JP4421301B2 - 電力増幅器デバイス - Google Patents

電力増幅器デバイス Download PDF

Info

Publication number
JP4421301B2
JP4421301B2 JP2003579279A JP2003579279A JP4421301B2 JP 4421301 B2 JP4421301 B2 JP 4421301B2 JP 2003579279 A JP2003579279 A JP 2003579279A JP 2003579279 A JP2003579279 A JP 2003579279A JP 4421301 B2 JP4421301 B2 JP 4421301B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
power amplifier
circuit
conductive layer
parallel
inductance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003579279A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2005521312A (ja
Inventor
イゴール アイ ブレディノフ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NXP BV
Original Assignee
NXP BV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NXP BV filed Critical NXP BV
Publication of JP2005521312A publication Critical patent/JP2005521312A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4421301B2 publication Critical patent/JP4421301B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/5222Capacitive arrangements or effects of, or between wiring layers
    • H01L23/5223Capacitor integral with wiring layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/5222Capacitive arrangements or effects of, or between wiring layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/64Impedance arrangements
    • H01L23/66High-frequency adaptations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/189High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers
    • H03F3/19High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only
    • H03F3/193High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only with field-effect devices
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/189High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers
    • H03F3/19High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only
    • H03F3/195High frequency amplifiers, e.g. radio frequency amplifiers with semiconductor devices only in integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03FAMPLIFIERS
    • H03F3/00Amplifiers with only discharge tubes or only semiconductor devices as amplifying elements
    • H03F3/20Power amplifiers, e.g. Class B amplifiers, Class C amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6605High-frequency electrical connections
    • H01L2223/6611Wire connections
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for
    • H01L2223/64Impedance arrangements
    • H01L2223/66High-frequency adaptations
    • H01L2223/6644Packaging aspects of high-frequency amplifiers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49111Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting two common bonding areas, e.g. Litz or braid wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L24/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01014Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01023Vanadium [V]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01058Cerium [Ce]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01074Tungsten [W]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01075Rhenium [Re]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • H01L2924/141Analog devices
    • H01L2924/1423Monolithic Microwave Integrated Circuit [MMIC]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19041Component type being a capacitor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19042Component type being an inductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19043Component type being a resistor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30105Capacitance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • H01L2924/30111Impedance matching

