JP4440234B2 - リソグラフィ装置、放射システム、及びデバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置、放射システム、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4440234B2 JP4440234B2 JP2006178866A JP2006178866A JP4440234B2 JP 4440234 B2 JP4440234 B2 JP 4440234B2 JP 2006178866 A JP2006178866 A JP 2006178866A JP 2006178866 A JP2006178866 A JP 2006178866A JP 4440234 B2 JP4440234 B2 JP 4440234B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- strips
- strip
- coupled
- lithographic apparatus
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
Description
26 コレクタ・レンズ
29 ガス源
30 内側リング
32 外側リング
34 ストリップ
34a 第1のストリップ・ステージ
34b 第2のストリップ・ステージ
40 電圧源
42 抵抗器
B 放射ビーム
C ターゲット部分
IF1、IF2 位置センサ
IL 照明システム
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
MA パターン形成デバイス
MT 支持構造体
P1、P2 基板アライメント・マーク
PM 第1のポジショナ
PS 投影システム
PW 第2のポジショナ
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (15)
- 基板上に放射ビームを投影するためのリソグラフィ装置であって、
導電ストリップのアレイを備え、且つ前記放射ビームの経路内に配置される汚染バリアと、
前記ストリップの隣接するストリップ対間に電圧差を印加するための、前記ストリップに結合される電圧印加回路と
を備え、
前記電圧印加回路は、自己維持アーク放電が前記汚染バリア内で生じる閾値より低い値に、前記ストリップへの電流を制限するように構成される電流制限回路を備えるリソグラフィ装置。 - 前記電流制限回路は、複数のサブ回路を備え、各サブ回路は、前記ストリップのそれぞれ1つに結合され、且つ前記サブ回路の他のサブ回路に結合されるストリップの電流とは実質的に無関係に、前記ストリップのそれぞれ1つへの電流を制限するように構成される請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記放射ビームの伝播方向に対するガス流方向で、前記ストリップ対間の少なくとも空間にガス流を導入するように構成されたガス源をさらに備える請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 電圧差は、100ボルトから1000ボルトの範囲内である請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ストリップは、前記ビームの伝播方向において少なくとも10ミリメートルの幅を有する請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記電圧印加回路は、第1の複数の前記ストリップに結合された第1の端子と、前記第1の複数からそれぞれのストリップ対間にそれぞれ位置する第2の複数の前記ストリップに結合された第2の端子とを有する電圧源回路を備え、前記第2の端子は、前記電流制限回路を介して前記第2の複数の前記ストリップに結合される請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記電流制限回路は、抵抗器を備え、各抵抗器は、前記第2の端子と前記第2の複数の前記ストリップのそれぞれとの間に結合される請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ストリップ間の電圧差と距離との間の比率が、ミリメートル当たり30ボルトと1000ボルトとの間であるように選択された値を、前記電圧差が有する請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 調整された放射のビームを提供する放射システムであって、
放射ビームを生成する放射源と、
前記放射ビームの経路内に配置され、且つ導電ストリップのアレイを備える汚染バリアと、
前記ストリップの隣接するストリップ対間に電圧差を印加するための、前記ストリップに結合される電圧印加回路と
を備え、
前記電圧印加回路は、自己維持アーク放電が前記汚染バリア内で生じることができる閾値より低い値に、前記ストリップへの電流を制限するように構成される電流制限回路を備える放射システム。 - 前記電流制限回路は、複数のサブ回路を備え、各サブ回路は、前記ストリップのそれぞれ1つに結合され、且つ前記サブ回路の他のサブ回路に結合されるストリップの電流とは実質的に無関係に、前記ストリップのそれぞれ1つへの電流を制限するように構成される請求項9に記載の放射システム。
- 前記放射ビームの伝播方向に対する流れ方向で、前記ストリップ対間の少なくとも空間にガス流を導入するように構成されたガス源をさらに備える請求項9に記載の放射システム。
- 前記電圧印加回路は、第1の複数の前記ストリップに結合された第1の端子と、前記第1の複数からそれぞれのストリップ対間にそれぞれ位置する第2の複数の前記ストリップに結合された第2の端子とを有する電圧源回路を備え、前記第2の端子は、前記電流制限回路を介して前記第2の複数の前記ストリップに結合される請求項9に記載の放射システム。
- 前記電流制限回路は、抵抗器を備え、各抵抗器は、前記第2の端子と前記第2の複数の前記ストリップそれぞれ1つとの間に結合される請求項12に記載の放射システム。
- 前記ストリップ間の電圧差と距離との間の比率が、ミリメートル当たり30ボルトと1000ボルトとの間であるように選択された値を、前記電圧差が有する請求項9に記載の放射システム。
- デバイス製造方法であって、放射ビームが基板上に投影され、前記ビームは、複数の導電ストリップを備える汚染バリアを通過し、前記デバイス製造方法は、
隣接ストリップ対間に電圧差を印加することと、
自己維持アーク放電が前記汚染バリア内で生じることができる閾値より低い値に、前記ストリップを通る電流を制限することとを含むデバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/170,788 US8018574B2 (en) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | Lithographic apparatus, radiation system and device manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007013167A JP2007013167A (ja) | 2007-01-18 |
JP4440234B2 true JP4440234B2 (ja) | 2010-03-24 |
Family
ID=37588362
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006178866A Expired - Fee Related JP4440234B2 (ja) | 2005-06-30 | 2006-06-29 | リソグラフィ装置、放射システム、及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8018574B2 (ja) |
JP (1) | JP4440234B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7889312B2 (en) * | 2006-09-22 | 2011-02-15 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus comprising a rotating contaminant trap |
US8264665B2 (en) * | 2010-01-25 | 2012-09-11 | Media Lario, S.R.L. | Cooled spider and method for grazing-incidence collectors |
JP5758153B2 (ja) * | 2010-03-12 | 2015-08-05 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 放射源装置、リソグラフィ装置、放射発生および送出方法、およびデバイス製造方法 |
