JP4431720B2 - 化学分解・反応方法 - Google Patents
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Description
(A1)特許文献1における化学分解の方法は、ジルコニウムの仕事関数が4.05eVであることを根拠に、紫外域レーザー光をジルコニウムの陰極表面に照射することによって、そのジルコニウムから発生する光電子と希ガス原子との衝突に起因する電子なだれによって生成する希ガスの放電、すなわち希ガスによる古典的グロー放電をNOxの化学分解に適用するという公知の方法であって、特許文献1には、陽極表面や陰極表面に対して、アブレーションプラズマを積極的に発生させ、そのアブレーションプラズマに電場や放電を重畳した雰囲気を反応場として、アブレーションプラズマを構成する物質以外の物質を化学分解するという技術思想の異なる新規な方法は開示されていない。
(A2)特許文献1では、紫外線パルスレーザー光の照射は、反応管内のNOxを含む希ガス(ヘリウム、アルゴン等)の放電の低電圧化と安定化のための補助手段であると明確に位置づけられていて、紫外線パルスレーザー光の照射が陰極表面にアブレーションプラズマを発生させる手段として使用するという発明思想は開示されていない。
すなわち、本発明は、
排気弁1、ガス導入弁2及びガス取り出し弁3が付設され、内部に陰極4と陽極5の電極が配置されている分解・反応容器6と、該陰極及び該陽極に対して電力を過渡現象的にも供給する直流電源7と、該陰極の被照射部位8にアブレーションプラズマを生じさせるためのパルスレーザー光9を該陰極の該被照射部位に対して繰り返し照射するパルスレーザー装置10と、該パルスレーザー光を該分解・反応容器内の該陰極の被照射部位に届けるために分解・反応容器に付設された透明窓11からなる化学分解・反応装置を用いて、
パルスレーザー光照射放電電圧よりも高い電圧が、該直流電源から該陰極と該陽極間に印加されている状態で、反応や分解の対象となるガスが低真空域内の所定のガス圧及び274kからおおむね373Kの域内の所定の温度で存在している該分解・反応容器内の該陰極の被照射部位に対し、所定のエネルギーをもつパルスレーザー光の照射を繰り返すことによって、分解・反応容器内の該陰極の被照射部位と該陽極間で放電の発生と消滅を所定回数反復させ、該分解・反応容器内の該ガスの化学分解や反応を促進するか及び/又は、
該直流電源から該陰極と該陽極間に、該パルスレーザー光照射放電電圧よりも低い電圧を印加し、分解・反応容器内の該陰極の被照射部位と該陽極間に放電の発生を見ない条件で、反応や分解の対象となるガスが低真空域内の所定のガス圧及び274kからおおむね373Kの域内の所定の温度で存在している該分解・反応容器内の該陰極の被照射部位に対し、所定のエネルギーをもつパルスレーザー光の照射を所定回数繰り返し、該分解・反応容器内の該ガスの化学分解や反応を促進することを特徴とする化学分解・反応の方法である。
また、本発明においては、化学分解や反応の対象となるガスが所定のガス圧で存在している分解・反応容器内の該陽極と該陰極間に直流電圧を印加している状態の下で、所定のエネルギーをもつパルスレーザー光を放電発生のトリガーの役割をする照射として該陽極の該被照射部位に対し1〜2回照射すると、該陽極の該被照射部位と該陰極間に放電が発生してその放電が持続するように調整された直流電圧値を、放電持続電圧と呼ぶ。
本発明は、室温でかつ低真空の所定の圧力下の二酸化炭素ガスを高い変換率で一酸化炭素ガスに直接分解できる新規な技術を提示する。パルスレーザー装置の効率改良によっては、二酸化炭素ガス対策に寄与できる可能性がある。
なお当該実施例及び以下の実施例のガスの測定はガス検知管によっている。
また陰極の被照射部位の材料をニッケルに変えた同様の実験の結果では、初めの二酸化炭素ガスの量(mol)に対する測定されたメタノールの量(mol)の比は0.14であった。
陰極の被照射部位の材料を錫とし、該陰極へのパルスレーザー光(1パルス:10ns,60mJ)の照射を100回繰り返した同様の実験の結果、初めに存在したメタンと二酸化炭素との合計量(mol)に対する、測定された水素量(mol)の比は0.28であり、一酸化炭素量(mol)の比は0.50であった。
2 ガス導入弁
3 ガス取り出し弁
4 陰極
5 陽極
6 分解・反応容器
7 直流電源
8 陰極の被照射部位
9 パルスレーザー光
10 パルスレーザー装置
11 透明窓
12 初期アブレーションプラズマ
13 排気弁
14 ガス導入弁
15 ガス取り出し弁
16 陽極
17 陰極
18 分解・反応容器
19 直流電源
20 陽極の被照射部位
21 パルスレーザー光
22 パルスレーザー装置
23 透明窓
24 初期アブレーションプラズマ
Claims (4)
- 排気弁(1)、ガス導入弁(2)及びガス取り出し弁(3)が付設され、内部に陰極(4)と陽極(5)の電極が配置されている分解・反応容器(6)と、該陰極及び該陽極に対して電力を過渡現象的にも供給する直流電源(7)と、該陰極の被照射部位(8)にアブレーションプラズマを生じさせるためのパルスレーザー光(9)を該陰極の該被照射部位に対して繰り返し照射するパルスレーザー装置(10)と、該パルスレーザー光を該分解・反応容器内の該陰極の被照射部位に届けるために分解・反応容器に付設された透明窓(11)からなる化学分解・反応装置を用いて、
パルスレーザー光照射放電電圧よりも高い電圧が、該直流電源から該陰極と該陽極間に印加されている状態で、反応や分解の対象となるガスが低真空域内の所定のガス圧及び所定の温度で存在している該分解・反応容器内の該陰極の被照射部位に対し、所定のエネルギーをもつパルスレーザー光の照射を繰り返すことによって、分解・反応容器内の該陰極の被照射部位と該陽極間で放電の発生と消滅を所定回数反復させ、該分解・反応容器内の該ガスの化学分解や反応を促進するか及び/又は、
該直流電源から該陰極と該陽極間に、該パルスレーザー光照射放電電圧よりも低い電圧を印加し、分解・反応容器内の該陰極の被照射部位と該陽極間に放電の発生を見ない条件で、反応や分解の対象となるガスが低真空域内の所定のガス圧及び所定の温度で存在している該分解・反応容器内の該陰極の被照射部位に対し、所定のエネルギーをもつパルスレーザー光の照射を所定回数繰り返し、該分解・反応容器内の該ガスの化学分解や反応を促進することを特徴とする化学分解・反応の方法。 - 排気弁(13)、ガス導入弁(14)及びガス取り出し弁(15)が付設され、内部に陽極(16)と陰極(17)の電極が配置されている分解・反応容器(18)と、該陽極と該陰極に対して電力を過渡現象的にも供給する直流電源(19)と、該陽極の被照射部位20にアブレーションプラズマを生じさせるためのパルスレーザー光(21)を該陽極の該被照射部位に対して繰り返し照射するパルスレーザー装置(22)と、該パルスレーザー光を該分解・反応容器内の該陽極の被照射部位に届けるための分解・反応容器に付設された該パルスレーザー光に対する透明窓(23)とからなる化学分解・反応装置を用いて、
分解や反応の対象となるガスが低真空域内の所定のガス圧及び所定の温度で存在している分解・反応容器内の該陽極と該陰極間に放電持続電圧を超える電圧が印加されている状態で、該陽極の被照射部位に所定のエネルギーをもつパルスレーザー光をトリガーとして照射し、該陽極の該被照射部位と該陰極間に持続する放電を発生・持続させつつ、所定のエネルギーをもつパルスレーザー光を該陽極の被照射部位に所定回数照射して、該分解・反応容器内の該ガスの化学分解・反応を促進するか及び/又は、
直流電源から陽極と陰極間に、放電持続電圧よりも低い電圧を印加し、分解・反応容器内の陽極の被照射部位と陰極間に持続する放電の発生を見ない条件で、分解や反応の対象となるガスが低真空域内の所定のガス圧及び所定の温度で存在している該分解・反応容器内の該陽極の被照射部位に対し所定のエネルギーをもつパルスレーザー光の照射を所定回数繰り返し、該分解・反応容器内の該ガスの化学分解や反応を促進することを特徴とする化学分解・反応の方法。 - ガスが、水蒸気、二酸化炭素または炭化水素から選ばれる1種又は2種以上である請求項1又は請求項2に記載した化学分解・反応の方法。
- 陰極または陽極の被照射部位の材質が、マグネシウム、亜鉛、錫、銅・亜鉛合金、亜鉛・錫合金、亜鉛・錫・アルミニウム合金及びニッケルから選ばれる1種又は2種以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載した化学分解・反応の方法。
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