Description

本発明は、電力増幅器ICデバイスを有する電力増幅器デバイスに関する。
V.J.Tyler氏による“新たな高効率電力増幅器(A new high−efficiency power amplifier)”(M.Marconi Review21,96乃至109頁,1958年第3四半期)から、非線形アクティブデバイスの出力部において、基本信号(fundamental signal)Foの所望されない高調波(harmonic)に高インピダンス(high impedance)をもたらす特別の共振回路(resonant circuit)がもたらされている高効率電力技術が知られている。このように、いかなる周波数成分(frequency component)も出力信号から除去され得る。前記成分の電力はロックイン(lock in)され、これによって増幅段のより高い効率がもたらされる。
図1において、インダクタンス(L3)2と、電界効果トランジスタ(T1)4と、インダクタンス(L1)6及び容量(C1)8を有する第一の並列共振回路(parallel resonant circuit)と、インダクタンス(L2)12及び容量(C)10を有する第二の並列共振回路とから構成されるこのようなトランジスタ出力回路の基本的な構成が示されている。負荷に等しい抵抗14と、インダクタンス(L1)6及び容量(C1)8の第一の並列共振回路と、容量(C2)10及びインダクタンス(L2)12の第二の並列共振回路とは、負荷を有する抵抗14に対する相方の並列回路の一方の側で互いに接続される。容量10及びインダクタンス12の第二の並列共振回路の他方の側は、接地される。インダクタンス(L1)6及び容量(C1)8の第一の並列共振回路の他方の側は、他のインダクタンス(L3)2に接続されると共に、ソースが接地された電界効果トランジスタ4のドレインに接続される。
容量12及びインダクタンス10を有する並列共振回路は、増幅器出力部において全ての周波数成分を、全体的に(信号2Fo、3Fo、,,,nFoの周波数を含む)上部高調波(upper harmonic)及び基本信号Foの周波数よりも低く抑圧するための理想フィルタリング回路(ideal filtering circuit)として上記文献によって提案されている。
この増幅器の最大ドレイン/コレクタ効率は、3Fo高調波除去が使用されるとき、上記文献によって約88.4%と予測されている。2Fo高調波除去において、増幅器の理論上の効率は84.9%になる。更に例えば両方の3Fo+5Fo高調波除去が使用される場合、予測される効率は92%に達し得る。
ディスクリート電力トランジスタによって構成される増幅器における当該方法の実現は、通常インダクタンス6及び容量8からの並列共振回路が電力トランジスタ4のドレイン/コレクタに直接もたらされ得ないという主な不利点を有する。
現に、実際普通によく使用されている回路において、RE信号エンベロープ(RF signal envelope)の帯域に対応して低い周波数において低インピダンスをもたらすと共にパッケージの外側のトランジスタ出力部に接続される、電力供給に対する直流デカップリング回路(DC decoupling circuit)の実現によって、基本信号Foよりも低い帯域(バンド(band))に対して同じ効果が達成される。RF出力整合(マッチング)回路(RF output matching circuit)又はインピダンス変換回路(impedance transformation circuit)は、高い周波数成分が−50dBcよりも低いレベルにまで効率的に抑圧され得る、マイクロストリップライン変圧器(micro strip line transfomer)及びセラミックコンデンサ(ceramic capacitor)から構成されるローパスフィルタとしてもたらされ得る。しかしながら、トランジスタ出力部において生成されるこれらの2Fo、3Fo、及び他の成分は、パッケージ及びボンディングワイヤ寄生素子がデバイスのコレクタ/ドレインと整合回路との間にもたらされるため、いかなる構成にもなる、トランジスタパッケージの外側に位置される出力整合回路によって効果的に制御され得ない。
従って、常にある程度の所望されない成分がトランジスタダイ出力部と残りの増幅器出力回路との間に存在する。これにより、当該技術の効果が特にRF帯域の上端(upper end)において劇的に減少させられる。
パワートランジスタ(power transistor)は、フラットリード(flat lead)、セラミックコンデンサ(ceramic cap)、及びダイをそれらのリードに接続する金ワイヤを備えるディスクリートコンポーネントとして構成される従来の電力増幅器設計において二つの主な問題が存在する。第一に共振回路は、トランジスタダイのドレイン/コレクタに可能な限り近くに位置されなければならない。さもなければ共振回路は効果的に動作させられないであろう。第二に共振回路は、RF帯域のより低い端部においてディスクリートデバイスを備える従来の電力増幅器設計で、誘電体基板(dielectic substrate)上に展開されること及び構成されることが困難である。更に数百MHzよりも高い周波数(例えば900MHz電力増幅器の場合、当該回路は3Fo=2.7GHzで共振をもたらすべきである)で高いクオリティ(quality)及び制御可能な共振回路をもたらすことは不可能となる。
本発明の目的は、共振周波数除去特性(resonance frequency rejecting feature)を有する、改善された電力効率を備える電力増幅器デバイスを提供することにある。
上記目的を達成するために、本願発明に係る電力増幅器は、出力電極を有する電力増幅器デバイス(16)と、前記電力増幅器デバイス(16)の上表面に接触して設けられると共に前記電力増幅器デバイス(16)の前記出力電極に接続される第一の導電層(18)と、前記第一の導電層(18)上に積層して形成された第一の誘電層(20)と、前記第一の誘電層(20)上に積層して形成されると共に所望の長さの第一の伝送線(30)を介して前記第一の導電層(18)に電気的に接続される第二の導電層(22)と、を有する電力増幅器であって、前記第一の導電層(18)と前記第二の導電層(22)との間の容量(C)、及び、前記第一の伝送線(30)によって形成されるインダクタンス(L)を有する第一の並列LC回路は、前記電力増幅器デバイス(16)によって増幅される基本周波数(F)の複数の高調波(2F、3F、4F、5F、…)の何れかで共振し、かつ、前記第一の並列LC回路(L1,C1)は、更なる伝送線(34)を介して前記電力増幅器デバイス(16)の出力端子(40)に接続されると共に、第二の誘電層(24)が前記第二の導電層(22)上に設けられ、当該第二の誘電層(24)上に、第二の伝送線(28)を介して前記第二の導電層(22)に接続される第三の導電層(26)が設けられ、前記第一の並列LC回路(L1,C1)と前記更なる伝送線(34)との間に直列に接続されると共に、前記第一の並列LC回路(L1,C1)と異なる第二の並列LC回路(L2,C2)が規定され、当該第二の並列LC回路(L2,C2)は、前記電力増幅器デバイス(16)により増幅される基本周波数の増幅信号の何れかの他の高調波周波数で共振することを特徴とする。
