜100nmであることを特徴とする請求項1または2に記載のナノレベル構造組成評価用試料。
- 絶縁層が介在する多層薄膜構造を設けた基板を前記絶縁層の下の層が露出するまで選択的に除去して凸状試料部を形成したのち、前記凸状試料部の先端部から少なくとも前記絶縁層を跨ぐ表面領域全面を導電性材料で被覆することを特徴とするナノレベル構造組成評価用試料の作製方法。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載のナノレベル構造組成評価用試料の凸状試料部に少なくともパルス状電界を印加して前記凸状試料部の先端部を構成する物質を遊離させ、前記遊離した物質を検出することを特徴とするナノレベル構造組成評価方法。
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