JP4424482B2 - スリットコート式塗布装置 - Google Patents
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Description
かかる第1の態様では、塗布溶液が塗布された基板が液体保持部材上に移動し、液体保持部材内の液体から溶剤が揮発することで、基板に塗布された塗布溶液の乾燥が抑えられる。また、液体保持部材を上下方向に移動させることで、基板の近傍雰囲気を、所望の溶剤濃度に調整することができる。
かかる第2の態様では、基板の表面近傍雰囲気の主溶剤等の溶剤濃度を、自動的に、常に一定に維持することができる。
かかる第3の態様では、所定のタイミングで開閉部材を開閉させることで、基板近傍雰囲気を、所望の溶剤濃度に調整することができる。
かかる第4の態様では、基板の表面近傍雰囲気の溶剤濃度を、自動的に、常に一定に維持することができる。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係るスリットコート式塗布装置の概略構成を示す斜視図であり、図2は、スリットコート式塗布装置の要部断面図である。図1に示すように、スリットコート式塗布装置10は、シリコンウェハ、半導体基板等の基板1が保持される保持テーブル20と、保持テーブル20の基板1側に設けられる塗布ヘッド30と、基板1に塗布する塗布溶液2を塗布ヘッド30に供給する貯留手段40と、凹部51に所定の液体3が保持される液体保持部材50とを具備する。なお、図示しないが、これら保持テーブル20、塗布ヘッド30、貯留手段40及び液体保持部材50等は、所定の封止空間内に配置されている。
図4は、実施形態2に係るスリットコート式塗布装置の概略図である。本実施形態は、図4に示すように、塗布溶液2が塗布された基板1の近傍、すなわち、液体保持部材50の近傍に、雰囲気中の溶剤濃度を検出する濃度センサ等の検出手段70と、この検出手段70の検出結果に応じて、液体保持部材50の上下方向の移動を制御する移動手段80とをさらに有する以外は、実施形態1と同様である。
図5は、実施形態3に係るスリットコート式塗布装置の概略図である。図5に示すように、本実施形態は、液体保持部材50に、凹部51の開口を開閉可能な、例えば、シャッタ等の開閉部材52が設けられていると共に、移動手段80の代わりに、検出手段70の検出結果に応じてこの開閉手段52の開閉動作を制御する駆動手段90を有する以外は、実施形態2と同様である。すなわち、このような構成では、検出手段70が検出した検出結果である溶剤濃度に応じて、駆動手段90が開閉部材52を開閉させて凹部51の液体3の溶剤揮発量を調整することで、基板1の近傍雰囲気の溶剤濃度を常に一定に維持するようにしている。そして、このような構成においても、勿論、上述した実施形態と同様の効果が得られることは言うまでもない。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述したものに限定されるものではない。例えば、上述した実施形態では、保持テーブル20を基板1の面方向に移動させることで、保持テーブル20と塗布ヘッド30とを相対的に移動させるようにしたが、これに限定されず、例えば、保持テーブル20を固定して、塗布ヘッド30を基板1の面方向に移動させるようにしてもよい。なお、この場合には、塗布ヘッド30と共に液体保持部材50も同時に移動させるようにする。
Claims (4)
- 基板を保持する保持テーブルと該保持テーブルに保持された前記基板の表面に相対向するように配置されると共に当該基板の表面に向かって所定の塗布溶液を流出するスリット状のノズル開口を有する塗布ヘッドとを具備して前記保持テーブルと前記塗布ヘッドとが水平方向で相対的に移動することで前記基板の表面に前記塗布溶液が塗布され、前記塗布溶液が塗布された前記基板に対向するように配置され、前記基板側に開口する凹部に少なくとも前記塗布溶液の主溶剤と同一の主溶剤を含む液体が保持され、鉛直方向に移動可能に設けられている液体保持部材を有することを特徴とするスリットコート式塗布装置。
- 請求項1に記載のスリットコート式塗布装置において、前記基板の表面近傍雰囲気の少なくとも前記主溶剤の濃度を検出する検出手段と、該検出手段の検出結果に応じて前記液体保持部材の上下方向の移動を制御する移動手段とをさらに具備することを特徴とするスリットコート式塗布装置。
- 請求項1又は2に記載のスリットコート式塗布装置において、前記液体保持部材が、前記凹部の開口を開閉可能に設けられた開閉部材を具備することを特徴とするスリットコート式塗布装置。
- 請求項3に記載のスリットコート式塗布装置において、前記基板の表面近傍雰囲気の少なくとも前記主溶剤の濃度を検出する検出手段と、該検出手段の検出結果に応じて前記液体保持部材の前記開閉部材の駆動を制御する駆動手段とをさらに具備することを特徴とするスリットコート式塗布装置。
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