本発明により、多重共振回路(multi−resonator circuit)はパワートランジスタドレイン/コレクタで直接構成されることが可能になる。このことは、所望されない高調波又は周波数成分を抑圧する点で非常に効果的である。電力増幅器に対する出力回路の新たな構造体は、前記ICデバイスの出力電極で直接高調波チューニング回路(harmonic tuning circuit)を実現することにより前記デバイスの電力効率を(理論的には85%よりも高く)改善することを可能にする。当該構造体は、単に絶縁分離層及びそれから他のメタル層を前記ICデバイスの出力端子の表面上に段階的に加えることによって実現され得る。
米国特許第US−A6,060,951号公報から、高調波整合回路を備える電力増幅器デバイスが知られている。しかしながら高調波回路は、電力増幅器ICデバイスの上部の代わりに隣接してもたらされている。それによって、知られている電力増幅器デバイスは、電力増幅器ICデバイスと高調波回路との間に相互接続部が必要とされるという不利点を有する。更に高調波回路のコンデンサ及びインダクタは、レイアウトの制約の結果としての制限値を有する。それによってデバイスの使用が動作周波数に制限され、RF周波数帯域の低い周波数端(low frequency edge)で動作するデバイスに対して高調波回路は適切に機能しない。更に高調波回路は、半導体基板を介してグランドに対して比較的高い寄生分布容量(parasitic distributed capacitance)を有する。これにより、共振器の必要とされる除去特性が消滅させられる。更なる不利点は、自身の低いクオリティファクタ(Q−factor)、それ故に不十分な効率にある。更にコンデンサが相互接続部におけるギャップ(gap)として設計される。このことは、コンデンサ電界(capacitor field)が線形的にならず設計に対する不利点になるという不利点を有する。
代わりに本発明の電力増幅器デバイスにおいて、寄生容量が低減させられる。このことは、コンデンサがトランジスタ上にもたらされるという事実のために、グランドに対する寄生容量に関連している。そのことは、ICデバイスの出力電極(通常コレクタ又はドレイン)と第一の導電層(conductive layer)との間のいかなる寄生容量にも更に関連している。
本発明においてもたらされる容量は、実際薄膜コンデンサ(thin−film capacitor)となる。インダクタンスとして作用している伝送線(transmission line)は、薄膜技術でもたらされてもよい。しかしながら、これらが接続ワイヤ(connecting wire)として具現化されることは好ましい。通常一つのワイヤで十分であるが、抵抗を最小化するように複数のワイヤを使用することは多くの場合好ましい。
高調波回路は、ボンディングワイヤの長さが効果的に決定され得ることにより、容易にチューニングされ得る。このことは、インダクタンスが並列ワイヤのクオリティ及び/又は長さによって規定され、他のいかなる要素によっても規定されないという認識に基づいている。他の利点は、空気だけしかインダクタンスL1のワイヤを囲っていないので、高Q(クオリティファクタ)がもたらされることにある。更に共振回路は他の周波数に柔軟に変更されると共に容易に変更される。製造において上記技術によって十分なインダクタンスを実現することが容易である。このことは、既存の装置で正確になされ得る。一つよりも多くのワイヤは高調波回路毎にもたらされ得ることが分かる。
誘電層の物質が、コンデンサを最適化するように選択され得ることは本発明のデバイスの更なる利点である。誘電層がICデバイスの部分を形成しないと共に第一の導電層を介してICデバイスから分離されるため、このことはなされることが可能であり、それによっていかなる寄生容量も防止される。高い誘電率及び低い誘電率を備える好適な物質はそれ自体知られている。
実施例において第二の誘電層が、前記第二の導電層上にもたらされている。前記第二の誘電層のトップにおいて第三の導電層がもたらされている。第三の導電層は、第二の伝送線で第二の導電層に接続されている。これにより、第一のLC回路とは異なる、増幅された信号の何れかの他の高調波周波数でも共振すると共に第一のLC回路と更なる伝送線との間に直列に接続される第二の並列LC回路が規定される。第二の伝送線は好ましくは接続ワイヤとして具現化される。本発明の当該実施例により、一つよりも多くの共振回路が、中間にいかなる寄生素子ももたらされることなく直列に実現され得る。さもなければ本技術の効率は劇的に減少させられる。
本発明の電力増幅器デバイスの好ましい実施例によれば、接続ワイヤと導電層及び誘電層との構成体は、何れの共振周波数も除去されるように繰り返しもたらされる(repeat)。上記の構成体を繰り返す可能性は更に電力効率の増大に寄与する。
更なる実施例によれば、前記デバイスは更に、増幅器デバイスの基本周波数(F)で共振するための共振回路を備え、前記共振回路は、グランドに接続されるコンデンサ及び第一の導電層に接続されるインダクタンスを備える直列LC回路を有している。より優れた特性制御及びまた高調波位相制御のために、前記デバイスダイの寄生出力容量は有利なことに、インダクタンスを通るRF電流のみを可能にするMOSコンデンサを介してグランドに接続される並列インダクタンスによって補償される。インダクタンスがFoでの共振をもたらす場合、電力増幅器デバイスは寄生容量をもたない、ほぼ理想的なスイッチング素子になる。これによって、パワートランジスタのF級動作(F−class operation)に渡ってより優れた制御が実現され得るであろう。
更なる実施例において出力回路は、より容易にF級動作のための条件を満たす態様で変更される。当該条件は、出力容量補償が周波数Fと3Fとの両方でもたらされることにより満たされると共に、3Fでの電圧ピーキング(voltage peaking)に対する手段がもたらされることにより満たされる。前記電圧ピーキングは、例えばデバイス出力部における電圧波形が平坦化(flatten)されることにより実現され得ると共に、“オン”状態から“オフ”状態への過渡期間が短縮されることにより実現され得る。本実施例の出力回路を備える高効率電力増幅器は、ディスクリートコンポーネントとしてだけでなく集積MMICの一種としても具現化され得る。
LDMOST又はバイポーラのようなRFパワートランジスタの出力回路は、通常非常に大きな出力寄生容量を有している。このことは、RF帯域の周波数でF級電力増幅器を設計することが所望されるとき最も処理困難な問題になる。例えば、45W 1GHz LDMOSTに対して、出力容量Coutは通常約30乃至40pFになる。その結果、“オン”状態から“オフ”状態へのトランジスタ過渡期間は十分に短くならない。
本発明によるRFパワートランジスタに直列に接続される並列LC回路は、トランジスタ出力部における所望の高調波に対する電圧ピーキング及び理想的な“開回路(open circuit)”をもたらし得るという利点を有する。このことにより、過渡期間の問題が既に軽減されている。しかしながら寄生出力容量は、当該手段の効率の利点を低下させる。3Fトラップ回路(3F trap circuit)を実現することによって、前記効率は更に改善され得る。3Fトラップ回路の場合、第三の高調波3Fのエネルギーはトランジスタ出力部における電圧波形の平坦化のために使用されるということが実現される。このようにF級動作のための条件が満たされ得る。