US10149374B1 (en) * | 2017-08-25 | 2018-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Receptacle for capturing material that travels on a material path |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5530613A (en) * | 1994-06-01 | 1996-06-25 | Eaton Corporation | Current limiting circuit controller |
NL1008352C2 (nl) * | 1998-02-19 | 1999-08-20 | Stichting Tech Wetenschapp | Inrichting, geschikt voor extreem ultraviolet lithografie, omvattende een stralingsbron en een verwerkingsorgaan voor het verwerken van de van de stralingsbron afkomstige straling, alsmede een filter voor het onderdrukken van ongewenste atomaire en microscopische deeltjes welke door een stralingsbron zijn uitgezonden. |
JP3454758B2 (ja) | 1999-08-30 | 2003-10-06 | 正樹 山本 | 軟x線利用装置のデブリ除去機構 |
US6972421B2 (en) * | 2000-06-09 | 2005-12-06 | Cymer, Inc. | Extreme ultraviolet light source |
IT1316249B1 (it) | 2000-12-01 | 2003-04-03 | Enea Ente Nuove Tec | Procedimento di abbattimento del flusso di ioni e di piccoli detritiin sorgenti di raggi-x molli da plasma, tramite l'uso di kripton. |
US6576912B2 (en) * | 2001-01-03 | 2003-06-10 | Hugo M. Visser | Lithographic projection apparatus equipped with extreme ultraviolet window serving simultaneously as vacuum window |
JP2003022950A (ja) | 2001-07-05 | 2003-01-24 | Canon Inc | X線光源用デブリ除去装置及び、デブリ除去装置を用いた露光装置 |
JP3790814B2 (ja) | 2001-10-25 | 2006-06-28 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | X線照射装置における飛散物除去方法及び装置 |
DE10237901B3 (de) | 2002-08-16 | 2004-05-27 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Unterdrückung von Teilchenemission bei der Strahlungserzeugung einer Röntgenstrahlungsquelle |
US6963071B2 (en) * | 2002-11-25 | 2005-11-08 | Intel Corporation | Debris mitigation device |
EP1491963A3 (en) | 2003-06-27 | 2005-08-17 | ASML Netherlands B.V. | Laser produced plasma radiation system with contamination barrier |
US7230258B2 (en) * | 2003-07-24 | 2007-06-12 | Intel Corporation | Plasma-based debris mitigation for extreme ultraviolet (EUV) light source |
US7307263B2 (en) * | 2004-07-14 | 2007-12-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, radiation system, contaminant trap, device manufacturing method, and method for trapping contaminants in a contaminant trap |
US7145132B2 (en) * | 2004-12-27 | 2006-12-05 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, illumination system and debris trapping system |
-
2005
- 2005-06-30 US US11/170,788 patent/US8018574B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-06-29 JP JP2006178866A patent/JP4440234B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070001126A1 (en) | 2007-01-04 |
JP2007013167A (ja) | 2007-01-18 |
US8018574B2 (en) | 2011-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3972207B2 (ja) | デブリ抑制手段を備えたリソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP6253647B2 (ja) | 静電クランプ、リソグラフィ装置及び方法 | |
JP2015109468A (ja) | デブリ粒子を抑制するための放射線源装置、リソグラフィ装置、照明システム、および方法 | |
US7167232B2 (en) | Lithographic apparatus and radiation source comprising a debris-mitigation system and method for mitigating debris particles in a lithographic apparatus | |
US7759663B1 (en) | Self-shading electrodes for debris suppression in an EUV source | |
KR101210971B1 (ko) | 플라즈마 방사선 소스를 이용하는 장치, 방사선 빔을 형성하는 방법 및 리소그래피 장치 | |
JP3813959B2 (ja) | 複数の抑制メッシュを備えたリトグラフ投影装置 | |
JP4440234B2 (ja) | リソグラフィ装置、放射システム、及びデバイス製造方法 | |
KR101043014B1 (ko) | 제 2 활성화 소스를 갖는 플라즈마 방사선 소스 내의 감소된 고속 이온들 | |
KR101106147B1 (ko) | 축 자기장을 갖는 플라즈마 방사선 소스 | |
JP4058404B2 (ja) | リソグラフィ投影装置およびリソグラフィ工程により集積構造を製造する方法 | |
JP4546446B2 (ja) | リソグラフィ装置、システムおよびデバイス製造方法 | |
JP4920741B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
JP4695122B2 (ja) | リソグラフィ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20061208 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20070524 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090804 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091218 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100106 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130115 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |