JP4419374B2 - 光スイッチング素子 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ、プロジェクタ装置などに好適な光スイッチングデバイスおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
プロジェクタなどにおいて入射光または照明光をドット単位で変調して画像を形成するライトバルブとして、マイクロミラーを機械的に高速で駆動し、その角度を変えて光をオンオフするDMD(デジタルマイクロミラーデバイス)などの光スイッチングデバイスが知られている。このマイクロミラーデバイスは、液晶デバイスより応答速度が速く、明るい画像が得られるので、小型でありながら高輝度で高品質な画像を表示でき、小型のプロジェクタなどの画像表示装置に適している。
【0003】
マイクロミラーデバイスはドット単位で光を変調するマイクロミラーを備えたスイッチング素子が2次元にアレイ状またはマトリクス状に配列されたものである。スイッチング素子の一例は、特許文献1(米国特許5,867,202号)に開示されているようなものである。例えば、図10(a)に拡大して示すように、スイッチング素子398は、マイクロミラー330と、それを駆動するアクチュエータ340とを備えており、アクチュエータ340は半導体基板321の上に形成される。そして、アクチュエータ340とマイクロミラー330とは、マイクロミラー330のほぼ中心に形成されたポスト(支柱)399を介して接続されている。アクチュエータ340は、半導体基板321の上に配列された一対の電極342aおよび342bと、それらの電極342aおよび342bの上で旋回する偏向エレメント341とを備えている。電極342aおよび342bは、半導体基板321に作り込まれた駆動回路349により駆動され、電極342aまたは342bに電圧が加わると、その方向に偏向エレメント341が旋回し、偏向エレメント341とポスト399で連結されたマイクロミラー330も旋回する。したがって、マイクロミラー330は、図10(b)に示すように、駆動回路349からの信号によって傾き、斜めに入射した入射光束71を上方のオン方向に射出光72として反射する。このため、スイッチング素子398に対し垂直方向に投写レンズが配置されていれば、この状態がオン状態となる。
【0004】
【特許文献1】
米国特許第5,867,202号明細書
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
このようなティルトミラー型のスイッチング素子398においては、マイクロミラー330の表面331のポスト399の部分は大きな凹み399aとなって反射効率が低下するだけではなく、この凹み399aで反射された光は回折光となって有効光との区別が難しくなり、コントラストが低下の要因となる。したがって、スイッチングデバイス395における光の利用効率を向上し、画像品質の向上するためには、凹み399aを小さくすることが望ましい。
【0006】
スイッチング素子398をフォトリソグラフィー技術により形成する場合、マイクロミラー330を製膜する際にポスト399も同時に形成するのが最も簡単で工数が少ない方法である。したがって、強度的に充分な断面積を備えたポスト399を成形しようとすると、ポスト399の直径は大きくなり、それに伴って鏡面31に形成される凹み399aは大きくなってしまう。
【0007】
ポスト399とマイクロミラー330とをプロセスを分けて製造することも可能である。しかしながら、偏向エレメント341の上に、ポスト399を製造する層と、マイクロミラー330を製造する層を積層する必要があるので、プロセスが増える。また、ミクロンオーダあるいはそれ以下の微細な機械をフォトリソグラフィー技術により形成する場合、マスクの位置あわせや膜厚の管理などを考えると、積層される数を1つ増やすことは非常な手間であり、工数が増加するだけではなく、マスクの数も増加し、さらに、歩留まりも大幅に下がる。したがって、同じプロセスで形成できていたマイクロミラー330とポスト399を異なるプロセスで実行することは大きなディメリットであり、ケースによっては、実質的に製造が不可能なこともある。
【0008】
そこで、本発明においては、プロセスを増やさずに、すなわち、積層構造を増やさずに、鏡面の有効面積を増加することができるスイッチング素子またはスイッチングデバイスの製造方法、およびそれにより製造されたスイッチング素子およびスイッチングデバイスを提供することを目的している。そして、さらに光の利用効率が高く、コントラストも高いスイッチング素子およびスイッチングデバイスを提供することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】
このため、本発明においては、支柱(ポスト)を成形するプロセスを分けるのではなく、支柱を複数に分割することにより、支柱とマイクロミラーを同じプロセスで製造しながら鏡面の有効面積を増加するようにしている。光を反射する第1のエレメントと、第1のエレメントを駆動する第2のエレメントとを有する本発明の光スイッチング素子の製造方法は、第1のエレメントを製膜により形成する製膜工程を有し、この製膜工程において、第1のエレメントと第2のエレメントとを連結するための複数の支柱を形成するようにしている。本発明の製造方法によって、光を反射する第1のエレメントと、第1のエレメントを駆動する第2のエレメントとを有し、第1のエレメントを製膜する際に成形される複数の支柱により第1のエレメントと第2のエレメントとが連結された光スイッチング素子を提供することができる。
【0010】
さらに、本発明の光スイッチング素子が2次元に配列された光スイッチングデバイスは、光を反射する第1のエレメントが複数配列された第1のエレメント層と、第1のエレメントを駆動する第2のエレメントが複数配列された第2のエレメント層とを有する光スイッチングデバイスであり、この光スイッチングデバイスの製造方法においては、第1のエレメント層を製膜による形成する製膜工程を設け、この製膜工程において、第1のエレメント毎に、その第1のエレメントに対応する第2のエレメントとを連結するための複数の支柱を形成する。
【0011】
支柱の径を小さくして本数を増やすことにより、支柱のトータルの断面積を確保しながら、支柱により形成される鏡面の凹みを小さくすることが可能となり、鏡面の有効面積を増加できる。したがって、マイクロミラーとなる第1のエレメントを製膜する際に複数の支柱を形成することにより、第2のエレメントとの接続強度を維持しながら支柱による表面欠損の少ない、あるいは全くない、光の利用効率の高い光スイッチング素子を製造できる。そして、本発明の光スイッチング素子を複数有し、それらの光スイッチング素子が2次元に配置されている光スイッチングデバイスを製造および提供することにより、光の利用効率が高く、コントラストも大きな、高品質の画像を形成することが可能な光スイッチングデバイスを提供できる。したがって、この光スイッチングデバイスを採用し、光スイッチングデバイスに照明光を照射する光源と、光スイッチングデバイスにより反射された光をスクリーンに投影する投写レンズとを有するプロジェクタにより、光の利用効率が高く、コントラストも高い、高品質なカラー画像を表示できるプロジェクタを提供できる。
【0012】
本発明の光スイッチング素子の製造方法では、製膜工程において複数の支柱を形成するために、製膜工程の前に、第1のエレメント(第1のエレメント層)と第2のエレメント(第2のエレメント層)を分離する犠牲層を形成する工程と、犠牲層に複数のコンタクトホールをパターニングする工程とを設ける。これにより製膜工程では、複数のコンタクトホールにより製膜材料、たとえば、反射性の高いAlやAg等からなる支柱が形成される。
【0013】
コンタクトホールの内径は、第1のエレメント(第1のエレメント層)の厚みの2倍以下であることが望ましい。すなわち、複数の支柱の外径は、第1のエレメント(第1のエレメント層)の膜厚の2倍以下にすることが望ましい。支柱の内部に続く深い凹みを無くすことができる、または、凹みが形成されるとしても、その深さは第1のエレメントの膜厚程度、あるいはそれ以下にすることが可能となり、第1のエレメントで反射する光の波長以下の深さの凹みにできる。このため、凹みが小さくなることにより反射率が向上すると共に、凹みでの反射による回折光を防止することが可能となり、コントラストの高いスイッチングが可能なスイッチング素子およびデバイスを提供できる。
【0014】
支柱の内部の大部分がマイクロミラーを製膜される材料で埋まったとしても表面に支柱の影響が現れることが多い。たとえば、第1のエレメントの表面のうち、複数の支柱が下方に伸びた部分は、微小ではあっても下方に細くなった円錐または角錐状の凹みとなったり、複数の支柱が下方に伸びた部分は、上方に細くなった円錐または角錐状に突き出た部分となる。したがって、凹みがなくなるとしても支柱の数は少ないに越したことない。一方、支柱の直径が小さくなると個々の支柱の強度は低下し、また、コンタクトホールが小さくなることによりマイクロミラーを製膜する材料がコンタクトホールの内部に侵入しにくくなり、支柱に欠陥が生ずる可能性もある。したがって、もっとも少ない本数の支柱により、支柱内部の凹みを数値的に無くすことができ、表面に現れる波長程度以下の凹凸にすることができる条件、すなわち、コンタクトホールの内径が、第1のエレメント(第1のエレメント層)の厚みの2倍という条件は、本発明のスイッチング素子あるいはスイッチングデバイスを製造する上で有利な条件の1つである。一方、アルミニウムなどの第1のエレメントを形成する素材をディポジットする場合は、コンタクトホールの内面などの垂直な面に対しては素材が着き難く、厚みを確保することが難しく、コンタクトホールの内部では、第1のエレメントと同様の膜厚を管理することが難しい。したがって、複数の支柱の外径は、第1のエレメントの膜厚の2倍以下にすることが望ましい。
【0015】
また、反射面に表れるのは、底が平らな凹みあるいは窪みではなく、円錐状あるいは角錐状の凹みあるいは突起となる。したがって、反射面と窪みの底の平面による光の干渉がなくなり、この点でもコントラストが向上する。
【0016】
上述したように、本発明では、各支柱の大きさ(一辺または直径)を小さくし、全体の本数を増やすことで、強度を確保するようにしており、1つの光スイッチング素子あたりに、支柱は2〜4個程度、形成されることが望ましい。その際には、これらの支柱は、バランスよく、互いに、第1のエレメントの重心に対して対称な位置に配置されることが望ましい。第2のエレメントが、第1のエレメントの角度を変えるように駆動する場合は、第2のエレメントは、第1のエレメントの平面的な中心の下方を通り、第1のエレメントに対する駆動力を発揮する、ねじれバネ部を備えていることが望ましく、複数の支柱は、ねじれバネ部に対して線対称な位置に配置されることが望ましい。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照しながら本発明の実施の形態を説明する。図1に本例の光スイッチング素子の概略構造を断面により示してある。また、図2に、光スイッチング素子を上方から見た様子を示してある。この光スイッチング素子20は、先に図10を参照して説明したように、駆動される際に反射面が10度程度の範囲で角度を変えて光をスイッチングするマイクロミラーデバイスである。また、後述する図9に示したようなプロジェクタ1のライトバルブ、すなわち空間光変調装置、等に用いられるものである。
【0018】
本例の光スイッチング素子20は、光71を反射してオンオフ可能なアルミニウム製のマイクロミラー(第1のエレメント)30と、このマイクロミラー30を駆動するアクチュエータ部40とを備えており、駆動回路49が作り込まれた半導体基板21の上に形成されている。アクチュエータ40は、半導体基板21の上に配列された一対の電極42aおよび42bと、それらの電極42aおよび42bの上で旋回する偏向エレメント41(第2のエレメント)とを備えており、マイクロミラー30と偏向エレメント41とは、マイクロミラー30と同じプロセスで製造される複数の支柱(ポスト)36により連結されている。マイクロミラー30の表面(反射面)31には、複数の支柱36が下方に伸びた部分(領域)33に、若干の凹み32が支柱36の影響として残っている。
【0019】
アクチュエータ部40の偏向エレメント41は、基板の電極42aおよび42bと協働してエレメント41を駆動する駆動電極43を備えている。さらに、偏向エレメント41は、マイクロミラー30の平面的な中心(形状中心)29の下方を通る、ねじれバネ(可動部)48により、旋回可能なように半導体基板21から伸びた柱28に対して取り付けられている。そして、このねじれバネ48に対して、2本の支柱36は、偏向エレメント41の上の線対称な位置に配置されている。したがって、2本の支柱36は、マイクロミラー30の重心35に対して互いに対称な位置に配置されていることになる。
【0020】
この光スイッチング素子20は、図3に示すように、アクチュエータ部40の電極42aまたは42bに電圧が加わると、静電力により偏向エレメント41が傾き、偏向エレメント41と支柱36により連結されたマイクロミラー30も同様に傾く。電極42aおよび42bから電圧が除去されると、ねじれバネ41の弾力により、偏向エレメント41は水平な状態に戻り、偏向エレメント41と支柱36により連結されたマイクロミラー30も同様に水平な状態に戻る。本例では、左側の斜め上方から入射光71が照射されており、電極42aに電圧が加わってマイクロミラー30が左側に傾いた状態がオン状態であり、垂直方向の投写レンズに向けて射出光72が出力される。
【0021】