好ましい実施例によれば、電力増幅器ICデバイスは一つのトランジスタとなる。代わりに、電力増幅器ICデバイスは複数のトランジスタともなり得るので、それ故に一つよりも多くのトランジスタに対する単一の高調波回路が存在させられるという効果がもたらされる。しかしながら、各々のトランジスタに対して一つの高調波回路がもたらされることは好ましい。トランジスタがMOSFETである場合、出力電極はドレイン電極となる。トランジスタがLDMOS型であることは特に好ましい。LDMOS型のトランジスタは電力増幅器における使用に対して優れた特性を有する。LDMOS型のトランジスタは、横形の構成体(lateral configuration)のために、トランジスタ上にコンデンサをもたらすのに十分な大きさを有している。トランジスタがバイポーラトランジスタである場合、出力電極はコレクタ電極となる。
トランジスタは好ましくはシリコン基板において規定される。しかしながら、本発明はそれに限定されないが、何れかの他の半導体基板におけるトランジスタに対しても使用され得る。シリコン基板の場合、トランジスタは多結晶シリコン(polysilicium)の一つの層を有していてもよく、当該層は第一の導電層としての役割を果たすと共に、当該層において更にMOSFETのゲート電極が規定される。それによって、ゲート電極及びコンデンサ電極は相互に絶縁分離される。
本発明を特徴付けるこれら及び様々な他の利点並びに新規な特徴が、本願にもたらされると共に本願の一部を形成する請求項において特定して示されている。しかしながら本発明、その利点、及びその使用によってもたらされる目的物のより正確な理解のために、その更なる部分を形成する図面、及び本発明の好ましい実施例が示されていると共に記載されている、それに伴う記載事項が参照されるべきである。
本発明の好ましい実施例がこの場合図面を参照して記載される。
図2は、電力増幅器ICデバイス16のドレイン又はコレクタメタライゼーション領域上に直列に接続されると共に出力容量のための補償回路を形成する二つの並列共振器又は共振回路を備える電力増幅器デバイスの例を示している。
示されている実施例において、電力増幅器は、電力増幅器ICデバイス16のダイと、ドレイン又はコレクタコンタクトとなるメタル層18と、絶縁分離層(isolator layer)20と、メタル層18を備えるコンデンサを形成する他のメタル層22と、他の絶縁分離層24と、メタル層22を備えるコンデンサを形成する更なるメタル層26とを有している。(並列に結合されたボンディングワイヤからも構成され得る)二つのボンディングワイヤ28及び30は共振回路のインダクタンスを形成し、(並列に結合されたボンディングワイヤからも構成され得る)ボンディングワイヤ32は寄生出力容量(Cout)36に対する補償インダクタンスになる。(並列に結合されたボンディングワイヤからも構成され得る)ボンディングワイヤ34はトランジスタ出力リード40に接続される。ボンディングワイヤ32は、接地されているMOSコンデンサ38に接続される。
層18、20、及び22はコンデンサを形成する。層18、20、及び22のコンデンサと並列にインダクタンスが(並列に結合されたボンディングワイヤからも構成され得る)ボンディングワイヤ30によって形成される。コンデンサ及びインダクタンスを有するこの並列回路は第一の並列共振器を形成する。三つの層22、24、及び26は第二のコンデンサを形成する。このコンデンサと並列にボンディングワイヤ28のインダクタンスがもたらされる。この構成体は、インダクタンス及び容量を有する第二の並列共振器を形成する。第二の並列共振器は、第一の並列共振器に直列に接続される。
ボンディングワイヤ34は、自身のボトム表面において電力増幅デバイス16の出力端子40に接続される層26のトップ表面に接続される。寄生出力容量36は、電力増幅器ICデバイスのヒートシンク(heat sink)と層18との間にもたらされる。寄生出力容量36を補償するために、MOSコンデンサ38と直列に接続されると共にコンデンサ36と並列共振をもたらすインダクタンスを形成するボンディングワイヤ32を有する回路を使用することが必要とされる。
2Fo又は3Foにチューニングされるときたった一つの共振器が、第二及び第三の高調波ピーキングを備えるモードをそれに応じてもたらすであろう。これにより、予測される84.9%又は88.4%の電力効率がもたらされる。トランジスタダイコレクタ又はドレイン領域のトップに直列に接続される両方の共振器が使用されるとき、デバイス効率は更に改善され得ると共に3Foと5Foとの両方において高調波ピーキングは92%リッチに改善され得る。
より優れた特性制御、及び更に高調波位相制御のために、電力増幅器ICデバイス16の寄生出力容量36は、ボンディングワイヤ32のインダクタンスを通るRF電流のみを可能にするMOSコンデンサ38を介してグランドに接続されるボンディングワイヤ32の並列インダクタンスによって補償され得る。
Foでの共振に対してチューニングされるボンディングワイヤ32のインダクタンスの場合、電力トランジスタは、寄生容量を持たないほぼ理想的なスイッチング素子になる。これにより、電力トランジスタのF級動作のより優れた制御が実現され得る。3Foでの共振を有する容量38及びボンディングワイヤ32のインダクタンスは、この場合電力トランジスタの一部になり、“出力ネットワーク”を形成しない。従って補償回路は、トランジスタドレイン/コレクタと前記補償回路との間にいかなる大きな寄生素子ももたらされずに、電力増幅器ICデバイス16に可能な限り近くに位置されることが保証される。
3Foでの共振回路は、層18、20、及び22によって形成される容量と、ボンディングワイヤ28によって形成されるインダクタンスとを有する。従って、共振回路は、電力トランジスタダイの表面上に直接実現される。容量は、(図2に示されているように)この場合層18、20、及び22によって形成される容量の下部プレート(lower plate)としての役割を果たすドレインコンタクト層における直列コンデンサとして具現化される。それからボンディングワイヤ28によって好ましくは金から形成されるインダクタンス(約0.3nH)は、トランジスタ16のドレインコンタクトを上部プレート(upper plate)26に接続し、それから上部プレート26は一つ又は複数の他のボンディングワイヤによってパッケージリード40又は出力端子40に接続される。
使用において、層18、20、及び22によって形成される容量の値とボンディングワイヤ28によって形成されるインダクタンスの値とは比較的小さくなり、例えばそれぞれ10pFと0.3nHとになる。それ故に電力増幅器のダイ表面における容量及びインダクタンスの実現は困難なことではない。更に所望の共振周波数は、並列ボンディングワイヤの長さ、クオリティ、及び誘導性結合(inductive coupling)を変更することによって他のいかなる周波数にも容易に調整され得る。
このことは、(1)空気だけしかL1のワイヤを囲っていないので高いQがもたらされ、(2)ドレイン/コレクタにおける電力増幅器ダイリードと共振回路との間に大きな寄生素子がもたらされず、(3)共振回路が他の周波数に柔軟に変更されると共に容易に変更され、(5)共振回路が製造において容易に実現されるため、非常に有利なアプローチとなる。
図3は、図2の構成体の等価回路を示している。等価回路は、電界効果トランジスタ44のゲートに接続される信号源42を有している。電界効果トランジスタ44のソースはグランドに接続されると共にコンデンサ46の一方の側に接続される。電界効果トランジスタ44のドレインは容量46の他方の側に接続されると共に容量52、インダクタンス54、及びインダクタンス48の一方の側に接続される。インダクタンス48は容量50の一方の側に接続される。容量50の他方の側はグランドに接続される。容量52の他方の側は容量56及びインダクタンス54の一方の側に接続されると共にインダクタンス58の一方の側に接続される。容量56の他方の側はインダクタンス58及びインダクタンス60の他方の側に接続される。インダクタンス60の他方の側は出力部62に接続される。
容量46は図2の出力容量36と等価の容量である。出力容量46を補償するために、インダクタンス48と容量50との直列回路が使用される。インダクタンス48はボンディングワイヤ32と等価であり、容量50はMOSインダクタンス38と等価である。インダクタンス48及び容量50を有する回路はパワートランジスタの一部になり、“出力ネットワーク”の一部にはならない。この回路はFoに等しい周波数又はFoに近い周波数で並列共振を有する。
インダクタンス54及び容量52を有する第一の並列共振器は、2fo又は3foにチューニングされ、第二又は第三の高調波ピーキングを備えるモードをそれに応じてもたらすであろう。これにより、予測される84.9%又は88.4%の電力効率がもたらされる。第一の共振器と直列になっている第二の並列共振器は容量56及びインダクタンス58を有する。第二の並列共振器は、第五の高調波にチューニングされる、より優れた電圧波形及びより高い効率のためにもたらされ得る。第二の並列共振器と出力部62との間に、ボンディングワイヤ34によって形成されるインダクタンス60がもたらされる。出力部62は電力増幅デバイス40の出力端子に等しい。
図4は、本発明の実施例におけるLDMOSトランジスタのための可能な構成体を示している。本構成体は、ダイ64と、例えば多結晶シリコン(poly Si)によってもたらされる下部プレート66と、絶縁分離層(insulator layer)68と、第一の並列共振器の容量を形成する上部プレート70とを有している。ボンディングワイヤ71は、下部プレート66のコンタクト79と上部プレート70のコンタクト78との間に接続される。ボンディングワイヤ72は、下部プレート66のコンタクト77と上部プレート70のコンタクト76との間に接続される。ボンディングワイヤ71及び72は第一の並列共振器のインダクタンスを形成する。ボンディングワイヤ82はコンタクト76とパッケージリード88との間に接続される。ボンディングワイヤ84はコンタクト78とパッケージリード88との間に接続される。ボンディングワイヤ86はコンタクト80とパッケージリード88との間に接続される。ボンディングワイヤ82、84、及び86は、第一の並列共振器をパッケージリード88又は出力端子88に接続させる。
本発明の好ましい実施例において、3Foトラップが出力回路で使用される。その効果は図5乃至8に関連して説明されるであろう。図5は、高調波トラップを有さない基準回路の等価な概略図である。図6は、高調波トラップ及び3Foトラップを備える好ましい実施例の等価な概略図である。図7及び8は、図5及び6に示されている回路に対する、周波数の関数としてのインピダンスをそれぞれ示すグラフである。簡略化のために、同じ要素を表す限り同じ参照符号が図3、5、及び6において使用されている。
図5の回路は、出力容量46を補償するために使用されるインダクタンス48及び容量50を含んでいる。当該例において、出力容量46は40pFであり、インダクタンス48は0.4nHであり、容量50は16pFである。それに加えて、第三の高調波周波数3Foで出力容量の補償をもたらすために、当該回路は、0.7nHのインダクタンス49及び1000pFの容量51を有する、グランドに接続される更なるLCネットワークを有している。
この基準回路のもたらされる特性が図7に示されている。ここで、インピダンスの実部(real part)は上部線によって示され、虚部は下部線によって示されている。明らかなように、インピダンスの実部は二つの明らかな最大値(clear maxima)m1及びm2を有しており、一方は基本周波数Fに近い値であり、他方は第三の高調波3Fの周波数である。
図6の回路は、1000pFの容量51及び0.7nHのインダクタンス49を有する更なるLCネットワークが追加されている図4の回路に対応している。図8の対応するグラフは、インピダンスの実部がここでも二つの最大値m1及びm2を有していることを示している。第一の最大値m1はこの場合基本周波数Fの近くならず、基本周波数Fになる。第二の最大値はここでも第三の高調波3Fの周波数になる。基準回路の動作と比較すると、周波数3Fにおけるインピダンスの実部と虚部との両方はずっとより高くなる。すなわち、より大きな共振が存在する。コンデンサ52及びインダクタ54を有する第三の高調波トラップ回路の使用により、第三の高調波周波数3Fでの開回路(open circuit)又はノッチ(notch)がもたらされる。これにより、トランジスタのドレインにおいて電圧波形が平坦化され、F級動作モードに対する条件がもたらされる。
要するに電力増幅器デバイスは、出力電極を備える一つ又はそれより多くのトランジスタ、及びその上に薄膜コンデンサ(thin−film capacitor)を有する。コンデンサは、トランジスタの出力端子にもなる第一の導電層を有する。更にコンデンサは、少なくとも一つの第一の接続ワイヤによって前記第一の導電層に接続される第二の導電層及び第一の誘電層を有する。第二の接続ワイヤにより、前記第二の導電層は電力増幅デバイスの出力端子に接続される。このように並列LC回路がもたらされ、前記並列LC回路は、前記電力増幅器によって増幅される高調波の周波数で共振を示すように設計される。
本文献によってカバーされる本発明の新規な特徴及び利点が上述の記載にもたらされている。しかしながら、本開示は多くの点で例示によってのみもたらされていることが理解されるであろう。詳細な記載、特に部分の形状、大きさ、及び構成において、本発明の範囲を超えることなく変更がなされてもよい。当然のことながら、本発明の範囲は従属請求項が表現されている言語で規定される。
よく知られている高効率電力増幅器出力回路の基本構成である。 トランジスタドレイン又はコレクタメタライゼーション領域上に直列に接続される二つの並列共振器を備えると共に出力容量のための補償回路を備える電力増幅器デバイスの例である。 図2に示されている例の等価的な概略図である。 LDMOSトランジスタのための可能な構成体である。 基準回路の等価的な概略図である。 本発明の好ましい実施例の等価的な概略図である。 図5の基準回路に対する、周波数の関数としてのインピダンスを示すグラフである。 本発明の好ましい実施例に対する、周波数の関数としてのインピダンスを示すグラフである。

Claims (9)

  1. 出力電極を有する電力増幅器デバイスと、前記電力増幅器デバイスの上表面に接触して設けられると共に前記電力増幅器デバイスの前記出力電極に接続される第一の導電層と、前記第一の導電層上に積層して形成された第一の誘電層と、前記第一の誘電層上に積層して形成されると共に所望の長さの第一の伝送線を介して前記第一の導電層に電気的に接続される第二の導電層と、を有する電力増幅器であって、
    前記第一の導電層と前記第二の導電層との間の容量、及び、前記第一の伝送線によって形成されるインダクタンスを有する第一の並列LC回路が形成されると共に、
    前記第一の並列LC回路は、前記電力増幅器デバイスによって増幅される基本周波数の複数の高調波の何れかで共振し
    記第一の並列LC回路は、更なる伝送線を介して前記電力増幅器デバイスの出力端子に接続されると共に、
    第二の誘電層が前記第二の導電層上に設けられ、当該第二の誘電層上に、第二の伝送線を介して前記第二の導電層に接続される第三の導電層が設けられ、前記第一の並列LC回路と前記更なる伝送線との間に直列に接続されると共に、前記第一の並列LC回路と異なる第二の並列LC回路が規定され、当該第二の並列LC回路は、前記電力増幅器デバイスにより増幅される基本周波数の増幅信号の何れかの他の高調波周波数で共振することを特徴とする電力増幅器。
  2. 前記第一及び第二の伝送線は、少なくとも一つの接続ワイヤにより構成されることを特徴とする請求項に記載の電力増幅器。
  3. 前記更なる伝送線は、接続ワイヤにより構成されることを特徴とする請求項1に記載の電力増幅器。
  4. 前記第二の並列LC回路は、前記複数の高調波の共振周波数について共振を繰り返されて、前記共振周波数の何れかが除去されることを特徴とする請求項又はに記載の電力増幅器。
  5. 前記電力増幅器デバイスの前記基本周波数で共振するための共振回路を更に備え、前記共振回路は、前記第一の導電層に接続されるインダクタンスと、接地された共振容量と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の電力増幅器。
  6. 前記基本周波数で共振するための前記共振回路に接続される補償回路を更に備えることを特徴とする請求項に記載の電力増幅器。
  7. 前記補償回路は、接地された直列LCネットワークであることを特徴とする請求項に記載の電力増幅器。
  8. 前記電力増幅器デバイスは、少なくとも一つのLDMOS型のトランジスタを備えることを特徴とする請求項1に記載の電力増幅器。
  9. 前記第一の導電層が多結晶シリコンを有し、前記第一の導電層内に、前記トランジスタのゲート電極の範囲が限定されて、前記ゲート電極と、容量電極として動作する前記第一の導電層の領域と、は相互に絶縁分離されることを特徴とする請求項に記載の電力増幅器。
JP2003579279A 2002-03-21 2003-03-20 電力増幅器デバイス Expired - Fee Related JP4421301B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP02076105 2002-03-21
PCT/IB2003/001051 WO2003081670A1 (en) 2002-03-21 2003-03-20 Power amplifier device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005521312A JP2005521312A (ja) 2005-07-14
JP4421301B2 true JP4421301B2 (ja) 2010-02-24

