JP4415135B2 - 熱線遮断ガラスの着色方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱線遮断ガラスにレーザ光を照射することで着色し、描画する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
板ガラス表面に、酸化錫膜または酸化亜鉛膜などの金属酸化物膜と銀膜（Ａｇ膜）とを積層させてなる赤外線を反射させる作用のある熱線遮断膜（Ｌｏｗ−Ｅ膜）が被覆された熱線遮断ガラスは、Ｌｏｗ−Ｅガラスと通称されている。
【０００３】
以後、酸化錫膜または酸化亜鉛膜などの金属酸化物薄膜と、Ａｇ膜とを積層させてなる熱線遮断膜をＬｏｗ−Ｅ膜と称し、Ｌｏｗ−Ｅ膜を被覆させてなる熱線遮断ガラスをＬｏｗ−Ｅガラスと称する。
【０００４】
通常、Ｌｏｗ−Ｅ膜は、Ａｇ膜の酸化およびマイグレーションなどによる劣化を防ぐため、Ａｇ膜を、酸化亜鉛または酸化錫などの金属酸化物薄膜で挟み込んだ３層以上の構成となっており、板ガラスを基体としスパッタリング法またはＣＶＤ法によって作成される。Ｌｏｗ−Ｅ膜のＡｇ膜層は膜厚１０〜２０ｎｍ程度であり、極めて薄いので透明があり、酸化亜鉛、酸化錫などの酸化金属は、１００ｎｍ程度の薄膜であれば、透明ある。よって、Ｌｏｗ−Ｅ膜は、可視光線を透過するので、クリアガラスにＬｏｗ−Ｅ膜を被覆したＬｏｗ−Ｅガラスは目視では無色透明である。
【０００５】
一方、板ガラスなどの透明な対象物にレーザ光を照射してレーザマーキングする方法について、特開平３−１２４４８６号公報、特開平４−７１７９２号公報および特開平１１−１５６５６８号公報にて開示されている。
【０００６】
特開平３−１２４４８６号公報にて、対象物の内部にレーザ光を集束させて表面に損傷を与えることなく内部にマークするレーザマーキング方法が開示されている。しかしながら、係る公報に記載のレーザマーキング方法においては、対象物がガラスの場合、レーザ光を内部に集光させるとクラックが発生し表面まで到達することがあり、対象物が脆くなるという問題があった。
【０００７】
また、特開平４−７１７９２号公報にて、透明基板内部に焦点を結ぶようにレーザ光を照射して透明基板内部を選択的に不透明化することによりマーキングする方法が開示されている。しかしながら、かかる公報に記載のマーキング方法においては、レーザ照射によってガラス内部にマーキングすることが可能であるが、レーザ光の集光位置を材料の深さ方向に厳密に制御できないため、薄い透明材料のマーキングに適さないという問題があった。
【０００８】
また、特開平１１−１５６５６８号公報にて、マーキング対象物を透過する波長域のレーザ光を、ｆθレンズを用いて対象物の内部に集光させてマーキングする方法が開示されている。しかしながら、係る公報に記載のマーキング方法においては、マーキングがレーザ光を照射したことによる内部のクラックによるので、マーキング対象は透明材料に制限されるという問題があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
特開平２−２４２２２０号公報、特開平３−１２４４８６号公報、特開平４−７１７９２号公報、または特開平１１−１５６５６８号公報に記載の方法は、ガラスなどの透明材料に文字、図柄などをレーザマーキングする方法であるが、レーザ光を透明材料内部で集光させて、ガラス内部に発生したクラックによる不透明化によってマーキングする方法なので、ミクロン（μｍ）単位の極微細な書き込みが難しく、また、有彩色の着色ができないという問題があった。
【００１０】
本発明の課題は、熱性遮断ガラスをレーザ光により着色させることで、微細な描画が行える熱線遮断ガラスの着色方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、ガラス基体に被覆された熱線遮断膜、いわゆるＬｏｗ−Ｅ膜にレーザ光を照射させる際にレーザー光の照射位置を移動させる、すなわち、レーザ光を走査することで、Ｌｏｗ−Ｅ膜を凝集させて微粒子とすることで可視光が散乱してＬｏｗ−Ｅガラスを着色できる、または該微粒子によって形成された回折格子によって、可視光を回折させてＬｏｗ−Ｅ膜付きガラスを着色できることがわかった。Ｌｏｗ−Ｅ膜にレーザ光を照射すると、例えば、酸化金属薄膜である酸化亜鉛薄膜およびＡｇ膜が溶融する。レーザ光走査後に、レーザ光走査部である描画ラインをレーザ顕微鏡で観察したところ、酸化亜鉛および銀が凝集した不定形の微粒子が描画ライン上に生成していた。酸化亜鉛および銀が凝集した不定形の微粒子は、凝集した銀により可視光を散乱していると推察される。
【００１２】
本発明に使用するレーザ照射装置により、Ｌｏｗ−Ｅ膜面でレーザ光のビーム径を６０μｍに絞り込みレーザ光を走査させたところ、幅３０μｍの筋状の照射部、すなわち、膜厚、１００ｎｍのＬｏｗ−Ｅ膜が溶融した一本の描画ライン中に微粒子が生成した。また、レーザ光を走査することで、描画ラインの中に該微粒子が規則性を持って配列し回折格子が形成されて、着色することがわかった。
【００１３】
本発明は、Ｌｏｗ−ＥガラスのＬｏｗ−Ｅ膜に、レーザ光を走査させて、Ｌｏｗ−Ｅ膜を一旦溶融した後に、走査ライン上に凝集して生成した微粒子、または該微粒子で形成された回折格子が、可視光を散乱または回折することによって、文字および図柄を描画するＬｏｗ−Ｅガラスの着色方法である。
【００１４】
本発明は、板ガラス表面にＡｇ膜と金属酸化物膜を積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラスに、レーザ光照射装置により、レーザ光を照射して、熱線遮断膜を溶融させた後、銀および金属酸化物が凝集して生成した微粒子によって、可視光線の散乱現象を現出させて着色させることを特徴とする熱線遮断ガラスの着色方法である。
【００１５】
更に、本発明は、板ガラス表面にＡｇ膜と金属酸化物膜を積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラスに、レーザ光照射装置により、レーザ光を走査しつつ照射して、熱線遮断膜を溶融させた後、銀および金属酸化物が凝集して生成した微粒子によって回折格子を形成し、可視光線の回折現象を現出させて着色させることを特徴とする熱線遮断ガラスの着色方法である。
【００１６】
更に、本発明は、前記レーザ光照射装置がレーザ発振器、光変調器、ガルバノメータミラーおよびｆθレンズからなるレーザ光照射装置であることを特徴とする上記の熱線遮断ガラスの着色方法である。
【００１７】
更に、本発明は、前記レーザ光照射装置がレーザ発振器、光変調器、リニアトランスレータに搭載された集光レンズ、対物レンズ、およびガルバノメータミラーからなるレーザ照射装置であることを特徴とする上記の熱線遮断ガラスの着色方法である。
【００１８】
更に、本発明は、レーザ発振器が連続レーザ発振器またはパルスレーザ発振器であり、用いるレーザ光の種類が赤外光、近赤外光または紫外光であることを特徴とする上記の熱線遮断ガラスの着色方法である。
【００１９】
更に、本発明は、光変調器が音響光学変調器または電気光学変調器であることを特徴とする上記の熱線遮断ガラスの着色方法である。
【００２０】
更に、本発明は、複数のガルバノメータミラーによって、熱線遮断ガラスへのレーザ光の照射位置を移動させることを特徴とする上記の熱線遮断ガラスの着色方法である。
【００２１】
更に、本発明は、水平方向または垂直方向に移動可能なステージによって、熱線遮断ガラスを移動させることを特徴とする上記のいずれかに記載の熱線遮断ガラスの着色方法である。
【００２２】
更に、本発明は、上記の熱線遮断ガラスの着色方法によって、文字、図柄が描画されていることを特徴とする熱線遮断ガラスである。
【００２３】
更に、本発明は、上記の熱線遮断ガラスの着色方法によって、全体または一部が着色されている熱線遮断ガラスである。
【００２４】
更に、本発明は、上記の熱線遮断ガラスの描画または着色された部位を、ガラスの軟化点以上に加熱することによって消色する方法である。
【００２５】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用するレーザ照射装置の構成物であるレーザ発振器には、連続的にレーザ光を発光する連続レーザ発振器、パルス状にレーザ光を発光するパルスレーザ発振器のどちらを用いても構わない。
【００２６】
また、用いるレーザ光の種類は、赤外光、近赤外光、可視光または紫外光が挙げられ、波長１００ｎｍ以上、１ｍｍ（１０⁶ｎｍ）以下の光を使用することができ、例えば、アルゴンイオンレーザ発振器またはＵＶパルスレーザ発振器を使用することができる。
【００２７】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用するレーザ照射装置の構成物である光変調器は、スイッチング素子としての役割を果たす。すなわち、レーザ光の進行方向を変えるか、遮断と透過を切り替えることで、加工物に対してレーザ光の照射のＯＮ／ＯＦＦを正確に制御するものである。ＯＮ／ＯＦＦを行うことで、文字、作画が非連続となり様々な描画に対応できる。光変調器には、音響光学変調器（以後、ＡＯＭと略する）または電気光学変調器（以後、ＥＯＭと略する）のいずれを用いても構わない。
【００２８】
ＡＯＭは、レーザ光の光路を変える素子である。ＯＮの状態では、無線周波数のＲＦ信号が発信され、圧電素子、すなわち、トランスデューサに入力され、超音波に変換されて石英ガラス中に粗密波を発生させる。該粗密波によって、石英ガラス中に形成された回折格子は、レーザ光を回折させてその光路を変える。一方、ＯＦＦの状態では、ＲＦ波は発信されないので、粗密波による回折格子が形成されず、レーザ光は石英ガラス内を直進する。
【００２９】
ＥＯＭは、電気光学素子に電圧を掛け偏光方向を変えることによって、レーザ光を通過または遮断させるスイッチング素子である。
【００３０】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用するレーザ照射装置の構成物であるガルバノメータミラーは、複数のミラー、通常、Ｘミラー、Ｙミラーからなり、ミラーの傾きを変えることによってレーザ光の光軸を振ることが可能である。Ｘミラー、Ｙミラーは、角度を制御しつつ向きを変え、レーザ光の光軸を振って対象物であるＬｏｗ−ＥガラスのＬｏｗ−Ｅ膜上にレーザ光を走査する。走査ライン上では、Ｌｏｗ−Ｅ膜が溶融した後、銀および金属酸化物が凝集して生成した微粒子、または該微粒子によ微細な回折格子を形成することができる。該微粒子または回折格子は、Ｌｏｗ−Ｅガラスへの入射光を散乱または回折させて、熱線遮断ガラスを着色させる。
【００３１】
本発明に使用するレーザ照射装置は、レーザ光を絞り込み、ガルバノメータミラーによりレーザ光の光軸を振りつつ、Ｌｏｗ−Ｅガラス上に走査して、Ｌｏｗ−Ｅ膜における１ｍｍ間隔の間に数１０本以上の線を書き込むことのできる分解能を有し、かつレーザ光を１ｍｍ／ｓ以上の高速で走査することができるため、回折格子を書き込むことに好適である。
【００３２】
本発明のＬｏｗ−Ｅガラスの着色方法によれば、Ｌｏｗ−Ｅ板ガラスに文字または図柄などが描画できる。例えば、熱線遮断ガラスに、虹色で製造番号、製造日、メーカー名などの文字情報を容易に書き込むことができる。
【００３３】
また、レーザ光の照射を用いる本発明の熱線遮断ガラスの着色方法は、エネルギーロスが少なく実生産においてタクトタイムが短く経済生産に優れる。
【００３４】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用するレーザ照射装置の構成物として、ｆθレンズ、または、リニアトランスレータに搭載された集光レンズ（以後、Ｚレンズと略する）と対物レンズは、ガルバノメータミラーによって円弧状に走査されたレーザ光の焦点位置を補正する役割を果たす。
【００３５】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法に使用するレーザ照射装置の構成物である水平方向または垂直方向に移動可能なステージ、例えば、照射面に対し水平方向に移動可能なＸ−Ｙ軸ステージと垂直方向に移動可能なＺ軸ステージは、高速でレーザ光を走査する際に熱線遮断ガラスを移動させることにより熱線遮断ガラスの着色を効率よく行うことができる。また、移動可能なステージに取り付けられた熱線遮断ガラスを一定間隔で移動させた後、静止させて、前述のガルバノメータミラーによりレーザ光を走査して描画を行うことで、回折格子をなど間隔で複数描画することができる。
【００３６】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法により、Ｌｏｗ−Ｅガラスの全面あるいは部分を着色したＬｏｗ−Ｅガラスは、本発明に用いたレーザ装置を複数用いることによって得ることが可能である。なお、Ｌｏｗ−Ｅ膜にレーザ光を走査してＬｏｗ−Ｅ膜を溶融させて凝集させ、微粒子を生成したとしても、微粒子はレーザ光照射部に散在しており、微粒子内において銀が凝集しているので、Ｌｏｗ−Ｅ膜の熱線反射機能は低下する懸念はあるが、失われることはない。
【００３７】
この様にして得られた着色されたＬｏｗ−Ｅガラスは、軟化点以上に加熱し溶融すると着色部において、凝集している銀が、ガラスの内部に拡散し、無色透明に戻るので、リサイクルが容易である。
【００３８】
【発明の実施の形態】
図１は、レーザ光の焦点位置の制御にｆθレンズを用いた本発明に使用するレーザ照射装置の一例の説明図である。ｆθレンズ５は、ガルバノメータミラーによって走査されるレーザ光をターゲット６に集光する。
【００３９】
連続レーザ発振器１であるアルゴンイオンレーザ発振器１により発光したレーザ光は、スイッチング素子であるＡＯＭ２を通過した後、ガルバノメータミラーであるＸミラー３およびＹミラー４により反射し、ｆθレンズ５を透過した後、ターゲット６であるＬｏｗ−Ｅガラス６に照射する。Ｘミラー３、Ｙミラー４を制御しつつ動かして光軸を往復運動させることで、Ｌｏｗ−Ｅガラス６のＬｏｗ−Ｅ膜を溶解した後に凝集して生成した微粒子、または該微粒子によって回折格子が形成される。該微粒子または回折格子は入射光を散乱または回折させて熱線遮断ガラスを着色する。
【００４０】
該Ｌｏｗ−Ｅガラス６を着色する際に、照射面に対し水平方向に移動可能なＸ−Ｙ軸ステージと垂直方向に移動可能なＺ軸ステージからなるＸＹＺ−ステージ７に熱線遮断膜付きガラス基板を搭載し、ステージ７を移動させることで、着色する部位を移動させる。
【００４１】
コンピュータ１０に入力されたデジタルコマンドデータは、デジタル・アナログ・コンバータ１１（以後、ＤＡＣと略する）によってアナログ信号に変換される。ＡＯＭドライバ８は、コンピュータ１０から送信されＤＡＣ１１によってアナログ信号に変換されたレーザ変調信号を無線周波数の信号、すなわち、ＲＦ信号に変換し、図示しない圧電素子、すなわち、トランスデューサを介して、ＡＯＭ２の中に超音波を発生させる。ＡＯＭ２に入射したレーザ光は、超音波が形成する回折格子によって回折され、その光路が変化する。その結果、レーザ光はＯＮ／ＯＦＦする。一方、コンピュータ１０にデジタルコマンドデータとして入力され、ＤＡＣ１１によってアナログ信号に変換されたコントロール信号は、サーボドライバ９に受信されて、サ−ボドライバ９が、ガルバノメータミラーであるＸミラー３およびＹミラー４の動作を制御し、Ｌｏｗ−Ｅガラス６のＬｏｗ−Ｅ膜上でレーザ光を走査してＬｏｗ−Ｅ膜を溶解させた後、凝集して生成した微粒子、または該微粒子で形成された回折格子を生成する。なお、レーザ光で熱線遮断ガラス６に書き込むパターンは、前記デジタルコマンドデータを変更することで、容易に変えられる。
【００４２】
図２は、レーザ光の焦点位置の制御にＺレンズおよび対物レンズを用いた本発明で使用するレーザ照射装置の一例の説明図である。Ｚレンズ１２および対物レンズ１３のうち、リニアトランスレータに搭載されたＺレンズ１２をリニアトランスレータにより光軸上を動かすことによって、熱線遮断ガラス６の照射面におけるレーザビーム径を制御する。
【００４３】
パルスレーザ発振器１であるＵＶパルスレーザ発振器１には、通常、ＡＯＭまたはＥＯＭからなる光変調器が通称Ｑスイッチとして既に組み込まれている。ＵＶパルスレーザ発振器１より発光されたレーザ光は、Ｚレンズ１２、次いで対物レンズ１３を通過した後、ガルバノメータミラーであるＸミラー３およびＹミラー４により反射し、その後、ターゲット６であるＬｏｗ−Ｅガラス６に照射する。ＸミラーとＹミラーは、制御しつつ動かして光軸を往復運動させることで、Ｌｏｗ−Ｅガラス６のＬｏｗ−Ｅ膜に微粒子、または該微粒子で形成された回折格子を形成する。該微粒子または回折格子は、入射光を散乱または回折させて熱線遮断ガラスを着色する。
【００４４】
該熱線遮断ガラス６を着色する際に、照射面に対し水平方向に移動可能なＸ−Ｙ軸ステージと垂直方向に移動可能なＺ軸ステージからなるＸＹＺ−ステージ７に熱線遮断膜付きガラス基板を搭載し、ステージ７を移動させることで、着色する部位を移動させる。
【００４５】
コンピュータ１０にデジタルコマンドデータとして入力され、ＤＡＣ１１によってアナログ信号に変換されたコントロール信号は、サーボドライバ９に受信されて、サ−ボドライバ９が、Ｚレンズ１２、ガルバノメータミラーであるＸミラー３およびＹミラー４の動作を制御しつつ駆動させ、Ｌｏｗ−Ｅガラス６のＬｏｗ−Ｅ膜上でレーザ光の照射位置を往復運動させつつ走査させて回折格子を形成する。なお、熱線遮断ガラス６へのレーザ光による書き込み内容は、前記デジタルコマンドデータを変更することで、容易に変えられる。
【００４６】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法は、従来の板ガラスのマーキング方法であるレーザの光の集光部にクラックを生じさせることに比べ、熱線遮断ガラスにダメージを与えることなく耐久性に優れる。
【００４７】
本発明を以下の実施例によって詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例によって、限定されるものではない。
【００４８】
また、レーザ光を薄膜付きガラス上に光軸を往復運動させて走査して周期構造、すなわち、回折格子を描画する本発明の方法は、Ｌｏｗ−Ｅ膜に限らず、レーザ光を照射することで微細構造が形成できる膜付きガラスであれば、回折格子により可視光を散乱または回折させて、板ガラスを着色させることができる。
【００４９】
また本発明に用いるＬｏｗ−Ｅガラスは、Ａｇ膜および金属酸化物薄膜からなるＬｏｗ−Ｅ膜が被覆されたガラスであり、膜の耐久性および熱線反射性能向上のために膜構成に窒化金属薄膜などを加えても構わない。
【００５０】
【実施例】
図１に示すように、連続レーザ発振器であるアルゴンイオンレーザ発振器１およびＡＯＭ２、ガルバノメータミラーであるＸミラー３、Ｙミラー４、ｆθレンズ５、および照射面に対し水平方向に移動可能なＸ−Ｙ軸ステージと垂直方向に移動可能なＺ軸ステージからなるＸＹＺ−ステージ７に付設されたホルダからなり、ホルダにターゲット６であるＬｏｗ−Ｅガラス６が取り付けられる。
【００５１】
図３は、実施例で使用したレーザ照射装置の説明図である。
【００５２】
アルゴンイオンレーザ発振器１より発振されたレーザ光、すなわち、レーザビーム１４は、ＡＯＭ２を通過した後、Ｘミラー３とＹミラー４とで反射し、次いでｆθレンズ５を通過し、ホルダに取り付けられたターゲット６であるＬｏｗ−Ｅガラス６の熱線遮断膜面に照射した。
【００５３】
該Ｌｏｗ−Ｅガラス６は、板厚５ｍｍ、サイズ、１００ｍｍ×１００ｍｍの、ソーダライムシリケートガラス基板にスパッタリング法によってｌｏｗ−Ｅ膜を被覆し、該膜構成が、酸化亜鉛４０ｎｍ／銀２０ｎｍ／酸化亜鉛４０ｎｍの、計１００ｎｍの膜厚の三層構造からなるＬｏｗ−Ｅガラスを用意した。
【００５４】
レーザ光は、出力２．２Ｗとし、Ｌｏｗ−Ｅ膜上にレーザビーム１４を集光させた。ＡＯＭ２によるレーザ光のＯＮ／ＯＦＦと、Ｘミラー３およびＹミラー４の角度制御によって、レーザビーム１４の光軸を振り、１００ｍｍ／ｓｅｃの走査速度で、Ｌｏｗ−Ｅ膜上に走査した。このようにして、１０ｍｍ×８０ｍｍの範囲に１０本／ｍｍの回折格子を描画した。次いで、ＸＹＺ−ステージ７を操作してなど間隔に水平移動させ、その後、静止させることで、１０ｍｍ×８０ｍｍの回折格子を等間隔で複数、描画することができた。レーザビーム１４を照射した部位は、反射色が見る角度のよって赤から紫に着色された。
【００５５】
図４は、Ｌｏｗ−Ｅ膜にレーザ光を走査した描画ライン先端部のレーザ顕微鏡写真である。
【００５６】
更に、図５は、Ｌｏｗ−Ｅ膜にレーザ光を走査した描画ライン中央部のレーザ顕微鏡写真である。
【００５７】
Ｌｏｗ−Ｅ膜にレーザ光を照射した際の描画ライン１５をレーザ顕微鏡にて観察したところ、図４および図５に示すように、幅３０μｍの１本の描画ラインの中に、Ｌｏｗ−Ｅ膜が溶融した後に凝集したことによる、平均のサイズが６００ｎｍ程度の微粒子１６が生成し、また描画ラインの周縁部にはサイズ３０００ｎｍ×１０００ｎｍ程度の微粒子１６’が規則性をもって配列した微細な周期構造が観察できた。微粒子部は、明るく観察され、銀が多く含まれ可視光を散乱している。
【００５８】
【発明の効果】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法によって、板ガラス表面にＡｇ膜と金属酸化物膜を積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラス、すなわち、Ｌｏｗ−ＥガラスのＬｏｗ−Ｅ膜の表面にレーザ光のビーム径を絞り、光軸を往復運動させつつレーザ光を走査して、Ｌｏｗ−Ｅ膜が溶融した後、凝集析出した微粒子、または該微粒子からなる回折格子を形成し、可視光を散乱または回折させた際の干渉によって、レーザ光走査部を着色させて、Ｌｏｗ−Ｅガラスに文字および図柄を描画することができる。
【００５９】
本発明の用いるレーザ照射装置によって、文字および図柄などが、精緻に描画できる。また、ステージを等間隔に移動させることにより、文字、図柄などを等間隔に複数描画することができる。有彩色で着色された着色部は装飾性が高い。
【００６０】
本発明の熱線遮断ガラスの着色方法によって着色された熱線遮断ガラス（Ｌｏｗ−Ｅガラス）は、軟化点以上に加熱し溶融すると着色部の銀がガラス内部に拡散することで無色透明に戻るので、リサイクルが容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】レーザ光の焦点位置の制御にｆθレンズを用いた本発明で使用するレーザ照射装置の一例の説明図である。
【図２】レーザビーム光の焦点位置の制御にＺレンズおよび対物レンズを用いた本発明で使用するレーザ照射装置の一例の説明図である。
【図３】実施例で使用したレーザ照射装置の説明図である。
【図４】Ｌｏｗ−Ｅ膜にレーザ光を走査した描画ライン先端部のレーザ顕微鏡写真である。
【図５】Ｌｏｗ−Ｅ膜にレーザ光を走査した描画ライン中央部のレーザ顕微鏡写真である。
【符号の説明】
１．レーザ発振器
２．音響光学変調器（ＡＯＭ）
３．Ｘミラー
４．Ｙミラー
５．ｆθレンズ
６．ターゲット（Ｌｏｗ−Ｅガラス）
７．ＸＹＺ−ステージ

Claims (11)

1. 板ガラス表面にＡｇ膜と金属酸化物膜を積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラスに、レーザ光照射装置により、レーザ光を照射して、熱線遮断膜を溶融させた後、銀および金属酸化物が凝集して生成した微粒子によって、可視光線の散乱現象を現出させて着色させることを特徴とする熱線遮断ガラスの着色方法。
2. 板ガラス表面にＡｇ膜と金属酸化物膜を積層させた薄膜を被覆させてなる熱線遮断ガラスに、レーザ光照射装置により、レーザ光を走査しつつ照射して、熱線遮断膜を溶融させた後、銀および金属酸化物が凝集して生成した微粒子によって回折格子を形成し、可視光線の回折現象を現出させて着色させることを特徴とする熱線遮断ガラスの着色方法。
3. 前記レーザ光照射装置がレーザ発振器、光変調器、ガルバノメータミラーおよびｆθレンズからなるレーザ光照射装置であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
4. 前記レーザ光照射装置がレーザ発振器、光変調器、リニアトランスレータに搭載された集光レンズ、対物レンズ、およびガルバノメータミラーからなるレーザ照射装置であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
5. レーザ発振器が連続レーザ発振器またはパルスレーザ発振器であり、用いるレーザ光の種類が赤外光、近赤外光または紫外光であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
6. 光変調器が音響光学変調器または電気光学変調器であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
7. 複数のガルバノメータミラーによって、熱線遮断ガラスへのレーザ光の照射位置を移動させることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
8. 水平方向または垂直方向に移動可能なステージによって、熱線遮断ガラスを移動させることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載の熱線遮断ガラスの着色方法。
9. 請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の熱線遮断ガラスの着色方法によって、文字、図柄が描画されていることを特徴とする熱線遮断ガラス。
10. 請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の熱線遮断ガラスの着色方法によって、全体または一部が着色されている熱線遮断ガラス。
11. 請求項９または請求項１０に記載の熱線遮断ガラスの描画または着色された部位を、ガラスの軟化点以上に加熱することによって消色する方法。

Images