そして、2本の支柱36によりマイクロミラー30と偏向エレメント41とが接続されているので、支柱36の直径Lを図10に示した1本の支柱の場合に対してほぼ半分程度にすることが可能となる。このため、マイクロミラー30を製膜する際に支柱36を形成するときに、マイクロミラー30を製造するアルミニウムなどの製膜用の材料で支柱36の内部をほとんど埋めることができ、マイクロミラー30の表面31に支柱36の影響が現れるのを小さくできる。その結果、表面31の凹み32の面積を大幅に小さくすることが可能となり、反射効率の高いマイクロミラー素子20を提供することができる。これらのマイクロミラー素子20を2次元に配列することにより、ドット単位で光を変調することができるマイクロミラーデバイス95とすることが可能であり、図9に示したような画像を形成するためのライトバルブとして提供することができる。
【0022】
以下に、この光スイッチング素子20が複数配列された光スイッチングデバイス10を製造する様子を、図4を参照しながら説明する。本図では、アクチュエータ40の偏向エレメント41までの構造が形成されて犠牲層により保護された上にマイクロミラー30を形成するプロセスを示してある。
【0023】
先ず、図4(a)に示すように、半導体基板21に形成されたアクチュエータ40の偏向エレメント41がマトリクス状に形成された第2のエレメント層62の上に、有機膜、SiO2等の犠牲層69を形成する。この犠牲層69は、後に第2のエレメントである偏向エレメント41と第1のエレメントであるマイクロミラー30とを分離する層となる。
【0024】
次に、図4(b)に示すように、犠牲層69の表面にレジストを塗布してパターニングしたのち、犠牲層69をエッチングし、複数の支柱36を形成するための複数のコンタクトホール68を形成する。本例では、この孔68の内径Lは、マイクロミラー30を形成するために蒸着するアルミニウム層の厚みdの2倍以下程度に設定される。たとえば、マイクロミラー30を形成するアルミニウム層の厚みは0.5μm程度であるので、コンタクトホール68の内径Lは1.0μm程度あるいはそれ以下とする。
【0025】
図4(c)に示すように、コンタクトホール68が形成された犠牲層69の上から、反射部材となるアルミニウムを蒸着する。これにより、マイクロミラー30となる第1のエレメント層61が形成されると共に、コンタクトホール68の内部に蒸着したアルミニウムにより2本の支柱36が形成され、マイクロミラー30と偏向エレメント41が接続される。
【0026】
さらに、第1のエレメント層61の上にレジストを塗布したのち、パターニングし、エッチングしてマイクロミラー30を素子分離する。その後、犠牲層69を除去することにより、図4(d)に示すように、偏向エレメント61の上に複数の支柱36により支持されたマイクロミラー30を有する光スイッチング素子が形成される。また、この段階で、複数の光スイッチング素子20がマトリクス状に2次元に配列された光スイッチングデバイス10が製造される。
【0027】
このように、本例の光スイッチングデバイス10は、複数の支柱36とマイクロミラー30とを同一の工程で製造するので、製造プロセスが増えず、製造が容易であり、歩留まりも高い。そして、それぞれのマイクロミラー30に対して複数の支柱36を設けて偏向エレメント41と接続しているので、支柱36の直径Lは小さくでき、マイクロミラー30を製膜するためのアルミニウム層により支柱36の内部の空隙が小さくなり、反射面31に対する影響を少なくすることができる。
【0028】
すなわち、図5に支柱36の部分を拡大して示してあるように、各々のマイクロミラーに対して複数の支柱36を設けることにより、支柱36を形成するためのコンタクトホールの内径Lは小さくすることができる。そして、マイクロミラー30を製膜するアルミニウム層の膜厚dの2倍以下程度にコンタクトホール68の内径Lを設定すると、支柱36の奥に達するような凹みは形成されず、反射面31の表面のうち、複数の支柱36が下方に伸びた部分には、下方に細くなった円錐または角錐状の微小な凹みまたは窪み32が形成されるだけになる。したがって、マイクロミラー30の平坦な反射面31の面積が増加し、反射効率が高く、光の利用効率の高い光スイッチング素子20を提供できる。また、窪み32の底が平らではなくなるので、窪み32で反射しても反射面31の反射光との干渉は少なくなり、それによるコントラストの低下は防止できる。
【0029】
さらに、マイクロミラー30を製膜するアルミニウム層の膜厚dの2倍以下程度にコンタクトホール68の内径Lを設定すると、支柱36の奥(基板側)に達するような凹みは形成されず、反射面31の表面のうち、複数の支柱36が下方に伸びた部分には、下方に細くなった円錐または角錐状の微小な凹みまたは窪み32が形成されるだけになる。このため、凹み32の深さもアルミニウム層の膜厚dあるいはそれ以下となり、反射する光の波長よりも小さくできる。その結果、凹み32により回折される光によりコントラストが低下したり有効光が低下したりすることもない。
【0030】
もちろん、コンタクトホール68の内径Lが、膜厚dの2倍以上の場合であっても、コンタクトホール68の内径を従来よりも小さくすることにより本発明の効果は得られる。支柱36の直径Lを小さくすることにより、支柱36の強度的な断面積の低下より、凹みとして反射に寄与しない面積の減少の方が大きいので、マイクロミラー30の鏡面31の有効面積が増加するからである。
【0031】
さらに、支柱36の数を増やし、支柱の一辺長をさらに小さくすることも可能である。図6および図7には、本発明の異なる実施例として、マイクロミラー30を4本の支柱36により支持した光スイッチング素子20を示してある。支柱36の数を増加することにより、支柱の直径Lはさらに小さくすることが可能である。その結果、図7に示したように、マイクロミラー30の反射面31のうち、複数の支柱36が下方に伸びた部分に、上方に円錐または角錐状に突き出た突起34が形成されている。本例の光スイッチング素子20も、図4(a)〜(d)に示したような製造方法で作成されるが、製膜する際は、製膜する材料が垂直な面には着き難くても、垂直な面と水平な面とのコーナの部分には着き易いので、コンタクトホールが小さくなるとコーナの部分の影響が強く表れて、突起34が形成される可能性がある。しかしながら、突起34が形成されても、その径は図5に示した凹み32と同程度あるいはそれ以下であり、同様にスイッチング光の波長以下となる。したがって、鏡面31の反射率の低下を防止でき、回折の度合いも少なくできる。
【0032】
そして、支柱36を複数にすることにより、支柱36をマイクロミラー30を製膜する工程で同時に成形しても支柱36の内側が大きく凹むことはない。このため、スイッチング素子20またはスイッチングデバイス10を製造するプロセスを増やさなくても、光の利用効率の高いスイッチング素子およびデバイスを提供できる。したがって、低コストで、歩留まりが良く、高性能の光スイッチング素子およびデバイスを提供できる。
【0033】
これらの光スイッチング素子およびデバイスに示したように、マイクロミラー30を、それを駆動する偏向エレメント41に接続する支柱36を複数にすることにより、マイクロミラー30の表面31に表れる支柱36の影響を大幅に小さくできる。また、支柱36を複数設けることで、支柱36の太さあるいは一辺(幅)を細くしても、マイクロミラー30を支持する支柱全体としては、十分な強度が得られる。さらに、複数の支柱36を偏向エレメント41の上に分散して配置することにより、1点を支持する場合よりも安定する。そして、各々の支柱36は、可動部であり、マイクロミラー30の重心35の下を通る、ねじれバネ41に対して線対称な位置に置くことで、不要な振動モードが発生せず、安定してマイクロミラー30を駆動でき、安定したスイッチング動作が得られる。すなわち、ティルトモードが安定に動作する。
【0034】
図8に示したスイッチング素子100は、本発明の他の例である。図8(a)は、スイッチング素子100の平面図であるが、説明の便宜のため、マイクロミラー30の図示が省略されている。この光スイッチング素子100は2軸型のスイッチング素子であり、基板21に対して第1の軸29aの周りに旋回するように第1のトーションバネ48aを介して接続された第1の偏向エレメント41aと、この第1の偏向エレメント41aに対して第2のトーションバネ48bにより、第1の軸29aと直交する第2の軸29bの回りに旋回するように取り付けられた第2の偏向エレメント41bとを備えている。内側の第2の偏向エレメント41bには、4本の支柱36を介して図示しないマイクロミラー30が固定されている。
【0035】
第1の偏向エレメント41aは、図8(b)に示すように、一対の駆動電極103aおよび103bを有していて、そして、駆動電極103aおよび103bは、それぞれ基板21上に設けられた電極102aおよび102bと対向する。第1の偏向エレメントは、電極102aおよび102bに与える電位が制御されることで、第1の偏向エレメント41aは軸48bの周りで旋回する。一方、第2の偏向エレメント41bは、軸48bの周りで旋回する自由度を残して第1の偏向エレメント48aに固定されている。また、図8(a)および(b)には図示されていないが、図1に示したように、第2の偏向エレメントを駆動するための電極42aおよび42bが基板21上に位置している。このため、電極42a、42bおよび電極102a、102bに与える電位が制御されることで、第2の偏向エレメントは、4つの方向に傾く。この結果、マイクロミラー30は、その法線が4つの異なる方向に向くような傾きを得ることができる。
【0036】
なお、上記の例では、2本または4本の支柱をそれぞれのマイクロミラー30と偏向エレメント41との間に配置してマイクロミラー30を偏向エレメント41に固定しているが、支柱の本数は5本以上であっても良い。ただし、支柱が細すぎると、支柱自体の形状を維持できる強度が確保できなくなるし、製膜するときに所望の形状の支柱ができなくなる可能性がある。したがって、支柱の直径はマイクロミラー30の膜厚の2倍前後が望ましい。また、支柱の数は偶数に限らず、奇数であっても良いが、3個あるいは5個の支柱を全体的なバランスを考慮して配置する必要がある。
【0037】
また、本例のマイクロミラー30は、上述したように、支柱36の内側が大きく凹むことがないため、高反射率の光スイッチング素子および光スイッチングデバイスを提供することが可能となる等の画像表示装置、たとえばプロジェクタに好適である。図9に示したプロジェクタ1は、白色光源91と、この光源91からの光束71を均一化するロッドレンズ92と、光束71を3原色に時分割する回転式のカラーフィルタ93と、このフィルタ93を回転駆動するモータ93Mとを備えている。さらに、このプロジェクタ1は、時分割された光束71をマイクロミラーデバイス95に集光する、跳ね上げミラー94などの照明系と、各色の光束71にタイミングを合わせて駆動され、それぞれの色の光を変調してマルチカラーの画像を生成するマイクロミラーデバイス95と、変調した光束(表示光)72を投写する投写レンズ96を備えており、このプロジェクタ1により、マルチカラーの画像がスクリーン97に投影される。このマイクロミラーデバイス95には、上述の光スイッチング素子20または光スイッチング素子100がマトリクス状に配列されていて、マイクロミラーデバイス95は空間光変調装置として機能する。
【0038】
本発明が適用可能な反射型の光スイッチング素子は、上述した偏向エレメントによりマイクロミラーが傾くティルトミラー型に限られない。たとえば、上下に動く駆動エレメントとマイクロミラーとを複数の支柱で接続したピストンモーション型のマイクロミラーデバイスにも本発明は適用される。また、マイクロミラーはアルミニウム製に限定されることはなく、銀やその他の反射率の高い金属層であっても良く、その層を形成するときに複数の支柱を形成することにより本発明を適用できる。
【0039】
【発明の効果】
以上に説明したように、支柱の数を増やすことにより、支柱1つ当たりの断面積を削減し、そのような支柱を、マイクロミラーを製膜する工程で同時に形成するようにしている。したがって、スイッチング素子あるいはデバイスを製造する工程を増やさずにマイクロミラーの鏡面の有効面積を増加することができる。このため、光の利用効率が高く、コントラストも高いスイッチング素子およびスイッチングデバイスを歩留まり良く、低コストで提供することが可能となる。また、複数の支柱を設けることにより、マイクロミラーの表面に形成される個々の凹みが浅くなるので光の回折による光量の損失やコントラストの低下も防止できる。したがって、本発明の光スイッチングデバイスをライトバルブとして使用することにより、明るく鮮明な画像を投写できるプロジェクタを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る複数の支柱を備えた光スイッチング素子の概要を示す図である。
【図2】図1に示した光スイッチング素子をマイクロミラーの方向から見た様子を示す平面図である。
【図3】図1に示した光スイッチング素子のオン状態を示す図である。
【図4】図1に示した光スイッチング素子のマイクロミラーの層を製造するプロセスを示す図である。
【図5】マイクロミラーと支柱の部分を拡大して示す図である。
【図6】本発明に係る光スイッチング素子の異なる例を示す図である。
【図7】図6に示した光スイッチング素子を上方から見た様子を示す図である。
【図8】本発明に係る光スイッチング素子のさらに異なる例を示す図であり、図8(a)は平面図、図8(b)はA−A´断面図である。
【図9】本発明に係る光スイッチングデバイスを用いたプロジェクタ型の表示装置の概要を示す図である。
【図10】従来の光スイッチング素子を示す図である。
【符号の説明】
1 プロジェクタ
10 光スイッチングデバイス
20、100 光スイッチング素子
30 マイクロミラー(第1のエレメント)
31 反射面
32 窪み
33 支柱が連結された領域
34 突起
36 支柱
40 アクチュエータ
41 偏光エレメント(第2のエレメント)
71 入射光
Claims (1)
- 1対の電極を備えた基板と、
光を反射する第1のエレメントと、
駆動電極を備え、前記第1のエレメントを駆動する第2のエレメントと、
前記第1のエレメントを製膜により形成する製膜工程において形成されるものであり、前記第1のエレメントと第2のエレメントとを連結する複数の支柱とを有し、
前記1対の電極及び前記駆動電極の間の静電力により、前記第2のエレメントが旋回し、
前記第1のエレメントの表面のうち、前記複数の支柱が下方に伸びた部分は、上方に細くなった円錐または角錐状に突き出ている光スイッチング素子。
Priority Applications (1)
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JP2002271475A JP4419374B2 (ja) | 2002-09-18 | 2002-09-18 | 光スイッチング素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002271475A JP4419374B2 (ja) | 2002-09-18 | 2002-09-18 | 光スイッチング素子 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004109446A JP2004109446A (ja) | 2004-04-08 |
JP2004109446A5 JP2004109446A5 (ja) | 2005-10-27 |
JP4419374B2 true JP4419374B2 (ja) | 2010-02-24 |
Family
ID=32268772
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002271475A Expired - Fee Related JP4419374B2 (ja) | 2002-09-18 | 2002-09-18 | 光スイッチング素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4419374B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101048839B (zh) * | 2004-10-27 | 2010-11-17 | 爱普科斯公司 | 电子设备 |
JP4736420B2 (ja) * | 2004-12-22 | 2011-07-27 | パナソニック電工株式会社 | 微小電気機械デバイス |
JP4851443B2 (ja) * | 2005-04-11 | 2012-01-11 | パナソニック株式会社 | 微小機械構造体 |
JP5573212B2 (ja) * | 2010-02-08 | 2014-08-20 | 株式会社ニコン | 空間光変調素子、空間光変調素子の製造方法、照明光発生装置及び露光装置 |
JP6519284B2 (ja) * | 2015-04-01 | 2019-05-29 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 |
WO2024201848A1 (ja) * | 2023-03-29 | 2024-10-03 | santec Holdings株式会社 | 光スイッチ |
-
2002
- 2002-09-18 JP JP2002271475A patent/JP4419374B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004109446A (ja) | 2004-04-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050817 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050817 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070402 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071016 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090929 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091019 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121211 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121211 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131211 Year of fee payment: 4 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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