Family

ID=28051797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003579279A Expired - Fee Related JP4421301B2 (ja) 2002-03-21 2003-03-20 電力増幅器デバイス

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7138872B2 (ja)
EP (1) EP1490907A1 (ja)
JP (1) JP4421301B2 (ja)
CN (1) CN100353544C (ja)
AU (1) AU2003212566A1 (ja)
WO (1) WO2003081670A1 (ja)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8624678B2 (en) 2010-12-05 2014-01-07 Rf Micro Devices (Cayman Islands), Ltd. Output stage of a power amplifier having a switched-bulk biasing and adaptive biasing
US7660562B2 (en) * 2004-06-21 2010-02-09 M/A-Com Technology Solutions Holdings, Inc. Combined matching and filter circuit
WO2006016299A1 (en) * 2004-08-09 2006-02-16 Koninklijke Philips Electronics N.V. Integrated f-class amplifier with output parasitic capacitance compensation
WO2006067705A1 (en) 2004-12-21 2006-06-29 Koninklijke Philips Electronics N.V. A power device and a method for controlling a power device
US7372334B2 (en) * 2005-07-26 2008-05-13 Infineon Technologies Ag Output match transistor
US20080231373A1 (en) * 2007-03-20 2008-09-25 Hafizur Rahman Output Circuit
JP4936965B2 (ja) * 2007-04-12 2012-05-23 株式会社東芝 F級増幅回路
US8461051B2 (en) * 2008-08-18 2013-06-11 Iwatani Corporation Cluster jet processing method, semiconductor element, microelectromechanical element, and optical component
US8558622B2 (en) 2009-07-14 2013-10-15 Panasonic Corporation Radio frequency power amplifier
JP5424790B2 (ja) * 2009-09-18 2014-02-26 三菱電機株式会社 高出力増幅器
CN101882910A (zh) * 2010-04-30 2010-11-10 苏州英诺迅科技有限公司 提高功放功率附加效率和线性度的输出匹配电路
EP2388815A1 (en) * 2010-05-10 2011-11-23 Nxp B.V. A transistor package
US9064712B2 (en) * 2010-08-12 2015-06-23 Freescale Semiconductor Inc. Monolithic microwave integrated circuit
EP2458730B8 (en) 2010-11-29 2015-08-05 Nxp B.V. Radiofrequency amplifier
US8604873B2 (en) 2010-12-05 2013-12-10 Rf Micro Devices (Cayman Islands), Ltd. Ground partitioned power amplifier for stable operation
US8766724B2 (en) 2010-12-05 2014-07-01 Rf Micro Devices (Cayman Islands), Ltd. Apparatus and method for sensing and converting radio frequency to direct current
US8629725B2 (en) 2010-12-05 2014-01-14 Rf Micro Devices (Cayman Islands), Ltd. Power amplifier having a nonlinear output capacitance equalization
EP2463905B1 (en) 2010-12-10 2014-10-01 Nxp B.V. Packaged RF transistor with special supply voltage leads
US8299856B2 (en) * 2010-12-20 2012-10-30 Infineon Technologies Ag Power transistor output match network with high Q RF path and low Q low frequency path
WO2013009640A2 (en) 2011-07-08 2013-01-17 Skyworks Solutions, Inc. Signal path termination
EP2549645A1 (en) * 2011-07-21 2013-01-23 Telefonaktiebolaget LM Ericsson (publ) Transformer filter arrangement
US9876478B2 (en) 2011-11-04 2018-01-23 Skyworks Solutions, Inc. Apparatus and methods for wide local area network power amplifiers
KR101767718B1 (ko) 2011-11-04 2017-08-11 스카이워크스 솔루션즈, 인코포레이티드 전력 증폭기들에 대한 장치 및 방법
WO2013071152A2 (en) 2011-11-11 2013-05-16 Skyworks Solutions, Inc. Flip-chip linear power amplifier with high power added efficiency
WO2013188712A1 (en) 2012-06-14 2013-12-19 Skyworks Solutions, Inc. Power amplifier modules including related systems, devices, and methods
US8843083B2 (en) 2012-07-09 2014-09-23 Rf Micro Devices (Cayman Islands), Ltd. CMOS switching circuitry of a transmitter module
US8731490B2 (en) 2012-07-27 2014-05-20 Rf Micro Devices (Cayman Islands), Ltd. Methods and circuits for detuning a filter and matching network at the output of a power amplifier
EP2802075B1 (en) 2013-05-07 2017-02-15 Ampleon Netherlands B.V. Dual-band semiconductor RF amplifier device
US9419568B2 (en) * 2013-06-03 2016-08-16 Skyworks Solutions, Inc. Circuits and methods related to power amplifier efficiency based on multi-harmonic approximation
JP5621895B1 (ja) * 2013-09-24 2014-11-12 日本電気株式会社 データ伝送システム及びデータ伝送方法
US9503025B2 (en) * 2014-07-11 2016-11-22 Skyworks Solutions, Inc. Power amplifier with termination circuit and resonant circuit
US9419580B2 (en) * 2014-10-31 2016-08-16 Raytheon Company Output matching network having a single combined series and shunt capacitor component
DE102016111072A1 (de) * 2016-06-16 2017-12-21 Infineon Technologies Ag Hochfrequenzeinrichtung
NL2017206B1 (en) 2016-07-21 2018-01-30 Ampleon Netherlands Bv Integrated passive device for RF power amplifier package
EP3276827B1 (en) * 2016-07-25 2021-04-28 Comet AG Broadband matching network
US10523175B2 (en) 2017-03-23 2019-12-31 Texas Instruments Incorporated Low loss galvanic isolation circuitry
JP2019118075A (ja) * 2017-12-27 2019-07-18 株式会社村田製作所 整合回路、及び電力増幅回路
US10411659B2 (en) 2018-01-25 2019-09-10 Cree, Inc. RF power amplifier with frequency selective impedance matching network
CN109391236B (zh) * 2018-10-29 2022-04-19 北京无线电测量研究所 一种信号放大电路及毫米波信号放大电路
JP7371340B2 (ja) * 2019-03-20 2023-10-31 富士通株式会社 電力増幅装置及び電磁波放射装置
US11251820B2 (en) * 2020-01-03 2022-02-15 Smarter Microelectronics (Guang Zhou) Co., Ltd. Circuit for processing radio frequency signal

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5095285A (en) * 1990-08-31 1992-03-10 Texas Instruments Incorporated Monolithically realizable harmonic trapping circuit
DE69839597D1 (de) * 1998-01-13 2008-07-24 Lucent Technologies Inc Hochfrequenzhalbleiteranordnung
US5880517A (en) * 1998-02-04 1999-03-09 Northrop Grumman Corporation Microwave power transistor having matched impedance with integrated DC blocking capacitor and manufacturing method therefor
JPH11346130A (ja) * 1998-06-02 1999-12-14 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
AU2003212566A1 (en) 2003-10-08
US7138872B2 (en) 2006-11-21
JP2005521312A (ja) 2005-07-14
CN1643685A (zh) 2005-07-20
EP1490907A1 (en) 2004-12-29
US20050104679A1 (en) 2005-05-19
WO2003081670A1 (en) 2003-10-02
CN100353544C (zh) 2007-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4421301B2 (ja) 電力増幅器デバイス
US7119623B2 (en) Output circuit for a semiconductor amplifier element
CN108233881B (zh) 放大器电路和经封装的放大器电路
US10396727B2 (en) LC network for a power amplifier with selectable impedance
CN108206677B (zh) 用于具有增强视频带宽的rf功率放大器的多基带终端组件
US10211170B2 (en) Power transistor with harmonic control
US20200059204A1 (en) Amplifiers with broadband impedance matching and methods of manufacture thereof
US9780731B2 (en) High frequency amplifier
US10784822B2 (en) High power radio frequency amplifiers and methods of manufacture thereof
CN105322892A (zh) 一种基于薄膜体声波谐振器谐波调谐放大器
US20080303117A1 (en) Integrated circuit with multi-stage matching circuit
US20160142025A1 (en) Integrated matching circuit for a high frequency amplifier
US10784821B2 (en) High power radio frequency amplifiers and methods of manufacture thereof
CN106253873A (zh) 一种薄膜体声波谐振器谐波调谐放大模块
US11984413B2 (en) High-frequency power transistor and high-frequency power amplifier
JP7239023B2 (ja) 高周波半導体装置
JPH11265983A (ja) 半導体装置
US20220028807A1 (en) High-frequency power transistor and high-frequency power amplifier
JPH11191718A (ja) 半導体装置とその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060317

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080825

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080904

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20081003

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20081014

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20081204

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20081212

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090123

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090707

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091007

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091009

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091015

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20091106

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091202

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121211

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131211

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees